JP2011232354A - 校正用標準部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光学的回折角測定が可能な回折格子パターンに座標位置を表すマークパターンを混在させ、かつ回折格子配列周囲に十字マークパターンを含んだダミーパターンを配置させることで本標準部材の作製および実現が可能となる。
【効果】 回折格子座標位置を示すマークを回折格子近傍に配置させることにより、校正に用いる回折格子位置の確認が容易になる。また、回折格子配列周囲に十字マークパターンを含んだダミーパターンを配置させることにより回折格子配列内の近接効果の差異の無い均一な回折格子パターンが実現できる。更に、十字マークを回折格子配列に隣接して配置できるので高精度な回折格子位置決めが実現できる標準部材を用いることにより高精度かつ容易な回折格子位置決め校正が可能となり次世代半導体加工に対応した高精度測長校正が実現できる。
【選択図】 図6
Description
次に、図6(a)(b)に示した標準部材の作製方法について述べる。まずシリコン基板上にレジストを塗布する。次に図7に示した開口16、17を有するステンシルマスクを搭載した電子ビーム一括露光装置を用いて、校正用パターン開口17を選択して露光する。次に、図1(a)(b)及び図2に示すように、回折格子単位パターンが露光された位置の側部に矩形開口16を用いて、標識の数字を対応する単位パターン毎に露光する。また単位パターンの左側に凸型マークを電子ビーム可変成形法で露光する。
すなわち光学的計測でレーザ光を上記回折格子に照射してその回折光の角度からピッチ寸法を求めるが、近接効果補正用の形成パターンが一次元回折格子単位のピッチ寸法の整数倍に対応する周期的な配列を含むと近接効果補正用の形成パターンにもレーザ光が照射されるのでこれらの近接効果補正用の形成パターンが回折格子単位のピッチ寸法の整数倍に対応する周期的な配列を含むと回折格子からの回折光の近傍に周期的な配列からの回折光が発生し、ピッチ寸法の測定における回折光の角度の測定誤差となるからである。
Claims (2)
- 半導体基板上に二次元配置された複数の回折格子単位を備える校正用標準部材において、
全ての前記複数の回折格子単位は、波長が絶対寸法として保証されている光学的計測によりピッチ寸法の絶対寸法が求められているピッチ間隔を置いて形成された複数の溝を備え、
前記回折格子単位は前記基板上に周期的に配置され、
前記回折格子単位内の溝パターンの溝が並ぶ配列ピッチに平行な方向に存在する回折格子単位の配列ピッチが、前記回折格子単位内の溝パターンの配列ピッチ寸法の整数倍であり、
前記二次元配置された全ての前記回折格子単位の側部に形成された、前記回折格子単位の前記二次元配置内での位置情報を有する標識とを備え、
前記標識は、当該配列の縦または横方向の配列座標を示す数字を含み、
前記標識の寸法が、前記複数の溝のピッチ寸法よりも大きなことを特徴とする校正用標準部材。 - 請求項1に記載の校正用標準部材において、
前記標識は、記号を含むことを特徴とする校正用標準部材。
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