JP2011238663A - 半導体装置の製造方法、ワイヤーボンディング装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】材料コストが安い銅線を用いたワイヤボンド方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法では、金属細線として銅線21を用いることで、材料コストが低減される。また、ワイヤーボンディング領域である開口部15近傍にヒーターコイル22が巻き付けられたノズル20を配置することで、ワイヤーボンディング領域には加熱された不活性ガスが吹き込まれる。この製造方法により、半導体素子12の電極パッドの温度が不活性ガスにより大幅に低下し、銅線21と電極パッドとが接続不良となることが防止される。
【選択図】図2
【解決手段】半導体装置の製造方法では、金属細線として銅線21を用いることで、材料コストが低減される。また、ワイヤーボンディング領域である開口部15近傍にヒーターコイル22が巻き付けられたノズル20を配置することで、ワイヤーボンディング領域には加熱された不活性ガスが吹き込まれる。この製造方法により、半導体素子12の電極パッドの温度が不活性ガスにより大幅に低下し、銅線21と電極パッドとが接続不良となることが防止される。
【選択図】図2
Description
本発明は、銅線を用いてワイヤーボンディングを行う半導体装置の製造方法、ワイヤーボンディング装置に関する。
従来の半導体装置の製造方法の一実施例として、下記の製造方法が知られている。図8及び図9は、従来のワイヤーボンディング方法を説明するための断面図である。
先ず、図8(A)に示す如く、リードフレーム61のアイランド62上に半導体チップ63を固着した後、リードフレーム61をワイヤーボンディング装置のヒータープレート64上へと搬送する。このとき、リード押さえ部65は、ヒータープレート64上方へと移動する。
次に、図8(B)に示す如く、リードフレーム61をヒータープレート64の載置部66上面に位置決めして設置した後、リード押さえ部65を下降させ、リードフレーム61を載置部66上にクランプする。そして、リード押さえ部65は、その中央領域に開口部67が設けられ、開口部67からは、アイランド62、リードフレーム61のインナーリード68及び半導体チップ63が露出する。
次に、図9(A)に示す如く、ヒータープレート64の加熱により半導体チップ63の電極パッド69を約200℃に加熱した後、金線70が挿通したキャピラリ71が電極パッド69上へと移動する。そして、超音波振動併用の熱圧着技術により、キャピラリ71の先端に形成された金ボール72を電極パッド69へと接続する。
次に、図9(B)に示す如く、キャピラリ71がインナーリード68の先端部上方へ移動する。そして、ヒータープレート64の加熱により約200℃に加熱されたインナーリード68に対して金線70を所望の荷重にて押し付け、超音波振動併用の熱圧着技術により接続する。このとき、インナーリード68は、リード押さえ部65の突起部73によりクランプされた状態である。
次に、図9(C)に示す如く、キャピラリ71上方に配置されたワイヤークランパー(図示せず)を閉じた状態にてキャピラリ71が上昇し、金線70をインナーリード68の接続箇所にて破断する。前述したように、インナーリード68は、突起部73により固定されることで、インナーリード68が載置部66上に確実に固定された状態にて切断が行われる(例えば、特許文献1参照。)。
先ず、図8及び図9を用いて前述したように、金ボール72と電極パッド69との接続不良を防止するために、電極パッド69が、ヒータープレート64を用いてワイヤーボンディング作業に適した温度まで加熱される。そして、リード押さえ部65の開口部67内のワイヤーボンディング領域は高温状態となる。そのため、ワイヤーボンディングに用いられる金属細線の酸化を防止するため、金線70が使用される。しかしながら、金線は銅線と比較して材料費が高く、原価コストを引き上げる問題がある。
次に、ワイヤーボンディング工程において、金線70に換えて銅線を用いることで、原価コストが嵩むという問題は解決される。しかしながら、前述したように、ワイヤーボンディング領域は高温状態となり、銅線は酸化し易いため、開口部67内のワイヤーボンディング領域に対し酸化防止対策を施す必要がある。例えば、開口部67内に酸化抑制ガスを吹き込み、ワイヤーボンディング領域を酸化抑制ガスの雰囲気で満たすことが考えられる。この場合、常温(室温)の酸化抑制ガスを開口部67上方から吹き込むことで、半導体チップ63表面側の電極パッド69の温度が低下する。これは、ヒータープレート64により加熱された電極パッド69に対して、酸化抑制ガスの温度が大幅に低いためである。その結果、銅線の酸化防止対策は実現されるが、電極パッド温度69の温度が低下し、銅線と電極パッド69との接続性が悪化し、接続不良が発生する問題がある。
特に、半導体チップ63の厚みが、例えば、330μm以上となる場合には、ヒータープレート64からの熱が、電極パッド69まで伝わり難く、電極パッド69を所望の温度まで加熱し難いという問題がある。ここで、前述したように、銅線を用いる場合には、銅線の酸化を防止するため、ヒータープレート64の温度を高くすることが出来ず、厚い半導体チップ63では、電極パッド69まで温度が伝達し難いという問題がある。更に、酸化抑制ガスの吹き込みにより、電極パッド69の温度が大幅に低下し、電極パッド69の温度が、ワイヤーボンディング作業に適した温度に維持し難いという問題がある。その結果、前述したように、銅線と電極パッド69との接続性が悪化し、接続不良が発生する問題へと繋がる。
ここで、電極パッド69は、主に、AlやAl合金から構成され、銅線とAlとは合金層を形成し難いという材料特性がある。その一方で、銅線とAlとの合金層が一度形成されると、温度による影響を受け難いという材料特性もある。そのため、電極パッド69の温度をワイヤーボンディング作業に適した温度に維持し、銅線と電極パッド69との接続性を向上させることで、接続信頼性の向上へと繋がる。そして、電極パッド69の温度を所望の範囲に維持することは、銅線を用いてワイヤーボンディング作業を行う際に重要な問題となる。
前述した各事情に鑑みて成されたものであり、本発明の半導体装置の製造方法では、アイランドと、前記アイランドの周囲に配置された複数のリードと、前記アイランドから延在された吊りリードとを有する搭載部が形成されたリードフレームを準備し、前記アイランド上に半導体素子を固着し、前記半導体素子の電極パッドと前記リードとを銅線によりワイヤーボンディングした後、前記搭載部を樹脂で被覆し、樹脂パッケージを形成する半導体装置の製造方法において、前記ワイヤーボンディングを行うワイヤーボンディング装置に内蔵された加熱機構により前記アイランド側から前記電極パッドを加熱し、且つ、前記電極パッドの上方から加熱された不活性ガスを前記ワイヤーボンディング領域に供給することを特徴とする。
本発明のワイヤーボンディング装置では、リードフレームが配置される載置台と、前記載置台上を覆い、前記リードフレームの搭載部が露出する開口部が設けられたクランパーと、前記クランパーの上方に配置されるキャピラリとを有するワイヤーボンディング装置において、前記載置台には前記リードフレームを加熱する加熱機構が内蔵され、前記開口部近傍には加熱された不活性ガスを前記開口部内へと供給するノズルが配置されることを特徴とする。
本発明では、銅線を用いてワイヤーボンディングが行われることで、金線が用いられる場合と比較して材料コストが低減される。
また、本発明では、電極パッドの上方から加熱された不活性ガスを吹き込むことで、電極パッドの大幅な温度低下を防止し、銅線と電極パッドとの接続不良が抑止される。
また、本発明では、ワイヤーボンディング領域近傍にヒーターコイルが巻き付けられたノズルを配置することで、加熱後の不活性ガスが直ぐにワイヤーボンディング領域に供給される。
また、本発明では、搭載部へワイヤーボンディングを行う前に、捨てボンディング領域に対してワイヤーボンディングを行うことで、良好なイニシャルボールが形成され、接続不良が抑止される。
また、本発明では、ワイヤーボンディング装置の稼動時または再稼動時の最初に行われることで、特に、ワイヤーボンディング装置外に露出し、酸化し易い部分の銅線が除去される。
また、本発明では、捨てボンディング領域に対してワイヤーボンディングを複数回行うことで、個々の銅線の高さを低くし、リードフレーム搬送時の接触による銅線の剥離が防止される。
また、本発明では、捨てボンディング領域が樹脂モールド工程前に打ち抜かれることで、捨てボンディング領域の銅線が飛散することが防止される。
以下に、本発明の半導体装置の製造方法について説明する。図1(A)及び(B)は、リードフレームを説明する平面図である。図2〜図5は、ワイヤーボンディング装置及びワイヤーボンディング工程を説明する図である。図6(A)は、樹脂モールド工程を説明する平面図である。図6(B)は、ダイシング工程を説明する断面図である。図7(A)〜(C)は、本発明の製造方法により形成された半導体装置を説明する図である。
先ず、図1(A)に示す如く、例えば、銅を主材料とするリードフレーム1を準備する。リードフレーム1としては、Fe−Niを主材料とするフレームの場合でも良く、他の金属材料から成る場合でも良い。このリードフレーム1には、一点鎖線で示すように、複数の搭載部2が形成される。リードフレーム1の長手方向(紙面X軸方向)は、スリット3により一定間隔に区切られる。そして、スリット3にて区切られたリードフレーム1の1区間には、例えば、4つの搭載部2の集合から成る1つの集合ブロックが形成される。そして、この集合ブロックが、リードフレーム1の長手方向に複数形成される。また、リードフレーム1の長手方向には、その上下端部領域にインデックス孔4が一定の間隔で設けられ、各工程での位置決めに用いられる。
次に、搭載部2は、主に、アイランド5と、アイランド5の4隅を支持する吊りリード6と、アイランド5の4側辺の近傍に位置する複数のリード7と、複数のリード7を支持するタイバー8とから構成される。そして、吊りリード6は、アイランド5の4つのコーナー部から延在し、タイバー8の交差する支持領域9と連結する。支持領域9は、リードフレーム1と一体となり、アイランド5がリードフレーム1に支持される。
次に、点線10にて示すように、集合ブロック間のスリット3上方には、捨てボンディング領域11が配置される。詳細は後述するが、ワイヤーボンディング工程では、集合ブロック毎に連続してワイヤーボンディングが行われるが、最初に、捨てボンディング領域11にボールボンディングが行われる。この製造方法により、酸化していない良好な銅線を用いてワイヤーボンディングが行われ、接続不良が抑止される。尚、捨てボンディング領域11は、スリット3間やスリット3下方に配置される場合でも良い。
次に、図1(B)に示す如く、リードフレーム1の搭載部2毎に、アイランド5の上面に半導体素子12を固着する。そして、接着材としては、半田やAg等導電性ペースト等の導電性接着材またはエポキシ樹脂等の絶縁性接着材が用いられる。このとき、加熱機構が組み込まれたダイボンド装置が用いられ、その作業領域内が、例えば、250〜260℃程度に保たれることで、その作業性が向上される。そして、ダイボンド装置の作業領域内が、不活性ガスにより充填されることで、リードフレーム1が、長時間に渡り高温状態下に配置されるが、その酸化が防止される。
次に、図2〜図3を用いてワイヤーボンディング装置について説明する。
先ず、図2(A)に示すように、ワイヤーボンディング装置の載置台13上にリードフレーム1が配置され、リードフレーム1上方を覆うようにクランパー14が配置される。リードフレーム1は、載置台13とクランパー14との間の空間部をその長手方向に移動し、各搭載部2毎にワイヤーボンディングが行われる。そして、クランパー14には、前述したリードフレーム1の集合ブロック(4つの搭載部2から成るブロック)に対応した4つの開口部15と、捨てボンディング領域11に対応した開口部16が形成される。開口部15、16は、クランパー14を貫通し、前述した空間部へと連通し、開口部15、16の側面17、18は傾斜面となる。そして、クランパー14の開口部15は、1つの集合ブロックの搭載部2毎に配置され、アイランド5の周囲の複数のリード7や吊りリード6は、クランパー14により確実に押圧固定される。
次に、図2(B)に示すように、載置台13の上面側は、リードフレーム1が移動する領域であり、主に、平坦面として形成されるが、載置台13のワイヤーボンディングが行われる領域は、その他の領域に対して突出し、その突出領域上にリードフレーム1の搭載部2や捨てボンディング領域11が配置される。そして、クランパー14が、ワイヤーボンディング時に下降し、リードフレーム1は、クランパー14と載置台13との間に押圧固定される。また、載置台13の突出領域には加熱機構19が内蔵され、加熱機構19によりアイランド5上に固着された半導体素子12の電極パッドやリード7は加熱される。半導体素子12の電極パッドでは、その表面温度が、例えば、190〜240℃程度となるように加熱される。一方、リード7では、リードフレーム1自体の酸化防止が考慮され、例えば、280℃以下に加熱される。リード7は、直接、載置台13上面に設置されることで、電極パッドよりも加熱され易い。
次に、クランパー14の開口部15近傍には、ノズル20が配置され、ノズル20から供給される不活性ガスは、開口部15内へと吹き込む。銅線21の径が45μmの場合には、例えば、1.9リットル/分の窒素ガス(若干の水素ガスが含まれる)が用いられる。そして、銅線21は、高温状態の作業領域内では酸化し易い状態となるが、上記不活性ガスの存在により銅線21の酸化が防止される。詳細は後述するが、ノズル20の外周にはヒーターコイル22が巻き付けられ、不活性ガスは、ノズル20を通過する際に加熱される。そして、加熱された不活性ガスが、開口部15内へと吹き込むことで、半導体素子12の表面側に位置する電極パッドの温度が、大幅に低下することが防止される。尚、図示したように、開口部15の側面17が、上方側へと広がる傾斜面となり、作業領域が広がるだけでなく、不活性ガスがワイヤーボンディング領域へと流れ込み易くなる。
尚、集合ブロック毎にワイヤーボンディングが行われ、クランパー14が上下方向へと可動することで、リードフレーム1が、ワイヤーボンディング装置の空間部を移動し、また、リードフレーム1が、載置台13上に押圧固定される。このとき、前述した不活性ガスが、クランパー14の動作に合わせて空間部へと流れ込むことで、空間部内を移動するリードフレーム1の酸化が抑止される。また、図示していないが、クランパー14に不活性ガスを送り込むパイプを配設し、常時、リードフレーム1が移動する空間部へと不活性ガスを流し込む構造とする場合でも良い。
次に、図3に示すように、ワイヤーボンディング装置では、銅線スプール24から送り出された銅線21は、テンション機構25やワイヤガイド26を経由し、キャピラリ23へと挿通される。キャピラリ23へと挿通された銅線21は、ワイヤークランパー27の開閉状態に応じて、キャピラリ23先端から導出する量が調整される。そして、図4〜図6を用いて後述するように、銅線21を用いてワイヤーボンディング作業が行われる。
一方、ワイヤーボンディング装置は、開口部15(図2(B)参照)内のワイヤーボンディング領域に不活性ガスを供給するノズル20を有する。例えば、ワイヤーボンディング装置が配置される作業部屋の天井側には、不活性ガスが流れるガス配管28が配設され、ガス配管28の先には着脱可能なセルフシール型のカップラー29が配設される。そして、ノズル20とガス配管28とは、例えば、ガスホース30により接続され、柔軟性に富むガスホース30を用いることで、ノズル20の動きやワイヤーボンディング装置のレイアウトに応じて自由にノズル20の位置を変更させることができる。また、ガスホース30の中間部にはバルブ31が設けられ、ガス配管28から供給される不活性ガスの供給量を、適宜、調整することが可能となる。
図示したように、ノズル20の外周にはヒーターコイル22が巻き付けられ、不活性ガスは、ノズル20を通過する際に加熱される。具体的には、ヒーターコイル22に高周波電流を流すことで、ノズル20内の温度は、300℃程度となるように調整され、ノズル20から排出される不活性ガスの温度は、200〜250℃程度となる。その結果、不活性ガスが電極パッドに吹き付けられた場合でも、電極パッドの温度が急激に低下することもなく、電極パッドの温度も、例えば、190〜240℃程度に維持される。また、不活性ガスは、開口部15近傍に配置されるノズル20内にて加熱されることで、不活性ガスの温度が低下する前に開口部15内へと供給され、効率的な加熱機構が実現される。
特に、半導体素子12が、330μm以上の厚みを有する場合、加熱機構19からの加熱では、半導体素子12表面まで熱が伝わり難く、電極パッドが、ワイヤーボンディングに適した温度まで加熱され難いという問題がある。あるいは、電極パッドが、ワイヤーボンディングに適した温度まで加熱されるまでに相当な時間が掛かり、作業性が悪いという問題がある。この状況において、従前のように、常温の不活性ガスを供給すると、銅線21やリード7の酸化は防止されるが、電極パッドの温度が低下し、銅線21と電極パッドとが接続不良となる。そこで、ヒーターコイル22によりノズル20内の温度を400℃程度とし、ノズル20から排出される不活性ガスの温度を300℃程度とすることも可能である。この場合には、電極パッドは、加熱機構19と不活性ガスの両方により加熱され、銅線21と電極パッドとの接続不良を防止し、作業時間の短縮も実現される。
つまり、ヒーターコイル22により、ノズル20から供給される不活性ガスの温度を250℃以上に調整することで、330μm以上の厚みを有する半導体素子12においても、電極パッドをワイヤーボンディングに適した温度に維持できる。そして、ワイヤーボンディングの作業性が向上し、銅線21の接続信頼性も向上される。
次に、図4(A)〜(C)を用いて、ワイヤーボンディング装置の形成部32及びイニシャルボール33を形成する方法を説明する。
図4(A)に示す如く、イニシャルボール形成に用いられる形成部32は、セラミック等の無機材料から成り、外形形状は紙面上にて横方向に細長い直方体形状となる。形成部32の内部には、点線にて示すように、その長手方向に内部を貫通して設けた導通孔34と、その厚み方向に円形に貫通して設けた貫通孔35が形成される。そして、導通孔34と貫通孔35とは連通する。
図示したように、導通孔34の内部にはトーチ36が配置され、トーチ36の先端部は貫通孔35の内部に露出する。また、トーチ36の直径は、導通孔34の内径よりも小さくなる。そして、矢印37にて示すように、トーチ36と導通孔34との間の間隙を利用して、前述した不活性ガスが、貫通孔35へと供給される。
図4(B)に示す如く、貫通孔35は、一点鎖線にて示すキャピラリ23の外形よりも大きく設計される。そして、ワイヤーボンディングを行う際には、キャピラリ23は、貫通孔35を経由し、形成部32と接触しないように上下方向に移動する。
図4(C)に示す如く、キャピラリ23の上方に配置されたワイヤークランパー27が開放し、キャピラリ23の先端からは所望の長さの銅線21が導出し、キャピラリ23近傍に位置するトーチ36から放電され、キャピラリ23の先端にはイニシャルボール(銅ボール)33が形成される。このとき、矢印37にて示すように、不活性ガスが貫通孔35内に供給されることで、銅線21の酸化が防止され、球形状に近い理想的な形状のイニシャルボール33が形成される。また、イニシャルボール33が形成された後も、イニシャルボール33の表面に酸化被膜が形成されることが抑止される。そして、出荷後にセット製品に組み込まれ、製品化された後に酸化被膜に起因する接続不良を招くことが防止される。
次に、図5(A)〜(C)を用いてワイヤーボンディング工程について説明する。尚、その説明の際に図2〜図4を、適宜、参照する。
先ず、図2(A)及び(B)を用いて説明したように、ワイヤーボンディング装置の載置台13上にリードフレーム1を配置し、ワイヤーボンディング領域までリードフレーム1を移動させ、クランパー14を用いて載置台13の突出領域上にリードフレーム1を押圧固定する。そして、ノズル20から加熱された不活性ガスが吹き出し、クランパー14の開口部15内及びその周辺領域を不活性ガスの雰囲気にて満たされた状態とする。
一方、図4(A)〜(C)を用いて説明したように、ワイヤーボンディング装置の稼動開始時や再稼動開始時には、ノズル20から不活性ガスが供給され始めた直後であり、クランパー14の開口部15内及びその周辺領域は、十分な量の不活性ガスの雰囲気にて満たされていない状態である。同様に、形成部32の貫通孔35に対しても不活性ガスが供給され始めた直後であり、形成部32周辺も十分な量の不活性ガスの雰囲気にて満たされていない状態である。そのため、ワイヤーボンディング装置外へ露出した銅線21、例えば、既に、銅線スプール24から送り出された銅線21は酸化している恐れがある。
そこで、図5(A)に示すように、ワイヤーボンディング装置では、先ず、ワイヤーボンディング装置外へ露出し、酸化している恐れがある部分の銅線21を用いて、キャピラリ23が、リードフレーム1の捨てボンディング領域11に対して、連続してボールボンディングを行う。このとき、ワイヤークランパー27(図4(C)参照)にて銅線21を挟持した状態にてボールボンディングを行うことで、イニシャルボール33が、捨てボンディング領域11に接続した後、キャピラリ23が上方へ移動する際に銅線21が切断される。そして、捨てボンディング領域11上の銅線38の高さT1は、図5(C)に示す銅線41のループ頂までの高さT2よりも低くなる。この製造方法により、リードフレーム1が、ワイヤーボンディング装置の空間部内を移動する際に、捨てボンディング領域11上の銅線38が、クランパー14と接触し、剥離することが抑止される。
更に、吸引用のノズル39が、開口部16内またはその近傍に配置され、ワイヤーボンディング作業中の間、開口部16内を吸引する。この製造方法により、銅線21の酸化に起因し、捨てボンディング領域11上に接続しなかった銅線38やその後、捨てボンディング領域11上から剥離した銅線38を吸引する。そして、リードフレーム1が空間部内を移動する際に、剥離した銅線38が、搭載部2側へと飛散し、半導体素子12がショートした状態となることが防止される。
更に、図2及び図3を用いて前述したように、載置台13上に配置されたリードフレーム1のリード7や半導体素子12の電極パッドは、加熱機構19によりワイヤーボンディングに適した温度まで加熱される。同様に、ノズル20内もヒーターコイル22により適した温度まで加熱される。しかしながら、ワイヤーボンディング装置の稼動開始時や再稼動開始時には、載置台13やノズル20は常温のため、所望の温度に加熱されるまでに時間を要する。そこで、捨てボンディング領域11に酸化している恐れがある部分の銅線21を捨てボンディングする時間を利用して、載置台13やノズル20を加熱することで、作業時間をロスすることなく、ワイヤーボンディング条件を整えることができる。
尚、ワイヤークランパー27が開放された状態にて、捨てボンディング領域11にボールボンディングを行った後に、ワイヤークランパー27にて銅線21を挟持し、銅線21の切断長さを調整する場合でも良い。少なくとも前述した銅線38の高さT1が、銅線41の高さT2よりも低くなる関係を満たすことで、捨てボンディング領域11上の銅線38が、クランパー14と接触し、剥離することが抑止される。
次に、ワイヤーボンディング装置の稼動開始後や再稼動開始後の一定時間経過後には、ワイヤーボンディング装置の周囲も十分な不活性ガスの雰囲気に満たされ、新たにワイヤーボンディング装置から送り出された銅線21は酸化し難い状態である。そして、酸化の恐れがある部分の銅線21による捨てボンディングが終了した後、連続して搭載部2へのワイヤーボンディングが行われる。先ず、図4(C)に示す如く、形成部32にて、キャピラリ23の先端にイニシャルボール33が形成される。次に、図5(B)に示す如く、ワイヤークランパー27は開放された状態にて、キャピラリ23が半導体素子12の電極パッド40上に向けて下降し、イニシャルボール33を電極パッド40上面に押し付ける。そして、超音波振動併用の熱圧着技術により、キャピラリ23の先端に形成されたイニシャルボール33が電極パッド40と接続する。尚、捨てボンディング領域11にボールボンディングを行う一方で、ノズル20(図2(B)参照)から開口部15内へと不活性ガスが吹き込まれ、また、形成部32の貫通孔35へと不活性ガスが吹き込まれる。そして、搭載部2へワイヤーボンディングを行う際には、キャピラリ23の周辺領域は、不活性ガスの雰囲気により満たされた状態であり、銅線21が酸化し難い状態となる。
次に、図5(C)に示す如く、ワイヤークランパー27が開放された状態にて、一定のループを描きながらキャピラリ23がリード7上面に移動する。そして、ワイヤークランパー27にて銅線21を挟持した後、キャピラリ23がリード7上に下降し、銅線21をリード7上面に押し付ける。そして、超音波振動併用の熱圧着技術により銅線21がリード7と接続し、切断されることで、電極パッド40とリード7とが銅線41により接続される。その後、キャピラリ23が上昇し、形成部32の貫通孔35内へと戻り、イニシャルボールとなる長さの銅線21がキャピラリ23の先端から導出し、前述したようにイニシャルボール33へと加工される。
その後、リードフレーム1の全ての搭載部2に対して前述したワイヤーボンディング作業が繰り返される。
次に、図6(A)に示す如く、複数の銅線38(図5(A)参照)がボールボンディングされているリードフレーム1の捨てボンディング領域11を打ち抜いた後、リードフレーム1上の集合ブロック毎に樹脂モールドし、共通の樹脂パッケージ42を形成する。例えば、リードフレーム1の裏面側に樹脂モールド用のシート43を樹脂性接着材等により貼り合せた後、リードフレーム1を樹脂封止金型内に配置する。そして、樹脂封止金型内に絶縁性樹脂を充填することで、集合ブロック毎に共通の樹脂パッケージ42を形成する。前述したように、共通の樹脂パッケージ42を形成する前に捨てボンディング領域11を打ち抜くことで、樹脂封止金型内にリードフレーム1を配置する際に、銅線38がリードフレーム1上から剥離し、搭載部2側へと飛散することが防止される。
次に、図6(B)に示す如く、リードフレーム1から搭載部2毎に共通の樹脂パッケージ42を切断して、個々の樹脂パッケージに個片化する。切断にはダイシング装置のダイシングブレード44を用い、ダイシングライン45に沿って共通の樹脂パッケージ42とリードフレーム1とを同時にダイシングする。このとき、シート43は、その一部のみが切断されることで、個片化された個々の樹脂パッケージはシート43上に支持される。
最後に、図7(A)〜(C)を用いて前述した製造方法により形成される半導体装置について説明する。尚、以下の説明では、図1〜図6を用いて説明した構成部材と同じ構成部材には同一の符番を付し、その説明を参照する。
図7(A)に示す如く、半導体装置51は、例えば、MAP(Matrix Array Packaging metod)方式の樹脂パッケージ52から成る。前述したように、例えば、4つの搭載部2から成る共通の樹脂パッケージ52をダイシングにより個片化するため、樹脂パッケージ52の側面53からリード7が露出する。そして、リード7の露出面は、樹脂パッケージ52の側面53と、実質、同一面を形成する。
図7(B)に示す如く、樹脂パッケージ52の裏面54にはアイランド5が露出し、アイランド5の露出面は、樹脂パッケージ52の裏面54と、実質、同一面を形成する。
図7(C)は図7(B)に示す樹脂パッケージ52のA−A線方向の断面図を示すが、アイランド5上には、例えば、Agペースト、半田等の接着材55により半導体素子12が固着される。半導体素子12の電極パッド40(図5(C)参照)とリード7とは銅線41により電気的に接続される。そして、銅線41は、例えば、径が33〜50μm、99.9〜99.99wt%の銅から成る。
尚、本実施の形態では、ノズル20の外周にヒーターコイル22を巻き付けることで、ノズル20内を加熱し、ノズル20を通過する不活性ガスを加熱する場合について説明したが、この場合に限定するものではない。例えば、既に加熱された不活性ガスをガス配管28から供給される場合でも良い。また、耐熱性のガスホース30を用い、ガスホース30の中間部に不活性ガスの加熱機構を配置する場合でも良い。つまり、ノズル20の先端から加熱された不活性ガスが供給される加熱機構を有していれば良く、その加熱機構を有することで、前述した効果と同様な効果が得られる。あるいは、ランプ加熱機構を用い、電極パッドの温度が、ワイヤーボンディング作業に適した温度へと維持される場合でも、前述した効果と同様な効果が得られる。
また、捨てボンディング領域11が、リードフレーム1のスリット3の上方または下方領域やスリット3間に配置される場合について説明したが、この場合に限定するものではない。例えば、リードフレーム1の進行方向の先端領域に捨てボンディング領域11が配置され、捨てボンディング領域11の後方に前述した複数の搭載部2が配置される場合でも良い。この場合でも、酸化の恐れがある部分の銅線21が、捨てボンディング領域11にワイヤーボンディングされることで、搭載部2側での接続不良が抑止される。
あるいは、図1(A)に示すリードフレーム1の先端(最初にワイヤーボンディング装置に送り込まれる先端)に位置する搭載部2を捨てボンディング領域として用いる場合でも良い。この場合には、クランパー14の開口部は、開口部15のみで対応することが可能となる。また、捨てボンディング領域が広がることで、ボールボンディングとステッチボンディングを組み合わせることで、酸化の恐れがある部分の銅線21の使用が早まり、捨てボンディング時間が短縮される。
あるいは、クランパー14の表面側、または、クランパー14の周囲に捨てボンディングを行うためのフレーム(例えば、Cuフレーム)の設置領域を設け、そのフレームに対して捨てボンディングを行う場合でも良い。この場合には、実際にリードフレーム1が移動する領域外にて捨てボンディングが行われることで、捨てボンディングされた銅線が、リードフレーム1上へと飛散することが防止される。また、捨てボンディング後に、そのフレームが取り替えられる機構を設けることで、前述したリードフレーム1上への飛散が確実に防止される。また、フレームの設置領域近傍に吸引ノズル等の飛散防止機構を設けることで、前述したリードフレーム1上への飛散が防止される。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
1 リードフレーム
2 搭載部
5 アイランド
7 リード
11 捨てボンディング領域
12 半導体素子
14 クランパー
15、16 開口部
20 ノズル
21 銅線
22 ヒーターコイル
23 キャピラリ
32 形成部
33 イニシャルボール
2 搭載部
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12 半導体素子
14 クランパー
15、16 開口部
20 ノズル
21 銅線
22 ヒーターコイル
23 キャピラリ
32 形成部
33 イニシャルボール
Claims (8)
- アイランドと、前記アイランドの周囲に配置された複数のリードと、前記アイランドから延在された吊りリードとを有する搭載部が形成されたリードフレームを準備し、
前記アイランド上に半導体素子を固着し、前記半導体素子の電極パッドと前記リードとを銅線によりワイヤーボンディングした後、前記搭載部を樹脂で被覆し、樹脂パッケージを形成する半導体装置の製造方法において、
前記ワイヤーボンディングを行うワイヤーボンディング装置に内蔵された加熱機構により前記アイランド側から前記電極パッドを加熱し、且つ、前記電極パッドの上方から加熱された不活性ガスを前記ワイヤーボンディング領域に供給することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記ワイヤーボンディング領域の上方に前記不活性ガスを供給するノズルが配置され、前記ノズルの外周にはヒーターコイルが巻き付けられ、前記不活性ガスは、前記ノズルを通過する際に前記ヒーターコイルにより加熱されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記搭載部近傍に配置された前記リードフレームの捨てボンディング領域に対してワイヤーボンディングを行った後、連続して前記搭載部の前記電極パッドと前記リードとを前記銅線によりワイヤーボンディングすることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記捨てボンディング領域へのワイヤーボンディング作業は、前記ワイヤーボンディングを行うワイヤーボンディング装置の稼動時または再稼動時の最初に行われることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記捨てボンディング領域へのワイヤーボンディング作業は、前記ワイヤーボンディング装置の稼動時または再稼動時前に前記ワイヤーボンディング装置外へと配置されていた前記銅線が使用されるまで行われることを特徴とする請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記リードフレームの捨てボンディング領域は、前記樹脂パッケージを形成する工程前に打ち抜かれることを特徴とする請求項3または請求項4に記載の半導体装置の製造方法。
- リードフレームが配置される載置台と、前記載置台上を覆い、前記リードフレームの搭載部が露出する開口部が設けられたクランパーと、前記クランパーの上方に配置されるキャピラリとを有するワイヤーボンディング装置において、
前記載置台には前記リードフレームを加熱する加熱機構が内蔵され、前記開口部近傍には加熱された不活性ガスを前記開口部内へと供給するノズルが配置されることを特徴とするワイヤーボンディング装置。 - 前記ノズルの外周にはヒーターコイルが巻き付けられ、前記不活性ガスは、前記ノズルを通過する際に前記ヒーターコイルにより加熱されることを特徴とする請求項7に記載のワイヤーボンディング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010106602A JP2011238663A (ja) | 2010-05-06 | 2010-05-06 | 半導体装置の製造方法、ワイヤーボンディング装置 |
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JP2010106602A Pending JP2011238663A (ja) | 2010-05-06 | 2010-05-06 | 半導体装置の製造方法、ワイヤーボンディング装置 |
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JP (1) | JP2011238663A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102233338B1 (ko) * | 2020-10-12 | 2021-03-29 | 주식회사 저스템 | 플립칩 본딩 산화 방지 장치 |
-
2010
- 2010-05-06 JP JP2010106602A patent/JP2011238663A/ja active Pending
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