JP2011514633A - 投影レンズ構成体 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (29)
- ターゲット上に荷電粒子の小ビームを投影するための荷電粒子マルチ小ビームシステムのための投影レンズ構成体であって、
この投影レンズ構成体は、投影レンズ系のアレイを具備し、
この投影レンズ構成体は、
少なくとも1つのプレートと、
少なくとも1つの投影レンズのアレイと、を有し、
各プレートは、各プレートに形成されたアパーチャのアレイを有し、前記アパーチャの位置に前記投影レンズが形成されており、
前記少なくとも1つの投影レンズのアレイは、投影レンズ系のアレイを形成し、
各投影レンズ系は、前記少なくとも1つの投影レンズのアレイの対応する点に形成された前記投影レンズの少なくとも1つを有し、
前記投影レンズ系は、前記プレートのアパーチャの直径の約1ないし3倍の範囲のピッチで配置されており、
各投影レンズ系は、前記ターゲット面上に前記荷電粒子の小ビームの少なくとも1つを縮小し、集束するように設けられており、
各投影レンズ系は、前記ピッチの約1ないし5倍の範囲の有効焦点距離を有し、少なくとも25倍だけ前記荷電粒子の小ビームを縮小する、投影レンズ構成体。 - 少なくとも数万の投影レンズ系のアレイを有する請求項1の投影レンズ構成体。
- 前記投影レンズ系の前記焦点距離は、約1mm未満である請求項1又は2の投影レンズ構成体。
- 複数のプレートを有する請求項1ないし3のいずれか1の投影レンズ構成体。
- 少なくとも3つのプレートを有する請求項1ないし4のいずれか1の投影レンズ構成体。
- 前記プレートは、最も厚い前記プレートの厚さと同じオーダの距離だけ隔てられている請求項1ないし5のいずれか1の投影レンズ構成体。
- 前記投影レンズ系のアレイの前記ピッチは、約50ないし500マイクロメートルの範囲にある請求項1ないし6のいずれか1の投影レンズ構成体。
- この投影レンズ構成体の上流端及び下流端からの距離は、約0.3ないし2.0mmの範囲にある請求項1ないし7のいずれか1の投影レンズ構成体。
- 各アレイの前記投影レンズは、ほぼ1つの面に配置されている請求項1ないし8のいずれか1の投影レンズ構成体。
- 前記投影レンズは、静電レンズを有する請求項1ないし9のいずれか1の投影レンズ構成体。
- 各プレートは、前記静電レンズを形成するための電極を有する請求項10の投影レンズ構成体。
- 10kV/mmよりも大きい電場が、この投影レンズ構成体の電極間に発生される請求項11の投影レンズ構成体。
- 約25ないし50kV/mmの範囲にある電場が、この投影レンズ構成体の電極間に発生される請求項11の投影レンズ構成体。
- 第1のプレートと、
前記第1のプレートの下流側の第2のプレートと、
前記第2のプレートの下流側の第3のプレートと、を有し、
これらプレートの前記アパーチャは、各プレートの対応するアパーチャが互いにほぼアライメントされるように配置されている請求項1ないし13のいずれか1の投影レンズ構成体。 - 前記第3のプレートは、前記ターゲットとほぼ同じ電位で保持される電極を有する請求項14の投影レンズ構成体。
- 各プレートは、電極を有し、
前記第1のプレートと第2のプレートとの間の電圧差は、前記第2のプレートと第3のプレートとの間の電圧差よりも小さい請求項14又は15の投影レンズ構成体。 - 各プレートは、電極を有し、
前記第2及び第3のプレートの電極の電圧は、約3ないし6kVの範囲にある請求項14ないし16のいずれか1の投影レンズ構成体。 - 前記第1のプレートと第2のプレートとは、約100ないし1000マイクロメートル離れて配置されており、
前記第2のプレートと第3のプレートとは、約50ないし500マイクロメートル離れて配置されており、
前記第3のプレートは、前記ターゲットから約25ないし400マイクロメートルのところに配置されている請求項14ないし17のいずれか1の投影レンズ構成体。 - 前記第1のプレートと第2のプレートとは、約100ないし200マイクロメートル離れて配置されており、
前記第2のプレートと第3のプレートとは、約150ないし250マイクロメートル離れて配置されており、
前記第3のプレートは、前記ターゲットから約50ないし200マイクロメートルのところに配置されている請求項14ないし17のいずれか1の投影レンズ構成体。 - 各投影レンズ系は、前記ターゲット面上に単一の荷電粒子の小ビームを縮小し集束するように設けられており、
各投影レンズ系は、少なくとも100倍だけ、前記荷電粒子の小ビームを縮小する請求項1ないし19のいずれか1の投影レンズ構成体。 - 請求項1ないし20のいずれか1の投影レンズ構成体を具備し、荷電粒子マルチ小ビームシステムに装着可能なエンドモジュール。
- 前記投影レンズ構成体の上流側に位置されたビーム停止アレイをさらに具備し、
前記ビーム停止アレイは、中に形成されたアパーチャのアレイを含むプレートを有し、
前記ビーム停止アレイのアパーチャは、前記投影レンズ系とほぼアライメントされている請求項21のエンドモジュール。 - 前記ビーム停止アレイのアパーチャの直径は、約5ないし20μmの範囲にある請求項22のエンドモジュール。
- 前記ビーム停止アレイと前記投影レンズ構成体との間の距離は、約5mm未満である請求項22又は23のエンドモジュール。
- 前記小ビームを走査するための偏向系をさらに具備し、
この偏向系は、前記ビーム停止アレイと前記投影レンズ構成体との間に位置される請求項22ないし24のエンドモジュール。 - 荷電粒子のビームを発生させるための荷電粒子源と、
前記ビームをコリメートするためのコリメータと、
前記コリメートされたビームから複数の小ビームを発生させるためのアパーチャアレイと、
前記小ビームを集束させるための集光アレイと、
前記集光アレイの焦点面にほぼ配置され、前記小ビームの偏向を与えるための偏向器を有するビームブランカアレイと、
請求項21ないし25のいずれか1のエンドモジュールと、を具備する荷電粒子マルチ小ビームシステム。 - 前記小ビームの荷電粒子は、約1ないし10keVの範囲のエネルギを有する請求項25の荷電粒子マルチ小ビームシステム。
- 前記エンドモジュールの前記投影レンズ構成体は、前記小ビームが前記ターゲットに到達する前に、前記小ビームを集光して縮小するための最終的な要素を有する請求項26又は27の荷電粒子マルチ小ビームシステム。
- 前記エンドモジュールの前記投影レンズ構成体は、この荷電粒子マルチ小ビームシステムの主な縮小要素を有する請求項26ないし28のいずれか1の荷電粒子マルチ小ビームシステム。
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