JP2011511313A - 傾斜エッジを有する造形部の画像化 - Google Patents

Abstract

媒体上に画像を形成する方法が提供される。当該方法は、走査方向に沿って媒体上を走査しながら画像を形成するように放射線ビームを放射するよう画像化ヘッドを制御することを含む。画像は、走査方向に対して或る傾斜角だけ傾斜した方向に延在するエッジ部を有する造形部を含むことができる。各放射線ビームは、該放射線ビームによって媒体上に形成される画素のサイズを変化させるように制御可能である。各画素は、第１の方向に沿った第１のサイズと、第１の方向と交差する第２の方向に沿った第２のサイズとを有する。一実施形態において、第２のサイズは、第１のサイズと異なり、少なくとも傾斜角と第１のサイズとに基づいて決定される。

Description

本発明は、走査方向に対して傾斜したエッジを有する造形部の画像を形成するシステム及び方法に関する。本発明は、例えば、電子ディスプレー用のカラーフィルタを製造することに適用され得る。

ディスプレーパネルに使用されるカラーフィルタは、典型的に、複数のカラー機構を有するパターンを含んでいる。カラー機構は、例えば、赤色、緑色及び／又は青色機構を含み得る。カラーフィルタは、その他の色のカラー機構で作られてもよい。カラー機構は、様々な好適構成のうちの何れかで構成され得る。従来の“ストライプ”構成は、図１Ａに示すように、列ごとに交番する赤色、緑色、及び青色機構を有する。

図１Ａは、それぞれが受像素子１８を横切って交番する列状に形成された複数の赤色機構１２、緑色機構１４及び青色機構１６を有する従来の“ストライプ”構成のカラーフィルタ１０の一部を示している。カラー機構１２、１４及び１６は、カラーフィルタマトリクス２０（マトリクス２０とも称する）の部分ぶぶんによって輪郭を定められている。列は、マトリクスセル３１（セル３１とも称する）によって個々のカラー機構１２、１４及び１６に細分化される細長いストライプで画像化されることができる。関連するＬＣＤパネル（図示せず）上のＴＦＴトランジスタは、マトリクス２０の領域２２によって覆われ得る。

様々なイメージング方法が技術的に知られており、媒体上に様々な造形部を形成するために使用され得る。例えば、ディスプレー、特にカラーフィルタの製造に、レーザ誘起熱転写プロセスを使用することが提案されている。一部の製造技術において、カラーフィルタを作り出すためにレーザ誘起熱転写プロセスが使用されるとき、受像素子としても知られるカラーフィルタ基板がドナー素子で覆われ、その後、ドナー素子から受像素子に着色料を選択的に転写するために、ドナー素子が画像的に露光される。好適な露光法は、受像素子への着色料の転写を誘起するために、例えばレーザビームなどの放射線ビームを使用する。低コスト及び小型の点でダイオードレーザが特に好ましい。

レーザ誘起“熱転写”プロセスは、レーザ誘起“染料転写”プロセス、レーザ誘起“溶融転写”プロセス、レーザ誘起“アブレーション転写”プロセス、及びレーザ誘起“物質移動”プロセスを含む。レーザ誘起熱転写プロセス中に転写される着色料は、好適な染料ベースあるいは顔料ベースの組成物を含む。１つ又は複数の結合剤（バインダ）などの更なる要素が転写されてもよい。

一部の従来のレーザイメージングシステムは、限られた数の放射線ビームを生成する。その他の一部の従来システムは、数多くの個々に変調された画像化チャネルを用いて数多くの放射線ビームを生成することによって、画像を完成させるために必要な時間を短縮する。多数のそのような“チャネル”を備えた画像化ヘッドが利用可能である。例えば、コダック・グラフィック・コミュニケーションズ・カナダ社（カナダ、ブリティッシュコロンビア州）によって製造されているＳＱＵＡＲＥｓｐｏｔ（登録商標）型のサーマルイメージングヘッドは数百の独立チャネルを有している。各チャネルは２５ｍＷを上回るパワーを有し得る。連続した１つの画像を形成するように配置された一連の帯状画像領域に画像を書き込むように、画像化チャネルのアレイを制御することが可能である。

放射線ビームは、様々な画像を形成するようにスキャン経路に沿って走査される。形成される画像の視覚的な品質は、具体的な画像化プロセスの選択における重要な検討事項であり得る。例えばカラーフィルタ機構のレーザ誘起熱転写などの用途では、形成されるカラーフィルタの品質は、実質的に同一の視覚特性を有する画像化部分に依存する。例えば、１つの具体的な視覚特性は濃度（例えば、光学濃度又は色濃度）を含み得る。画像化されたカラー機構同士の間での濃度バラつきは、好ましくない画像アーチファクトを生じさせ得る。画像アーチファクトは、画像化された造形部内での濃淡縞（バンディング）又は色バラつきを含み得る。

図１Ａに示したストライプ構成は、カラーフィルタ機構の一構成例を示している。カラーフィルタはその他の構成を有していてもよい。モザイク構成は、カラー機構が双方向に（例えば、列及び行に沿って）交番することで各カラー機構が“島（アイランド）”状にされたカラー機構群を有する。デルタ構成（図示せず）は、互いに三角形の関係で配置された赤色、緑色及び青色のカラー機構のグループを有する。モザイク構成及びデルタ構成は“アイランド”構成の例である。図１Ｂは、モザイク構成で配置された従来のカラーフィルタ１０の一部を示しており、カラー機構１２、１４及び１６が列状に配置され、且つ列を横切る方向及び列に沿う方向の双方に交番している。

その他のカラーフィルタ構成も技術的に知られている。図示した上述の例は長方形状のカラーフィルタ素子のパターンを示しているが、その他の形状のカラー機構を含むその他のパターンも知られている。

図１Ｃは、三角形状のカラー機構１２Ａ、１４Ａ及び１６Ａの構成を有する従来のカラーフィルタ１０の一部を示している。図１Ｃに示すように、それぞれのカラー機構の各々は、列に沿って配置され、且つマトリクス２０と整列されている。

図１Ｄは、三角形状のカラー機構１２Ａ、１４Ａ及び１６Ａの構成を有する従来のカラーフィルタ１０の一部を示している。図１Ｄに示すように、それぞれのカラー機構の各々は、カラーフィルタ１０の列及び行に沿って交番している。図１Ｃ及び１Ｄに示すように、カラー機構１２Ａ、１４Ａ及び１６Ａは所与の行又は列内で異なる向きを有し得る。

図１Ｅは、Ｖ字型（シェブロン形状）のカラー機構１２Ｂ、１４Ｂ及び１６Ｂの構成を含む従来のカラーフィルタ１０の一部を示している。図１Ｅに示すように、それぞれのカラー機構の各々は、列に沿って配置され、且つマトリクス２０と整列されている。カラー機構１２Ｂ、１４Ｂ及び１６Ｂは、左右に屈曲するストライプから形成され、且つカラーフィルタマトリクス２０の部分ぶぶんによって輪郭を定められている。

図１Ｆは、シェブロン形状のカラー機構１２Ｂ、１４Ｂ及び１６Ｂの構成を含む従来のカラーフィルタ１０の一部を示している。図１Ｆに示すように、それぞれのカラー機構の各々は、カラーフィルタ１０の列及び行に沿って交番している。

カラーフィルタ機構の形状及び構成は、例えば、より良好な混色又は改善された視野角などの所望のカラーフィルタ特性を実現するように選択されることが可能である。所望のイメージング走査方向に対して傾斜したエッジを有する機構は、その製造に関して更なる課題を生じさせ得る。

一部の用途において、媒体上に設けられた整合（レジストレーション）領域と実質的に位置整合されるように造形部が形成されることが要求される。例えば、図１Ａにおいて、様々なカラー機構１２、１４及び１６は、マトリクス２０によって提供されるマトリクスセル３１のパターンと整列されるべきである。カラー機構１２、１４及び１６は、バックライトのリーク効果を低減するようにマトリクス２０に重なり合うことができる。カラーフィルタなどの用途において、最終的な製造物の視覚的な品質は、造形部のパターン（例えば、カラーフィルタ機構のパターン）が整合（レジストレーション）領域（例えば、カラーフィルタマトリクス）のパターンに位置整合される精度に依存し得る。位置不整合は、望ましくない無色の隙間、又は望ましくない色特性をもたらし得る隣接する機構同士の重なりを生じさせ得る。

マトリクス２０を重ね合わせることは、カラーフィルタ用途においてカラー機構がマトリクス２０に位置整合されなければならない精度を低下させる助けとなり得るが、典型的に、マトリクス２０を重ね合わせることができる範囲には限界がある。重なり（及び最終的な位置整合）の度合いを制限し得る要因は、以下に限られないが、カラーフィルタの具体的な構成、マトリクスラインの幅、マトリクスラインの粗さ、バックライトのリークを防止するために必要な重なり、及びポストアニールによる収縮を含み得る。

造形部を形成するために用いられる具体的な方法に関連する要因も重なりの度合いを制限し得る。例えば、レーザイメージング法が用いられるとき、レーザイメージング装置がカラーフィルタを走査することができる精度が、最終的に得られる位置整合に影響する。造形部を画像化することができる撮像分解能も最終的な整合に影響する。撮像分解能は、対応する放射線ビームによって形成される画素のサイズ特性に関係する。

造形部の高品質画像の形成をもたらす効果的且つ実用的なイメージング方法及びシステムが依然として望まれる。これらの造形部の様々な部分は、走査方向に対して異なる向きを有し得る。これらの造形部の様々なエッジはスキャン経路の方向に対して傾斜を有し得る。

媒体上に設けられた整合サブ領域群のパターンに実質的に位置整合された造形部群を形成することが可能な効果的且つ実用的なイメージング方法及びシステムが依然として望まれる。造形部群の様々なエッジは、スキャン経路の方向に対して傾斜を有し得る。造形部群はカラーディスプレーの一部とし得る。

本発明は、媒体が放射線ビームに対して移動されるときに該媒体上に画像を形成する方法に関する。媒体は、例えばマトリクスなどの整合サブ領域群のパターンを含むことができる。画像は、例えばカラーフィルタのカラー機構、又は有機発光ダイオードディスプレーの一部としての有色照明光源など、造形部群の１つ以上のパターンを含み得る。造形部群の１つ以上のパターンは、整合サブ領域群のパターンに位置整合され得る。造形部群は、第１の色の第１の複数の造形部の各造形部が、第１の色のその他の造形部から、異なる色の造形部によって隔てられたアイランド状の造形部であってもよい。造形部群は、１つ以上の方向において中断されていてもいなくてもよいストライプとすることもできる。造形部のエッジは、画像化ヘッドの画像化チャネル群の配列方向に対して傾斜されることができる。造形部はシェブロン形状であってもよい。

画像は、例えばレーザ誘起染料転写プロセスやレーザ誘起物質移動プロセスなどのレーザ誘起熱転写プロセスによって、あるいはドナー素子から受像素子に材料を転写するその他の手段によって形成され得る。

本発明の一実施形態によれば、媒体上に画像を形成する方法は、走査方向に沿って媒体上を走査しながら画像を形成するように放射線ビームを放射するよう画像化ヘッドを制御することを含む。画像は、走査方向に対して或る傾斜角だけ傾斜した方向に延在するエッジ部を有する造形部を含み得る。各放射線ビームは、該放射線ビームによって媒体上に形成される画素のサイズを変化させるように制御可能とし得る。本発明の一実施形態によれば、媒体上に形成されるべき複数の画素の各画素が有する少なくとも１つのサイズが決定される。各画素は、第１の方向に沿った第１のサイズと、第１の方向と交差する第２の方向に沿った第２のサイズとを有する。第２の方向は第１に方向に対して実質的に垂直であってもよいし、実質的に垂直でなくてもよい。第２の方向は、走査方向に対して平行であってもよいし、平行でなくてもよい。第２のサイズは、第１のサイズと異なり、且つ少なくとも傾斜角に基づいて決定される。画像化ヘッドは、造形部のエッジ部に沿って複数の画素の階段配置を形成するために一群の放射線ビームを放射するよう制御され得る。一群の放射線ビームの各放射線ビームは、第１のサイズと決定された第２のサイズとで階段配置の各画素を形成するよう制御される。階段配置は、傾斜角に等しいピッチ角を含み得る。一実施形態において、複数の画素のうちの少なくとも２つの画素が同時に形成される。第１のサイズ及び第２のサイズの各々は画素のエッジに沿ったものとし得る。

一実施形態において、第２のサイズは、第１の方向又は第２の方向に沿った造形部群のピッチに基づいて決定され得る。第２のサイズは、少なくとも関係：Ｎ×Ｄ＝（Ｍ×Ｃ）／ｔａｎ（θ）に基づいて決定されてもよい。ただし、Ｃは第１の方向に沿った画素のサイズであり、Ｄは第２の方向に沿った画素のサイズであり、θは傾斜角に相当する角度であり、Ｍは１以上の整数であり、且つＮは１以上の整数である。

他の一実施形態において、画像化ヘッドは、媒体上に１つ以上の更なる画素を形成するようにを制御されることが可能である。１つ以上の更なる画素の各々は、階段配置内の各画素とは異なるサイズを有し得る。画素の階段配置は、エッジ部が延在する方向に平行な方向に沿って繰り返され得る。第１のサイズ及び決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで複数の画素の各画素を形成するよう、一群の放射線ビームの各放射線ビームが放射される期間が制御され得る。

一実施形態において、一群の放射線ビームの各放射線ビームは、対応する放射線スポットを媒体上に形成する。第１のサイズ及び決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで複数の画素の各画素を形成するよう、放射線スポットの各々が媒体を横切って走査される期間が制御される。

他の一実施形態において、一群の放射線ビームの各放射線ビームは、対応する放射線スポットを媒体上に形成し、放射線スポットの各々は、第１のサイズ及び決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで複数の画素の各画素を形成するよう、一群の放射線ビームが走査される媒体の表面に交わる軸の周りで傾斜させて位置付けられる。所望のサイズの画素を形成するよう、画像化ヘッドが回転されてもよい。代替的に、第１のサイズ及び決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで複数の画素の各画素を形成するよう、放射線スポットの各々が拡大あるいは縮小されてもよい。

異なる画素又は造形部の異なる部分を形成するために、放射線ビームの強度を制御し、変化させることも可能である。強度は媒体の閾値強度未満であってもよいし、そうでなくてもよい。

上述の方法を実行するために、一組のコンピュータ読み取り可能信号を担持するプログラム製品が用いられ得る。

本発明の実施形態及び用途を添付の非限定的な図面によって例示する。添付の図面は、本発明の概念を例示するためのものであり、縮尺通りに描かれていないことがある。
従来技術に係るカラーフィルタの一部を示す平面図である。 従来技術に係る他のカラーフィルタの一部を示す平面図である。 三角形状の機構を含む従来技術に係るフィルタの一部を示す平面図である。 三角形状の機構を含む従来技術に係る他のフィルタの一部を示す平面図である。 シェブロン形状の機構を含む従来技術に係るフィルタの一部を示す平面図である。 シェブロン形状の機構を含む従来技術に係る他のフィルタの一部を示す平面図である。 従来の熱転写プロセスにて画像形成可能媒体上に造形部のパターンを画像化するマルチチャネルヘッドを模式的に示す図である。 従来技術に係るマルチチャネル画像化ヘッドの一例の光学系を模式的に示す斜視図である。 本発明の一実施形態例にて使用される装置９０を模式的に示す図である。 走査方向に平行なマトリクスラインを含む受像素子上への従来の複数の機構部の形成に関する許容量を模式的に示す図である。 走査方向に対して傾斜したマトリクスラインを含む受像素子上への従来の複数の機構部の形成に関する許容量を模式的に示す図である。 図５Ｂの機構部及びマトリクスラインの一層大きい図である。 本発明の一実施形態例による傾斜したエッジを有する１つ以上の造形部の画像化方法を示すフローチャートである。 本発明の一実施形態例に従って大きさを定められた画素のパターンを示す図である。 図７Ａの画素のパターンを詳細に示す図である。 本発明の一実施形態例に従って大きさを定められた画素の他のパターンを示す図である。 カラーフィルタマトリクスに対するカラーフィルタ機構の望ましい位置整合を示す平面図である。 不正確なクロススキャン分解能で図８Ａのカラーフィルタを製造するために用いられるレーザ誘起熱転写プロセスを模式的に示す図である。 本発明の一実施形態例による図８Ａのカラーフィルタの画像化を模式的に示す図である。 本発明の一実施形態例による図８Ａのカラーフィルタの画像化を模式的に示す図である。 本発明の一実施形態例により用いられるズームシステムを模式的に示す図である。 放射線ビームを走査することにより形成される画素の格子状配置を模式的に示す図である。

以下の説明を通じて、より完全な理解を当業者に提供するため、具体的な詳細事項を提示する。しかしながら、この開示をいたずらに不明瞭にしないよう、周知の要素については詳細に示したり説明したりはしていない。従って、この説明及び図面は、限定的なものではなく例示的なものとして見なされるべきである。

図２は、カラーフィルタ１０を製造するために用いられる従来のレーザ誘起熱転写プロセスを模式的に示している。ドナー素子２４からその下に位置する受像素子１８に画像形成材料（図示せず）を転写するために、画像化ヘッド２６が設けられる。ドナー素子２４は、明瞭化の目的のみのため、受像素子１８より小さいものとして示されている。ドナー素子２４は、必要に応じて、受像素子１８の１つ以上の部分に重なっていてもよい。画像化ヘッド２６は複数の画像化チャネルの配列を含むことができる。この例において、画像化ヘッドは、個々にアドレス指定可能な複数のチャネル４０からなるチャネルアレイ４３を含んでいる。

受像素子１８は整合（レジストレーション）領域を含むことができる。整合領域とは、１つ以上の造形部の画像を実質的に位置整合させるように形成することが望ましい、その位置整合の相手側の領域である。受像素子１８は、１つ以上の造形部の画像を実質的に位置整合させて形成することが望ましい整合サブ領域群のパターンを含み得る。この例において、受像素子１８は整合領域４７（大きい破線領域で模式的に示す）を含んでいる。この例において、整合領域４７はカラーフィルタマトリクス２０を含んでいる。マトリクス２０は整合サブ領域群のパターンの一例である。受像素子１８上にマトリクス２０を形成するためにレーザ誘起熱転写プロセスが使用されてもよいが、マトリクス２０は典型的にリソグラフィ技術によって形成される。

画像形成材料は、画像化ヘッド２６によって放射された放射線ビームがドナー素子２４を横切って走査されるときに、受像素子１８上に画像的に転写されることが可能である。典型的に、フィルタ１０の赤色、緑色及び青色の部分は別個の画像化工程で画像化され、各画像化工程は、先の色のドナー素子を、画像化すべき次の色のドナー素子で置き換えることを伴う。フィルタの赤色、緑色及び青色の機構の各々が、対応するマトリクスセル３１に実質的に位置整合されて受像素子１８に転写されるべきである。これらのカラー機構が転写された後、画像化されたカラーフィルタは、例えば、画像化されたカラー機構が有する１つ以上の物理特性（例えば、硬度）を変化させるアニール工程などの、１つ以上の更なる処理工程に掛けられ得る。

図３には、従来のレーザ誘起マルチチャネル画像化プロセスにより用いられる照明システムの一例が模式的に示されている。複数の画像化チャネルを作り出すために空間光変調器又はライトバルブが用いられる。図示した例において、リニアライトバルブアレイ１００は、半導体基板１０２上に製造された複数の変形可能なミラー素子１０１を含んでいる。ミラー素子１０１は個々にアドレス指定可能である。ミラー素子１０１は、例えば変形可能なマイクロミラー素子などの微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）素子とし得る。レーザ１０４は、円筒形のレンズ１０８及び１１０を有するアナモフィック（anamorphic）ビーム拡大器を用いて、ライトバルブ１００上に照明線１０６を生成することができる。照明線１０６は、各ミラー素子１０１が照明線１０６の一部によって照射されるよう、複数の素子１０１にわたって横方向に広げられる。照明線を形成する方法は、Ｇｅｌｂａｒｔへの米国特許第５５１７３５９号に記載されている。

レンズ１１２は典型的に、素子１０１が非作動状態にあるときにレーザ照明が開口絞り１１６の開口１１４を通るよう、レーザ照明を集光する。作動された素子からの光は開口絞り１１６によって遮られる。レンズ１１８は、ライトバルブ１００を画像化して、複数の個別の、画像的に変調されたビーム１２０を形成する。これらのビームは、画像化される帯状領域を形成するように基板の領域上を走査されることができる。これらのビームの各々は、素子１０１のうちの１つによって制御される。各素子１０１がマルチチャネル画像化ヘッドの１つの画像化チャネルに対応する。

これらのビームの各々は、対応する素子１０１の駆動状態に従って、画像化される受像素子上に“画像の画素”を画像化したり、画像化しなかったりするよう動作可能である。すなわち、画像データによって画素を画像化することが要求されるとき、所与の素子１０１は、基板上に画素像を形成するのに適した強度及び期間を有する対応する放射線ビームを生成するように駆動される。画像データによって画素を画像化しないことが要求されるとき、所与の素子１０１は放射線ビームを生成しないように駆動される。ここでは、画素は基板上の画像の単一の単位要素を意味するように用いられ、組み立てられた表示装置上に表示される画像の一部に関しての画素という用法とは区別される。例えば、本発明がカラーディスプレー用のフィルタを作り出すために使用される場合、本発明によって作り出される画素は、隣接する画素と組み合わされて、表示装置上に表示される画像の単一の画素（造形部とも称する）を形成することになる。

図２は、レーザ誘起熱転写プロセスにて複数の赤色ストライプ機構３０を有するように従来のようにパターニングされたカラーフィルタ受像素子１８の一部を示している。図２は、画像化チャネル４０と転写されるパターンとの間の対応関係を破線４１で示している。ストライブ機構３０などの造形部は一般的に、画像化チャネル４０によって画像化される画素の幅より大きいサイズを有する。画像化ヘッド２６によって生成された放射線ビームは、書き込まれるべき造形部群のパターンを指定する画像データに従って画像的に変調されて、受像素子１８上を走査される。造形部を形成することが望まれるところに放射線ビームを生成するよう、一群のチャネルの４８が駆動される。その造形部に対応しないチャネル４０は、対応する領域を画像化しないように駆動される。従って、放射線ビームは、画像化チャネルがターンオンされる度に放射される。故に、画像化チャネルがターンオン及びターンオフされるとき、チャネルがターンオンされる都度、該チャネルから新たな放射線ビームが放射される。

画像化チャネル４０が画像を作り出すべく画像データに応答して制御される間、受像素子１８、画像化ヘッド２６、又はこれら双方の組み合わせは互いに対して移動される。一部の例において、画像化ヘッド２６は静止され、受像素子１８が移動される。他の例において、受像素子１８は静止され、画像化ヘッド２６が移動される。更なる他の例において、画像化ヘッド２６及び受像素子１８の双方が移動される。

画像化チャネル４０は、画像化ヘッド２６の走査中に帯状画像を形成するように活性化されることができる。受像素子１８は過大なために単一の帯状画像内で画像化されることができないことがあり得る。故に、典型的に、受像素子１８上に画像を完成されるために、画像化ヘッド２６の複数回の走査が必要とされる。

主走査軸４２に沿って各帯状領域の画像化が完了した後、副走査軸４４に沿った画像化ヘッド２６の移動が行われ得る。代替的に、ドラム型のイメージング装置を用いて、主走査軸４２及び副走査軸４４の双方に沿って画像化ヘッド２６を相対移動させ、それによりドラム上で螺旋状に延在する帯状画像を書き込むことも可能である。図２においては、画像化ヘッド２６と受像素子１８との間での相対移動は、主走査軸４２に整列された経路に沿って、そして副走査軸４４に整列された経路に沿って実現される。

画像化ヘッド２６を受像素子１８に対して移動させることには、如何なる好適な機構が適用されてもよい。ディスプレーパネルを製造することにおいて一般的な比較的堅い受像素子１８を画像化することには、典型的に、フラットベッドイメージャが用いられる。フラットベッドイメージャは、受像素子１８を平坦な向きに固定する支持体を有する。ディスプレーパネルの画像化に好適な高速フラットベッドイメージャが、Ｇｅｌｂａｒｔへの米国特許第６９５７７７３号に記載されている。代替的に、複数の帯状画像の画像化を実現するよう、“ドラム型”の支持体の外面又は内面に、可撓性のある受像素子１８が固定されてもよい。

図２において、マトリクス２０は、主走査軸４２及び副走査軸４４に対して傾斜している。マトリクス２０は画像化チャネル４０の配列方向に対して傾斜している。この場合、ストライプ機構３０は、マトリクス２０に正確に位置整合されるように傾斜的に形成される必要がある。傾斜したエッジを有する傾斜した造形部又は造形部群は、従来、放射線ビームが走査経路に沿って導かれるときに、受像素子１８と画像化ヘッド２６との間に制御された相対運動を構築することによって画像化されてきた。その場合、傾斜の程度に従って副走査運動が主走査運動と協調される。“協調運動”と呼ぶ運動を作り出すように、主走査運動が画像化ヘッド２６と受像素子１８との間で提供されるときに、それに同期したこれら２つの間での副走査運動も提供される。複数の帯状画像が螺旋的に画像化され、一般的に各ドラム回転中の副走査運動の量が形成される画像とは無関係に定められるドラムベースのイメージング法と異なり、協調運動技術が用いられるときには、各走査中の副走査運動の量は、形成される画像に依存する。協調運動は、一部の要求の厳しい用途において造形部群のパターンを整合サブ領域群のパターンと位置整合することを容易にするために用いられ得る実質的に滑らかで連続したエッジを有する造形部群を形成するために用いられることができる。図２に示すように、各ストライプ機構３０の複数の部分がマトリクス２０の様々なラインに重なり合っている。

図４は、本発明の一実施形態例にて使用される装置９０を模式的に示している。装置９０は、受像素子１８上に画像を形成するように動作可能である。本発明のこの実施形態例において、画像は、受像素子１８上での走査中に放射線ビームを方向付けるように画像化ヘッド２６を動作させることによって受像素子１８上に形成される。装置９０は、主走査軸４２に整列された経路に沿って受像素子１８を搬送するよう動作可能なキャリア（担体）９２を含んでいる。キャリア９２は往復運動的に移動することができる。本発明のこの実施形態例において、キャリアは順方向４２Ａ及び逆方向４２Ｂに移動可能である。画像化ヘッド２６は、キャリア９２に跨る支持体９３上に移動可能に配置されている。画像化ヘッド２６は、副走査軸４４に整列された経路に沿って移動するよう制御される。本発明のこの実施形態例において、画像化ヘッド２６は支持体９３に沿って移動するよう制御されることができる。画像化ヘッド２６は遠征（アウェイ）方向４４Ａ及び戻り（ホーム）方向４４Ｂに移動可能である。装置９０は受像素子１８を双方向に走査することによって画像を形成する。

本発明のこの実施形態例において、レーザ誘起熱転写プロセスが用いられる。画像化ヘッド２６は、複数の放射線ビームを用いて媒体を走査してドナー素子２４から受像素子１８に画像形成材料（図示せず）を転写させるように制御される。イメージング用の電子装置（図示せず）が、放射線ビームの放射を調整するように画像化チャネル４０を制御する。移動システム９４（１つ以上の移動システムを含み得る）は、キャリア９２の移動を生じさせる好適な駆動手段、伝達部材、及び／又はガイド部材を含んでいる。本発明のこの実施形態例において、移動システム９４は、画像化ヘッド２６の動きを制御し、キャリア９２の動きを制御する。当業者に認識されるように、装置９０内の異なる複数のシステムを動作させるために複数の別個の移動システムが用いられてもよい。

コントローラ６０（１つ以上のコントローラを含み得る）が、以下に限られないがキャリア９２及び画像化ヘッド２６によって使用される移動システム９４を含む、装置９０の１つ以上のシステムを制御するために用いられる。コントローラ６０はまた、受像素子１８及びドナー素子２４の装填及び／又は取り外しを開始することが可能な媒体ハンドリング機構を制御することができる。コントローラ６０はまた、画像データ２４０を画像化ヘッド２６に提供し、このデータに従って放射線ビームを放射するように画像化ヘッド２６を制御することが可能である。様々な制御信号を用いて、且つ／或いは様々な方法を実行することによって、様々なシステムが制御され得る。コントローラ６０は、好適なソフトウェアを実行するように構成されることができ、また、非限定的な例としてアクセス可能メモリ、論理回路、ドライバ、増幅器、Ａ／Ｄコンバータ及びＤ／Ａコンバータ、入力／出力ポート、並びにこれらに類するものを含む好適なハードウェアとともに、１つ以上のデータプロセッサを含むことができる。コントローラ６０は、限定するものではないが、マイクロプロセッサ、コンピュータ・オン・チップ、コンピュータのＣＰＵ、又はその他の好適なマイクロコントローラを有し得る。

図４は、複数のストライプ機構３２とマトリクス２０Ａとを含むカラーフィルタ１０の一部を模式的に示している。明瞭化のため、赤色（Ｒ）のストライプ機構のみが図示されている。ストライプ機構３２は、画像化ヘッド２６の複数の画像化チャネル４０の配列方向に対して傾斜した様々な部分を含んでいる。望ましくは、画像化ヘッド２６は、“ジグザグ”状のストライプ機構３２を形成するように画像形成材料を受像素子１８に転写するため、ドナー素子２４を画像化するように制御される。各マトリクスセル３１Ａによって、転写されるストライプ機構３２に対応する領域内に、シェブロン形状を有するカラーフィルタ機構が規定される。

従来の協調運動技術を用いてストライプ機構３２を形成することも可能であるが、そのような技術は画像化プロセスの生産性を低下させ得る。例えばジグザグストライプ機構３２などの造形部の画像化中に用いられる協調運動技術は、往復的な運動を必要とする。例えば、主走査軸４２に整列された経路に沿って画像化ヘッド２６が受像素子１８に対して移動されるとき、画像化ヘッド２６は、ジグザグ状機構に追従するように、副走査軸４４に整列された経路に沿って受像素子１８に対して同期的に往復する必要がある。必要とされる主走査及び副走査の相対運動を構築するために用いられる移動機構は、各ストライプ機構３２の様々なコーナー（例えば、コーナー５５）を動き回るために必要な高い減速及び加速を取り扱う必要がある。これを例証するために次の等式群：
（１） Ｖ_{ｓｕｂｓｃａｎ}＝Ｖ_{ｍａｉｎｓｃａｎ}×ｔａｎλ
ただし、Ｖ_{ｓｕｂｓｃａｎ}は、協調運動の相対的な副走査（sub-scan）速度であり、Ｖ_{ｍａｉｎｓｃａｎ}は、協調運動の相対的な主走査（main-scan）速度であり、λは、主走査軸に対して測定される機構部（造形部部分）の傾斜の度合いに相当する角度である；
（２） ｔ＝Ｖ_{ｓｕｂｓｃａｎ}／Ａ_{ｓｕｂｓｃａｎ}
ただし、ｔは、副走査運動が往復される点（例えば、コーナー５５）でＶ_{ｓｕｂｓｃａｎ}をゼロまで低下させるのに必要な時間であり、Ａ_{ｓｕｂｓｃａｎ}は、Ｖ_{ｓｕｂｓｃａｎ}と往復点でのゼロ速度との間の変化を構築するために必要な減速度である；
（３） ｄ＝Ｖ_{ｍａｉｎｓｃａｎ}×ｔ
ただし、ｄは、時間ｔの間に主走査方向に進行する距離である；
（４） ｄ＝（Ｖ_{ｓｕｂｓｃａｎ} ^２×ｔａｎλ）／Ａ_{ｓｕｂｓｃａｎ}
を用いることができる。

Ｖ_{ｍａｉｎｓｃａｎ}＝１ｍ／ｓｅｃ、Ａ_{ｓｕｂｓｃａｎ}＝５ｍ／ｓｅｃ２、及び角度λ＝３０°という典型的な条件で、往復点に到達するために距離ｄ＝１１５．５ｍｍが必要である。“傾斜した”機構部を有する造形部を含む要求が厳しい一部の用途では、往復的な協調運動は実用的でない。例えば、カラーフィルタ用途において、シェブロン形状のカラー機構は、長さが１００μｍ程度の傾斜部を含み得る。ミリメートル単位で測定される減速距離“ｄ”は、そのような小さい機構の画像化に適さないものとなる。

傾斜したエッジを有する傾斜した造形部又は造形部群を画像化するために用いられ得るその他の方法は、形成されるエッジを画素の“階段”配置で近似することを含む。協調運動技術を用いるイメージング法と異なり、このような技術は滑らかなエッジを有する造形部ではなく、むしろ、外観上ギザギザあるいは階段状のエッジを有する造形部の形成をもたらし得る。画像化ヘッド２６は、受像素子１８上に画像の画素の２次元格子を形成するように制御され得る。傾斜した造形部エッジは、おおよそ、格子によって配置が支配される画素の階段配置によって画像化される。

造形部群のパターンを整合サブ領域群のパターンに位置整合させることは、それらの造形部群を形成するために用いられる画像化プロセスに更なる課題を生じさせ得る。例えば、カラーフィルタ用途において、各カラー機構は、カラーフィルタマトリクスセル群のパターンに属する１つのセルに実質的に位置整合されるように形成される必要がある。マトリクスラインの重なり部分が、カラー機構がマトリクスセルのパターンに位置整合されなければならない精度を低下させる助けとなり得るものの、一般的に、マトリクスを重ねることができる範囲には限界がある。画像化プロセス自体、許容される重なり度合いに影響を及ぼし得る。例えば、レーザ誘起熱転写プロセスにて作り出される画像の視覚的な品質は、一般的に、ドナー素子と受像素子との間の界面の均一性に敏感である。不均一な界面は、ドナー素子から受像素子に転写される画像形成材料の量に影響を及ぼし得る。隣接し合う機構がマトリクスライン上で互いに重なり合う場合、ドナー−受像素子間隔は、この重なり領域において、該領域に転写された追加材料の関数として更に変化し得る。この追加間隔は、更なるドナー素子を用いた後の画像化中に形成される機構の視覚品質に悪影響を及ぼし得る。この点で、一般的に、隣接し合う機構はマトリクス部分上で互いに重ならないことが好ましい。この要件は、繰り返しのカラー機構のパターンとマトリクスセルの繰り返しパターンとの間に要求される位置整合を更に制約することになる。

図５Ａは、マトリクスライン２１Ａと重なり合う関係での従来の第１の機構部３３Ａ及び第２の機構部３４Ａの形成に関する許容量を模式的に示している。この例において、機構部３３Ａ及び３４Ａは、（図１Ａに示したカラーフィルタと同様の）ストライプ機構構成のカラーフィルタの一部である。機構部３３Ａは第１の色（例えば、赤）に対応し、機構部３４Ａは別の色（例えば、緑）に対応する。ストライプ機構は、この場合には主走査軸４２に平行である走査方向に延在している。機構部３３Ａ及び３４Ａの各々は、受像素子１８上に放射線ビームによって形成される複数の画像画素７０Ａによって形成されている。各画素７０Ａは、第１の方向に第１のサイズＡを有し、第１の方向と交差する第２の方向に第２のサイズＢを有する。この例において、第１の方向は副走査軸４４に平行であり、第２の方向は主走査軸４２に平行である。この例において、第１のサイズＡは第２のサイズＢに等しい。機構部３３Ａ及び３４Ａの各々はマトリクスライン２１Ａに重なっている。機構部３３Ａ及び３４Ａ、並びにマトリクスライン２１Ａは、明瞭化のため、図５Ａに示すＫＥＹに従って模様又は陰影を付けられている。

図示した許容量は、カラーフィルタ機構が互いに重ならないようにマトリクスライン２１Ａに位置整合されるようにカラーフィルタ機構を画像化するときに考慮され得る様々な要因を考慮に入れている。例えば、機構部３３Ａ及び３４Ａの各々は、カラーフィルタの所望の品質特性を達成するために一定量だけマトリクスライン２１Ａと重なるように形成されるべきである。この例において、機構部３３Ａ及び３４Ａの各々には、最小要求重なり（minimum required overlap；ＭＲＯ）距離だけマトリクスライン２１Ａと重なることが要求される。距離ＭＲＯは様々な要因に依存し得る。１つの考え得る要因は、機構部３３Ａ及び３４Ａを画像化するために用いられるイメージングシステムの画像化精度である。画像化精度は、画像化プロセス中の画像化ヘッド（図５Ａには図示せず）の位置決めに関する機械的な再現性、放射線ビームの特性変動、及び形成される結果画像のエッジ粗さによって影響を受け得る。他の１つの考え得る要因は、マトリクスライン２１Ａが形成された受像素子１８に対するマトリクスライン２１Ａの位置のバラつきを意味するマトリクスラインの再現性である。他の１つの考え得る要因は、様々な更なる課題（例えば、アニールプロセスにおける機構の収縮）に関して要求される絶対的な最小要求重なりを含む。距離ＭＲＯはまた、その他の要因にも依存し得る。２つのＭＲＯ境界線３５が、マトリクスライン２１Ａの対応する重なりエッジ５６Ａ（破線で示す）に対して図示されている。

図５Ａは、機構部３３Ａ及び３４Ａの各々が最小ギャップＭＧだけ互いに分離されていることを示している。最小ギャップＭＧは、機構部３３Ａ及び３４Ａがそれらの形成中にマトリクスライン２１Ａ上で互いに重なり合うことを防止するように割り当てられる。最小ギャップＭＧは、典型的に、機構部３３Ａ及び３４Ａの各々の画像化に関する画像化の再現性によって支配される。画像化の再現性は、イメージングシステムの機械的再現性（例えば、媒体及び画像化ヘッドの位置決めシステムの機械的再現性、並びに熱的効果などに由来するビームドリフト）を含み得る様々な要因に依存し得る。

図５Ａは、この許容量がイメージングシステムの撮像分解能（Ａ）も考慮に入れることを示している。この例において、撮像分解能Ａは、走査方向に交差する方向（すなわち、クロススキャン方向）を基準とする。この例において、クロススキャン方向は副走査軸４４に平行である。画像化される機構部３３Ａ及び３４Ａの各々のサイズを制御する能力は、画素サイズの関数である。例えば、機構部３３Ａ及び３４Ａの各々のサイズを実効的に１画素だけ変化させることは、事実上、各機構のエッジの位置がマトリクスライン２１Ａの対応するエッジ５６Ａに対して１／２画素だけ変化することを意味する。最小ギャップＭＧと最小要求重なりＭＲＯとの間の半画素のマージン（すなわち、分解能Ａの１／２）が、機構部の各々の画像化に要求され得る。従って、機構部３３Ａ及び３４Ａを画像化するのに必要なマトリクスライン２１Ａの最小幅Ｗは、ストライプ構成のカラーフィルタに関して、等式：
（５） 幅（Ｗ）＝（２×ＭＲＯ）＋（２×Ａ／２）＋（ＭＧ）
によって見積もることができる。

傾斜したエッジを有する傾斜した造形部又は造形部群が画素の階段配置を用いて形成されるとき、更なる課題が生じ得る。図５Ｂは、大きい破線で表すエッジ５６Ｂを有する傾斜したマトリクスライン２１Ｂと重なり合う関係での従来の第１の機構部３３Ｂ及び第２の機構部３４Ｂの形成に関する許容量を模式的に示している。機構部３３Ｂ及び３４Ｂ、並びにマトリクスライン２１Ｂは、明瞭化のため、図５Ｂに示すＫＥＹに従って模様又は陰影を付けられている。エッジ５６Ｂは、この例において主走査軸４２に平行である走査方向を基準として、θに等しい角度の値だけ傾斜している。機構部３３Ｂ及び３４Ｂは、イメージングシステムの所望の走査方向に対して傾斜したエッジを有する相異なる造形部の一部である。図１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ及び１Ｆは、機構部を形成するために用いられる１つ以上の放射線ビームの走査方向に対して傾斜した様々なエッジ部を有し得るカラーフィルタ機構の例を示している。機構部３３Ｂ及び３４Ｂは、図５Ａに示した画素７０Ａとサイズ的に等しい画素７０Ａの様々な階段配置を用いて形成されたものである。

図５Ｂに示す許容量は、ＭＲＯ、ＭＧ及び分解能Ａの１／２という同様の量が示されている点で、図５Ａに示したものと同様である。しかしながら、図５Ｂに示す許容量は、幾つかの観点で図５Ａのものとは異なっている。例えば、画素の階段配置を構築するために、“段差サイズ”に相当する更なる分解能Ａが必要とされる。画素の階段配置は、各段差が画素サイズＡの関数である奥行き（すなわち、この例において副走査軸４４に整列された奥行き）を有する階段状のエッジを作り出す。形成されるエッジのジグザグ部分の位置は、複数の画素の分だけ更に変化する。機構部３３Ｂ及び３４Ｂの階段エッジは、ＭＧ＋Ａの要件を満たす機構−機構間ギャップを構築するように互いに対して入れ子にされた（ネスト化された）関係で図示されている。

図５Ａと比較すると、傾斜したマトリクスライン２１Ｂのクロススキャン幅Ｗ_ｓｋｅｗは、機構のエッジ位置に形成される画素の階段配置を収容するよう、マトリクスライン２１Ａの幅Ｗより大きい。傾斜したエッジを有するカラー機構を画像化するとき、クロススキャン方向において、より大きいマトリクスライン幅が必要とされ得る。Ｗ_ｓｋｅｗは、マトリクスラインの全幅Ｗ_{ｏｖｅｒａｌｌ}と角度θとの関数として変化し得る。一部のθの値に対して、Ｗ_{ｏｖｅｒａｌｌ}には、図５Ａに示したサイズＷより大きいことが要求され得る。カラーフィルタ産業においては、ますます細いマトリクスライン幅を用いることが望まれる。

ＭＲＯ境界線３５（小さい破線で表す）は、マトリクスラインエッジ５６Ｂの各々に対する機構部３３Ｂ及び３４Ｂの各々の最小要求重なりを定める。図５Ｂに示すように、画素の階段配置は、様々な位置で様々な重なり量を生じさせる。例えば、ＭＲＯ要件は、位置５７Ａで満足され、位置５７Ｂで上回られ、位置５７Ｃでは満足されていない。機構部３４Ｂは位置５７Ｃにおいてマトリクスライン２１Ｂと十分に重なっておらず、その結果、非重なり領域３６（明瞭化のため黒塗りにしている）が形成されている。このような非重なり領域はカラーフィルタに視覚的なアーチファクトを生じさせ得る。

図５Ｃは、図５Ｂの機構部３３Ｂ及び３４Ｂ、並びにマトリクスライン２１Ｂの一層大きい部分を示している。図５Ｃは、画素７０Ａの様々な配置によって、不所望の非重なり領域３６がどのように作り出されるかを示している。機構部３３Ｂ及び３４Ｂ、並びにマトリクスライン２１Ｂは、明瞭化のため、模様又は陰影を付けられている。この例において、機構部３３Ｂ及び３４Ｂはシェブロン形状の機構の部分である。上述のように、様々なマトリクスラインエッジ５６Ｂが、走査方向に対して角度θだけ傾斜している。この例において、角度θは３０°に等しい。機構部３３Ｂ及び３４Ｂのエッジは、画素７０Ａの様々なパターンで形成されている。各画素７０Ａは上述のような大きさにされている。これらの画素パターンは、走査が主走査軸４２に平行な方向に進むときに繰り返されている。パターン内の画素７０Ａは、様々な階段風に配列されている。この例において、機構部３３Ｂ及び３４Ｂのエッジは幾つかの画素パターン７１及び画素パターン７２で形成されている。各画素パターン７１は、１Ａに等しい奥行きに対して２Ｂに等しい蹴上げを形成する画素エッジを有する画素７０Ａの階段配置を含んでおり、各画素パターン７２は、１Ａに等しい奥行きに対して１Ｂに等しい蹴上げを形成する画素エッジを有する画素７０Ａの階段配置を含んでいる。この例において、“蹴上げ”は主走査軸４２に平行な方向を基準とし、“奥行き”は副走査軸４４に平行な方向を基準とする。画素パターン７１及び７２は、図５ＣのＫＥＹ内で特定されている。

画素パターン７１及び７２は、機構部３３Ｂ及び３４Ｂのエッジを、マトリクスライン２１Ｂの向きに可能な限り近付けて揃えるように配置されている。すなわち、画素パターン７１及び７２は、傾斜したマトリクスラインの方向に一致させようとする方向に沿って配置されている。しかしながら、画素パターン７１及び７２の各々内の各画素７０Ａのサイズにより、要求されるマトリクスライン２１Ｂの傾斜方向と正確には一致しない位置整合がもたらされる。画素パターン７１及び７２の各々の画素の階段配置によって作り出される段差は、様々なピッチ角によって特徴付けることができる。例えば、画素パターン７１内の画素はピッチ角αを生じさせるように配置され、画素パターン７２内の画素はピッチ角βを生じさせるように配置されている。この例においては、Ａ＝Ｂであり、ピッチ角αはおよそ２６．６°（すなわち、ｔａｎ^−１（Ａ／２Ｂ））に等しく、ピッチ角βは４５°（すなわち、ｔａｎ^−１（Ａ／Ｂ））に等しい。ピッチ角α及びピッチ角βの何れも、θに等しい要求傾斜角に等しくない。

画素パターン７１及び７２は、要求される最小重なり及びギャップの基準を可能な限り近く維持するように配置されている。図５Ｃに示すように、機構部３３Ｂ及び３４Ｂのエッジに対応する画素パターンは、これらの機構部の間に（ＭＧ＋２×Ａ／２）の関係によって定められるギャップより小さくないギャップを構築するように、マトリクスライン２１Ｂ上で互いに対してネスト化されている。しかしながら、画素パターン７１及び７２は、マトリクスライン２１Ｂの対応する傾斜を単に近似した傾斜を有する様々な機構エッジを作り出すように配置されているので、最小要求重なり（ＭＲＯ）基準は完全には維持されていない。マトリクスライン２１Ｂに重なる機構部３３Ｂの階段エッジは、対応するＭＲＯ境界線３５によって定められる要求ＭＲＯ値に実質的に等しい、あるいはそれより大きい重なりを維持している。しかしながら、マトリクスライン２１Ｂに重なる機構部３４Ｂのエッジは、その対応するＭＲＯ境界線３５によって定められる要求ＭＲＯ値に実質的に等しい、あるいはそれより大きい重なりを完全には維持していない。具体的には、明瞭化のために黒塗りにされた領域３６は、ＭＲＯ値によって定められる最小要求通りには重なられていないマトリクスライン２１Ｂの様々な領域を示している。カラーフィルタの場合、周囲のカラー機構によって適切に重なられていないマトリクスラインの部分は、ディスプレーの品質を損ない得る視覚的なアーチファクトをもたらし得る。

非重なり領域３６の大きさは様々である。このサイズは、画素パターン７１及び７２が、自身が表現する機構エッジに必要な傾斜を近似するに過ぎないために異なってくる。例えば、画素パターン７１Ａは、ＭＲＯ要件が実質的に満足されている位置５７Ａで始まる。しかしながら、走査が進むにつれ、パターン７１Ｂ及び７１Ｃの画素の階段配置は、次第に大きくなる非重なり領域３６を形成する（画素パターン７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃは画素パターン７１のメンバーである）。各画素パターン７１内の画素の配置は、マトリクスライン２１Ｂの傾斜に一致しない傾斜を有する方向に繰り返され、それによりＭＲＯ要件を損ねていく。この位置不整合を補正するために、画素パターン７２のメンバーである画素パターン７２Ａが導入され、位置５７Ｅでの重なりが再び要求ＭＲＯ値に実質的に等しくされる。しかしながら、この補正は機構部３４Ｂのその他の部分を形成するときに更なる画素パターン７１に続かれるため、位置不整合がもう一度繰り返され、ＭＲＯが再び悪影響を受ける。

もはや当業者には明らかであるように、説明した位置不整合は、様々な画素パターンを形成するために用いられる画素７０Ａのサイズに由来する。画素７０Ａによって作り出される様々な階段パターンは、角度θに等しくないピッチ角を付随する。この差は、典型的に要求ＭＲＯ値より大きい重なりを形成するように傾斜されたエッジを有する機構部３３Ｂの形成をもたらす。逆に、この差は、典型的に要求ＭＲＯ値より小さい重なりを形成するように傾斜されたエッジを有する機構部３４Ｂの形成をもたらす。なお、この例においては、機構部３３Ｂは形態的に機構部３４Ｂと相等しいため、やはり、領域３６と同様の非重なり領域３９を形成しがちなエッジを有している。

機構部３４Ｂに関する重なり欠陥を補正するための１つの考え得る手法は、マトリクスライン２１Ｂの一層内部の位置に機構部３４Ｂを形成することであろう。この例において、機構部３３Ｂは、第１の走査にて形成される第１の帯状画像の一部であり、機構部３４Ｂは、第２の走査にて形成される第２の帯状画像の一部である（すなわち、機構部３３Ｂは第１の走査にて形成される赤色機構の一部であり、機構部３４Ｂは第２の走査にて形成される緑色機構の一部である）。一般的に、イメージングシステムは、クロススキャン方向において、クロススキャン方向に沿った画素サイズより微細な粒度で帯状画像の位置を調整することができる。しかしながら、機構部３４Ｂに対応する帯状画像をある程度シフトさせる（すなわち、この例においては左側に）ことによって重なりの縮小を補償することは可能であろうが、そうすることは、必要とされる（ＭＧ＋２×Ａ／２）の値より小さいギャップを２つの機構部の間に生じさせ、上述したようなその他の難問をもたらすことになる。ギャップの縮小を補償しようとして、更に、機構部３３Ｂに対応する帯状画像をシフトさせることは、今度は、マトリクスライン２１Ｂ上での機構部３３Ｂに関する重なりの大きさを要求ＭＲＯより低い程度まで低下させることになる。機構部３４Ｂに関する重なりの縮小に対処するための別の１つの選択肢は、マトリクスライン２１Ｂの線幅を更に増大させることであろうが、そうすることは、カラーディスプレーのマトリクスライン幅を縮小しようとする産業界の要望に反する。

図６は、本発明の一実施形態例に従って走査方向に走査しながら放射線ビームを放射するよう画像化ヘッドを制御することによって１つ以上の造形部を画像化するためのフローチャートを示している。１つ以上の造形部の各々は、走査方向に対して傾斜したエッジ部を含む。この実施形態例においては、機構部３３Ｃ及び３４Ｃ（図７Ａに示す）が形成される。望ましくは、機構部３３Ｃ及び３４Ｃは、従来のように画像化された対応する機構部３３Ｂ及び３４Ｂが図５Ｃにおいてそうであったよりも正確にマトリクスライン２１Ｂに位置整合されるように形成される。

このプロセスはステップ３００にて開始し、受像素子１８上に形成されるべき複数の画素の第１のサイズが決定される。この実施形態例において、形成されるべき画素の各々は相等しい大きさにされる。これらの画素の各々は、第１の方向に沿って第１のサイズを有し、第１の方向と交差する第２の方向に沿って第２のサイズを有するようにされる。この実施形態例において、第１のサイズはクロススキャン方向に沿った大きさである。第１のサイズは、この実施形態例において、副走査軸４４に平行である。第１のサイズはクロススキャン方向における画像化ヘッド２６の分解能に相当する。本発明の一部の実施形態例において、画像化ヘッド２６は固定のクロススキャン分解能を有するが、他の実施形態においては、画像化ヘッドはクロススキャン分解能を変化させるように制御されてもよい。

造形部群は様々なパターンに配置されることが可能である。一部のパターンにおいて、造形部群は１つ以上の方向に沿って規則的に配列される。そのようなパターンにおいて、各造形部は共通の基準部を有し、造形部群は共通の基準部の各々が相互に、造形部群のパターンの配列方向に沿って等しい距離だけ離隔されるように配置される。この等しい距離は“ピッチ”と称される。共通の基準部は、造形部のエッジ、造形部のコーナー、造形部の中心点などを含み得る。一部のパターンにおいて、造形部群は１つ以上の方向に沿って規則的に配列される。

図８Ａは、整合サブ領域群のパターンを含む整合領域に対する造形部群のパターンの望ましい位置整合の一例を示している。この例においては、図１Ｅに示したのと同様のストライプ構成のカラーフィルタ１０が示されている。この例において、ストライプは、走査方向に平行な方向に延在するときに左右に屈曲している。この例において、各造形部は主走査軸４２に平行な方向に延在しており、造形部群は副走査軸４４に平行な方向に沿って規則的に配列されている。カラーフィルタ１０はマトリクス２０Ａ（部分的に、小さい破線で示す）を含んでおり、マトリクス２０Ａは、受像素子１８上に形成された等間隔のセル群３１Ａのパターンを含んでいる。この場合、望ましくは、赤色（Ｒ）機構１２Ｂ、緑色（Ｇ）機構１４Ｂ、及び青色（Ｂ）機構１６Ｂが、“ストライプ構成”のカラーフィルタを形成するように、マトリクス２０Ａに対して実質的に位置整合されて形成される。従って、この例においては、望ましくは、赤色機構１２Ｂ、緑色機構１４Ｂ及び青色機構１６Ｂそれぞれのパターンの各々のピッチ“Ｐ_ｆ”は、対応するセル群３１Ａのパターンのピッチ“Ｐ_ｒ”に実質的に等しい。

図８Ｂは、所望の赤色機構１２Ｂを図８Ａによって要求されるようにセル群３１Ａと正確に位置整合させて画像化しようとして、画像化された機構１２Ｃを形成してしまう画像化プロセスを模式的に示している。明瞭化のため、所望の緑色機構１４Ｂ及び青色機構１６Ｂに対応する画像化工程は図示していない。画像化ヘッド２６は、個々にアドレス指定可能な複数のチャネル４０からなるチャネルアレイ４３を含んでおり、複数のチャネル４０は、均一な大きさにされ且つアレイの配列方向に沿って繰り返されている。この例において、配列方向は副走査軸４４に平行である。各チャネルは、第１のクロススキャン分解能を有する画素を形成する放射線ビームを放射することができる。

図８Ｂは、この第１のクロススキャン分解能で造形部群のパターンを画像化することの難しさを模式的に示している。適切な整合は、画像化された赤色機構１２Ｃがセル群３１ＡのピッチＰ_ｒに一致するピッチで形成されることを必要とする。図８Ｂは、この要件が満足されていないことを示している。本質的に、第１のクロススキャン分解能は、画像化された赤色機構１２ＣをＰ_ｒに等しくない初期ピッチＰ_ｉで形成させている。

画像化される各赤色機構１２Ｃのサイズ及び位置を制御する能力は画素サイズの関数である。画像化ヘッド２６によって生成される放射線ビームは各々、クロススキャン方向に沿って、画像化される赤色機構１２Ｃの画像化パターンを所望の赤色機構１２Ｂのパターンと一致するピッチで形成することができない画素サイズを作り出す。画像化チャネル４０の分解能は、画像化される赤色機構１２Ｃの各々を、クロススキャン方向に沿って、所望の赤色機構１２Ｂの対応するサイズに等しいサイズで画像化させ得る、あるいはそのように画像化させ得ないが、該分解能は所望のピッチが一致され得ないものである。

図８Ｂに示すように、画像化された赤色機構１２Ｃの一部は、対応するセル３１Ａから様々な量だけオフセットされている。この例において、オフセットの一部は、赤色機構１２Ｃの１つが、マトリクス２０Ａの領域４５内で、その他の色のドナー素子を用いて画像化されるその他の機構によって重なられる地点まで増大している。また、領域４９において、一部のマトリクスセル３１Ａは赤色機構１２Ｃで十分に覆われておらず、無色の隙間のおそれが生じている。これら双方の影響は、最終的なカラーフィルタに望ましくない視覚特性をもたらし得る。明らかなように、イメージングの生産性を高めるために更に多数の画像化チャネル４０の構成が用いられるとき、これらの影響は更に悪化し得る。なお、領域４５及び４９は明瞭化のために陰影を付けられている。

図８Ｃは、本発明の一実施形態例による図８Ａの受像素子１８の画像化を模式的に示している。図８Ｃは、所望の赤色機構１２Ｂに関する画像化プロセスのみを示している。所望の緑色機構１４Ｂ及び青色機構１６Ｂは、明瞭化のために検討していないが、所望の赤色機構１２Ｂの画像化と同様に扱うことができる。赤色機構１２Ｄが、図８Ｂの画像化プロセスに示したのと同一の画像化ヘッド２６を用いて画像化される。本発明のこの態様によれば、画像化ヘッド２６は、放射線ビームが走査される受像素子１８の面と交わる軸の周りで角度δだけ回転される。角度δは、副走査軸４４と画像化チャネル群４０の配列方向との間で測定されるように示されている。角度δは、回転された画像化ヘッド２６の分解能がほぼ、画像化される赤色機構１２Ｄのパターンをセル群３１ＡのピッチＰ_ｒに実質的に等しいピッチＰ_ｆで形成させるような大きさになるように選定される。画像化ヘッド２６の回転は、画像化される画素のサイズを変化させる。画像化された画素の結果的なサイズは、画像化される赤色機構１２Ｄを、図８Ａに示した赤色機構１２Ｂの対応するクロススキャンサイズに等しいクロススキャンサイズで形成させることもあれば、そのように形成させないこともある。しかしながら、要求されるピッチに適したサイズに画素を調整することにより、ピッチが一致しないことに由来する上述のアーチファクトの多くが実質的に回避される。

図８Ｃにおいては、画像化ヘッド２６は副走査軸４４を基準として角度δだけ回転されていたが、理解されるように、その他の基準も容易に用いられ得る。

画像化される画素のサイズを走査方向と交差する方向に変化させるために、その他の方法を用いることも可能である。図８Ｄは、本発明の他の一実施形態例による図８Ａの受像素子１８の画像化を模式的に示している。明瞭化のため、図８Ｄは所望の赤色機構１２Ｂに関する画像化プロセスのみを示している。本発明のこの実施形態によれば、画像化ヘッド２６はズーム機構８０を含んでいる。ズーム機構８０は、画像化ヘッド２６によって放射される放射線ビームのサイズを、画像化される赤色機構１２Ｅのパターンがセル群３１ＡのピッチＰ_ｒと実質的に等しいピッチＰ_ｆで画像化されるように調整する。

図９は、本発明の様々な実施形態例により用いられ得るズームシステム８０を模式的に示している。ズームシステム８０は、固定視野型光学部品８１、２つ以上の可動ズーム式光学部品８２、開口絞り８３、固定型光学部品８４、及び可動焦点型光学部品８５を含んでいる。このような実施形態例において、開口絞り８３は、ズーム式光学部品８２と固定型光学部品８４との間に配置される。ズーム機構８０はズーム調整範囲の全体で対物面８６及び像面８７の位置を管理する。ズーム式光学部品８２の位置は、この光学システムの拡大率を設定するために様々な位置の間で移動される。これら光学部品の各々は１つ以上のレンズを含み得る。これら光学部品のうちの１つ以上はアナモフィックなものとし得る。その他の種類のズーム機構も本発明によって用いられ得る。

要求されるピッチは様々な手法で決定され得る。例えば、整合サブ領域群のパターン（カラーフィルタマトリクス内のセル群のパターン）のピッチは、直接的な測定によって決定されることが可能である。様々な光センサを用いて様々な整合サブ領域の位置を検出することができ、検出された位置を用いてサブ領域同士の間のピッチを決定することができる。画像の画素、放射線ビーム、又は画像化される帯状領域自体のサイズも、直接的な測定によって決定されることが可能である。様々なピッチは、様々な方向で決定されることができ、走査方向と交差する方向に限定される必要はない。造形部群のパターンは、造形部群が異なる複数の方向に沿って規則的に配列された造形部群のパターンを含み得る。

図６のステップ３００を再び参照するに、形成されるべき画素の第１のサイズが様々な基準に基づいて選択あるいは決定され得ることは明らかである。そのような基準は、以下に限られないが、画像化ヘッド固有の分解能、造形部群のパターンを特定のピッチで形成する要望、又は造形部を特定の大きさで形成する要望を含み得る。造形部群が第１の方向に沿って規則的に配列されるとき、造形部群を形成するために用いられる画素の第１の方向に沿ったサイズは、少なくとも第１の方向に沿って要求される造形部群のピッチに基づいて決定され得る。本発明の一部の実施形態例において、第１のサイズは、ピッチが第１のサイズの整数倍に等しくなるように選定される。本発明のこの例示的な実施形態例において、第１のサイズは画素のエッジに沿ったものである。本発明の他の実施形態例において、第１のサイズは画素のその他の部分に沿ったものとし得る。

ステップ３１０にて、形成されるべき画素の第２のサイズが様々なパラメータに基づいて決定される。この実施形態例において、形成されるべき画素の第２のサイズは、少なくとも要求される傾斜角と第１のサイズとに基づいて決定される。画像化される造形部は、様々な方向に延在する様々なエッジを含み得る。これらの方向の一部は、所望の走査方向に対して様々な傾斜角で傾斜される。この例示的な実施形態において、望ましくは、機構部３３Ｃ及び３４Ｃの各々は、それらのエッジの一部が走査方向に対して所望の傾斜角だけ傾斜した方向に沿って延在するように形成される。この実施形態例において、所望の傾斜角は、この例においてマトリクスライン２１Ｂの様々な部分の向きを表すθに等しい。本発明のこの実施形態例において、相等しい大きさにされた画素群が、画素の階段配置で構成された様々なパターンにて配置される。図７Ａは、第１の方向に沿った第１のサイズと第１の方向と交差する第２の方向に沿った第２のサイズとを含み、且つ少なくとも傾斜角と第１のサイズとに基づいて決定された画素群７０Ｂの一例を示している。画素群７０Ｂは、画素パターン７３に配置され、機構部３３Ｃ及び３４Ｃの各々の様々なエッジ部を形成するために使用される。

この実施形態例において、各画素７０Ｂは、副走査軸４４に平行な第１の方向の第１のサイズＣと、主走査軸４２に平行な第２の方向において決定された第２のサイズＤとを含んでいる。この実施形態例において、第１のサイズＣは、図５Ｂ及び５Ｃに示した従来のようにして画像化された画素７０ＡのサイズＡに等しい。各画素パターン７３は、１画素の奥行きごとに２画素の蹴上げを形成するエッジを有する画素７０Ｂの階段配置を含んでいる。本発明のこの実施形態例において、階段パターン７３は、所望の傾斜角（すなわち、この例においてθ）だけ走査方向に対して傾斜した方向に沿って繰り返されている。傾斜したマトリクスライン２１Ｂと機構部３３Ｃ及び３４Ｃとの間に、一貫した最小要求重なり（ＭＲＯ）が維持されている。

画素７０Ｂの第２のサイズは、この位置整合を構築するように決定されており、且つ本発明のこの実施形態例においては、関係：
（６） Ｎ×Ｄ＝（Ｍ×Ｃ）／ｔａｎ（θ）
によって決定されている。ただし、Ｄは第２の方向に沿った画素のサイズであり、Ｃは第１の方向に沿った画素のサイズであり、θは傾斜角に相当する角度であり、Ｍは１以上の整数であり、Ｎは１以上の整数である。θは、この実施形態例においてはマトリクスライン２１Ｂの向きを表すが、そのように限定されるものではなく、走査方向に対する機構エッジのその他の所望の向きを表すことも可能である。

本発明のこの実施形態例においては、Ｍ＝１、Ｎ＝２、θ＝３０°、且つサイズＣ＝Ａ（すなわち、従来のように画像化される画素７０Ａのクロススキャン方向においてと同一のサイズ）である。第１のサイズＣは第２のサイズＤに等しくない。本発明のこの実施形態例において、第２のサイズは画素のエッジに沿っている。本発明の他の実施形態例において、第２のサイズはその他の方向に沿っていてもよい。各画素パターン７３の画素の階段配置によって作り出される段差は、傾斜角（すなわち、この例ではθ）に等しいピッチ角ωによって特徴付けられ得る。機構部３３Ｃ及び３４Ｃは、故に、要求される重なり及びギャップの要件を維持しながら、マトリクスライン２１Ｂに正確に位置整合されて形成される。図５Ｃに示した非重なり領域３６は存在せず、視覚的な品質が改善されたカラーフィルタが得られる。また、マトリクスライン２１Ｂの幅は、従来の画像化技術が用いられるときに要求され得るように増大される必要はない。図７Ｂは、画素７０Ｂのパターン７３の詳細図を示している。

図７Ｂに示すように、機構部３３Ｃは、走査方向に対して傾斜した方向に沿って第１の距離７５だけ延在するエッジ部を含んでいる。第１の距離７５は、走査方向に沿った蹴上げ距離７５Ｂに対して、クロススキャン方向に沿って奥行き距離７５Ａだけ延在する。クロススキャン方向は走査方向に対して垂直であり、奥行き距離７５Ａは長さ的に蹴上げ距離７５Ｂとは異なる。画素７０Ｂの様々なグループが形成される。第１の画素グループ７９Ａは第１の方向に沿って延在し、第２の画素グループ７９Ｂは第１の方向に垂直の第２の方向に延在している。第１の画素グループ７９Ａは、各々が第１の方向に沿ってサイズＣを有する複数の画素を含んでおり、第２の画素グループ７９Ｂは、各々が第２の方向に沿ってサイズＤを有する複数の画素を含んでいる。本発明のこの実施形態例において、奥行き距離７５ＡはサイズＣの整数倍に等しく、蹴上げ距離７５ＢはサイズＤの整数倍に等しい。本発明のこの実施形態例において、第１の画素グループ７９Ａ及び第２の画素グループ７９Ｂは、共通の画素を共有している。

ステップ３２０にて、第１の方向に沿って第１のサイズを有し、且つ第１に方向と交差する第２の方向に沿って第２のサイズを有する画素群を形成するように放射線ビームを放射するよう、画像化ヘッド２６を動作させることによって造形部が形成される。本発明のこの実施形態例において、第２のサイズは走査方向に平行であり、第１のサイズはクロススキャン方向に平行である。本発明のこの実施形態例において、第２のサイズは主走査軸４２に実質的に平行であり、第１のサイズは副走査軸４４に実質的に平行である。このような画素は様々な手法で作り出され得る。例えば、図１０は、受像素子１８上で放射線ビームを走査することによって形成される画素７０の格子状配置を示している。各画素７０のサイズは、様々な方向に沿った様々な寸法によって特徴付けられる。各画素７０は、画素７０の形成に関連する走査方向に沿ったサイズ“ｂ”に等しい寸法と、クロススキャン方向に沿ったサイズ“ａ”に等しい寸法とを有する。この例において、各画素７０の特定のサイズは、各画素７０の領域上で長方形の放射線スポット７７を走査することによって生成される。この走査は、画像の走査全体の一部として達成される。画素領域上でスポット７７を走査するために、速度“Ｖ”を有する相対運動が必要とされる。相対運動は、放射線スポット７７を移動させることによって、受像素子１８を移動させることによって、あるいはこれらの双方を移動させることによって生成され得る。この例において、走査方向はこの相対運動の方向に平行であり、走査方向におけるスポットのサイズは“ｗ”である。このレーザスポットが媒体の任意の点上に存在する時間は、ｗ／Ｖによって定められる。この場合、各画素７０の走査方向のサイズは、画素を形成するために用いられる放射線ビームの初期サイズ“ｗ”と、受像素子１８を横切ってビームが走査される時間との関数である。走査方向のサイズは速度を変化させることによって調整されることが可能であるが、そうすることは、放射線ビームによって作り出される露光量の変化を生じさせることになる。所与の走査速度で走査方向の画素サイズを変化させる一手法は、画像化チャネルが活性化される時間の長さを調整することを含む。例えば、ライトバルブを含む一部のイメージングシステムにおいて、タイミングパルス群のパターンを含むタイミング信号が全てのライトバルブ素子に供給され、個々の画素が画像データに従って活性化される。タイミングパルス同士の間の時間量が、各ライトバルブ素子が画像データの関数として活性化される、あるいは活性化されない時間の長さに関係し、結果的に、画像データに従って形成される画素の走査方向に沿ったサイズを定める。

長方形の放射線スポット７７は、長方形の開口を用いる手法を含む様々な手法によって作り出すことができる。しかしながら、スポットは長方形である必要はなく、要求に応じてその他の形状を有していてもよい。画素サイズを変化させるその他の手法も技術的に知られている。

本発明の一部の実施形態例において、走査方向に沿った画素サイズは、画素を形成するように放射線ビームを走査している間に、対応する画像化チャネル４０が活性化される時間量を調整することによって変化される。本発明の他の実施形態例は、その他の手法によって、走査方向に沿った画素サイズを変化させてもよい。

なお、本発明のこの実施形態例に示した画素７０Ｂの階段配置は例示的なものであり、本発明の様々な他の実施形態例によって、その他の配置も使用され得る。例えば、画素の配置を所望の方向に沿って位置整合させるように奥行き及び蹴上げのサイズが正確に選択される限り、１つ以上の画素が配置の奥行きを構成し、１つ以上の画素が配置の蹴上げを構成することができる。複数の画素が配置の奥行きを構成するとき、それらの画素の各々は、異なる画像化チャネル４０によって同時に形成されることができる。すなわち、配置の奥行きを構成する複数の画素を形成するために、異なる複数の画像化チャネル４０が同時に活性化されることが可能である。

図７Ｃは、より小さい画素７０Ｃのパターン７４が形成された本発明の一実施形態例を示している。画素７０Ｃは、Ｍ＝１、Ｎ＝４、θ＝３０°及び図７Ｂの第１の画素サイズＣを用いて等式（６）に従って決定された第２の画素サイズＤを含んでいる。図７Ｃは、機構部３３Ｄと３４Ｄとの間に、上述のクロススキャンキャップ要件に加え、Ｓに等しい走査方向に沿ったギャップ要件が存在することを示している。Ｓは、走査方向に沿った最小ギャップ要求に関する最小距離である。典型的に、走査方向に沿った最小ギャップ要求は、クロススキャン方向におけるＭＧの値と同程度である。この実施形態例において、走査方向に沿った最小ギャップ要求は、クロススキャンにおける対応するものより僅かに小さい。この実施形態例において、機構部３３Ｄ及び３４Ｄの各々は、異なるイメージングにて画像化ヘッド２６の異なる走査中に形成されたものである。機構部３３Ｄ及び３４Ｄの各々を画像化するために用いられた画素７０Ｃは、様々な格子パターンに配置されている。画像化ヘッド２６（図７Ｃには図示せず）の副走査の位置決め制御により、クロススキャン画素サイズより微細な分解能で、画素の格子の各々を互いに対して位置決めすることが可能になる。しかしながら、この実施形態例においては、双方の機構部３３Ｄ及び３４Ｄが、走査方向に沿って共通の起源を共有する対応する画素格子に配置された画素群７０Ｃから形成されるので、最小距離Ｓは、走査方向に沿った最小ギャップ要求より大きい、あるいは等しい第２の画素サイズＤの整数倍に等しい。この実施形態例において、単一の画素のサイズＤは、走査方向に沿った最小ギャップ要求を考慮に入れる必要がある。

図７Ｃは、走査方向に沿った一層小さいギャップ要求を活用することによって、より小さいマトリクスライン幅を受け入れることが可能な実施形態例を示している。図７Ｃは、機構部３３Ｄ及び３４Ｄが走査方向において図７Ｂに示したものより近接してネスト化されていることを示している。より高い分解能の画素７０Ｃを用いた一層近接したネスト化は依然として、走査方向に沿って、且つ走査方向を横切って、ギャップ要件とともに最小重なり要件を満足させることが可能である。また、有利なことに、全幅Ｗ_{ｏｖｅｒａｌｌ２}は、図７Ｂに示した全幅Ｗ_{ｏｖｅｒａｌｌ}より小さい。

一部の例において、パターン内の造形部は２方向以上にて規則的に配列される。一例は、シェブロン形状の造形部群を含む“アイランド”構成である。造形部群をマトリクス２０と整合するように形成するため、造形部群は、この例においてクロススキャン方向に平行な第１の方向に沿って或るピッチを有し、且つ走査方向に平行な第２の方向に沿って或るピッチを有するように形成されなければならない。従って、これらの走査方向のピッチ及びクロススキャン方向のピッチの双方を有する造形部群のパターンを形成することは、走査方向に沿ったピッチベースの画素分解能と、クロススキャン方向に沿ったピッチベースの画素分解能とを必要とする。これは、マトリクス２０の傾斜部に位置整合するように造形部の傾斜したエッジを形成させるための本発明の様々な実施形態によって必要とされる特有の画素分解能と一致しないこともあり得るし、一致することもあり得る。考え得る不一致の一例は、クロススキャン方向において造形部群の要求ピッチに合致させることに基づいて選定されたクロススキャン画素サイズで造形部群のうちの１つが画像化されるときに発生する。そのとき、走査方向に沿った画素サイズは、クロススキャン画素サイズと所望の傾斜角とに基づいて選定される。画像化される造形部のエッジはこれらの画素の階段配置を用いて形成され、その配置がマトリクス２０の傾斜したラインに平行な方向に繰り返される。これは、しかしながら、走査方向に沿ったピッチ要件を満足させることができない走査方向の画素分解能で、造形部群を形成させてしまう。

この分解能の不一致は様々な手法で補正することができる。本発明の一実施形態例において、走査方向に沿った画素サイズ（すなわち、スキャンサイズ）が、いったん、造形部群のクロススキャンピッチに合致するよう要求された画素のクロススキャンサイズと所望の傾斜角とに基づいて決定されると、走査方向に沿った画素サイズは更に、走査方向に沿った整数個の画素の全体サイズが走査方向に沿った造形部群の要求ピッチに等しくなるように調整される。例えば、走査方向に沿った要求ピッチが非整数個のスキャンサイズに等しい場合、その非整数が最も近い整数へと切り上げ、あるいは切り捨てられ、スキャンサイズが、調整後のスキャンサイズの整数個分が要求ピッチに等しくなるように調整される。造形部群のエッジはもはや、所望の傾斜角に平行な方向に繰り返される画素の階段配置で画像化されなくなり、僅かにオフセットされることになる。１μｍの端数程度のオフセットを生じさせる選定された傾斜角は、典型的に、カラーフィルタ用途において許容可能である。

各画像化チャネル４０によって放射される放射線ビームの強度は、数多くの様々な手法で変化されることが可能である。本発明の一部の実施形態例において、画像化ヘッド２６は、一定なレーザ光源によって照射される空間光変調器（ライトバルブ）を含む。レーザは、或る所望の総パワーを維持するように調整される定電流源によって駆動される。ライトバルブは、該ライトバルブの各チャネルから放射される放射線ビームの強度をそのチャネルに所望される強度まで減衰させるために用いられる。

本発明の一部の実施形態例において、所与の画像化チャネル４０によって放射される放射線ビームの強度は、そのビームによって形成される画素の、形成されるその他の画素に対する位置に従って調整される。個々の画素は、画像化される造形部の様々な位置を生成するよう、相互に関連付けて形成される。画像化を改善するために様々な画素を相互に異なるように形成することが望ましいことがある。例えば、造形部のエッジ部に対応する１つ以上の画素は、造形部のその他の部分を画像化するために用いられる放射線ビームの強度とは異なる強度を有する放射線ビームで画像化されてもよい。エッジ部に対応する画素は、画像化される造形部の周縁画素に必ずしも限られず、造形部の周縁部を直接的に形成しない１つ以上の更なる画素を含むことができる。このような更なる画素は、画像化される造形部の内部画素を含み得る。本発明の一部の実施形態例において、造形部の対応するエッジ部は、造形部のその他の部分を画像化するために用いられる放射線ビームの強度より高い強度を有する放射線ビームで画像化されてもよい。エッジ部は、走査方向又はクロススキャン方向のうちの一方に平行であってもよいし、走査方向又はクロススキャン方向のうちの一方と交差する方向に延在していてもよい。画像化される造形部のエッジ部を形成するために用いられる様々な放射線ビームの強度を高めることは、造形部の視覚的な特性を改善し、エッジ断絶などのアーチファクトを抑制するために用いられてもよい。エッジ断絶は数多くの理由で発生し得る。例えば、画像化される領域と画像化されない領域との間の遷移部付近で、示差熱効果（differential thermal effect）が発生し得る。熱転写の場合、例えば、機構部のエッジに転写される画像形成材料に関する不十分な剥離強度、又は剥離の速度、角度若しくは方向の不十分な制御などの機械的効果が、画像化されたドナー素子が剥離されるときにエッジ断絶をもたらすことがある。選択的に高められた強度は、例えばエッジ断絶などの画像アーチファクトを抑制する助けとなるように用いられ得る。

本発明の一部の実施形態例において、画像化チャネル４０は“オン”に切り換えられると、“オフ”に切り換えられたときに生成される不活性強度レベルより高い活性強度レベルを有する放射線ビームを放射する。この活性強度レベルは媒体上に画素を形成することができなくてもよい場合がある。本発明の一部の実施形態例において、ビームの強度レベルは強度閾値より低くされる。一部の実施形態例において、ビームの強度は、媒体の露光閾値より低い露光を生じさせるように制御される。これら一層低い強度レベルを有する放射線ビームを放射するように画像化チャネルを制御することは、閾値未満（below threshold）イメージングと呼ばれる。閾値未満イメージングは、画像の造形部の視覚的な特性を改善し、画像アーチファクトを抑制する助けとなるように用いられ得る。例えば、閾値未満イメージングは、画素の領域又は画素近傍の領域において、該画素の特定の特性を改善するように熱特性を変化させるために用いられることができる。熱転写の場合、閾値未満イメージング技術は、画素の形成時にドナー素子から受像素子に転写される画像形成材料の密着性を高めるために用いられ得る。一部の実施形態例において、閾値未満イメージングは、所与の画素又は隣接画素に転写される画像形成材料の量を変化させるために用いられる。例えば、一部の熱転写プロセスにおいて、媒体の露光閾値に等しくなる、あるいはそれを超過することができる放射線ビームを走査することによって、造形部のエッジに沿って画素の階段配置が形成され得る。画素の階段配置の形成中に、閾値要求未満の強度を有する更なる放射線ビームが、造形部のエッジより外側の近接領域を走査する。これらの更なる放射線ビームは、造形部エッジの外側の画素段差を部分的に充填するドナー素子から受像素子への画像形成材料の更なる転写を生じさせ、それにより、階段エッジのギザギザを低減し得る。このような挙動を示し且つカラーフィルタ用途に適した媒体は、より細いフィルタマトリクスラインとともに用いられることができる。何故なら、造形部群が、階段エッジの場合より均等にマトリクスラインに重なるようにされ得るからである。

画像化ヘッド２６は、各画像化チャネルが画素を形成するように作用可能な放射線ビームを生成することができる複数の個々にアドレス指定可能な画像化チャネル、を有するマルチチャネル画像化ヘッドを有し得る。画像化ヘッド２６は、画像化チャネルの１次元アレイ又は２次元アレイを含む画像化チャネル４０の様々な配置を含むことができる。放射線ビームを生成するために好適な機構が用いられ得る。放射線ビームは如何なる好適な手法で構成されてもよい。

本発明の一部の実施形態は赤外線レーザを用いる。本発明の発明者は、レーザ誘起熱転写プロセスにおいて、１５０μｍのエミッタを採用した波長８３０ｎｍで約５０Ｗの総出力パワーを有する赤外線ダイオードレーザアレイを用いた。可視光レーザを含むその他のレーザが、本発明を実施する際に用いられてもよい。用いるレーザ光源の選択は、画像化される媒体の特性によって動機付けられてもよい。

本発明の様々な実施形態例を、画像形成材料が受像素子に転写されるレーザ誘起熱転写プロセスに関して説明してきた。本発明の他の実施形態例は、その他の画像化プロセス及び媒体とともに用いられ得る。本発明の範囲を逸脱することなく、異なるプロセスによって画像が媒体上に形成され得る。例えば、媒体は画像修正可能表面を含むことができ、画像を形成するように放射線ビームによって照射されたときに、修正可能表面の性質又は特性が変化される。放射線ビームは、画像を形成するように媒体の表面を切除するために用いられてもよい。当業者に認識されるように、異なる画像化プロセスが容易に採用され得る。

装置９０によって必要とされる様々な機能を実行するため、コントローラ６０によってプログラム製品９７が用いられ得る。１つのそのような機能は、画像化ヘッド２６の画素サイズを、画像化すべき造形部の所望の傾斜角及び画素のその他のサイズの関数として設定することを含み得る。限定するものではないが、プログラム製品９７は、コンピュータプロセッサによって実行されるときに、該コンピュータプロセッサに上述の方法を実行させる命令を含む一組のコンピュータ読み取り可能信号を担持する媒体を有し得る。プログラム製品９７は、多様な形態のうちの何れであってもよい。プログラム製品９７は、例えば、フロッピーディスク（登録商標）やハードディスクドライブを含む磁気記憶媒体、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤを含む光データ記憶媒体、ＲＯＭやフラッシュＲＡＭを含む電子データ記憶媒体、又はこれらに類するものなどの物理的な媒体を有し得る。媒体上で命令は必要に応じて圧縮され、且つ／或いは暗号化され得る。

本発明の一実施形態例において、プログラム製品９７は、各画素が第１の方向に沿った第１のサイズと第１の方向と交差する第２の方向に沿った第２のサイズとを有するように、媒体上に形成されるべき複数の画素の少なくとも１つのサイズを決定するようにコントローラ６０を設定するために用いられ得る。複数の画素は、或る造形部を媒体上に形成するために用いられることができ、該造形部は、画像化に関する走査方向に対して或る傾斜角だけ傾斜した方向に延在するエッジを有することができる。第２のサイズは、第１のサイズと異なり、プログラム製品９７のプログラム命令に従って、少なくとも傾斜角と第１のサイズとに基づいて決定される。これに代えて、あるいは加えて、コントローラ６０は、適切なユーザインタフェースを介してコントローラ６０と通信するオペレータの誘導下で、画素サイズの手動での指定又は調整を可能にしてもよい。画素サイズの決定は、コントローラ６０に入力された、あるいはプログラム製品９７内にプログラムされた好適なアルゴリズム及び／又はデータに基づいて行われ得る。画素サイズのパラメータは、画像化に先立って決定されてもよいし、画像化を進めるときに“オンザフライ”で決定されてもよい。

一部の実施形態例において、コントローラ６０は、所与の走査方向にスキャンするときに画像化される造形部の特定部分を形成するよう選択された放射線ビームに対して増大された強度値を指定する強度情報９８を管理する。造形部のその部分は、造形部のエッジ部を含み得る。増大された強度値は、対応する走査方向にスキャンするときに造形部のその他の部分を形成するために用いられる放射線ビームの強度値より大きい。

一部の実施形態例において、コントローラ６０は、所与の走査方向にスキャンするときに画像化チャネル４０によって放射される放射線ビームに対して設定するように閾値未満の強度を指定する各画像化チャネル４０の強度情報９８を管理する。

造形部群のパターンを、ディスプレーのカラー機構のパターンに関して説明してきた。本発明の一部の実施形態例において、造形部群はＬＣＤディスプレーの一部とし得る。本発明の他の実施形態例において、造形部群は有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレーの一部とし得る。ＯＬＥＤディスプレーは異なる構成を含み得る。例えば、ＬＣＤディスプレーと同様にして、白色ＯＬＥＤ源とともに使用されるカラーフィルタに、異なる複数のカラー機構が形成され得る。代替的に、本発明の様々な実施形態を用いて、ディスプレー内の異なる複数のカラー照明源が、異なる複数のＯＬＥＤ材料で形成されてもよい。これらの実施形態においては、受動カラーフィルタを必ずしも必要とせずに、ＯＬＥＤベースの複数の照明源自体が有色光の放射を制御する。ＯＬＥＤ材料は好適な媒体に転写されることが可能である。ＯＬＥＤ材料は、レーザ誘起熱転写技術を用いて受像素子に転写され得る。

本発明の様々な実施形態例を、シェブロン形状の造形部群を画像化することに関して説明してきた。しかしながら、本発明は、シェブロン形状の造形部群を画像化することに限定されず、所望の走査方向に対して傾斜したエッジを有するその他の形状を含む造形部群を画像化することにも用いられ得る。本発明は島状の造形部群を画像化することにも用いられ得る。

ディスプレー及び電子デバイスの製造における用途例を用いて本発明を説明してきたが、ここで説明した方法は、ラボオンチップ（lab-on-a-chip；ＬＯＣ）の製造のための生物医学イメージングにて用いられるものを含むその他の用途にも直接的に適用可能である。ＬＯＣデバイスは様々なパターンの造形部群を含み得る。本発明は、例えば医療、印刷、及び電子製造技術などのその他の科学技術にも適用され得る。

理解されるように、上述の実施形態は単に本発明を例示するものであり、当業者によって、本発明の範囲を逸脱することなく、上述の実施形態への数多くの変形が考案され得る。

Claims (40)

1. 媒体上に画像を形成する方法であって：
   走査方向に沿って前記媒体上を走査しながら前記画像を形成するように放射線ビームを放射するよう画像化ヘッドを制御するステップであり、前記画像は、前記走査方向に対して或る傾斜角だけ傾斜した方向に延在するエッジ部を含む造形部を有し、各放射線ビームは、該放射線ビームによって前記媒体上に形成される画素のサイズを変化させるように制御可能である、ステップ；
   前記媒体上に形成されるべき複数の画素の各画素が有する少なくとも１つのサイズを決定するステップであり、各画素は、第１の方向に沿った第１のサイズと、前記第１の方向と交差する第２の方向に沿った第２のサイズとを有し、前記第２のサイズは、前記第１のサイズと異なり、且つ少なくとも前記傾斜角と前記第１のサイズとに基づいて決定される、ステップ；及び
   前記造形部の前記エッジ部に沿って前記複数の画素の階段配置を形成するために一群の放射線ビームを放射するよう前記画像化ヘッドを制御するステップであり、前記第１のサイズと前記決定された第２のサイズとで前記階段配置内の各画素を形成するよう、前記一群の放射線ビームの各放射線ビームが制御される、ステップ；
   を有する方法。
2. 前記第２の方向は前記１の方向に実質的に垂直である、請求項１に記載の方法。
3. 前記第２の方向は前記走査方向に実質的に平行である、請求項１に記載の方法。
4. 前記造形部は、前記第１の方向に沿って規則的に配列された造形部群のパターンの一部であり、当該方法は、少なくとも前記第１の方向に沿った前記造形部群のピッチに基づいて、前記第２のサイズを決定することを有する、請求項１に記載の方法。
5. 前記造形部群のパターン内の前記造形部群は、前記第２の方向に沿って規則的に配列され、当該方法は、少なくとも前記第２の方向に沿った前記造形部群のピッチに基づいて、前記第２のサイズを決定することを有する、請求項４に記載の方法。
6. 前記造形部は、前記第１の方向に沿って規則的に配列された造形部群のパターンの一部であり、当該方法は、少なくとも前記第１の方向に沿った前記造形部群のピッチに基づいて、前記第１のサイズを決定することを有する、請求項１に記載の方法。
7. 前記第２の方向は前記１の方向に実質的に垂直である、請求項５に記載の方法。
8. 少なくとも関係：
   Ｎ×Ｄ＝（Ｍ×Ｃ）／ｔａｎ（θ）
   に基づいて前記第２のサイズを決定することを有し、ただし、
   Ｃは前記第１の方向に沿った前記画素のサイズであり、
   Ｄは前記第２の方向に沿った前記画素のサイズであり、
   θは前記傾斜角に相当する角度であり、
   Ｍは１以上の整数であり、且つ
   Ｎは１以上の整数である、
   請求項１に記載の方法。
9. 前記媒体上に１つ以上の更なる画素を形成するように前記画像化ヘッドを制御するステップを有し、前記１つ以上の更なる画素の各々は、前記階段配置内の各画素とは異なるサイズを有する、請求項１に記載の方法。
10. 前記画素の前記階段配置は、前記エッジ部が延在する前記方向に平行な方向に沿って繰り返される、請求項１に記載の方法。
11. 前記第１のサイズ及び前記決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで前記複数の画素の各画素を形成するよう、前記一群の放射線ビームの各放射線ビームが放射される期間を制御するステップを有する、請求項１に記載の方法。
12. 前記一群の放射線ビームの各放射線ビームは、対応する放射線スポットを前記媒体上に形成し、当該方法は、前記第１のサイズ及び前記決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで前記複数の画素の各画素を形成するよう、前記放射線スポットの各々が前記媒体を横切って走査される期間を制御するステップを有する、請求項１に記載の方法。
13. 前記一群の放射線ビームの各放射線ビームは、対応する放射線スポットを前記媒体上に形成し、当該方法は、前記第１のサイズ及び前記決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで前記複数の画素の各画素を形成するよう、前記一群の放射線ビームが走査される前記媒体の表面に交わる軸の周りで傾斜させて前記放射線スポットの各々を位置付けるステップを有する、請求項１に記載の方法。
14. 前記第１のサイズ及び前記決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで前記複数の画素の各画素を形成するよう、前記画像化ヘッドを回転させるステップを有する、請求項１に記載の方法。
15. 前記一群の放射線ビームの各放射線ビームは、対応する放射線スポットを前記媒体上に形成し、当該方法は、前記第１のサイズ及び前記決定された第２のサイズのうちの一方に等しいサイズで前記複数の画素の各画素を形成するよう、前記放射線スポットの各々を拡大あるいは縮小するステップを有する、請求項１に記載の方法。
16. 前記画像化ヘッドは、前記走査方向における前記複数の画素の各画素のサイズを、前記走査方向と交差する方向における前記複数の画素の各画素のサイズと異なるように調整するよう制御可能である、請求項１に記載の方法。
17. 前記複数の画素の前記階段配置を形成するために、前記一群の放射線ビームの各放射線ビームを第１の強度で放射するよう前記画像化ヘッドを制御するステップと、前記媒体上を走査しながら１つ以上の更なる画素を形成するため、前記放射線ビームのうちの１つ以上からなる第２群の放射線ビームを放射するよう前記画像化ヘッドを制御するステップとを有し、前記第２群の放射線ビームの各放射線ビームは、前記第１の強度と異なる第２の強度で放射される、請求項１に記載の方法。
18. 前記１つ以上の更なる画素は前記造形部の内部の部分を形成し、当該方法は、前記第２の強度を前記第１の強度より低くするよう前記画像化ヘッドを制御するステップを有する、請求項１７に記載の方法。
19. 前記第２の強度は前記媒体の閾値強度より低い、請求項１７に記載の方法。
20. 熱転写プロセスを用いて前記画像を前記媒体上に形成する請求項１に記載の方法。
21. 前記造形部群のパターンは複数の異なる色の造形部を有し、各色の造形部は別々に画像化される、請求項４に記載の方法。
22. 前記造形部群のパターンはカラーフィルタ機構のパターンを有する、請求項４に記載の方法。
23. 前記造形部はシェブロン形状を有する、請求項１に記載の方法。
24. 前記階段配置は、前記傾斜角に等しいピッチ角を含む、請求項１に記載の方法。
25. 前記複数の画素のうちの少なくとも２つの画素が同時に形成される、請求項１に記載の方法。
26. 前記第１のサイズ及び前記第２のサイズの各々は各画素のエッジに沿ったものである、請求項１に記載の方法。
27. 走査方向に沿って媒体上を走査しながら画像化ヘッドによって放射された放射線ビームを用いて前記媒体上に画像を形成する方法であって、
    前記画像は、第１の方向に沿って規則的に配列された造形部群のパターンであり、前記走査方向に対して或る傾斜角だけ傾斜した方向に延在するエッジ部を含む造形部を含む造形部群のパターンを有し、当該方法は：
    前記第１の方向に沿った前記造形部群のピッチを決定するステップ；
    少なくとも前記第１の方向に沿った前記造形部群の前記ピッチに基づいて、前記媒体上に形成されるべき画素の第１の寸法を決定するステップ；
    少なくとも前記傾斜角に基づいて、前記媒体上に形成されるべき前記画素の第２の寸法を決定するステップ；
    前記走査方向に沿って前記媒体上を走査しながら前記媒体上に前記造形部群のパターンを形成するように前記放射線ビームを放射するよう前記画像化ヘッドを制御するステップ；及び
    前記決定された第１の寸法及び前記決定された第２の寸法で前記媒体上に前記画素を形成するように放射線ビームを放射するよう前記画像化ヘッドを制御するステップ；
    を有する、方法。
28. 少なくとも前記第１の寸法に基づいて、前記媒体上に形成されるべき前記画素の前記第２の寸法を決定するステップ、を有する請求項２７に記載の方法。
29. 前記パターン内の前記造形部群は、前記第１に方向と交差する第２の方向に沿って規則的に配列されており、当該方法は：
    前記第２の方向に沿った前記造形部群のピッチを決定するステップ；及び
    少なくとも前記第２の方向に沿った前記造形部群の前記ピッチに基づいて、前記媒体上に形成されるべき前記画素の前記第２の寸法を決定するステップ；
    を有する、請求項２７に記載の方法。
30. 前記第１の寸法及び前記第２の寸法は、前記画素の相異なるエッジの寸法である、請求項２７に記載の方法。
31. 媒体上に画像を形成する方法であって：
    走査方向に沿って前記媒体上を走査しながら前記画像を形成するように、独立して制御可能な放射線ビームを放射するよう画像化ヘッドを制御するステップであり、前記画像は、前記走査方向に対して傾斜した方向に沿って第１の距離だけ延在するエッジ部を含む造形部を有し、前記第１の距離は、前記走査方向に沿った蹴上げ距離に対して、前記走査方向に垂直なクロススキャン方向に沿って奥行き距離だけ延在し、前記奥行き距離は前記蹴上げ距離とは長さ的に異なる、ステップ；
    前記媒体上を走査しながら第１群の１つ以上の画素を形成するように前記画像化ヘッドを制御するステップであり、前記第１群の１つ以上の画素の各画素は、第１の方向に沿って第１のサイズを有する、ステップ；及び
    前記媒体上を走査しながら第２群の１つ以上の画素を形成するように前記画像化ヘッドを制御するステップであり、前記第２群の１つ以上の画素の各画素は、前記第１の方向に垂直な第２の方向に沿って第２のサイズを有する、ステップ；
    を有し、前記奥行き距離は前記第１のサイズの整数倍に等しく、且つ前記蹴上げ距離は前記第２のサイズの整数倍に等しい、方法。
32. 前記第１群の１つ以上の画素及び前記第２群の１つ以上の画素は、同一の大きさの画素を有する、請求項３１に記載の方法。
33. 前記第１群の１つ以上の画素のうちの画素を形成するように第１の放射線ビームを放射し、且つ前記第２群の１つ以上の画素のうちの画素を形成するように第２の放射線ビームを放射するよう前記画像化ヘッドを制御するステップを有し、前記第２の放射線ビームは前記第１の放射線ビームと同時に放射される、請求項３１に記載の方法。
34. 前記第１群の１つ以上の画素及び前記第２群の１つ以上の画素は、共通の画素を有する、請求項３１に記載の方法。
35. 前記造形部は、前記第１の方向及び前記第２の方向のうちの一方に沿って規則的に配列された造形部群のパターンの一部であり、前記第１の方向及び前記第２の方向のうちの前記一方に沿った前記造形部群のピッチは、前記第１のサイズ及び前記第２のサイズのうちの一方の整数倍に等しい、請求項３１に記載の方法。
36. 前記第１の方向及び前記第２の方向の各々は画素のエッジに平行である、請求項３１に記載の方法。
37. 前記第１群の１つ以上の画素内の画素は相等しい大きさであり、前記第２群の１つ以上の画素内の画素は相等しい大きさである、請求項３１に記載の方法。
38. 一組のコンピュータ読み取り可能命令を有するプログラムであって、
    前記命令は、コントローラによって実行されるとき、該コントローラに：
    走査方向に沿って媒体上を走査しながら画像を形成するように放射線ビームを放射するよう画像化ヘッドを制御させ、前記画像は、前記走査方向に対して或る傾斜角だけ傾斜した方向に延在するエッジ部を含む造形部を有し、各放射線ビームは、該放射線ビームによって前記媒体上に形成される画素のサイズを変化させるように制御可能であり；
    前記媒体上に形成されるべき複数の画素の各画素が有する少なくとも１つのサイズを決定させ、各画素は、第１の方向に沿った第１のサイズと、前記第１の方向と交差する第２の方向に沿った第２のサイズとを有し、前記第２のサイズは、前記第１のサイズと異なり、且つ少なくとも前記傾斜角と前記第１のサイズとに基づいて決定され；且つ
    前記造形部の前記エッジ部に沿って前記複数の画素の階段配置を形成するために一群の放射線ビームを放射するよう前記画像化ヘッドを制御させ、前記第１のサイズと前記決定された第２のサイズとで前記階段配置内の各画素を形成するよう、前記一群の放射線ビームの各放射線ビームが制御される；
    プログラム。
39. 一組のコンピュータ読み取り可能命令を有するプログラムであって、
    前記命令は、コントローラによって実行されるとき、該コントローラに：
    走査方向に沿って媒体上を走査しながら該媒体上に画像を形成するように放射線ビームを放射するよう画像化ヘッドを制御させ、前記画像は、第１の方向に沿って規則的に配列された造形部群のパターンであり、前記走査方向に対して或る傾斜角だけ傾斜した方向に延在するエッジ部を含む造形部を含む造形部群のパターンを有し；
    前記第１の方向に沿った前記造形部群のピッチを決定させ；
    少なくとも前記第１の方向に沿った前記造形部群の前記ピッチに基づいて、前記媒体上に形成されるべき画素の第１の寸法を決定させ；
    少なくとも前記傾斜角に基づいて、前記媒体上に形成されるべき前記画素の第２の寸法を決定させ；且つ
    前記決定された第１の寸法及び前記決定された第２の寸法で前記媒体上に前記画素を形成するように放射線ビームを放射するよう前記画像化ヘッドを制御させる；
    プログラム。
40. 一組のコンピュータ読み取り可能命令を有するプログラムであって、
    前記命令は、コントローラによって実行されるとき、該コントローラに：
    走査方向に沿って媒体上を走査しながら該媒体上に画像を形成するように、独立して制御可能な放射線ビームを放射するよう画像化ヘッドを制御させ、前記画像は、前記走査方向に対して傾斜した方向に沿って第１の距離だけ延在するエッジ部を含む造形部を有し、前記第１の距離は、前記走査方向に沿った蹴上げ距離に対して、前記走査方向に垂直なクロススキャン方向に沿って奥行き距離だけ延在し、前記奥行き距離は前記蹴上げ距離とは長さ的に異なり；
    前記媒体上を走査しながら第１群の１つ以上の画素を形成するように前記画像化ヘッドを制御させ、前記第１群の１つ以上の画素の各画素は、第１の方向に沿って第１のサイズを有し；且つ
    前記媒体上を走査しながら第２群の１つ以上の画素を形成するように前記画像化ヘッドを制御させ、前記第２群の１つ以上の画素の各画素は、前記第１の方向に垂直な第２の方向に沿って第２のサイズを有し、前記奥行き距離は前記第１のサイズの整数倍に等しく、且つ前記蹴上げ距離は前記第２のサイズの整数倍に等しい；
    プログラム。

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