JP2011511465A5

JP2011511465A5 -

Info

Publication number: JP2011511465A5
Application number: JP2010545359A
Authority: JP
Filing date: 2009-02-05
Publication date: 2013-04-04

Claims

電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）を行うための方法において、前記方法は、
基板の表面上にエネルギー感受性レジストを備える前記基板を提供するステップであって、前記レジストは、しきい線量／エネルギーを有する、ステップと、
前記エネルギー感受性レジストに向かって電子ビームを放出することができる電子ビーム源（ＥＢＳ）を提供するステップと、
前記基板上に第１のパターン（Ｐ１）を形成するように第１の複数回前記基板を横断して前記電子ビームを相対的に移動させるステップであって、前記第１のパターンは、前記基板上に第１の方向（Ｄ１）を規定する、ステップと、
前記基板上に第２のパターン（Ｐ２）を形成するように第２の複数回前記基板を横断して前記電子ビームを相対的に移動させるステップであって、前記第２のパターンは、前記基板上に第２の方向（Ｄ２）を規定し、前記第２の方向（Ｄ２）は、前記第１の方向（Ｄ１）と平行ではない、ステップとを含み、
前記第１および前記第２のパターンの露光中に前記エネルギー感受性レジストに届けられるエネルギーおよび／または線量は、前記エネルギー感受性レジストの前記しきい線量／エネルギーが前記第１および前記第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）の重なり部分上で達せられるように大きさを決められ、
前記第１および前記第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）の重なり部分の通過中の前記電子ビームは、前記通過の直前の前記電子ビームのビーム強度および／またはエネルギーと比較して、変わらないビーム強度および／またはエネルギーを有し、
前記第１および／または前記第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）は、複数の平行線であり、前記第１および／または第２のパターンの前記方向（Ｄ１、Ｄ２）は、前記線の方向によって規定される、方法。
前記電子ビームの強度および／またはエネルギーはさらに、前記第１および前記第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）の前記重なり部分よりもかなり大きい長さスケールで変わらない、請求項１に記載の方法。
前記電子ビームは、前記第１または前記第２のパターンを形成するとき、少なくとも前記第１および前記第２のパターンの前記重なり部分を形成するときに前記基板を横断する一定の速度を有する、請求項１に記載の方法。
前記基板上への前記第１および／または第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）の形成中の前記電子ビームは、一定の強度および／またはエネルギーを有する、請求項１に記載の方法。
前記電子ビーム源は、１つの電子ビームを提供することができ、前記第１および前記第２のパターンは、前記１つの電子ビームで連続して形成される、請求項１に記載の方法。
前記第１および第２のパターンの相互に重なる前記重なり部分は、ドットの二次元配列を規定する、請求項１に記載の方法。
ドットの前記二次元配列は、１つ以上の周期で１つ以上の方向に周期的である、請求項６に記載の方法。
前記ドットは、０．１、１、２、５、１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００、１，０００、または１０，０００ナノメートルの最大寸法を有する、請求項６に記載の方法。
前記第１および第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）は、互いに対して９０度シフトされる、請求項１に記載の方法。
第３の方向（Ｄ３）を持つ追加の第３のパターン（Ｐ３）は、前記基板上に形成され、前記第１、前記第２、および前記第３の方向は、互いに対して６０度シフトされる、請求項１に記載の方法。
前記電子ビーム源（ＥＢＳ）の分解能は、少なくとも０．１、１、２、５、１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００、１，０００、または１０，０００ナノメートルである、請求項１に記載の方法。
電子ビームリソグラフィ（ＥＢＬ）装置であって、前記装置は、電子ビームを放出することができる電子ビーム源（ＥＢＳ）を備え、
前記装置は、基板上に第１のパターン（Ｐ１）を形成するように第１の複数回前記基板を横断して前記電子ビームを相対的に移動させるステップであって、前記第１のパターンは、前記基板上に第１の方向（Ｄ１）を規定する、ステップと、前記基板上に第２のパターン（Ｐ２）を形成するように第２の複数回前記基板を横断して前記電子ビームを相対的に移動させるステップであって、前記第２のパターンは、前記基板上に第２の方向（Ｄ２）を規定し、前記第２の方向（Ｄ２）は、前記第１の方向（Ｄ１）と平行ではない、ステップとによって、前記基板の表面上にエネルギー感受性レジストを備え、前記レジストはしきい線量／エネルギーを有する、関連する基板上にリソグラフィを行うように配置され、
前記第１および前記第２のパターンの露光中に前記エネルギー感受性レジストに届けられるエネルギーおよび／または線量は、前記エネルギー感受性レジストの前記しきい線量／エネルギーが前記第１および前記第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）の重なり部分上で達せられるように大きさを決められ、
前記第１および前記第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）の重なり部分の通過中の前記電子ビームは、前記通過の直前の前記電子ビームのビーム強度および／またはエネルギーと比較して、変わらないビーム強度および／またはエネルギーを有し、
前記第１および／または前記第２のパターン（Ｐ１、Ｐ２）は、複数の平行線であり、前記第１および／または第２のパターンの前記方向（Ｄ１、Ｄ２）は、前記線の方向によって規定される、装置。
請求項１による電子ビームリソグラフィデバイスを制御するためにそれに関連するデータ記憶手段を有する少なくとも１つのコンピュータを備えるコンピュータシステムを可能とするように構成されるコンピュータプログラム製品。