JP2011242248A - 物品の内部構造観察方法及び観察装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】観察対象物品の表面の多点をスポット的に加熱する加熱用レーザー1と、加熱点より放射される微少量の赤外線から、放射率を補正して高速に温度測定を行う2波長赤外放射温度計2と、2波長赤外放射温度計2による測定結果をレーザーの吸収率に関して補正し、その補正後の温度変移を等時間間隔での平面画像として構築する熱画像構築部4と、物品を測定位置に位置決めし且つ移動させるための移動手段とを含んで構成される。
【選択図】図1
Description
この工程は、観察対象物品30の表面を、その表面温度に変化が見られなくなる飽和温度に達するまで同一パワーで連続加熱する工程である。この実施の形態における加熱は、熱画像構築部4からの指令に基づく加熱用レーザー1によるレーザー照射により行われる。照射された所定波長のレーザーは、集光レンズ12により、例えば、スポット径がΦ200μmとなるように集光されて、観察対象物品30表面上の多点に照射される。この場合の多点(加熱点)はランダム配置であってもよいが、偏在による検査漏れを防止するために、好ましくは、例えば、格子状、放射状、螺旋状又は千鳥状配置のような規則的配置とする(そのために以下の記述では「等間隔多点」とする。)。
この工程は、観察対象物品30の表面の加熱点に温度変化がみられなくなる飽和温度に達するまでの当該加熱点における温度変移を、2波長赤外放射温度計2によって測定する工程である。上述したようにこの2波長赤外放射温度計2は、加熱点から放射される赤外線の測定を特定の2波長についてのみ行うもので、その特定の2波長についての赤外線量の比率を求め、その比率に対応する温度を、観察対象物品30の表面の当該加熱点の温度として出力する(3波長赤外放射温度計を用いる場合もこれと同様の手法を用いる。)。
この工程は、観察対象物品30の表面の加熱点において測定した温度変移を、基準となる加熱量での温度変移に補正する。即ち、2波長赤外放射温度計2により得られた温度変移を、熱容量の関係式に基づき、基準となる加熱量での温度変移に補正する工程である。このように補正することで、当該加熱点におけるレーザー加熱時の吸収率の影響に起因する加熱量の差を無視することが可能となるのである。
この工程では、等間隔多点の補正後の温度変移を等時間間隔で表現することにより、観察対象物品30の内部構造を平面画像で表示する。以下、図3乃至図10を参照しつつ、その方法について説明する。図示した例は、観察対象物品30の内部にクラックが存在する場合を示している。
2 2波長赤外放射温度計
3 測定ヘッド部
4 熱画像構築部
5 ステージ
11 ダイクロイックミラー
12 集光レンズ
14 温度変移補正手段
15 熱画像構築手段
30 観察対象物品
Claims (9)
- 観察対象物品の表面の多点をスポット的にレーザー加熱するレーザー加熱工程と、前記レーザー加熱に伴って各加熱点より放射される微少量の赤外線から、放射率を補正して高速に各加熱点における温度変移測定を行う加熱点温度測定工程と、前記加熱点温度測定工程における測定結果をレーザーの吸収率に関して補正する吸収率補正工程と、前記吸収率補正工程において補正された前記多点における温度変移を等時間間隔での平面画像として構築する熱画像構築工程とから成り、前記加熱点温度測定工程における温度測定は、前記加熱点に温度変化が見られなくなる飽和温度に達するまでの温度変移を測定するものであり、前記吸収率補正工程における補正は、前記加熱点温度測定工程において測定した温度変移を、基準となる加熱パワーでの温度変移に補正するものであることを特徴とする物品の内部構造観察方法。
- 加熱する前記多点は規則的配置とされる、請求項1に記載の物品の内部構造観察方法。
- 前記多点は、格子状、放射状、螺旋状又は千鳥状配置とされる、請求項2に記載の物品の内部構造観察方法。
- 前記加熱点温度測定工程における温度変移の測定は、2波長赤外放射温度計により行う、請求項1乃至3のいずれかに記載の物品の内部構造観察方法。
- 観察対象物品の表面の多点をスポット的にレーザー加熱するレーザー加熱手段と、前記レーザー加熱に伴って加熱点より放射される微少量の赤外線から、放射率を補正して高速に温度変移測定を行う温度測定手段と、前記温度測定手段による温度変移測定結果をレーザーの吸収率に関して補正し、前記補正された多点における温度変移を等時間間隔での平面画像として構築して表示する熱画像構築部と、前記観察対象物品を測定位置に位置決めし且つ移動させるための移動手段とを含むことを特徴とする物品の内部構造観察装置。
- 加熱する前記多点は規則的配置とされる、請求項5に記載の物品の内部構造観察装置。
- 前記多点は、格子状、放射状、螺旋状又は千鳥状配置とされる、請求項6に記載の物品の内部構造観察方法。
- 前記温度測定手段は2波長赤外放射温度計である、請求項5乃至7のいずれかに記載の物品の内部構造観察装置。
- 前記熱画像構築部は、前記温度測定手段による温度変移測定結果をレーザーの吸収率に関して補正する温度変移補正手段と、前記温度変移補正手段により補正された前記多点の温度変移を等時間間隔での平面画像として構築して表示する熱画像構築手段とを含んで構成される、請求項5乃至8のいずれかに記載の物品の内部構造観察装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2793017A1 (en) * | 2013-04-18 | 2014-10-22 | Jtekt Corporation | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method |
EP2796858A1 (en) * | 2013-04-26 | 2014-10-29 | Jtekt Corporation | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method |
EP2796857A1 (en) * | 2013-04-26 | 2014-10-29 | Jtekt Corporation | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method |
JP2018044881A (ja) * | 2016-09-15 | 2018-03-22 | 株式会社東芝 | クラック検査装置及びクラック検査方法 |
US10431506B2 (en) | 2017-01-17 | 2019-10-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of processing substrate and method of fabricating semiconductor device using the same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01216246A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 抵抗溶接品の良否判別方法 |
JPH1082620A (ja) * | 1996-06-10 | 1998-03-31 | Wagner Internatl Ag | 加工品表面の光熱的検査方法および装置 |
JP2000261137A (ja) * | 1999-03-12 | 2000-09-22 | Nec Corp | 電子部品接続状態検査装置及び電子部品接続状態検査方法 |
JP2009008687A (ja) * | 2002-01-23 | 2009-01-15 | Marena Systems Corp | 欠陥に対応する場所に位置する欠陥アーチファクトの解析方法及び撮像システム |
-
2010
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01216246A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | 抵抗溶接品の良否判別方法 |
JPH1082620A (ja) * | 1996-06-10 | 1998-03-31 | Wagner Internatl Ag | 加工品表面の光熱的検査方法および装置 |
JP2000261137A (ja) * | 1999-03-12 | 2000-09-22 | Nec Corp | 電子部品接続状態検査装置及び電子部品接続状態検査方法 |
JP2009008687A (ja) * | 2002-01-23 | 2009-01-15 | Marena Systems Corp | 欠陥に対応する場所に位置する欠陥アーチファクトの解析方法及び撮像システム |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2793017A1 (en) * | 2013-04-18 | 2014-10-22 | Jtekt Corporation | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method |
JP2014211340A (ja) * | 2013-04-18 | 2014-11-13 | 株式会社ジェイテクト | 光学非破壊検査装置及び光学非破壊検査方法 |
EP2796858A1 (en) * | 2013-04-26 | 2014-10-29 | Jtekt Corporation | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method |
EP2796857A1 (en) * | 2013-04-26 | 2014-10-29 | Jtekt Corporation | Optical non-destructive inspection apparatus and optical non-destructive inspection method |
JP2014215213A (ja) * | 2013-04-26 | 2014-11-17 | 株式会社ジェイテクト | 光学非破壊検査装置及び光学非破壊検査方法 |
JP2018044881A (ja) * | 2016-09-15 | 2018-03-22 | 株式会社東芝 | クラック検査装置及びクラック検査方法 |
US10431506B2 (en) | 2017-01-17 | 2019-10-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of processing substrate and method of fabricating semiconductor device using the same |
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