JP2011515580A - 成形プラスチック部品の一部に対するめっきを防ぐプロセス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、二重ショット成形プラスチック部品の非めっき等級樹脂部分に触媒毒を組み込み、触媒毒を含有している該部分上に任意の無電解めっき化学物質が析出する傾向を遅延させる方法に関する。
【選択図】なし
Description
1.第1のショットを成形する;
2.第1のショットを第2のポリマーで外層成形(overmold)する;
3.露出領域をエッチング及び活性化する;
4.無電解ニッケルめっき又は無電解銅めっきを施し、めっき材料を析出させる。
選択的にめっきが施されているめっき体であって、
a)第1プラスチック部であって、該プラスチック部中に触媒毒が実質的に均一に分布しており、該触媒毒が該プラスチック部上への無電解めっきを阻止する第1プラスチック部と、
b)第2プラスチック部であって、該プラスチック部上に無電解めっきを受容可能であり、該プラスチック部上に析出している無電解金属めっき層を有する第2プラスチック部と、
を含み、
前記第1プラスチック部が無電解金属めっきを少なくとも実質的に含まない、選択的にめっきが施されているめっき体に関する。
a)プラスチック部品を提供する工程であって、
i)第1プラスチック部であって、該プラスチック部中に触媒毒が実質的に均一に分布しており、該触媒毒が該プラスチック部上への無電解めっきを阻止する第1プラスチック部と、
ii)第2プラスチック部であって、該プラスチック部上に無電解めっきを受容可能である第2プラスチック部と、
を含むプラスチック部品を提供する工程と、
b)無電解めっきを受容可能な前記第2プラスチック部上において無電解めっきを受容するよう前記プラスチック部品を調製する工程と、
c)無電解めっき浴中で前記プラスチック部品にめっきを施す工程と、
を含み、
前記第1プラスチック部は無電解めっきを少なくとも実質的に含まないが、前記第2プラスチック部は少なくとも部分的にめっきされる、プラスチック部品にめっきを施す方法に関する。
a)第1プラスチック部であって、該プラスチック部中に材料が実質的に均一に分布しており、該材料が該プラスチック部上への無電解めっきを阻止する第1プラスチック部と、第2プラスチック部であって、該ブラスチック部上に無電解めっきを受容可能である第2プラスチック部と、を含むプラスチック部品を提供する工程と、
b)無電解めっきを受容可能な前記第2プラスチック部上において無電解めっきを受容するよう前記プラスチック部品を調製する工程と、
c)無電解めっき浴中で前記プラスチック部品にめっきを施す工程と、
を含み、
前記第1プラスチック部が、少なくとも実質的に無電解めっきを施されないまま残る方法に関する。
PC−ポリカーボネート
PPO−ポリフェニレンオキシド
LCP−液晶ポリマー
SPS−シンジオタクチックポリスチレン
1)クロム酸/硫酸又はアルカリ性過マンガン酸塩/腐食剤混合物、
2)中和、
3)コロイド活性化、
4)アクセラレーション、及び
5)無電解ニッケルめっき又は無電解銅めっき。
典型的にはプロセスの各工程の間に冷水によるすすぎ工程が介在する。
1)クロム酸/硫酸、
2)中和、
3)イオン性パラジウム活性化(酸又はアルカリ)、
4)イオン性還元剤、次亜リン酸塩、又はジメチルアミノボラン(DMAB)混合物、
5)無電解ニッケルめっき又は無電解銅めっき。
1)アルカリ性過マンガン酸塩/腐食剤混合物、
2)中和、
3)イオン性パラジウム活性化、
4)イオン性還元剤、及び
5)無電解ニッケルめっき又は無電解銅めっき。
1)イオン性還元剤、及び
2)無電解ニッケルめっき又は無電解銅めっき。
1)腐食剤エッチング、
2)中和のための酸予備浸漬(pre−dip)、
3)コロイド活性化、
4)アクセラレーション、及び
5)無電解ニッケルめっき又は無電解銅めっき。
1)腐食剤エッチング、
2)中和のための酸予備浸漬、
3)イオン性パラジウム活性化、
4)イオン性還元剤、及び
5)無電解ニッケルめっき又は無電解銅めっき。
アクリロニトリルブタジエンスチレンターポリマー(ABS)基材を以下のサイクルを介して処理した:
(1)450g/Lのクロム酸及び350g/Lの硫酸と、0.1%w/vのMetex(登録商標)Spray Stop−L(マクダーミッド インコーポレーテッド,Waterbury,CTから入手可能)とを含む溶液を8分間160°F(71℃)の温度で塗布、
(2)冷水ですすぐ(3回)−1分間、
(3)5体積%のMacuplex(登録商標)9339中和剤(マクダーミッド インコーポレーテッド,Waterbury,CT)と、3.5体積%の塩酸とを、2分間115°F(46℃)の温度で塗布、
(4)冷水ですすぐ(2回)1分間、
(5)0.6体積%のMacuplex(登録商標)D−34濃縮活性化剤(マクダーミッド インコーポレーテッド,Waterbury,CTから入手可能)と、20体積%の塩酸とを、3分間85°F(29℃)の温度で塗布、
(6)冷水ですすぐ(2回)1分間、
(7)60g/LのMacuplex(登録商標)9369促進剤(マクダーミッド インコーポレーテッド,Waterbury,CTから入手可能)を、2分間120°F(49℃)の温度で塗布、硬水が問題となる場合は、Macuplex(登録商標)9369促進剤でMaccelerator(登録商標)25(MacDermid,Inc.,Waterbury,CTから入手可能)を代用してもよい、
(8)冷水ですすぐ(2回)1分間、
(9)Macuplex(登録商標)J−64EN又はUltradep(登録商標)60無電解銅(それぞれMacDermid,Inc.,Waterbury,CTから入手可能)、
(10)冷水ですすぐ(3回)1分間、
(11)必要に応じて更なる処理工程。
液晶ポリマー(LCP)基材を以下のサイクルを介して処理した:
(1)Macudizer(登録商標)9276(MacDermid,Inc.,Waterbury,CTから入手可能)100体積%M−79−224を、6分間〜10分間190°F(88℃)の温度で塗布、
(2)冷水ですすぐ(3回)1分間、
(3)55g/LのMacudizer(登録商標)9278 Glass Etch(MacDermid,Inc.,Waterbury,CTから入手可能)と、7体積%の硫酸とを、5分間110°F(43℃)の温度で塗布、
(4)冷水ですすぐ(2回)1分間、
(5)酸浸漬−10%硫酸を1分間〜2分間75°F(24℃)の温度で塗布、
(6)冷水ですすぐ(2回)1分間、
(7)Conditioner90(MacDermid,Inc.,Waterbury,CTから入手可能)−10体積%のA、5体積%のB、及び2.5体積%のCを、2分間120°F(49℃)の温度で塗布、
(8)冷水ですすぐ(2回)1分間、
(9)Macuplex(登録商標)D−34濃縮物(MacDermid,Inc.,Waterbury,CTから入手可能)−0.8体積%D−34濃縮物の20体積%塩酸溶液を、2分間〜4分間80°F(27℃)の温度で塗布、
(10)冷水ですすぐ(2回)1分間、
(11)60g/LのUltracel(登録商標)9369(MacDermid,Inc.,Waterbury,CTから入手可能)を2分間〜3分間120°F(49℃)の温度で塗布、
(12)冷水ですすぐ(2回)1分間、
(13)Macuplex(登録商標)J−64EN又はUltradep(登録商標)60無電解銅(それぞれMacDermid,Inc.,Waterbury,CTから入手可能)、
(14)冷水ですすぐ(3回)1分間、
(15)必要に応じて更なる処理工程。
Claims (23)
- 選択的にめっきが施されているめっき体であって、
a)第1プラスチック部であって、該プラスチック部中に触媒毒が実質的に均一に分布しており、該触媒毒が該プラスチック部上への無電解めっきを阻止する第1プラスチック部と、
b)第2プラスチック部であって、該プラスチック部上に無電解めっきを受容可能であり、該プラスチック部上に析出している無電解金属めっき層を有する第2プラスチック部と、
を含み、
前記第1プラスチック部が、無電解金属めっきを少なくとも実質的に含まないことを特徴とする、選択的にめっきが施されているめっき体。 - 触媒毒が、有機硫黄化合物及び有機ヨード化合物からなる群から選択される請求項1に記載のめっき体。
- 触媒毒が、式R−SH又はR=Sを有する硫黄種であり、式中Rが、アルキル基、アルケン基、アルキン基、芳香族基、有機環基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される請求項2に記載のめっき体。
- 触媒毒が、チアジアゾール、チアジアゾール誘導体、置換チアジアゾール、アルキルジチオリン酸塩、不活性担体上のチアジアゾール誘導体、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾールのエーテル誘導体、ピペリジニウムペンタメチレンジチオカルバマートからなる群から選択される請求項2に記載のめっき体。
- 有機ヨード化合物が、ヨード安息香酸である請求項2に記載のめっき体。
- 触媒毒が、金属安定剤を全く含有していない請求項2に記載のめっき体。
- 無電解金属めっき層が、無電解ニッケル及び無電解銅からなる群から選択される請求項1に記載のめっき体。
- プラスチック部品にめっきを施す方法であって、
a)プラスチック部品を提供する工程であって、
i)第1プラスチック部であって、該プラスチック部中に触媒毒が実質的に均一に分布しており、該触媒毒が該プラスチック部上への無電解めっきを阻止する第1プラスチック部と、
ii)第2プラスチック部であって、該プラスチック部上に無電解めっきを受容可能である第2プラスチック部と、
を含むプラスチック部品を提供する工程と、
b)無電解めっきを受容可能な前記第2プラスチック部上において無電解めっきを受容するよう前記プラスチック部品を調製する工程と、
c)無電解めっき浴中で前記プラスチック部品にめっきを施す工程と、
を含み、
前記第1プラスチック部が、無電解めっきを少なくとも実質的に含まないことを特徴とする、プラスチック部品にめっきを施す方法。 - 無電解めっきが、無電解銅及び無電解ニッケルから選択される請求項8に記載の方法。
- 第2プラスチック部が、アクリロニトリルブタジエンスチレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン/ポリカーボネート、液晶ポリマー、パラジウム充填液晶ポリマー、及びパラジウム充填シンジオタクチックポリスチレンからなる群から選択される樹脂である請求項8に記載の方法。
- 第1プラスチック部が、アクリロニトリルブタジエンスチレン/ポリカーボネート、ポリカーボネート、ナイロン、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン/ポリカーボネート/ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、シンジオタクチックポリスチレン、及び液晶ポリマーからなる群から選択される樹脂である請求項8に記載の方法。
- 第1プラスチック部が、実質的に100%樹脂である請求項11に記載の方法。
- 第1プラスチック部が、該プラスチック部上に接着部位を生じさせ得る充填材を全く含有していない請求項8に記載の方法。
- 触媒毒が、硫黄種及び有機ヨード化合物からなる群から選択される請求項8に記載の方法。
- 触媒毒が、式R−SH又はR=Sを有する硫黄種であって、式中Rが、アルキル基、アルケン基、アルキン基、芳香族基、有機環基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される請求項14に記載の方法。
- 触媒毒が、チアジアゾール、チアジアゾール誘導体、置換チアジアゾール、アルキルジチオリン酸塩、不活性担体上のチアジアゾール誘導体、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾールのエーテル誘導体、ピペリジニウムペンタメチレンジチオカルバマートからなる群から選択される請求項14に記載の方法。
- 有機ヨード化合物が、ヨード安息香酸である請求項14に記載の方法。
- 触媒毒が、金属安定剤を全く含有していない請求項14に記載の方法。
- 触媒毒が、硫黄に基づいて約0.015mg/L〜約5.0mg/Lの濃度で第1プラスチック部に存在している請求項8に記載の方法。
- 触媒毒が、約 の濃度で第1プラスチック部に存在している請求項19に記載の方法。
- プラスチック部品が、二重ショット成形プラスチック部品である請求項8に記載の方法。
- 第2プラスチック部が、硫黄種及び有機ヨード化合物のいずれかからなる群から選択される充填材を含んでいる請求項8に記載の方法。
- 第2プラスチック部が、パラジウム触媒を含有している請求項8に記載の方法。
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