JP2011528128A - 結像光学系 - Google Patents

Abstract

結像光学系（７）は、複数のミラー（Ｍ１〜Ｍ６）を有する。結像光学系（７）は、物体平面（５）の物体視野を像平面（９）の像視野内に結像する。ミラー（Ｍ５，Ｍ６）の少なくとも１つは、結像光（３）の通過のための貫通開口部（１８，１９）を有する。ミラー（Ｍ１〜Ｍ６）の配列は、主光線が、物体平面（５）と下流の第１のミラー（Ｍ１）との間の結像光（３）のビーム経路内で平行に又は発散して進むようなものである。本発明の第１の態様では、結像光学系（７）は、物体平面（５）の前の５ｍ〜２０００ｍの範囲の結像光（３）のビーム経路内に位置する入射瞳平面を有する。本発明の第２の態様では、結像光学系は、物体平面（５）の前１００ｍｍ〜５０００ｍｍの範囲の結像光のビーム経路内に位置する入射瞳平面を有する。改善された結像品質を有する結像光学系がもたらされる。
【選択図】図２

Description

本発明は、主光線が、物体平面と下流の第１のミラーの間の結像光のビーム経路内で平行に又は発散して進むようなミラー配列を含む結像光学系、特に、物体平面内の物体視野を像平面内の像視野内に結像し、少なくとも１つが結像光の通過のための貫通開口部を有する複数のミラーを含む結像光学ユニットに関する。更に、本発明は、この種の結像光学系を含む光学系、この種の光学系を含む投影露光装置、この種の投影露光装置を用いて微細構造構成要素又はナノ構造構成要素を生成する方法、及び本方法によって生成される微細構造構成要素又はナノ構造構成要素に関する。

特に、マイクロリソグラフィのための投影露光装置の一部としての投影光学ユニットとしての結像光学系は、ＥＰ１，０９３，０２１Ａ２、ＤＥ１０，２００５，０４２，００５Ａ１、ＵＳ２００６／０２８４１１３Ａ１、ＵＳ２００６／０２３２８６７Ａ１、ＥＰ１，４５０，１９６Ａ１、ＥＰ１，４５２，８９９Ａ１、ＥＰｌ，８０６，６１０Ａ１、及びＵＳ６，２１３，６１０Ｂ１から公知である。

ＥＰ１，０９３，０２１Ａ２ ＤＥ１０，２００５，０４２，００５Ａ１ ＵＳ２００６／０２８４１１３Ａ１ ＵＳ２００６／０２３２８６７Ａ１ ＥＰ１，４５０，１９６Ａ１ ＥＰ１，４５２，８９９Ａ１ ＥＰｌ，８０６，６１０Ａ１ ＵＳ６，２１３，６１０Ｂ１ ＵＳ２００７−００５８２６９Ａ１ ＵＳ２００７／０２２３１１２Ａ１ ＵＳ２００７−００５８２６９Ａ１ ＵＳ７，１８６，９８３Ｂ２

本発明の目的は、上述の種類の結像光学系の結像品質を改善することである。

本発明によると、この目的は、物体平面の前５ｍ〜２０００ｍの範囲の結像光のビーム経路内に位置する入射瞳平面を有する結像光学系を用いた第１の態様によって達成される。

入射瞳平面のこの配列は、投影光学ユニットの物体平面と第１のミラーとの間で最小の発散を有するビーム経路をもたらす。それによって物体視野に配置された結像される構造に対する位置依存の陰影効果を回避することができる。更に、物体平面の領域内では、事実上テレセントリックなビーム経路が、対応する利点と共に生じる。例示的に、この事実上テレセントリックなビーム経路は、結果として結像スケールが変化することなしに物体平面内での系の再集束を可能にする。本発明のこの態様では、入射瞳平面と物体平面の間の距離は、特に、１００ｍ〜２０００ｍの範囲、更に好ましくは、５００ｍ〜１５００ｍの範囲、更に好ましくは、８００ｍ〜１２００ｍの範囲、特に、１０００ｍの領域に位置することができる。

結像光学系は、０．４〜０．９の範囲の像側開口数、特に、０．５の像側開口数を有することができる。像側開口数は、０．４、０．６、０．７、０．８、又は０．９という値を有することができる。結像光学系の相応に高い空間解像度が生じる。

更に別の態様によると、最初に示した目的は、物体平面の前の１００ｍｍ〜５０００ｍｍの範囲の結像光のビーム経路内に位置する入射瞳平面を有する結像光学系を用いた本発明によって達成される。回避される位置依存の陰影効果に関するそのような結像光学系の利点は、本発明の第１の態様に関連して上述したものに対応する。更に、そのような結像光学系の場合には、ビーム経路内で投影光学ユニットの上流に配置された照明光学系内の物体視野を照明するのに必要とされる構成要素の数を低減することができ、その結果、照明光の全体の損失が低下する。入射瞳平面と物体平面の間の１００ｍｍ〜５０００ｍｍの範囲の距離は、この入射瞳平面の領域内での直接的な照明光学系の構成要素の配列に関して、小型の光学配置を生成するのに特に有利であることが見出されている。特に、入射瞳平面と物体平面の間の距離は、１００ｍｍ〜２０００ｍｍ、更に好ましくは、５００ｍｍ〜１５００ｍｍ、更に好ましくは、８００ｍｍ〜１２００ｍｍ、更に好ましくは、１０００ｍｍの領域内にある。本発明のこの更に別の態様では、結像光学系の少なくとも１つのミラーの反射面は、回転対称関数によって説明することができない自由曲面とし具現化される。回転対称軸を有する反射面の代わりの自由曲面の使用は、新しい設計自由度をもたらし、それによって回転対称反射面を用いては得ることができなかった特性の組合せを有する結像光学系が生じる。本発明による結像光学系における使用に適する自由曲面は、ＵＳ２００７−００５８２６９Ａ１から公知である。

両方の態様による結像光学系は、１００ｍｍよりも大きく、特に、２００ｍｍよりも大きい物体−像オフセットを有することができる。

結像光学系の０．４〜０．９の範囲の像側開口数、及び特に０．７の像側開口数は、特に、良好な構造解像度をもたらす。像側開口数は、０．４、０．６、０．８、又は０．９という値を有することができる。

結像光学系の像平面は、物体平面に対して平行に配置することができる。この配列により、結像光学系の構造環境への統合が容易になる。この配列の利点は、特に、結像光学系が走査投影露光装置に用いられる場合に明らかであり、これは、この場合、走査方向を互いに対して平行に誘導することができるからである。

結像光学系が正確に６つのミラーを有する場合には、小型で、同時に結像収差に関して良好に補正された結像光学系が生じる。

結像光学系は、１ｍｍ²よりも大きい像視野を照明することができる。像視野は、特に、矩形のもの又は湾曲したものとすることができ、１３ｍｍ／１ｍｍのアスペクト比ｘ／ｙを有する。そのような像視野は、結像光学系が投影露光装置に用いられる場合に良好な収量をもたらす。

結像光学系は、像側でテレセントリックとすることができる。これは、一例として、結像スケールが結果として変化することなく像平面内の系の再集束を可能にし、従って、結像光学系の適用柔軟性が高まる。

請求項１０に記載の光学系、並びに請求項１１及び請求項１２に記載の投影露光装置の利点は、本発明による結像光学系に関して上述したものに対応する。

投影露光装置の光源は、広帯域方式に実施することができ、例えば、１ｎｍよりも大きく、１０ｎｍよりも大きく、又は１００ｎｍよりも大きい帯域幅を有することができる。ＥＵＶ光源の例示的な実施形態では、１３．５ｎｍの中心波長、及びこの中心波長の前後２％の帯域幅（ＦＷＨＭ）を有する有用光が像視野内に到達する。ＥＵＶ光源によって生成される光の残りの帯域幅は、結像光学系のミラーによって単に弱く反射されるだけである。投影露光装置は、異なる波長を有する光源を用いて作動させることができるように実施することができる。瞳ファセットミラーを有する照明光学系は、例えば、ＵＳ２００７／０２２３１１２Ａ１から公知である。

対応する利点は、請求項１３に記載の製造法、及びそれによって生成された請求項１４に記載の微細構造構成要素又はナノ構造構成要素に適用される。

図面を参照して本発明の例示的な実施形態を以下により詳細に説明する。

マイクロリソグラフィのための投影露光装置の概略図である。 図１に記載の投影露光装置の投影光学ユニットとし具現化された実施形態の結像光学系を通る互いに離間した視野点の結像ビーム経路を含む子午断面図である。 投影光学ユニットの更に別の実施形態の図２と類似の図である。 図３に記載の投影光学ユニットを含む投影露光装置において投影露光装置の照明系によって補足されるビーム経路の概略図である。

マイクロリソグラフィのための投影露光装置１は、照明光のための光源２を有する。光源２は、５ｎｍ〜３０ｎｍの波長範囲の光を生成するＥＵＶ光源である。他のＥＵＶ波長も可能である。一般的に、投影露光装置１内で誘導される照明光においては、任意の波長、例えば、可視波長でさえも可能である。照明光３のビーム経路を図１に極めて概略的に例示している。

照明光学ユニット６とし具現化された結像光学系は、照明光３を物体平面５内の物体視野４に向けて誘導するように機能する。結像又は投影光学ユニット７とし具現化された結像又は投影光学系は、物体視野４を像平面９内の像視野８へと所定の縮小スケールで結像するのに用いられる。投影光学ユニット７は、８倍の縮小を行う。

同様に、他の結像スケール、例えば、４×、５×、６×、又はそれ以外の８×よりも大きい結像スケールも可能である。ＥＵＶ波長を有する照明光では、８×という結像スケールが適切であり、これは、この結像スケールによって反射マスク上の物体側入射角を小さく保つことができるからである。投影光学ユニット７の像側開口ＮＡ＝０．５では、物体側で６°よりも小さい照明角度を得ることができる。更に、８×という結像スケールは、不要に大きいマスクを用いる必要性を招かない。像平面９は、投影光学ユニット７の場合は物体平面５に対して平行に配置される。この場合、物体視野４と一致する反射マスク１０（レチクルとも呼ぶ）の一部分が結像される。この結像は、基板ホルダ１２によって保持されたウェーハの形態にある基板１１の面上に行われる。図１は、レチクル１０と投影光学ユニット７の間でこの投影光学ユニット内に入射する照明光３のビーム束１３、及び投影光学ユニット７と基板１１の間で投影光学ユニット７から射出する照明光３の放射線束１４を略示している。図２に記載の投影光学ユニット７の像側開口数ＮＡは、０．５０である。投影光学ユニット７は、像側でテレセントリックである。

投影露光装置１の説明を容易にするために、図面内に直交ｘｙｚ座標系を示しており、この座標系により、図内に例示している構成要素のそれぞれの位置関係が明らかになる。図１では、ｘ方向は、作図面に対して垂直に作図面に向けて延び、ｙ方向は右向きに、ｚ方向は下向きに延びている。

投影露光装置１は、スキャナ型のものである。レチクル１０と基板１１の両方は、投影露光装置１の作動中にｙ方向に走査される。

図２は、投影光学ユニット７の光学設計を示している。この図は、図２では互いに上下に位置し、ｙ方向に互いに離間する５つの物体視野点から進む各場合に２つの個別ビーム１５のビーム経路を示しており、この５つの物体視野点のうちの１つに関連付けられた２つの個別ビーム１５は、５つの物体視野点における各場合に２つの異なる照明方向に割り当てられる。これらの２つの照明方向を５つの物体視野点の各々の上側コマビーム及び下側コマビームによって表している。

物体平面５から進んで、個別ビーム１５は、最初に第１のミラーＭ１によって反射され、その後、以下ではビーム経路の順序にミラーＭ２、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ５、及びＭ６で表す更に別のミラーによって反射される。従って、図２に記載の投影光学ユニット７は、６つの反射ミラーを有する。これらのミラーは、例えば、ＥＵＶ内の波長に起因して必要に応じて照明光３の波長に対して高い反射性を有するコーティングを有する。照明光学系６及び投影光学ユニット７は、実質的な収色性を有するので、これらの光学ユニット内で互いに大幅に異なる波長を有する放射線を誘導することができる。従って、例えば、これらの光学ユニット内でアラインメントレーザを誘導するか又は自動焦点系を作動させることができ、これらの場合、光学ユニットの作動波長とは大幅に異なる波長が同時に照明光に向けて用いられる。すなわち、アラインメントレーザは、６３２．８ｎｍ、２４８ｎｍ、又は１９３ｎｍで作動させることができ、一方、１０ｎｍ〜３０ｎｍの範囲の照明光が同時に用いられる。

ミラーＭ３は、凸の基本形状を有し、すなわち、最適凸面によって説明することができる。以下の説明では、この種のミラーを略式に凸と呼び、最適凹面によって説明することができるミラーを略式に凹と呼ぶ。凸ミラーＭ３は、投影光学ユニット７内に良好なペッツヴァル補正を与える。

図２に記載の投影光学ユニット７の入射瞳平面は、照明光３のビーム経路内で物体平面５の前方１０００ｍの位置に位置する。図２に記載の投影光学ユニット７は、２０００ｍｍの構造長、すなわち、物体平面５と像平面９の間の距離を有する。

従って、離間物体視野点から進み、同じ照明方向に割り当てられた個別ビーム１５は、物体平面４と第１のミラーＭ１の間で事実上平行な方式で投影光学ユニット７へと進む。この場合、個別ビーム１５の主光線は、物体平面５とミラーＭ１の間の照明光３のビーム経路内で互いに対して事実上０°の角度を成す。

物体視野点の特定の照明方向に関連付けられた個別ビーム１５は、投影光学ユニット７の瞳平面１６内で組み合わされ、瞳平面１６に隣接してはミラーＭ３が配置されている。従って、このミラーＭ３を瞳ミラーとも呼ぶ。瞳平面１６内には、照明光ビーム束の範囲を定める開口絞りを配置することができる。この開口絞りは、機械的かつ互換的な絞りを用いて又はそうでなければミラーＭ３上へ直接の対応するコーティングの形態で設けることができる。

ミラーＭ１からＭ４は、物体平面５を中間像平面１７へと結像する。投影光学ユニット７の中間像側開口数は、ほぼ０．２である。ミラーＭ１からＭ４は、約３．２×の縮小結像スケールを有する投影光学ユニット７の第１の部分結像光学ユニットを形成する。下流のミラーＭ５及びＭ６は、約２．５×の縮小結像スケールを有する投影光学ユニット７の更に別の部分結像光学ユニットを形成する。ミラーＭ４と、中間像平面１７の上流でそれに隣接するミラーＭ５との間の照明光３のビーム経路内では、貫通開口部１８がミラーＭ６内に形成され、この開口部を通じて第４のミラーＭ４から反射された照明光又は結像光３が、第５のミラーＭ５へと通過する。次に、第５のミラーＭ５は、中心貫通開口部１９を有し、この開口部を通じて、放射線束１４が第６のミラーＭ６と像平面９の間を通過する。

第６のミラーＭ６と共に中間像平面１７からの照明光又は結像光３を像平面９内に結像する第５のミラーＭ５は、第１の瞳平面１６に対して共役な投影光学ユニット７の更に別の瞳平面２０の近くに配置される。更に別の瞳平面２０は、この更に別の瞳平面２０の位置に物理的に接近可能な絞り平面が存在するように、結像光のビーム経路内で第５のミラーＭ５に隣接して位置する。この絞り平面には、瞳平面１６の領域内の開口絞りに関連して上述したように、代替的又は追加的に開口絞りを同様に配置することができる。

投影光学ユニット７は、瞳平面１６、２０の一方に中心に位置する方式で配置された掩蔽絞りを有する。それによって投影ビーム経路のミラーＭ６、Ｍ５内の中心貫通開口部１８、１９に割り当てられた部分ビームは掩蔽される。従って、投影光学ユニット７の設計は、中心瞳掩蔽を有する設計とも呼ばれる。

中心物体視野点を投影光学ユニット７の入射瞳内の中心照明点にリンクする区別される個別ビーム１５を中心視野点の主光線とも呼ぶ。中心視野点の主光線は、第６のミラーＭ６における反射から始まって像平面９とほぼ直角を成し、すなわち、投影露光装置１のｚ軸とほぼ平行に進む。この角度は、８５°よりも大きい。

像視野８は矩形である。像視野８は、ｘ方向に対して平行に１３ｍｍの広がりを有する。像視野８は、ｙ方向に対して平行に１ｍｍの広がりを有する。像視野８は、第５のミラーＭ５の後方で中心に位置する。貫通開口部１９の半径Ｒは、口径食のない結像において次式の関係を満たさなければならない。

この場合、Ｄは、像視野８の対角線である。ｄ_wは、ミラーＭ５の像平面からの自由作動距離である。この自由作動距離は、像平面９と、投影光学ユニット７の最近接ミラー、すなわち、図２に記載の実施形態ではミラーＭ５の利用反射面の像平面９に最近接の区画との間の距離として定められる。ＮＡは像側開口数である。

投影光学ユニット７の全ての６つのミラーＭ１からＭ６は、回転対称関数によって説明することができない自由曲面とし具現化される。ミラーＭ１からＭ６のうちの少なくとも１つは、この種の自由反射曲面を有する他の実施形態の投影光学ユニット７も可能である。

この種の自由曲面は、回転対称基準面から製造することができる。マイクロリソグラフィのための投影露光装置の投影光学ユニットのミラーの反射面のためのこの種の自由曲面は、ＵＳ２００７−００５８２６９Ａ１から公知である。

自由曲面は、次式によって数学的に説明することができる。

ここで次式が成り立つ。

Ｚは、点ｘ，ｙ（ｘ²＋ｙ²＝ｒ²）における自由曲面のサジッタである。ｃは、対応する非球面の頂点曲率に対応する定数である。ｋは、対応する非球面の円錐定数である。Ｃ_jは、単項式Ｘ^mＹⁿの係数である。一般的に、ｃ、ｋ、及びＣ_jの値は、投影光学ユニット７内のミラーの望ましい光学特性に基づいて決められる。単項式の次数ｍ＋ｎは、必要に応じて変更することができる。より高次の単項式は、より良好な像収差補正を有する投影光学ユニットの設計をもたらすことができるが、計算することがより複雑であり、ｍ＋ｎは、３と２０よりも大きい値の間の値を取ることができる。

自由曲面は、例えば、光学設計プログラム「ＣＯＤＥ Ｖ」（登録商標）のマニュアルに説明されているゼルニケ多項式によって数学的に説明することができる。代替的に、自由曲面は、２次元スプライン面を用いて説明することができる。２次元スプライン面の例は、ベジェ曲面又は不均一有理基底スプライン（ＮＵＲＢＳ）である。２次元スプライン面は、例えば、ｘｙ平面内の点の格子網とそれに関連付けられたｚ値とにより、又はこれらの点とこれらの点に関連付けられた勾配とによって説明することができる。スプライン面のそれぞれの種類によっては、完全な面は、例えば、連続性及び微分可能性に関して固有の特性を有する多項式又は関数を用いた格子網の点の間の内挿によって得られる。

ミラーＭ１からＭ６は、入射するＥＵＶ照明光３に対する反射を最適化するために複数の反射層を有する。ミラー面上の個別ビーム１５の入射角が垂直入射に近づく程、反射は益々良好になる。投影光学ユニット７は、全ての個別ビーム１５に対して全体的に小さい反射角を有する。

投影光学ユニット７のミラーＭ１からＭ６の反射面の光学設計データは、下記の表から得ることができる。これらの表のうちの最初のものは、光学構成要素の光学面及び開口絞りに関して、各場合に頂点曲率の逆数（半径）及び物体平面から進むビーム経路内で隣接する要素の間のｚ距離に対応する距離値（厚み）を明記している。第２の表は、ミラーＭ１からＭ６に関する上記に明記した自由曲面式における単項式Ｘ^mＹⁿの係数Ｃ_jを明記している。この場合、Ｎ_半径は、正規化係数を表している。第２の表の後には、ミラー基準設計から進めて、それぞれのミラーが偏心（Ｙ−偏心）及び回転（Ｘ−回転）されたマグニチュードを単位ｍｍで同様に明記している。このマグニチュードは、上述の自由曲面設計法の場合の平行変位及び傾斜に対応する。この場合、変位は、ｙ方向に行われ、傾斜は、ｘ軸の回りに行われる。この表では、回転角を度で明記している。

（表）

（表）

（表）

物体像オフセット、すなわち、物体視野４の中点の像平面９上への投影と像視野８の中点との間の距離は、投影光学ユニット７の場合は、２０８ｍｍである。

図３は、投影露光装置１において図２に記載の投影光学ユニット７の代わりに用いることができる投影光学ユニット２１の更に別の実施形態を示している。図１及び図２を参照して上述したものに対応する構成要素又は基準変数は、同じ参照番号を有し、再度詳細には解説しない。

投影光学ユニット２１も、照明光３のビーム経路の順序で物体平面５から続くミラーＭ１からＭ６で表した合計で６つの反射ミラーを有する。ミラーＭ１からＭ６は全て、回転対称関数では説明することができない反射自由曲面を有する。

投影光学ユニット２１は、８倍の縮小を行う。投影光学ユニット２１は、０．７０の像側開口数ＮＡを有する。投影光学ユニット２１の像視野８の寸法は、投影光学ユニット７のものに対応する。中間像側開口数は、ほぼ０．２である。

投影光学ユニット２１は、１．４２９ｍｍの構造長、すなわち、物体平面５と像平面９の間の距離を有する。

物体−像オフセットは、投影光学ユニット７の場合よりも投影光学ユニット２１の場合には有意に大きく、投影光学ユニット２１の場合は、３８９ｍｍである。

投影光学ユニット２１の場合には、入射瞳平面は、照明光３のビーム経路内で物体平面５の前方１０００ｍｍの位置に位置する。この場合、物体平面５とミラーＭ１の間では、個別ビーム１５は、異なる物体視野点に割り当てられるが、同じ照明方向に割り当てられ、すなわち、互いに対して発散して進む。

投影光学ユニット２１のミラーＭ１からＭ６の反射面の光学設計データは、下記の表から得ることができ、その構造は、図２に記載の投影光学ユニット７に関する表のものに対応する。

（表）

（表）

（表続き）

（表）

図４は、光源２と像視野８の間の照明光３のビーム経路を投影光学ユニット２１の使用と共に示している。光源２の下流には、光源２からの使用可能放射光を集光するためのコレクター２２が配置される。コレクター２２の下流には、次に、かすめ入射で作動されるスペクトルフィルタ２３が配置される。スペクトルフィルタ２３の下流には、視野ファセットミラー２４が配置される。視野ファセットミラー２４の下流には、瞳ファセットミラー２５が配置される。照明光学系６の一部としてのそのようなファセットミラー２４、２５の概念は、例えば、ＵＳ７，１８６，９８３Ｂ２から原則的に公知である。瞳ファセットミラー２５は、図４に２６で示している投影光学ユニット２１の入射瞳平面の領域に配置される。従って、瞳ファセットミラー２５と物体平面５の間には、約１０００ｍｍの距離が存在する。照明光３は、瞳ファセットミラー２５から反射レチクル１０上に直接誘導される。従って、瞳ファセットミラー２５とレチクル１０の間には、照明光３に影響を与えるか又は偏向するいかなる更に別の構成要素も存在しない。

微細構造構成要素又はナノ構造構成要素、特に、マイクロ電子回路における半導体構成要素、すなわち、例えば、マイクロチップを製造するために、以下の手順が使用される。レチクル１０とウェーハ１１が準備される。次に、レチクル１０上に存在する構造が、投影露光装置１を用いてウェーハ１１の感光層上に投影される。次に、微細構造又はナノ構造が、感光層を現像することによってウェーハ１１上に生成される。

３ 結像光
５ 物体平面
７ 結像光学系
９ 像平面
１８，１９ 貫通開口部
Ｍ１からＭ６ ミラー

Claims (14)

1. 物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像する複数のミラー（Ｍ１〜Ｍ６）を含み、該ミラーの少なくとも１つ（Ｍ５，Ｍ６）が結像光（３）の通過のための貫通開口部（１８，１９）を有する結像光学系（７）であって、
   物体平面（５）の前５ｍ〜２０００ｍの範囲の結像光（３）のビーム経路に位置する入射瞳平面を有する、
   ことを特徴とする結像光学系（７）。
2. ０．４〜０．９の範囲の像側開口数を特徴とする請求項１に記載の結像光学系。
3. 物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像する複数のミラー（Ｍ１〜Ｍ６）を含み、該ミラーの少なくとも１つ（Ｍ５，Ｍ６）が結像光（３）の通過のための貫通開口部（１８，１９）を有する結像光学系（２１）であって、
   物体平面（５）の前１００ｍｍ〜５０００ｍｍの範囲の結像光（３）のビーム経路に位置する入射瞳平面（２６）を有し、ミラー（Ｍ１〜Ｍ６）のうちの少なくとも１つの反射面が、自由曲面とし具現化される、
   ことを特徴とする結像光学系（２１）。
4. ０．４〜０．９の範囲の像側開口数を特徴とする請求項３に記載の結像光学系。
5. ０．７の像側開口数を特徴とする請求項４に記載の結像光学系。
6. 前記像平面（９）は、前記物体平面（４）に対して平行に配置されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の結像光学系。
7. 正確に６つのミラー（Ｍ１〜Ｍ６）を特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の結像光学系。
8. １ｍｍ²よりも大きい像視野（８）を特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の結像光学系。
9. 像側でテレセントリックであることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の結像光学系。
10. 請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の結像光学系と、
    照明光（３）を前記結像光学系（７；２１）の物体視野（４）に向けて誘導するための照明光学系（６）と、
    を含むことを特徴とする光学系。
11. マイクロリソグラフィのための投影露光装置であって、
    請求項１０に記載の光学系を含み、かつ
    照明及び結像光（３）のための光源（２）を含む、
    ことを特徴とする投影露光装置。
12. 照明光学系（６）の瞳ファセットミラー（２５）が、結像光学系（２１）の入射瞳平面（２６）に配置されることを特徴とする請求項１１に記載の投影露光装置。
13. 微細構造構成要素を生成する方法であって、
    レチクル（１０）及びウェーハ（１１）を準備する段階と、
    請求項１１又は請求項１２に記載の投影露光装置の補助により前記レチクル（１０）上の構造を前記ウェーハ（１１）の感光層上に投影する段階と、
    前記ウェーハ（１１）上に微細構造を生成する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。
14. 請求項１３に記載の方法に従って生成された微細構造構成要素。

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