JP2011223088A - Imaging apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imaging apparatus in which temperature-measuring means is disposed easily and imaging can be performed while determining an amount of dark signals accurately.SOLUTION: A temperature sensor 10 is disposed on a base plate 41 on which an X-ray conversion layer 23, and the like, are held, and the temperature sensor 10 obtains in-plane distribution information about a temperature around the X-ray conversion layer 23 by measuring the temperature around the X-ray conversion layer 23 a plurality of times. Therefore, the temperature can be determined accurately even in a region remote from a place where the temperature sensor 10 is provided, and a function for calculating the amount of dark signals can determine the amount of dark signals accurately based on the correlation between the amount of dark signals and the in-plane distribution information about the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the amount of dark signals is obtained, and the in-plane distribution information about the temperature around the X-ray conversion layer 23 measured by the temperature sensor 10.

Description

この発明は、医療分野、工業分野、さらには原子力分野などに用いられる撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging apparatus used in the medical field, the industrial field, the nuclear field, and the like.

電荷情報に基づいて画像を得る撮像装置についてX線を入射して電荷情報に変換する場合を例に採って説明する。撮像装置は、X線感応型のX線変換層を備えており、X線の入射によりX線変換層はキャリア(電荷情報)に変換する。X線変換層としてはCdTe膜が用いられる。   An imaging device that obtains an image based on charge information will be described taking an example in which X-rays are incident and converted into charge information. The imaging apparatus includes an X-ray sensitive X-ray conversion layer, and the X-ray conversion layer converts into carriers (charge information) by the incidence of X-rays. A CdTe film is used as the X-ray conversion layer.

また、撮像装置は、X線変換層で変換されたキャリアを蓄積して読み出す回路を備えている。この回路は、図11に示すように、2次元状に配列した複数のゲートラインGおよびデータラインDで構成されているとともに、キャリアを蓄積するコンデンサCaおよびそのコンデンサCaに蓄積されたキャリアをON/OFFの切り換えで読み出す薄膜トランジスタ(TFT)Trを2次元状に配列して構成されている。ゲートラインGは、各々の薄膜トランジスタTrのON/OFF切り換えを制御し、かつ各々の薄膜トランジスタTrのゲートに電気的に接続されている。データラインDは、薄膜トランジスタTrの読み出し側に電気的に接続されている。   In addition, the imaging device includes a circuit that accumulates and reads out carriers converted by the X-ray conversion layer. As shown in FIG. 11, this circuit is composed of a plurality of gate lines G and data lines D arranged two-dimensionally, and turns on a capacitor Ca for accumulating carriers and a carrier accumulated in the capacitor Ca. Thin film transistors (TFTs) Tr that are read out by switching between / OFF are arranged in a two-dimensional manner. The gate line G controls ON / OFF switching of each thin film transistor Tr and is electrically connected to the gate of each thin film transistor Tr. The data line D is electrically connected to the reading side of the thin film transistor Tr.

各々のコンデンサCaや各々の薄膜トランジスタTrなどで各検出素子を構成しており、ゲートラインGを選択することで、その選択されたゲートラインGに電気的に接続された検出素子を駆動させてキャリアの読み出しを行う。ところで、X線の照射時とは関係なく、X線の非照射時においても暗電流は存在し、非照射時の暗電流がダーク信号(「暗電流信号」とも呼ばれる)として読み出される。従来、X線変換層の温度と関係なくダーク信号を読み出して測定して、そのダーク信号量の減算を行う手法がある(例えば、特許文献1参照)。   Each detection element is constituted by each capacitor Ca, each thin film transistor Tr, and the like. By selecting the gate line G, the detection element electrically connected to the selected gate line G is driven to generate a carrier. Is read out. By the way, regardless of the time of X-ray irradiation, dark current exists even when X-rays are not irradiated, and the dark current at the time of non-irradiation is read as a dark signal (also referred to as “dark current signal”). Conventionally, there is a method of reading out and measuring a dark signal regardless of the temperature of the X-ray conversion layer and subtracting the dark signal amount (see, for example, Patent Document 1).

特開2006−305228号公報JP 2006-305228 A

しかしながら、上述した従来の手法では、X線変換層の温度を測定するためにX線変換層に温度センサを埋め込む必要である。そこで、本発明者らは、国際出願PCT/JP2009/001388の技術を先に提案している。この技術では、図12(a)あるいは図12(b)に示すように、絶縁基板121の表面にキャリア収集電極122,X線変換層123および電圧印加電極124などを順に積層形成した場合において、X線変換層123の温度を測定するために、検出有効エリア(図示省略)から外れた端部において電圧印加電極124に温度センサ110を設けている。そして、この温度センサ110で測定された温度をX線変換層123周辺の温度として、ダーク信号量を求める。   However, in the conventional method described above, it is necessary to embed a temperature sensor in the X-ray conversion layer in order to measure the temperature of the X-ray conversion layer. Therefore, the present inventors have previously proposed the technology of the international application PCT / JP2009 / 001388. In this technique, as shown in FIG. 12A or 12B, when the carrier collection electrode 122, the X-ray conversion layer 123, the voltage application electrode 124, and the like are sequentially stacked on the surface of the insulating substrate 121, In order to measure the temperature of the X-ray conversion layer 123, the temperature sensor 110 is provided on the voltage application electrode 124 at an end portion that is outside a detection effective area (not shown). Then, the dark signal amount is obtained using the temperature measured by the temperature sensor 110 as the temperature around the X-ray conversion layer 123.

しかし、この技術では検出有効エリアに外れた端部で温度センサを設けているのみの構造であるので、X線変換層の温度を正確に求めることはできない。また、検出有効エリアから離れた画素領域での温度では、温度センサで測定された温度と隔たりがあって、当該画素領域のダーク信号量を正確に求めることもできない。したがって、ダーク信号量を減算する補正がうまくいかないという問題点がある。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、温度測定手段を容易に配設して、ダーク信号量を正確に求めて撮像を行うことができる撮像装置を提供することを目的とする。
However, this technique has a structure in which a temperature sensor is provided only at an end portion outside the effective detection area, and thus the temperature of the X-ray conversion layer cannot be accurately obtained. Further, the temperature in the pixel region far from the detection effective area is different from the temperature measured by the temperature sensor, and the dark signal amount in the pixel region cannot be accurately obtained. Therefore, there is a problem that correction for subtracting the dark signal amount does not work.
The present invention has been made in view of such circumstances, and it is an object of the present invention to provide an image pickup apparatus that can easily arrange a temperature measurement means and accurately obtain a dark signal amount to perform image pickup. Objective.

この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、この発明の撮像装置は、光または放射線の入射により前記光または放射線の情報を電荷情報に変換する変換層と、その変換層で変換された電荷情報を蓄積して読み出す蓄積・読み出し回路とを備え、その蓄積・読み出し回路で読み出された電荷情報に基づいて画像を得る撮像装置であって、前記変換層周辺の温度を、変換層周辺にある所定の面内で複数に測定して、変換層周辺の温度に関する面内分布情報を得る温度測定手段と、光または放射線の非照射時の電荷と等価なダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときの変換層周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および前記温度測定手段で測定された変換層周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、前記ダーク信号量を求めるダーク信号量算出手段と、そのダーク信号量算出手段で求められた前記ダーク信号量に基づいて照射時の電荷情報を補正する補正手段とを備えることを特徴とするものである。
In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration.
That is, an imaging device according to the present invention includes a conversion layer that converts light or radiation information into charge information upon incidence of light or radiation, and a storage / readout circuit that stores and reads out charge information converted by the conversion layer. An imaging device that obtains an image based on charge information read by the storage / readout circuit, and measures a plurality of temperatures around the conversion layer in a predetermined plane around the conversion layer A temperature measuring means for obtaining in-plane distribution information relating to the temperature around the conversion layer; a dark signal amount equivalent to a charge when no light or radiation is irradiated; and a temperature around the conversion layer when the dark signal amount is obtained. Based on the correlation with the in-plane distribution information and the in-plane distribution information regarding the temperature around the conversion layer measured by the temperature measuring unit, the dark signal amount calculating means for obtaining the dark signal amount, Is characterized in further comprising a correction means for correcting the charge information at the time of irradiation based on the dark signal amount obtained using the clock signal amount calculating means.

[作用・効果]この発明の撮像装置によれば、変換層の温度の替わりに、変換層周辺の温度を用いることで、温度測定手段を変換層以外の箇所で容易に配設することができる。また、変換層周辺の温度を、変換層周辺にある所定の面内で複数に測定して、変換層周辺の温度に関する面内分布情報を温度測定手段は得るので、温度測定手段が設けられた箇所から離れた領域においても温度を正確に求めることができる。したがって、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときの変換層周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および温度測定手段で測定された変換層周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、ダーク信号量算出手段はダーク信号量を正確に求めることができる。以上をまとめると、温度測定手段を容易に配設して、ダーク信号量を正確に求めて撮像を行うことができる。   [Operation / Effect] According to the imaging apparatus of the present invention, the temperature measuring means can be easily disposed at a place other than the conversion layer by using the temperature around the conversion layer instead of the temperature of the conversion layer. . In addition, the temperature measurement means is provided because the temperature measurement means obtains in-plane distribution information relating to the temperature around the conversion layer by measuring the temperature around the conversion layer in a plurality of predetermined planes around the conversion layer. The temperature can be accurately obtained even in a region away from the location. Therefore, the correlation between the dark signal amount and the in-plane distribution information about the temperature around the conversion layer when the dark signal amount is obtained, and the in-plane distribution information about the temperature around the conversion layer measured by the temperature measuring means Based on this, the dark signal amount calculation means can accurately determine the dark signal amount. To summarize the above, it is possible to easily arrange the temperature measuring means and accurately obtain the dark signal amount to perform imaging.

上述した発明において、上述の相関関係を予め記憶した相関関係記憶手段を備えるのが好ましい。相関関係については、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときの変換層周辺の温度に関する面内分布情報とをそれぞれ対応づけたテーブルであってもよいし、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときの変換層周辺の温度に関する面内分布情報とに関する近似式をプログラミング化してもよい。   In the above-described invention, it is preferable to provide correlation storage means for storing the above-described correlation in advance. The correlation may be a table in which the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the conversion layer when the dark signal amount is obtained, or the dark signal amount and the dark signal. An approximate expression related to the in-plane distribution information related to the temperature around the conversion layer when the quantity is obtained may be programmed.

上述したこれらの発明において、温度測定手段が設けられていない箇所での温度を、温度測定手段が設けられた箇所での温度を用いて補間する温度補間手段を備えるのが好ましい。面内に設けられるべき温度測定手段の数を減らしつつ、温度補間手段によって温度を補間することで温度を正確に求めることができる。   In these inventions described above, it is preferable to include temperature interpolation means for interpolating the temperature at the location where the temperature measurement means is not provided using the temperature at the location where the temperature measurement means is provided. The temperature can be accurately obtained by interpolating the temperature with the temperature interpolation means while reducing the number of temperature measurement means to be provided in the plane.

上述したこれらの発明において、上述の相関関係は、ダーク信号量と変換層周辺の温度に関する面内分布情報とに関する近似式であって、その近似式で用いられる係数に関する面内分布情報を記憶する係数面内分布情報記憶手段を備えてもよい。近似式で用いられる係数も面内で一様でなく、面内でバラツキがある。したがって、面内で近似式の特性もバラツキがある。そこで、係数に関する面内分布情報を記憶する係数面内分布情報記憶手段を備えることで、近似式の特性が面内でバラツキがあってもダーク信号量をより一層正確に求めることができる。なお、上述の相関関係記憶手段と同様に、面内の各々の箇所と当該箇所での係数とをそれぞれ対応づけたテーブルであってもよい。   In the above-described inventions, the above correlation is an approximate expression related to the dark signal amount and the in-plane distribution information related to the temperature around the conversion layer, and stores the in-plane distribution information related to the coefficients used in the approximate expression. Coefficient in-plane distribution information storage means may be provided. The coefficients used in the approximate expression are not uniform in the plane, and there are variations in the plane. Therefore, the characteristics of the approximate expression also vary within the plane. Therefore, by providing the coefficient in-plane distribution information storage means for storing the in-plane distribution information regarding the coefficients, the dark signal amount can be determined more accurately even if the characteristics of the approximate expression vary in the plane. Note that, similarly to the above-described correlation storage unit, a table in which each location in the plane is associated with a coefficient at the location may be used.

上述したこれらの発明において、変換層の光または放射線の入射側とは逆側に設けられた構造物に温度測定手段を配設してもよいし、変換層の光または放射線の入射側に設けられた構造物に温度測定手段を配設してもよい。もちろん、前者のように、入射側とは逆側に設けられた構造物に温度測定手段を配設するとともに、後者のように、変換層の光または放射線の入射側に設けられた構造物に温度測定手段を配設して、前者と後者とを組み合わせてもよい。   In these inventions described above, the temperature measuring means may be disposed on the structure provided on the side opposite to the light or radiation incident side of the conversion layer, or provided on the light or radiation incident side of the conversion layer. A temperature measuring means may be provided in the structure. Of course, the temperature measuring means is disposed on the structure provided on the opposite side to the incident side as in the former, and the structure provided on the light or radiation incident side of the conversion layer as in the latter. A temperature measuring means may be provided to combine the former and the latter.

前者のように、入射側とは逆側に設けられた構造物に温度測定手段を配設する場合には、温度測定手段が光または放射線の入射の妨げにならないので、温度測定手段を任意の箇所に設けることができる。したがって、構造物の光または放射線の検出有効エリアにも温度測定手段を配設してもよい。このように検出有効エリアにも温度測定手段を配設することで、検出有効エリアでの温度も正確に求めることができ、検出有効エリアでのダーク信号量を正確に求めることができる。   As in the former case, when the temperature measuring means is disposed on the structure provided on the opposite side to the incident side, the temperature measuring means does not hinder the incidence of light or radiation. It can be provided at a location. Therefore, temperature measuring means may be disposed also in the effective detection area of light or radiation of the structure. As described above, by arranging the temperature measuring means also in the effective detection area, the temperature in the effective detection area can be accurately determined, and the dark signal amount in the effective detection area can be accurately determined.

入射から見たときの温度測定手段の配設の例は上述の通りであるが、入射以外の具体的な構造物から見たときの温度測定手段の配設の例は下記の通りである。   An example of the arrangement of the temperature measuring means when viewed from the incident is as described above, but an example of the arrangement of the temperature measuring means when viewed from a specific structure other than the incident is as follows.

すなわち、変換層および蓄積・読み出し回路を保持する保持部材を備え、その保持部材に温度測定手段を配設してもよい。通常、保持部材は、入射側とは逆側に設けられる場合が多いので、保持部材の検出有効エリアにも温度測定手段を配設することが可能である。もちろん、保持部材の方から光または放射線を入射する場合においても適用することは可能である。   That is, a holding member that holds the conversion layer and the storage / readout circuit may be provided, and temperature measuring means may be provided on the holding member. Usually, since the holding member is often provided on the side opposite to the incident side, it is possible to dispose the temperature measuring means also in the detection effective area of the holding member. Of course, the present invention can also be applied when light or radiation is incident from the holding member.

また、蓄積・読み出し回路をパターン形成する基板を備え、その基板に温度測定手段を配設してもよい。もちろん、上述の保持部材と組み合わせて、保持部材に温度測定手段を配設するとともに、基板に温度測定手段を配設してもよい。   Further, a substrate for patterning the storage / readout circuit may be provided, and temperature measuring means may be provided on the substrate. Of course, in combination with the above-described holding member, the temperature measuring means may be provided on the holding member and the temperature measuring means may be provided on the substrate.

また、バイアス電圧を印加する電圧印加電極を備え、その電圧印加電極に温度測定手段を配設してもよい。もちろん、上述の保持部材あるいは基板と組み合わせて、保持部材に温度測定手段を配設、あるいは基板に温度測定手段を配設するとともに、電圧印加電極に温度測定手段を配設してもよい。   In addition, a voltage application electrode for applying a bias voltage may be provided, and a temperature measuring unit may be provided on the voltage application electrode. Of course, in combination with the above-described holding member or substrate, temperature measuring means may be provided on the holding member, or temperature measuring means may be provided on the substrate, and temperature measuring means may be provided on the voltage application electrode.

また、変換層および蓄積・読み出し回路を絶縁物で封止し、その封止した絶縁物に温度測定手段を配設してもよい。もちろん、上述の保持部材、基板あるいは電圧印加電極と組み合わせて、保持部材に温度測定手段を配設、基板に温度測定手段を配設、あるいは電圧印加電極に温度測定手段を配設するとともに、絶縁物に温度測定手段を配設してもよい。   Alternatively, the conversion layer and the storage / readout circuit may be sealed with an insulator, and temperature measuring means may be disposed on the sealed insulator. Of course, in combination with the above-described holding member, substrate, or voltage application electrode, the temperature measurement means is arranged on the holding member, the temperature measurement device is arranged on the substrate, or the temperature measurement means is arranged on the voltage application electrode, and also insulated. The object may be provided with temperature measuring means.

この発明に係る撮像装置によれば、変換層周辺の温度を、変換層周辺にある所定の面内で複数に測定して、変換層周辺の温度に関する面内分布情報を温度測定手段は得るので、温度測定手段が設けられた箇所から離れた領域においても温度を正確に求めることができ、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときの変換層周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および温度測定手段で測定された変換層周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、ダーク信号量算出手段はダーク信号量を正確に求めることができる。その結果、温度測定手段を容易に配設して、ダーク信号量を正確に求めて撮像を行うことができる。   According to the imaging device of the present invention, the temperature measurement unit obtains in-plane distribution information related to the temperature around the conversion layer by measuring the temperature around the conversion layer in a plurality of areas within a predetermined plane around the conversion layer. The temperature can be accurately obtained even in a region away from the place where the temperature measuring means is provided, and the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the conversion layer when the dark signal amount is obtained. Based on the correlation and the in-plane distribution information regarding the temperature around the conversion layer measured by the temperature measuring unit, the dark signal amount calculating unit can accurately determine the dark signal amount. As a result, it is possible to easily arrange the temperature measuring means and accurately obtain the dark signal amount to perform imaging.

各実施例に係るX線撮影装置の概略ブロック図である。It is a schematic block diagram of the X-ray imaging apparatus which concerns on each Example. X線撮影装置のX線変換層周辺の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view around an X-ray conversion layer of an X-ray imaging apparatus. X線撮影装置の電荷電圧変換アンプやA/D変換器の周辺回路図である。2 is a peripheral circuit diagram of a charge-voltage conversion amplifier and an A / D converter of an X-ray imaging apparatus. FIG. 実施例1に係るX線撮影装置のX線変換層および検出素子用回路などをモールド封止した構造の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a structure in which an X-ray conversion layer, a detection element circuit, and the like of an X-ray imaging apparatus according to Embodiment 1 are molded and sealed. 実施例1に係るベース板に温度センサを設けたときの形態である。It is a form when a temperature sensor is provided on the base plate according to the first embodiment. 近似式で用いられる係数に関する面内分布情報を模式的に示したテーブルである。It is the table | surface which showed typically the in-plane distribution information regarding the coefficient used by an approximate expression. 温度補間の説明に供する温度に関する面内分布情報を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the in-plane distribution information regarding the temperature with which it uses for description of temperature interpolation. 実施例2に係るX線撮影装置のX線変換層および検出素子用回路などをモールド封止した構造の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the structure which mold-sealed the X-ray conversion layer of the X-ray imaging apparatus which concerns on Example 2, and the circuit for detection elements. 実施例3に係るX線撮影装置のX線変換層および検出素子用回路などをモールド封止した構造の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the structure which mold-sealed the X-ray conversion layer of the X-ray imaging apparatus which concerns on Example 3, and the circuit for detection elements. 実施例4に係るX線撮影装置のX線変換層および検出素子用回路などをモールド封止した構造の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the structure which mold-sealed the X-ray conversion layer of the X-ray imaging apparatus which concerns on Example 4, the circuit for detection elements, etc. FIG. 従来のX線撮影装置の概略ブロック図である。It is a schematic block diagram of the conventional X-ray imaging apparatus. (a)、(b)は、先に提案された技術のX線撮影装置のX線変換層周辺の概略断面図である。(A), (b) is a schematic sectional drawing of the X-ray conversion layer periphery of the X-ray imaging apparatus of the technique proposed previously.

以下、図面を参照してこの発明の実施例1を説明する。
図1は、実施例1に係るX線撮影装置の概略ブロック図であり、図2は、X線撮影装置のX線変換層周辺の概略断面図であり、図3は、X線撮影装置の電荷電圧変換アンプやA/D変換器の周辺回路図である。後述する実施例2〜4も含めて、本実施例1では、入射する放射線としてX線を例に採って説明するとともに、撮像装置としてX線撮影装置を例に採って説明する。
Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram of the X-ray imaging apparatus according to the first embodiment, FIG. 2 is a schematic cross-sectional view around the X-ray conversion layer of the X-ray imaging apparatus, and FIG. It is a peripheral circuit diagram of a charge-voltage conversion amplifier and an A / D converter. In Example 1, including Examples 2 to 4 described later, X-rays will be described as an example of incident radiation, and an X-ray imaging apparatus will be described as an example of the imaging apparatus.

後述する実施例2〜4も含めて、本実施例1に係るX線撮影装置は、被検体にX線を照射して撮像を行う。具体的には、被検体を透過したX線像がX線変換層(本実施例1ではCdTe膜)上に投影されて、像の濃淡に比例したキャリア(電荷情報)が層内に発生することでキャリアに変換される。   The X-ray imaging apparatus according to the first embodiment including Examples 2 to 4 described later performs imaging by irradiating the subject with X-rays. Specifically, an X-ray image transmitted through the subject is projected onto an X-ray conversion layer (CdTe film in the first embodiment), and carriers (charge information) proportional to the density of the image are generated in the layer. Is converted into a carrier.

X線撮影装置は、図1に示すように、後述するゲートラインGを選択するゲート駆動回路1と、X線変換層23(図2を参照)で変換されたキャリアを蓄積して読み出すことでX線を検出する検出素子用回路2と、その検出素子用回路2で読み出されたキャリアを電圧に変換した状態で増幅する電荷電圧変換アンプ3と、その電荷電圧変換アンプ3で増幅された電圧のアナログ値からディジタル値に変換するA/D変換器4と、そのA/D変換器4でディジタル値に変換された電圧値に対して信号処理を行って画像を得る画像処理部5と、これらの回路1,2や電荷電圧変換アンプ3やA/D変換器4や画像処理部5や後述するメモリ部7やモニタ9などを統括制御するコントローラ6と、処理された画像などを記憶するメモリ部7と、入力設定を行う入力部8と、処理された画像などを表示するモニタ9とを備えている。本明細書では、キャリアや画像などの情報を、画像に関する画像情報とする。X線変換層23は、この発明における変換層に相当し、検出素子用回路2は、この発明における蓄積・読み出し回路に相当する。   As shown in FIG. 1, the X-ray imaging apparatus accumulates and reads out carriers converted by a gate drive circuit 1 that selects a gate line G, which will be described later, and an X-ray conversion layer 23 (see FIG. 2). A detection element circuit 2 that detects X-rays, a charge-voltage conversion amplifier 3 that amplifies the carrier read out by the detection element circuit 2 into a voltage, and the charge-voltage conversion amplifier 3 An A / D converter 4 for converting a voltage analog value into a digital value, and an image processing unit 5 for obtaining an image by performing signal processing on the voltage value converted into a digital value by the A / D converter 4; The controller 6 that controls the circuits 1 and 2, the charge / voltage conversion amplifier 3, the A / D converter 4, the image processing unit 5, the memory unit 7 and the monitor 9 described later, and the processed image are stored. Memory unit 7 and input An input unit 8 which performs a constant, and a monitor 9 for displaying the processed images. In this specification, information such as a carrier and an image is image information related to the image. The X-ray conversion layer 23 corresponds to the conversion layer in the present invention, and the detection element circuit 2 corresponds to the storage / readout circuit in the present invention.

ゲート駆動回路1は複数のゲートラインGに電気的に接続されている。ゲート駆動回路1から各ゲートラインGに電圧を印加することで、後述する薄膜トランジスタ(TFT)TrをONにして後述するコンデンサCaに蓄積されたキャリアの読み出しを開放し、各ゲートラインGへの電圧を停止する(電圧を−10Vにする)ことで、薄膜トランジスタTrをOFFにしてキャリアの読み出しを遮断する。なお、各ゲートラインGに電圧を印加することでOFFにしてキャリアの読み出しを遮断し、各ゲートラインGへの電圧を停止することでONにしてキャリアの読み出しを開放するように、薄膜トランジスタTrを構成してもよい。   The gate drive circuit 1 is electrically connected to a plurality of gate lines G. By applying a voltage from the gate driving circuit 1 to each gate line G, a thin film transistor (TFT) Tr described later is turned on to release reading of carriers accumulated in a capacitor Ca described later, and the voltage applied to each gate line G Is stopped (the voltage is set to −10 V), and the thin film transistor Tr is turned off to block carrier reading. Note that the thin film transistor Tr is turned off by applying a voltage to each gate line G to cut off carrier reading and stopping the voltage to each gate line G to turn on and release carrier reading. It may be configured.

検出素子用回路2は、2次元状に配列した複数のゲートラインGおよびデータラインDで構成されているとともに、キャリアを蓄積するコンデンサCaおよびそのコンデンサCaに蓄積されたキャリアをON/OFFの切り換えで読み出す薄膜トランジスタTrを2次元状に配列して構成されている。ゲートラインGは、各々の薄膜トランジスタTrのON/OFF切り換えを制御し、かつ各々の薄膜トランジスタTrのゲートに電気的に接続されている。データラインDは、薄膜トランジスタTrの読み出し側に電気的に接続されている。   The detection element circuit 2 includes a plurality of gate lines G and data lines D arranged in a two-dimensional manner, and switches the capacitor Ca that accumulates carriers and the carriers accumulated in the capacitor Ca to ON / OFF. The thin film transistors Tr to be read out are arranged in a two-dimensional manner. The gate line G controls ON / OFF switching of each thin film transistor Tr and is electrically connected to the gate of each thin film transistor Tr. The data line D is electrically connected to the reading side of the thin film transistor Tr.

説明の便宜上、後述する実施例2〜4も含めて、本実施例1では、縦・横式2次元マトリックス状配列で10×10個の薄膜トランジスタTrおよびコンデンサCaが形成されているとする。すなわち、ゲートラインGは、10本のゲートラインG1〜G10からなり、データラインDは、10本のデータラインD1〜D10からなる。各ゲートラインG1〜G10は、図1中のX方向に並設された10個の薄膜トランジスタTrのゲートにそれぞれ接続され、各データラインD1〜D10は、図1中のY方向に並設された10個の薄膜トランジスタTrの読み出し側にそれぞれ接続されている。薄膜トランジスタTrの読み出し側とは逆側にはコンデンサCaが電気的に接続されており、薄膜トランジスタTrとコンデンサCaとの個数が一対一に対応する。   For convenience of explanation, it is assumed that 10 × 10 thin film transistors Tr and capacitors Ca are formed in a vertical and horizontal two-dimensional matrix arrangement in the first embodiment, including later-described second to fourth embodiments. That is, the gate line G is composed of ten gate lines G1 to G10, and the data line D is composed of ten data lines D1 to D10. The gate lines G1 to G10 are respectively connected to the gates of ten thin film transistors Tr arranged in parallel in the X direction in FIG. 1, and the data lines D1 to D10 are arranged in parallel in the Y direction in FIG. Each of the ten thin film transistors Tr is connected to the reading side. A capacitor Ca is electrically connected to the side opposite to the reading side of the thin film transistor Tr, and the number of the thin film transistor Tr and the capacitor Ca corresponds one to one.

また、検出素子用回路2は、図2に示すように、検出素子DUが2次元マトリックス状配列で絶縁基板21にパターン形成されている。すなわち、絶縁基板21の表面に、各種真空蒸着法による薄膜形成技術やフォトリソグラフィ法によるパターン技術を利用して、上述したゲートラインG1〜G10およびデータラインD1〜D10を配線し、薄膜トランジスタTr,コンデンサCa,キャリア収集電極22,X線変換層23および電圧印加電極24を順に積層形成することで構成されている。絶縁基板21は、この発明における基板に相当し、電圧印加電極24は、この発明における電圧印加電極に相当する。   In the detection element circuit 2, as shown in FIG. 2, the detection elements DU are patterned on the insulating substrate 21 in a two-dimensional matrix arrangement. That is, the gate lines G1 to G10 and the data lines D1 to D10 described above are wired on the surface of the insulating substrate 21 by using a thin film forming technique by various vacuum deposition methods and a pattern technique by a photolithography method. Ca, the carrier collection electrode 22, the X-ray conversion layer 23, and the voltage application electrode 24 are laminated in order. The insulating substrate 21 corresponds to the substrate in the present invention, and the voltage application electrode 24 corresponds to the voltage application electrode in the present invention.

X線変換層23は、X線感応型の半導体厚膜で形成されており、後述する実施例2〜4も含めて、本実施例1では、CdTe膜で形成されている。X線変換層23は、X線の入射によりX線の情報を電荷情報であるキャリアに変換する。なお、X線変換層23は、X線の入射によりキャリアが生成されるX線感応型の物質であれば、CdTeに限定されない。また、X線以外の放射線(γ線など)を入射して撮像を行う場合には、X線変換層23の替わりに、放射線の入射によりキャリアが生成される放射線感応型の物質を用いてもよい。また、光を入射して撮像を行う場合には、X線変換層23の替わりに、光の入射によりキャリアが生成される光感応型の物質を用いてもよい。   The X-ray conversion layer 23 is formed of an X-ray sensitive semiconductor thick film, and is formed of a CdTe film in the present embodiment 1, including later-described embodiments 2 to 4. The X-ray conversion layer 23 converts X-ray information into carriers as charge information by the incidence of X-rays. The X-ray conversion layer 23 is not limited to CdTe as long as it is an X-ray sensitive material in which carriers are generated by the incidence of X-rays. In addition, when imaging is performed by injecting radiation other than X-rays (such as γ-rays), a radiation-sensitive material that generates carriers by the incidence of radiation may be used instead of the X-ray conversion layer 23. Good. Further, when imaging is performed with light incident, instead of the X-ray conversion layer 23, a photosensitive material that generates carriers by the incidence of light may be used.

キャリア収集電極22は、コンデンサCaに電気的に接続されており、X線変換層23で変換されたキャリアを収集してコンデンサCaに蓄積する。このキャリア収集電極22も、薄膜トランジスタTrおよびコンデンサCaと同様に、縦・横式2次元マトリックス状配列で多数個(本実施例1では10×10個)形成されている。それらキャリア収集電極22,コンデンサCaおよび薄膜トランジスタTrが各検出素子DUとしてそれぞれ分離形成されている。また、電圧印加電極24は、全検出素子DUの共通電極として全面にわたって形成されている。   The carrier collection electrode 22 is electrically connected to the capacitor Ca, collects the carrier converted by the X-ray conversion layer 23 and accumulates it in the capacitor Ca. Similarly to the thin film transistor Tr and the capacitor Ca, a large number (10 × 10 in the first embodiment) of the carrier collection electrodes 22 are formed in a vertical / horizontal two-dimensional matrix arrangement. The carrier collecting electrode 22, the capacitor Ca, and the thin film transistor Tr are separately formed as each detecting element DU. Further, the voltage application electrode 24 is formed over the entire surface as a common electrode of all the detection elements DU.

後述する実施例2〜4も含めて、本実施例1では、その他に、X線変換層23の温度を測定する温度センサ10を備えている。温度センサ10による測定結果をコントローラ6に送り込む。温度センサ10は、この発明における温度測定手段に相当する。   In addition to Example 2-4 mentioned later, in this Example 1, the temperature sensor 10 which measures the temperature of the X-ray conversion layer 23 is provided. The measurement result by the temperature sensor 10 is sent to the controller 6. The temperature sensor 10 corresponds to the temperature measuring means in this invention.

X線変換層23の温度を測定するには、X線変換層23に温度センサを設けずに、X線変換層23周辺にある所定の面内に温度センサ10を設ける。本実施例1では、後述する図4および図5に示すように温度センサ10を設ける。温度センサ10の配設形態については、図4および図5で詳しく後述する。   In order to measure the temperature of the X-ray conversion layer 23, the temperature sensor 10 is provided in a predetermined plane around the X-ray conversion layer 23 without providing the temperature sensor in the X-ray conversion layer 23. In the first embodiment, a temperature sensor 10 is provided as shown in FIGS. 4 and 5 described later. The arrangement of the temperature sensor 10 will be described in detail later with reference to FIGS.

電荷電圧変換アンプ3は、図3に示すように、各々のデータラインD(図3ではD1〜D10)に電気的に接続されたアンプ31と、各々のデータラインDに電気的に接続されたアンプ用コンデンサ32と、データラインD毎のアンプ31およびアンプ用コンデンサ32に電気的に並列に接続されたサンプルホールド33と、データラインD毎のサンプルホールド33に電気的に接続されたスイッチング素子34とを備えている。また、アンプ31と検出素子用回路2のデータラインDの端部とは、スイッチング素子SWを介して、データラインD毎に電気的に接続されている。データラインDに読み出されたキャリアを、スイッチング素子SWがONにして電荷電圧変換アンプ3のアンプ31およびアンプ用コンデンサ32に送り込む。送り込まれたキャリアを、アンプ31およびアンプ用コンデンサ32が電圧に変換した状態で増幅し、増幅された電圧値をサンプルホールド33は所定時間だけ一旦蓄積する。一旦蓄積された電圧値を、スイッチング素子34をONにしてA/D変換器4に送り込み、送り込まれた電圧のアナログ値からディジタル値にA/D変換器4は変換する。   As shown in FIG. 3, the charge-voltage conversion amplifier 3 is electrically connected to each data line D (D1 to D10 in FIG. 3) and electrically connected to each data line D. Amplifier capacitor 32, amplifier 31 for each data line D, sample hold 33 electrically connected in parallel to amplifier capacitor 32, and switching element 34 electrically connected to sample hold 33 for each data line D And. The amplifier 31 and the end of the data line D of the detection element circuit 2 are electrically connected to each data line D via the switching element SW. The carrier read to the data line D is turned on by the switching element SW and sent to the amplifier 31 and the amplifier capacitor 32 of the charge-voltage conversion amplifier 3. The supplied carrier is amplified with the amplifier 31 and the amplifier capacitor 32 converted into a voltage, and the sample hold 33 temporarily accumulates the amplified voltage value for a predetermined time. The voltage value once accumulated is sent to the A / D converter 4 with the switching element 34 turned ON, and the A / D converter 4 converts the analog value of the sent voltage into a digital value.

図1の説明に戻って、画像処理部5は、A/D変換器4でディジタル値に変換された電圧値に対して各種の信号処理を行って画像を求める。コントローラ6は、回路1,2や電荷電圧変換アンプ3やA/D変換器4や画像処理部5や後述するメモリ部7やモニタ9などを統括制御し、本実施例1では(1)X線の非照射時のキャリア(すなわち暗電流)をダーク信号量として取得し、そのダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および温度センサ10で測定されたX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、ダーク信号量を求める機能(ダーク信号量算出の機能)、(2)温度センサ10が設けられていない箇所での温度を、温度センサ10が設けられた箇所での温度を用いて補間する機能(温度補間の機能)および(3)そのダーク信号量算出の機能で求められたダーク信号量に基づいて照射時のキャリア(電荷情報)を補正する機能(補正の機能)をも備えている。画像処理部5およびコントローラ6は、中央演算処理装置(CPU)や、プログラマブルロジックデバイス(FPGA)などの組み合わせで構成されている。コントローラ6は、この発明におけるダーク信号量算出手段,温度補間手段および補正手段に相当する。   Returning to the description of FIG. 1, the image processing unit 5 performs various signal processing on the voltage value converted into a digital value by the A / D converter 4 to obtain an image. The controller 6 comprehensively controls the circuits 1 and 2, the charge / voltage conversion amplifier 3, the A / D converter 4, the image processing unit 5, a memory unit 7 and a monitor 9 which will be described later, and in this embodiment (1) X The carrier (that is, dark current) at the time of non-irradiation of the line is acquired as the dark signal amount, and the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained. Based on the correlation and in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 measured by the temperature sensor 10, a function for obtaining a dark signal amount (a function for calculating a dark signal amount), (2) the temperature sensor 10 The function of interpolating the temperature at the location where the temperature sensor 10 is provided using the temperature at the location where the temperature sensor 10 is provided (temperature interpolation function) and (3) the dark signal obtained by the function of calculating the dark signal amount Key for irradiation based on the amount Also it has a rear function of correcting (charge information) (Function of correction). The image processing unit 5 and the controller 6 are configured by a combination of a central processing unit (CPU) and a programmable logic device (FPGA). The controller 6 corresponds to dark signal amount calculation means, temperature interpolation means, and correction means in the present invention.

メモリ部7は、画像情報などを書き込んで記憶し、コントローラ6からの読み出し指令に応じて画像情報などがメモリ部7から読み出される。メモリ部7は、ROM(Read-only Memory)やRAM(Random-Access Memory)などに代表される記憶媒体などで構成されている。なお、画像情報の書き込みにはRAMが用いられ、例えば制御シーケンスに関するプログラムの読み出しによって制御シーケンスをコントローラ6に実行させる場合には、制御シーケンスに関するプログラムの読み出し専用にはROMが用いられる。本実施例1では、上述の相関関係および温度センサ10で測定されたX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報に基づいてダーク信号量を求め、温度を補間して、照射時のキャリアを補正する制御シーケンスに関するプログラムをメモリ部7に記憶させ、そのプログラムの読み出しによって制御シーケンスをコントローラ6に実行させる。   The memory unit 7 writes and stores image information and the like, and the image information and the like are read from the memory unit 7 in response to a read command from the controller 6. The memory unit 7 includes a storage medium represented by ROM (Read-only Memory), RAM (Random-Access Memory), and the like. Note that a RAM is used for writing image information. For example, when the controller 6 executes the control sequence by reading a program related to the control sequence, a ROM is used exclusively for reading the program related to the control sequence. In the first embodiment, the dark signal amount is obtained based on the above correlation and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 measured by the temperature sensor 10, the temperature is interpolated, and the carrier at the time of irradiation is obtained. Is stored in the memory unit 7 and the control sequence is executed by the controller 6 by reading the program.

その他に、メモリ部7は、上述の相関関係を予め記憶した相関関係メモリ部7aと、後述する下記(1)式の近似式で用いられる係数(ここでは定数α,β)に関する面内分布情報を記憶する係数面内分布情報メモリ部7bとを備えている。相関関係メモリ部7aは、この発明における相関関係記憶手段に相当し、係数面内分布情報メモリ部7bは、この発明における係数面内分布情報記憶手段に相当する。   In addition, the memory unit 7 includes in-plane distribution information regarding the correlation memory unit 7a that stores the above-described correlations in advance, and coefficients (here, constants α and β) used in an approximate expression of the following equation (1). The coefficient in-plane distribution information memory unit 7b is stored. The correlation memory unit 7a corresponds to the correlation storage unit in the present invention, and the coefficient in-plane distribution information memory unit 7b corresponds to the coefficient in-plane distribution information storage unit in the present invention.

入力部8は、マウスやキーボードやジョイスティックやトラックボールやタッチパネルなどに代表されるポインティングデバイス、あるいはボタンやスイッチやレバーなどの入力手段で構成されている。入力部8に入力設定すると、入力設定データがコントローラ6に送り込まれ、入力設定データに基づいて回路1,2や電荷電圧変換アンプ3やA/D変換器4や画像処理部5やメモリ部7やモニタ9などが制御される。   The input unit 8 includes a pointing device represented by a mouse, a keyboard, a joystick, a trackball, a touch panel, or the like, or an input means such as a button, a switch, or a lever. When input is set in the input unit 8, input setting data is sent to the controller 6, and based on the input setting data, the circuits 1, 2, the charge / voltage conversion amplifier 3, the A / D converter 4, the image processing unit 5 and the memory unit 7 And the monitor 9 are controlled.

続いて、本実施例1のX線撮影装置の制御シーケンスについて説明する。電圧印加電極24に高電圧(例えば数10V〜数100V程度)のバイアス電圧Vを印加した状態で、検出対象であるX線を入射させる。 Subsequently, a control sequence of the X-ray imaging apparatus according to the first embodiment will be described. X-rays to be detected are incident on the voltage application electrode 24 with a high voltage (for example, several tens of volts to several hundreds of volts) bias voltage VA applied thereto.

X線の入射によってX線変換層23でキャリアが生成されて、そのキャリアが電荷情報としてキャリア収集電極22を介してコンデンサCaに蓄積される。ゲート駆動回路1の信号(ここではキャリア)読み出し用の走査信号(すなわちゲート駆動信号)によって、対象となるゲートラインGが選択される。後述する実施例2〜4も含めて、本実施例1では、ゲートラインG1,G2,G3,…,G9,G10の順に1つずつ選択されるものとして説明する。また、ゲート駆動回路1からの信号読み出し用の走査信号は、ゲートラインGに電圧(例えば15V程度)を印加する信号である。   Carriers are generated in the X-ray conversion layer 23 by the incidence of X-rays, and the carriers are accumulated in the capacitor Ca through the carrier collection electrode 22 as charge information. A target gate line G is selected by a scanning signal (that is, a gate driving signal) for reading a signal (here, carrier) of the gate driving circuit 1. In the present embodiment 1, including later-described embodiments 2 to 4, description will be made assuming that gate lines G1, G2, G3,..., G9, G10 are selected one by one in order. The scanning signal for reading signals from the gate driving circuit 1 is a signal for applying a voltage (for example, about 15 V) to the gate line G.

ゲート駆動回路1から対象となるゲートラインGを選択して、選択されたゲートラインGに接続されている各薄膜トランジスタTrが選択指定される。この選択指定で選択指定された薄膜トランジスタTrのゲートに電圧が印加されてON状態となる。その選択指定された各薄膜トランジスタTrに接続されているコンデンサCaから蓄積されたキャリアが、選択指定されてON状態に移行した薄膜トランジスタTrを経由して、データラインDに読み出される。すなわち、選択されたゲートラインGに関する検出素子DUが選択指定されて、その選択指定された検出素子DUのコンデンサCaに蓄積されたキャリアが、データラインDに読み出される。   A target gate line G is selected from the gate drive circuit 1, and each thin film transistor Tr connected to the selected gate line G is selected and designated. A voltage is applied to the gate of the thin film transistor Tr selected and designated by this selection designation to turn on. Carriers accumulated from the capacitors Ca connected to the selected and designated thin film transistors Tr are read out to the data line D via the thin film transistors Tr that have been designated and designated to be turned on. That is, the detection element DU related to the selected gate line G is selected and designated, and carriers accumulated in the capacitor Ca of the selected and designated detection element DU are read out to the data line D.

具体的には、データラインDに接続されている電荷電圧変換アンプ3のアンプ31がリセットされて、さらに薄膜トランジスタTrがON状態(すなわちゲートがON)に移行することで、キャリアがデータラインDに読み出され、電荷電圧変換アンプ3のアンプ31およびアンプ用コンデンサ32にて電圧に変換された状態で増幅される。   Specifically, the amplifier 31 of the charge-voltage conversion amplifier 3 connected to the data line D is reset, and the thin film transistor Tr is turned on (that is, the gate is turned on). It is read out and amplified in a state converted into a voltage by the amplifier 31 and the amplifier capacitor 32 of the charge-voltage conversion amplifier 3.

つまり、各検出素子DUのアドレス(番地)指定は、ゲート駆動回路1からの信号読み出し用の走査信号と、データラインDに接続されているアンプ31の選択とに基づいて行われる。   That is, the address (address) designation of each detection element DU is performed based on the scanning signal for signal reading from the gate drive circuit 1 and the selection of the amplifier 31 connected to the data line D.

先ず、ゲート駆動回路1からゲートラインG1を選択して、選択されたゲートラインG1に関する検出素子DUが選択指定されて、その選択指定された検出素子DUのコンデンサCaに蓄積されたキャリアが、全データラインD同時に読み出されて、サンプルホールド後にデータラインD1〜D10の順にA/D変換器4にてディジタル値に変換される。次に、ゲート駆動回路1からゲートラインG2を選択して、同様の手順で、選択されたゲートラインG2に関する検出素子DUが選択指定されて、その選択指定された検出素子DUのコンデンサCaに蓄積されたキャリアが、全データラインD同時に読み出されて、サンプルホールド後にデータラインD1〜D10の順にA/D変換器4にてディジタル値に変換される。残りのゲートラインGについても同様に順に選択することで、2次元状のキャリアを読み出す。   First, the gate line G1 is selected from the gate drive circuit 1, the detection element DU related to the selected gate line G1 is selected and specified, and the carriers accumulated in the capacitor Ca of the selected and specified detection element DU are all stored. Data line D is read out simultaneously, and after sample hold, data lines D1 to D10 are converted into digital values by A / D converter 4 in this order. Next, the gate line G2 is selected from the gate drive circuit 1, and the detection element DU related to the selected gate line G2 is selected and specified in the same procedure, and is stored in the capacitor Ca of the selected detection element DU. All the data lines D are read out simultaneously, and after sample-holding, the data lines D1 to D10 are converted into digital values by the A / D converter 4 in this order. Similarly, the remaining gate lines G are sequentially selected to read out a two-dimensional carrier.

読み出された各キャリアはアンプ31およびアンプ用コンデンサ32で電圧に変換された状態でそれぞれ増幅されて、サンプルホールド33で一旦蓄積されて、A/D変換器4でアナログ値からディジタル値に変換される。このディジタル値に変換された電圧値に基づいて、画像処理部5は各種の信号処理を行って、2次元状の画像を得る。得られた2次元状の画像やキャリアなどに代表される画像情報は、コントローラ6を介してメモリ部7に書き込まれて記憶され、必要に応じてコントローラ6を介してメモリ部7から読み出される。また、画像情報は、コントローラ6を介してモニタ9に表示される。   Each read carrier is amplified in a state of being converted into a voltage by an amplifier 31 and an amplifier capacitor 32, temporarily stored in a sample hold 33, and converted from an analog value to a digital value by an A / D converter 4. Is done. Based on the voltage value converted into the digital value, the image processing unit 5 performs various signal processing to obtain a two-dimensional image. The obtained two-dimensional image and image information represented by a carrier are written and stored in the memory unit 7 via the controller 6 and are read from the memory unit 7 via the controller 6 as necessary. Further, the image information is displayed on the monitor 9 via the controller 6.

次に、温度センサ10の配設形態について、図4および図5を参照して説明する。図4は、実施例1に係るX線撮影装置のX線変換層および検出素子用回路などをモールド封止した構造の概略断面図であって、図5は、実施例1に係るベース板に温度センサを設けたときの形態である。   Next, an arrangement form of the temperature sensor 10 will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a structure in which the X-ray conversion layer, the detection element circuit, and the like of the X-ray imaging apparatus according to the first embodiment are mold-sealed, and FIG. 5 illustrates the base plate according to the first embodiment. It is a form when a temperature sensor is provided.

図2でも述べたように、図4に示すように、検出素子DU(図2を参照)などが2次元マトリックス状配列でパターン形成した絶縁基板21、X線変換層23および電圧印加電極24を順に積層形成している。検出素子用回路2のうちパターン形成(検出素子DUのゲートラインG1〜G10やデータラインD1〜D10や薄膜トランジスタTrやコンデンサCaやキャリア収集電極22など)については図4では図示を省略する。これらのX線変換層23を含んだ検出素子用回路2はフラットパネル型X線検出器(FPD: Flat Panel Detector)とも呼ばれている。   As described in FIG. 2, as shown in FIG. 4, the insulating substrate 21, the X-ray conversion layer 23, and the voltage application electrode 24 on which detection elements DU (see FIG. 2) and the like are patterned in a two-dimensional matrix arrangement They are stacked in order. In the detection element circuit 2, pattern formation (gate lines G1 to G10, data lines D1 to D10, thin film transistors Tr, capacitors Ca, carrier collection electrodes 22 and the like of the detection elements DU) is not shown in FIG. The detection element circuit 2 including these X-ray conversion layers 23 is also called a flat panel X-ray detector (FPD).

図4に示すように、検出素子用回路2を保持するベース板41上に、X線変換層23などをその周囲から取り囲む枠42を取り付け、その枠42によって上部カバーガラス43を支持してFPDを保護している。そして、硬化性合成樹脂を上部カバーガラス43とFPDとのスペースに流し込むことで、X線変換層23や検出素子用回路2などをモールド封止する。符号44は硬化性合成樹脂が流しこまれた樹脂膜であり、符号Aは、電圧印加電極24の形成領域よりも内側の領域の検出有効エリアである。この検出有効エリアAにX線を入射して撮像を行うことで、検出有効エリアA内の画像情報が得られる。ベース板41は、この発明における保持部材に相当し、樹脂膜44は、この発明における絶縁物に相当する。   As shown in FIG. 4, a frame 42 that surrounds the X-ray conversion layer 23 and the like from its periphery is attached on a base plate 41 that holds the detection element circuit 2, and the upper cover glass 43 is supported by the frame 42 to support the FPD. Is protecting. Then, the curable synthetic resin is poured into the space between the upper cover glass 43 and the FPD to mold-seal the X-ray conversion layer 23, the detection element circuit 2, and the like. Reference numeral 44 denotes a resin film in which a curable synthetic resin is poured, and reference numeral A denotes a detection effective area in a region inside the region where the voltage application electrode 24 is formed. Image information in the effective detection area A can be obtained by performing imaging by injecting X-rays into the effective detection area A. The base plate 41 corresponds to the holding member in the present invention, and the resin film 44 corresponds to the insulator in the present invention.

また、ベース板41の材料については、保持可能な材料であれば特に限定されないが、電磁シールドや温度均一化のことを考慮すると、軽量なアルミニウムをベース板41として用いるのが好ましい。また、ベース板41に対して、X線変換層23(例えばCdTe膜)の均熱化のために一定温度を保つ温度調整を行うのが好ましい。温度調整としては例えば水冷やペルチェ素子などを採用する。   The material of the base plate 41 is not particularly limited as long as it is a material that can be held, but it is preferable to use lightweight aluminum as the base plate 41 in consideration of electromagnetic shielding and temperature uniformity. In addition, it is preferable to adjust the temperature of the base plate 41 so as to maintain a constant temperature so as to equalize the X-ray conversion layer 23 (for example, a CdTe film). For temperature adjustment, for example, water cooling or a Peltier element is employed.

図4の構造の場合には、X線が入射するのは上部カバーガラス43側であり、X線は上部カバーガラス43を通ってX線変換層23に入射される。したがって、X線変換層23から見ると、樹脂膜44や電圧印加電極24などはX線変換層23のX線の入射側となり、絶縁基板21やベース板41などはX線変換層23のX線の入射側とは逆側になる。   In the case of the structure of FIG. 4, the X-rays enter the upper cover glass 43 side, and the X-rays enter the X-ray conversion layer 23 through the upper cover glass 43. Accordingly, when viewed from the X-ray conversion layer 23, the resin film 44, the voltage application electrode 24, and the like are on the X-ray incident side of the X-ray conversion layer 23, and the insulating substrate 21, the base plate 41, and the like are It is on the opposite side to the incident side of the line.

本実施例1では、温度測定手段である温度センサ10を配設する箇所を、入射側とは逆側に設けられた構造物とし、その構造物として保持部材であるベース板41を採用する。したがって、ベース板41に温度センサ10を設けることになる。X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得るために、温度センサ10を複数に設ける。図4および図5に示すように、本実施例1では、有効検出エリアA外でX線変換層23の端部付近のベース板41の四隅に温度センサ10を設けるとともに、図5に示すように有効検出エリアA内の中央領域にも温度センサ10を設ける。   In the first embodiment, a place where the temperature sensor 10 that is a temperature measuring unit is disposed is a structure provided on the side opposite to the incident side, and a base plate 41 that is a holding member is used as the structure. Therefore, the temperature sensor 10 is provided on the base plate 41. In order to obtain in-plane distribution information relating to the temperature around the X-ray conversion layer 23, a plurality of temperature sensors 10 are provided. As shown in FIGS. 4 and 5, in the first embodiment, the temperature sensors 10 are provided at the four corners of the base plate 41 near the end of the X-ray conversion layer 23 outside the effective detection area A, and as shown in FIG. The temperature sensor 10 is also provided in the central area in the effective detection area A.

温度センサ10の配設形態については、図4に示すようにベース板41に温度センサ10を埋め込んでもよいし、ベース板41の面(例えば入射側とは逆側の面)に温度センサ10を接着させてもよい。また、温度センサ10を設ける箇所は必ずしも有効検出エリアAの中央領域に限定されず、有効検出エリアAの他の領域に単数あるいは複数の温度センサ10を設けてもよいし、他の領域に加えて中央領域にも温度センサ10を設けてもよい。また、温度センサ10を設けた有効検出エリアA外でも四隅に限定されず、有効検出エリアA外の任意の箇所に温度センサ10を設けてもよいし、任意の箇所に加えて四隅の少なくともいずれかに温度センサ10を設けてもよい。   As for the arrangement form of the temperature sensor 10, as shown in FIG. 4, the temperature sensor 10 may be embedded in the base plate 41, or the temperature sensor 10 is placed on the surface of the base plate 41 (for example, the surface opposite to the incident side). It may be adhered. Further, the location where the temperature sensor 10 is provided is not necessarily limited to the central region of the effective detection area A, and one or more temperature sensors 10 may be provided in other regions of the effective detection area A, or in addition to other regions. The temperature sensor 10 may also be provided in the central region. Further, the temperature sensor 10 is not limited to the four corners outside the effective detection area A where the temperature sensor 10 is provided, and the temperature sensor 10 may be provided at an arbitrary position outside the effective detection area A, and at least one of the four corners in addition to the arbitrary position. A crab temperature sensor 10 may be provided.

次に、一連の制御シーケンスについて、図6および図7を参照して説明する。図6は、近似式で用いられる係数に関する面内分布情報を模式的に示したテーブルであって、図7は、温度補間の説明に供する温度に関する面内分布情報を模式的に示した図である。   Next, a series of control sequences will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is a table schematically showing the in-plane distribution information regarding the coefficients used in the approximate expression, and FIG. 7 is a diagram schematically showing the in-plane distribution information regarding the temperature used for explanation of the temperature interpolation. is there.

主にダーク信号は、X線変換層23の温度変化に依存しないアンプ31のオフセット成分と、X線変換層23の温度変化に依存する変換層リーク成分とで構成される。以下の説明では、ダーク信号については変換層リーク成分のみについて記述するとともに、変換層リーク成分に関する補正について記述する。その他、温度変化に依存しないアンプ31のオフセット成分等に関する補正については、照射時のキャリアからオフセット成分を減算することで既に補正されているものとする。   The dark signal mainly includes an offset component of the amplifier 31 that does not depend on the temperature change of the X-ray conversion layer 23 and a conversion layer leak component that depends on the temperature change of the X-ray conversion layer 23. In the following description, only the conversion layer leak component is described for the dark signal, and correction for the conversion layer leak component is described. In addition, correction regarding the offset component of the amplifier 31 that does not depend on the temperature change is already corrected by subtracting the offset component from the carrier at the time of irradiation.

予め、ベース板41に配設された温度センサ10でX線変換層23周辺の温度を測定しつつ、非照射時のキャリアをダーク信号として読み出して、ダーク信号量を取得する。X線変換層23周辺の温度に対応させて、その温度のときのダーク信号を読み出して、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度とを対応させてプロットする。そのプロットされたグラフから例えば最小自乗法などで近似すると、ダーク信号量(この場合には変換層リーク成分)とX線変換層23周辺の温度との相関関係は、下記(1)式のように表わされる。   While measuring the temperature around the X-ray conversion layer 23 with the temperature sensor 10 disposed on the base plate 41 in advance, the carrier at the time of non-irradiation is read as a dark signal to acquire the dark signal amount. Corresponding to the temperature around the X-ray conversion layer 23, the dark signal at that temperature is read out, and the dark signal amount and the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained are correlated. And plot. When the plotted graph is approximated by, for example, the method of least squares, the correlation between the dark signal amount (in this case, the conversion layer leakage component) and the temperature around the X-ray conversion layer 23 is expressed by the following equation (1). It is expressed in

I=α{exp(β/T)−1} …(1)
ただし、Iはダーク信号量(変換層リーク成分)、α,βは定数、Tは温度[K]である。また、expは指数関数である。定数α,βは、この発明における近似式で用いられる係数に相当する。
I = α {exp (β / T) −1} (1)
However, I is a dark signal amount (conversion layer leak component), α and β are constants, and T is a temperature [K]. Exp is an exponential function. The constants α and β correspond to the coefficients used in the approximate expression in the present invention.

一般的に、装置使用環境の温度は常に変化しており、ダーク信号量の温度変化が画像に現れることにより臨床診断上の問題が生じる。そこで、上述したような(1)式の近似式を求めて、実際の温度を温度センサ10で測定して、その測定されたX線変換層23周辺の温度を(1)式に代入することにより、実際のダーク信号量を求めて、そのダーク信号量を照射時のキャリアから減算することで照射時のキャリアを補正する。   In general, the temperature of the environment in which the apparatus is used is constantly changing, and a clinical diagnosis problem arises when a temperature change of the dark signal amount appears in an image. Therefore, an approximate expression of the expression (1) as described above is obtained, the actual temperature is measured by the temperature sensor 10, and the measured temperature around the X-ray conversion layer 23 is substituted into the expression (1). Thus, the actual dark signal amount is obtained, and the dark signal amount is subtracted from the irradiation carrier to correct the irradiation carrier.

なお、相関関係メモリ部7aには上述の相関関係を予め記憶している。ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報と関する上記(1)式の近似式をプログラミング化して、そのプログラムを相関関係メモリ部7aに記憶する。実際の温度を温度センサ10で測定する際に、そのプログラムをメモリ部7の相関関係メモリ部7aから読み出して、そのプログラムをコントローラ6が実行することで、測定されたX線変換層23周辺の温度を(1)式に代入して、実際のダーク信号量を求めて、そのダーク信号量を照射時のキャリアから減算することで照射時のキャリアを補正する制御シーケンスを行う。また、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報とをそれぞれ対応づけたテーブルを相関関係メモリ部7aに予め記憶してもよい。   The correlation memory unit 7a stores the above correlation in advance. The approximate expression of the above equation (1) relating to the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained is programmed, and the program is stored in the correlation memory unit 7a. To remember. When the actual temperature is measured by the temperature sensor 10, the program is read from the correlation memory unit 7 a of the memory unit 7, and the program is executed by the controller 6, so that the periphery of the measured X-ray conversion layer 23 is measured. A control sequence for correcting the carrier at the time of irradiation is performed by substituting the temperature into the equation (1) to obtain the actual dark signal amount and subtracting the dark signal amount from the carrier at the time of irradiation. Further, a table in which the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained may be stored in the correlation memory unit 7a in advance.

実際の温度は面内で分布しており、各々の箇所ごとにバラツキがある。そこで、上述したように有効検出エリアA外でベース板41の四隅に温度センサ10を設け、有効検出エリアA内の中央領域にも温度センサ10を設けることで、当該四隅および当該中央領域にそれぞれ対応した各々の画素領域における温度をそれぞれ取得して、X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得る。面内分布情報については各々の画素ごとに温度を測定して面内分布情報を取得するのが最も好ましいが、互いに近接する複数の画素を1つの画素領域としてまとめ、各々の画素領域ごとに温度を測定して面内分布情報を取得してもよい。また、後述するように温度補間を行うのであれば、全ての画素領域ごとに温度を測定する必要がなく、例えば、上述したように有効検出エリアA外でベース板41の四隅に温度センサ10を設け、有効検出エリアA内の中央領域に温度センサ10を設けるのみでもよい。   The actual temperature is distributed in the plane, and there is variation at each location. Therefore, as described above, the temperature sensors 10 are provided at the four corners of the base plate 41 outside the effective detection area A, and the temperature sensors 10 are also provided at the central region in the effective detection area A, so that the four corners and the central region are respectively provided. In-plane distribution information relating to the temperature around the X-ray conversion layer 23 is obtained by acquiring the temperature in each corresponding pixel region. For in-plane distribution information, it is most preferable to obtain in-plane distribution information by measuring the temperature for each pixel. However, a plurality of pixels that are close to each other are collected as one pixel area, and the temperature is determined for each pixel area. The in-plane distribution information may be acquired by measuring. If temperature interpolation is performed as described later, it is not necessary to measure the temperature for every pixel region. For example, the temperature sensors 10 are provided at the four corners of the base plate 41 outside the effective detection area A as described above. The temperature sensor 10 may be provided only in the central region within the effective detection area A.

上記(1)式で用いられる定数α,βも温度と同様に面内で一様でなく、各々の箇所ごとにバラツキがある。そこで、予め、各々の画素領域ごとに読み出されたダーク信号と、当該画素領域に対応して測定された温度とを対応させて、上記(1)式を満たすような定数α,βを各々の画素領域ごとに決定する。このように定数α,βを各々の画素領域ごとに決定することで、近似式(ここでは上記(1)式)で用いられる係数(ここでは定数α,β)に関する面内分布情報のテーブルが、図6に示すように得られる(図6中の(α,β)や(α,β)を参照)。この面内分布情報のテーブルを係数面内分布情報メモリ部7bに予め記憶する。 The constants α and β used in the above equation (1) are not uniform within the surface as with the temperature, and there are variations at each location. Accordingly, the constants α and β satisfying the above equation (1) are obtained by associating the dark signal read in advance for each pixel region with the temperature measured corresponding to the pixel region. For each pixel area. Thus, by determining the constants α and β for each pixel region, a table of in-plane distribution information relating to coefficients (here, constants α and β) used in the approximate expression (here, the above expression (1)) is obtained. 6 (see (α 1 , β 1 ) and (α N , β N ) in FIG. 6). This table of in-plane distribution information is stored in advance in the coefficient in-plane distribution information memory unit 7b.

また、温度補間については、上述の相関関係を予め記憶する際にも、実際の温度を測定して、実際のダーク信号量を求めて、そのダーク信号量を照射時のキャリアから減算することで照射時のキャリアを補正する際にも行う。例えば、有効検出エリアA外でベース板41の四隅に設けられた温度センサ10で測定された温度を、図7に示すようにT,T,TおよびTとし、有効検出エリアA内の中央領域に設けられた温度センサ10で測定された温度を、図7に示すようにTとし、温度センサ10が設けられていない箇所(画素領域)での温度をTとしたときに、温度センサ10が設けられた箇所(本実施例1では四隅および中央領域)での温度T,T,T,TおよびTを用いて温度Tを補間する。補間については線形補間などに例示されるように特に限定されない。 As for temperature interpolation, when the above correlation is stored in advance, the actual temperature is measured, the actual dark signal amount is obtained, and the dark signal amount is subtracted from the carrier at the time of irradiation. It is also performed when correcting the carrier during irradiation. For example, the temperatures measured by the temperature sensors 10 provided at the four corners of the base plate 41 outside the effective detection area A are T 1 , T 2 , T 3 and T 4 as shown in FIG. the temperature measured by the temperature sensor 10 provided in a central region of the inner, and T 5 as shown in FIG. 7, when the temperature at the point (pixel region) in which the temperature sensor 10 is not provided to the T X in interpolates the temperature T X using the temperature T 1, T 2, T 3 , T 4 and T 5 in places where the temperature sensor 10 is provided (four corners and the central region in example 1). Interpolation is not particularly limited as exemplified by linear interpolation.

そして、上述の相関関係を予め記憶する際には、当該四隅および当該中央領域にそれぞれ対応した各々の画素領域における温度をそれぞれ取得して、X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得て、温度補間を図7に示すように行うことで全ての画素領域ごとのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得る。予め、各々の画素領域ごとに読み出されたダーク信号と、当該画素領域に対応して測定あるいは補間された温度とを対応させて、上記(1)式を満たすような定数α,βを各々の画素領域ごとにすることで図6に示すような係数(ここでは定数α,β)に関する面内分布情報のテーブルを得る。   When the above correlation is stored in advance, the temperatures in the respective pixel regions respectively corresponding to the four corners and the central region are acquired, and in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 is obtained. Thus, by performing temperature interpolation as shown in FIG. 7, in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 for every pixel region is obtained. The constants α and β satisfying the above equation (1) are obtained by associating the dark signal read in advance for each pixel area with the temperature measured or interpolated corresponding to the pixel area. A table of in-plane distribution information relating to coefficients (here, constants α, β) as shown in FIG. 6 is obtained for each pixel area.

実際の温度を測定して、実際のダーク信号量を求めて、そのダーク信号量を照射時のキャリアから減算することで照射時のキャリアを補正する際にも、当該四隅および当該中央領域にそれぞれ対応した各々の画素領域における温度をそれぞれ取得して、X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得て、温度補間を図7に示すように行うことで全ての画素領域ごとのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得る。面内分布情報のテーブルから得られた各々の画素領域ごとの上記(1)式に各々の画素領域ごとに測定あるいは補間されたX線変換層23周辺の温度をそれぞれ代入することにより、各々の画素領域ごとの実際のダーク信号量を求めて、これらのダーク信号量を照射時のキャリアからそれぞれ減算することで照射時のキャリアを画素領域ごとに補正する。   When measuring the actual temperature, obtaining the actual dark signal amount, and subtracting the dark signal amount from the carrier at the time of irradiation to correct the carrier at the time of irradiation, the four corners and the central region are respectively The temperature in each corresponding pixel region is acquired, the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 is obtained, and the temperature interpolation is performed as shown in FIG. In-plane distribution information relating to the temperature around the line conversion layer 23 is obtained. By substituting the temperature around the X-ray conversion layer 23 measured or interpolated for each pixel area into the above equation (1) for each pixel area obtained from the in-plane distribution information table, The actual dark signal amount for each pixel region is obtained, and the dark signal amount is subtracted from the carrier at the time of irradiation to correct the carrier at the time of irradiation for each pixel region.

上述した本実施例1に係るX線撮影装置によれば、X線変換層23の温度の替わりに、X線変換層23周辺の温度を用いることで、温度センサ10をX線変換層23以外の箇所(本実施例1ではベース板41)で容易に配設することができる。また、X線変換層23周辺の温度を、X線変換層23周辺にある所定の面内(本実施例1ではベース板41)で複数に測定して、X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を温度センサ10は得るので、温度センサ10が設けられた箇所から離れた領域(画素領域)においても温度を正確に求めることができる。したがって、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および温度センサ10で測定されたX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、ダーク信号量算出の機能はダーク信号量を正確に求めることができる。以上をまとめると、温度センサ10を容易に配設して、ダーク信号量を正確に求めて撮像を行うことができる。   According to the X-ray imaging apparatus according to the first embodiment described above, the temperature sensor 10 other than the X-ray conversion layer 23 is used by using the temperature around the X-ray conversion layer 23 instead of the temperature of the X-ray conversion layer 23. (In the first embodiment, the base plate 41) can be easily disposed. Further, the temperature around the X-ray conversion layer 23 is measured in a plurality of areas within a predetermined plane around the X-ray conversion layer 23 (the base plate 41 in the first embodiment), and the temperature around the X-ray conversion layer 23 is related. Since the temperature sensor 10 obtains the in-plane distribution information, the temperature can be accurately obtained even in a region (pixel region) away from the location where the temperature sensor 10 is provided. Therefore, the correlation between the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained, and the temperature around the X-ray conversion layer 23 measured by the temperature sensor 10. Based on the in-plane distribution information regarding the dark signal amount, the dark signal amount calculation function can accurately determine the dark signal amount. In summary, the temperature sensor 10 can be easily disposed, and the dark signal amount can be accurately obtained and imaging can be performed.

温度センサ10を容易に配設することができる具体的な効果について述べる。例えば温度センサ10の設置が容易なX線変換層23周辺の温度を用いることで、温度センサ10の埋め込みなどにかかる温度センサ10の配設のコストダウンを行うことができるという効果を奏する。   A specific effect capable of easily disposing the temperature sensor 10 will be described. For example, by using the temperature around the X-ray conversion layer 23 where the temperature sensor 10 can be easily installed, the cost of disposing the temperature sensor 10 for embedding the temperature sensor 10 can be reduced.

本実施例1では、上述の相関関係を予め記憶した相関関係メモリ部7aに予め記憶している。相関関係については、上述したようにダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報とをそれぞれ対応づけたテーブルであってもよいし、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報とに関する近似式(本実施例1では上記(1)式)をプログラミング化してもよい。   In the first embodiment, the above correlation is stored in advance in the correlation memory unit 7a. The correlation may be a table in which the dark signal amount and the in-plane distribution information related to the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained as described above, An approximate expression (the expression (1) in the first embodiment) relating to the dark signal amount and the in-plane distribution information related to the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained may be programmed.

本実施例1では、好ましくは、温度センサ10が設けられていない箇所での温度(ここではT)を、温度センサ10が設けられた箇所(例えば四隅や中央領域)での温度(ここではT,T,T,TおよびT)を用いて温度補間の機能は補間している。面内に設けられるべき温度センサの数を減らしつつ、温度補間の機能によって温度を補間することで温度を正確に求めることができる。 In the first embodiment, preferably, the temperature (here, T X ) at the location where the temperature sensor 10 is not provided is changed to the temperature (here, the four corners or the central region) where the temperature sensor 10 is provided (here, the center region). T 1, T 2, T 3 , T function of temperature interpolation using 4 and T 5) is interpolated. The temperature can be accurately obtained by interpolating the temperature by the function of temperature interpolation while reducing the number of temperature sensors to be provided in the plane.

本実施例1では、好ましくは、上述の相関関係は、ダーク信号量とX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報とに関する近似式(本実施例1では上記(1)式)であって、その近似式で用いられる係数(本実施例1では定数α,β)に関する面内分布情報を記憶する係数面内分布情報メモリ部7bを備えている。近似式で用いられる係数(定数α,β)も面内で一様でなく、面内でバラツキがある。したがって、面内で近似式の特性もバラツキがある。そこで、係数(定数α,β)に関する面内分布情報を記憶する係数面内分布情報メモリ部7bを備えることで、近似式の特性が面内でバラツキがあってもダーク信号量をより一層正確に求めることができる。本実施例1では、図6に示すように面内の各々の箇所(画素領域)と当該箇所(画素領域)での係数(定数α,β)とをそれぞれ対応づけたテーブルである。   In the first embodiment, preferably, the above-described correlation is an approximate expression (the expression (1) in the first embodiment) regarding the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23. In addition, a coefficient in-plane distribution information memory unit 7b that stores in-plane distribution information related to the coefficients (constants α and β in the first embodiment) used in the approximate expression is provided. The coefficients (constants α, β) used in the approximate expression are not uniform in the plane and vary in the plane. Therefore, the characteristics of the approximate expression also vary within the plane. Therefore, by providing the coefficient in-plane distribution information memory unit 7b for storing the in-plane distribution information regarding the coefficients (constants α, β), the dark signal amount can be more accurately obtained even if the characteristics of the approximate expression vary in the plane. Can be requested. In the first embodiment, as shown in FIG. 6, each location (pixel region) in the plane is associated with coefficients (constants α, β) at the location (pixel region).

本実施例1では、X線変換層23のX線の入射側とは逆側に設けられた構造物(本実施例1ではベース板41)に温度センサ10を配設している。本実施例1のように、入射側とは逆側に設けられた構造物(ベース板41)に温度センサ10を配設する場合には、温度センサ10がX線の入射の妨げにならないので、温度センサ10を任意の箇所に設けることができる。したがって、構造物(ベース板41)のX線の検出有効エリアA(図5の場合には検出有効エリアAの中央領域)にも温度センサ10を配設してもよい。このように検出有効エリアAにも温度センサ10を配設することで、検出有効エリアAでの温度も正確に求めることができ、検出有効エリアAでのダーク信号量を正確に求めることができる。   In the first embodiment, the temperature sensor 10 is disposed on a structure (base plate 41 in the first embodiment) provided on the opposite side of the X-ray conversion layer 23 from the X-ray incident side. When the temperature sensor 10 is disposed on the structure (base plate 41) provided on the side opposite to the incident side as in the first embodiment, the temperature sensor 10 does not hinder the incidence of X-rays. The temperature sensor 10 can be provided at any location. Therefore, the temperature sensor 10 may be arranged also in the X-ray detection effective area A (in the case of FIG. 5, the central area of the detection effective area A) of the structure (base plate 41). By arranging the temperature sensor 10 in the effective detection area A as described above, the temperature in the effective detection area A can be accurately obtained, and the dark signal amount in the effective detection area A can be accurately obtained. .

入射から見たときの温度センサ10の配設の例は上述の通りであるが、入射以外の具体的な構造物から見たときの温度センサ10の配設の例は下記の通りである。   An example of the arrangement of the temperature sensor 10 when viewed from the incident is as described above, but an example of the arrangement of the temperature sensor 10 when viewed from a specific structure other than the incident is as follows.

すなわち、本実施例1では、X線変換層23および検出素子用回路2を保持するベース板41を備え、そのベース板41に温度センサ10を配設している。通常、ベース板41に代表される保持部材は、入射側とは逆側に設けられる場合が多いので、ベース板41の検出有効エリアAにも温度センサ10を配設することが可能である。もちろん、ベース板41に代表される保持部材の方から光または放射線(本実施例1ではX線)を入射する場合においても適用することは可能である。   That is, in the first embodiment, the base plate 41 that holds the X-ray conversion layer 23 and the detection element circuit 2 is provided, and the temperature sensor 10 is disposed on the base plate 41. Usually, since the holding member represented by the base plate 41 is often provided on the opposite side to the incident side, the temperature sensor 10 can be disposed also in the detection effective area A of the base plate 41. Of course, the present invention can also be applied to the case where light or radiation (X-rays in the first embodiment) is incident from the holding member represented by the base plate 41.

次に、図面を参照してこの発明の実施例2を説明する。
図8は、実施例2に係るX線撮影装置のX線変換層および検出素子用回路などをモールド封止した構造の概略断面図である。上述した実施例1と同じ構成については、同じ符号を付してその説明を省略する。
Next, Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view of a structure in which the X-ray conversion layer, the detection element circuit, and the like of the X-ray imaging apparatus according to Embodiment 2 are mold-sealed. About the same structure as Example 1 mentioned above, the same code | symbol is attached | subjected and the description is abbreviate | omitted.

本実施例2に係るX線撮影装置は、上述した実施例1と同じように、ゲート駆動回路1と検出素子用回路2と電荷電圧変換アンプ3とA/D変換器4と画像処理部5とコントローラ6とメモリ部7と入力部8とモニタ9とを備えている。   The X-ray imaging apparatus according to the second embodiment has a gate drive circuit 1, a detection element circuit 2, a charge-voltage conversion amplifier 3, an A / D converter 4, and an image processing unit 5 as in the first embodiment. A controller 6, a memory unit 7, an input unit 8, and a monitor 9.

本実施例2では、上述した実施例1と同じように、温度測定手段である温度センサ10を配設する箇所を、入射側とは逆側に設けられた構造物としている。ただし、上述した実施例1と相違して、本実施例2では、その構造物として絶縁基板21を採用する。したがって、絶縁基板21に温度センサ10を設けることになる。X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得るために、温度センサ10を複数に設ける。図8に示すように、本実施例2では、有効検出エリアA外でX線変換層23の端部付近の絶縁基板21の四隅に温度センサ10を設ける(図8では二隅のみ図示)とともに、有効検出エリアA内の中央領域にも温度センサ10を設ける。   In the second embodiment, as in the first embodiment described above, the place where the temperature sensor 10 serving as the temperature measuring means is disposed is a structure provided on the side opposite to the incident side. However, unlike Example 1 described above, Example 2 employs an insulating substrate 21 as its structure. Therefore, the temperature sensor 10 is provided on the insulating substrate 21. In order to obtain in-plane distribution information relating to the temperature around the X-ray conversion layer 23, a plurality of temperature sensors 10 are provided. As shown in FIG. 8, in Example 2, the temperature sensors 10 are provided at the four corners of the insulating substrate 21 near the end of the X-ray conversion layer 23 outside the effective detection area A (only two corners are shown in FIG. 8). The temperature sensor 10 is also provided in the central region in the effective detection area A.

なお、一連の制御シーケンスについては、上述した実施例1と同じであるので、その説明を省略する。   Since a series of control sequences is the same as that in the first embodiment, the description thereof is omitted.

上述した本実施例2に係るX線撮影装置によれば、X線変換層23周辺の温度を、X線変換層23周辺にある所定の面内(本実施例2では絶縁基板21)で複数に測定して、X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を温度センサ10は得るので、温度センサ10が設けられた箇所から離れた領域(画素領域)においても温度を正確に求めることができ、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および温度センサ10で測定されたX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、ダーク信号量算出の機能はダーク信号量を正確に求めることができる。その結果、上述した実施例1と同様に、温度センサ10を容易に配設して、ダーク信号量を正確に求めて撮像を行うことができる。   According to the X-ray imaging apparatus according to the second embodiment described above, a plurality of temperatures around the X-ray conversion layer 23 can be obtained within a predetermined plane around the X-ray conversion layer 23 (the insulating substrate 21 in the second embodiment). Since the temperature sensor 10 obtains in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23, the temperature can be accurately obtained even in a region (pixel region) away from the location where the temperature sensor 10 is provided. The correlation between the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained, and the vicinity of the X-ray conversion layer 23 measured by the temperature sensor 10 Based on the in-plane distribution information related to temperature, the dark signal amount calculation function can accurately determine the dark signal amount. As a result, similarly to the above-described first embodiment, the temperature sensor 10 can be easily disposed, and the dark signal amount can be accurately obtained and imaging can be performed.

本実施例2では、X線変換層23のX線の入射側とは逆側に設けられた構造物(本実施例2では絶縁基板21)に温度センサ10を配設している。本実施例2のように、入射側とは逆側に設けられた構造物(絶縁基板21)に温度センサ10を配設する場合には、上述した実施例1と同様に、温度センサ10がX線の入射の妨げにならないので、温度センサ10を任意の箇所に設けることができる。したがって、構造物(絶縁基板21))のX線の検出有効エリアA(図8の場合には検出有効エリアAの中央領域)にも温度センサ10を配設してもよい。このように検出有効エリアAにも温度センサ10を配設することで、検出有効エリアAでの温度も正確に求めることができ、検出有効エリアAでのダーク信号量を正確に求めることができる。   In the second embodiment, the temperature sensor 10 is disposed on a structure (insulating substrate 21 in the second embodiment) provided on the opposite side of the X-ray conversion layer 23 from the X-ray incident side. When the temperature sensor 10 is disposed on the structure (insulating substrate 21) provided on the side opposite to the incident side as in the second embodiment, the temperature sensor 10 is provided as in the first embodiment. Since it does not interfere with the incidence of X-rays, the temperature sensor 10 can be provided at an arbitrary location. Therefore, the temperature sensor 10 may be arranged also in the X-ray detection effective area A (in the case of FIG. 8, the central region of the detection effective area A) of the structure (insulating substrate 21). By arranging the temperature sensor 10 in the effective detection area A as described above, the temperature in the effective detection area A can be accurately obtained, and the dark signal amount in the effective detection area A can be accurately obtained. .

本実施例2では、検出素子用回路2をパターン形成する絶縁基板21を備え、その絶縁基板21に温度センサ10を配設している。もちろん、上述した実施例1のベース板41と組み合わせて、ベース板41に温度センサ10を配設するとともに、絶縁基板21に温度センサ10を配設してもよい。   In the second embodiment, an insulating substrate 21 for patterning the detection element circuit 2 is provided, and the temperature sensor 10 is disposed on the insulating substrate 21. Of course, in combination with the base plate 41 of the first embodiment, the temperature sensor 10 may be disposed on the base plate 41 and the temperature sensor 10 may be disposed on the insulating substrate 21.

次に、図面を参照してこの発明の実施例3を説明する。
図9は、実施例3に係るX線撮影装置のX線変換層および検出素子用回路などをモールド封止した構造の概略断面図である。上述した実施例1、2と同じ構成については、同じ符号を付してその説明を省略する。
Next, Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of a structure in which an X-ray conversion layer, a detection element circuit, and the like of the X-ray imaging apparatus according to Embodiment 3 are molded and sealed. The same components as those in the first and second embodiments are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

本実施例3に係るX線撮影装置は、上述した実施例1、2と同じように、ゲート駆動回路1と検出素子用回路2と電荷電圧変換アンプ3とA/D変換器4と画像処理部5とコントローラ6とメモリ部7と入力部8とモニタ9とを備えている。   As in the first and second embodiments, the X-ray imaging apparatus according to the third embodiment includes a gate drive circuit 1, a detection element circuit 2, a charge-voltage conversion amplifier 3, an A / D converter 4, and image processing. A unit 5, a controller 6, a memory unit 7, an input unit 8, and a monitor 9 are provided.

上述した実施例1、2と相違して、本実施例3では、温度測定手段である温度センサ10を配設する箇所を、入射側に設けられた構造物としている。本実施例3では、その構造物として電圧印加電極24を採用する。したがって、電圧印加電極24に温度センサ10を設けることになる。X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得るために、温度センサ10を複数に設ける。図9に示すように、本実施例3では、有効検出エリアA外でX線変換層23の端部付近の電圧印加電極24の四隅に温度センサ10を設ける(図9では二隅のみ図示)。   Unlike the first and second embodiments described above, in the third embodiment, a place where the temperature sensor 10 serving as a temperature measuring unit is disposed is a structure provided on the incident side. In the third embodiment, the voltage application electrode 24 is employed as the structure. Therefore, the temperature sensor 10 is provided on the voltage application electrode 24. In order to obtain in-plane distribution information relating to the temperature around the X-ray conversion layer 23, a plurality of temperature sensors 10 are provided. As shown in FIG. 9, in Example 3, the temperature sensors 10 are provided at the four corners of the voltage application electrode 24 near the end of the X-ray conversion layer 23 outside the effective detection area A (only two corners are shown in FIG. 9). .

なお、一連の制御シーケンスについては、上述した実施例1、2と同じであるので、その説明を省略する。   Note that a series of control sequences is the same as those in the first and second embodiments, and a description thereof will be omitted.

上述した本実施例3に係るX線撮影装置によれば、X線変換層23周辺の温度を、X線変換層23周辺にある所定の面内(本実施例3では電圧印加電極24)で複数に測定して、X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を温度センサ10は得るので、温度センサ10が設けられた箇所から離れた領域(画素領域)においても温度を正確に求めることができ、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および温度センサ10で測定されたX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、ダーク信号量算出の機能はダーク信号量を正確に求めることができる。その結果、上述した実施例1、2と同様に、温度センサ10を容易に配設して、ダーク信号量を正確に求めて撮像を行うことができる。   According to the X-ray imaging apparatus according to the third embodiment described above, the temperature around the X-ray conversion layer 23 is changed within a predetermined plane around the X-ray conversion layer 23 (the voltage application electrode 24 in the third embodiment). Since the temperature sensor 10 obtains in-plane distribution information relating to the temperature around the X-ray conversion layer 23 by measuring a plurality of temperatures, the temperature is accurately obtained even in a region (pixel region) away from the location where the temperature sensor 10 is provided. The correlation between the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained, and the periphery of the X-ray conversion layer 23 measured by the temperature sensor 10 Based on the in-plane distribution information regarding the temperature, the dark signal amount calculation function can accurately determine the dark signal amount. As a result, similar to the first and second embodiments described above, the temperature sensor 10 can be easily disposed, and the dark signal amount can be accurately obtained and imaging can be performed.

本実施例3では、X線変換層23のX線の入射側に設けられた構造物(本実施例3では電圧印加電極24)に温度センサ10を配設している。もちろん、上述した実施例1、2のように、入射側とは逆側に設けられた構造物(実施例1ではベース板41、実施例2では絶縁基板21)に温度センサ10を配設するとともに、本実施例3のように、変換層(各実施例1〜3ではX線変換層23)の光または放射線(各実施例1〜3ではX線)の入射側に設けられた構造物(本実施例3では電圧印加電極24)に温度センサ10を配設して、実施例1、2と本実施例3とを組み合わせてもよい。   In the third embodiment, the temperature sensor 10 is disposed on a structure (the voltage application electrode 24 in the third embodiment) provided on the X-ray incident side of the X-ray conversion layer 23. Of course, as in the first and second embodiments described above, the temperature sensor 10 is disposed on a structure (the base plate 41 in the first embodiment and the insulating substrate 21 in the second embodiment) provided on the side opposite to the incident side. In addition, as in the third embodiment, a structure provided on the light incident side of the conversion layer (X-ray conversion layer 23 in each of the first to third embodiments) or radiation (X-ray in each of the first to third embodiments). The temperature sensor 10 may be disposed on the voltage application electrode 24 (in the third embodiment), and the first and second embodiments may be combined with the third embodiment.

本実施例3では、バイアス電圧を印加する電圧印加電極24を備え、その電圧印加電極24に温度センサ10を配設している。もちろん、上述した実施例1のベース板41あるいは実施例2の絶縁基板21と組み合わせて、ベース板41あるいは絶縁基板21に温度センサ10を配設するとともに、電圧印加電極24に温度センサ10を配設してもよい。ベース板41や絶縁基板21や電圧印加電極24の全てに温度センサ10をそれぞれ配設してもよい。   In the third embodiment, a voltage application electrode 24 for applying a bias voltage is provided, and the temperature sensor 10 is disposed on the voltage application electrode 24. Of course, the temperature sensor 10 is disposed on the base plate 41 or the insulating substrate 21 in combination with the base plate 41 of the first embodiment or the insulating substrate 21 of the second embodiment, and the temperature sensor 10 is disposed on the voltage application electrode 24. You may set up. The temperature sensors 10 may be disposed on all of the base plate 41, the insulating substrate 21, and the voltage application electrode 24, respectively.

次に、図面を参照してこの発明の実施例4を説明する。
図10は、実施例4に係るX線撮影装置のX線変換層および検出素子用回路などをモールド封止した構造の概略断面図である。上述した実施例1〜3と同じ構成については、同じ符号を付してその説明を省略する。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view of a structure in which an X-ray conversion layer, a detection element circuit, and the like of the X-ray imaging apparatus according to Embodiment 4 are molded and sealed. About the same structure as Examples 1-3 mentioned above, the same code | symbol is attached | subjected and the description is abbreviate | omitted.

本実施例4に係るX線撮影装置は、上述した実施例1〜3と同じように、ゲート駆動回路1と検出素子用回路2と電荷電圧変換アンプ3とA/D変換器4と画像処理部5とコントローラ6とメモリ部7と入力部8とモニタ9とを備えている。   In the X-ray imaging apparatus according to the fourth embodiment, the gate drive circuit 1, the detection element circuit 2, the charge-voltage conversion amplifier 3, the A / D converter 4, and the image processing are performed as in the first to third embodiments. A unit 5, a controller 6, a memory unit 7, an input unit 8, and a monitor 9 are provided.

上述した実施例1、2と相違して、本実施例4では、上述した実施例3と同じように、温度測定手段である温度センサ10を配設する箇所を、入射側に設けられた構造物としている。本実施例4では、その構造物として樹脂膜44を採用する。したがって、樹脂膜44に温度センサ10を設けることになる。X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を得るために、温度センサ10を複数に設ける。図10に示すように、本実施例4では、有効検出エリアA外でX線変換層23の端部付近の樹脂膜44の四隅に温度センサ10を設ける(図10では二隅のみ図示)。   Unlike the first and second embodiments described above, in the fourth embodiment, as in the third embodiment described above, a structure in which the temperature sensor 10 serving as a temperature measuring unit is provided on the incident side. It is a thing. In the fourth embodiment, a resin film 44 is employed as the structure. Therefore, the temperature sensor 10 is provided on the resin film 44. In order to obtain in-plane distribution information relating to the temperature around the X-ray conversion layer 23, a plurality of temperature sensors 10 are provided. As shown in FIG. 10, in Example 4, the temperature sensors 10 are provided at the four corners of the resin film 44 near the end of the X-ray conversion layer 23 outside the effective detection area A (only two corners are shown in FIG. 10).

なお、一連の制御シーケンスについては、上述した実施例1〜3と同じであるので、その説明を省略する。   In addition, about a series of control sequences, since it is the same as Examples 1-3 mentioned above, the description is abbreviate | omitted.

上述した本実施例4に係るX線撮影装置によれば、X線変換層23周辺の温度を、X線変換層23周辺にある所定の面内(本実施例4では樹脂膜44)で複数に測定して、X線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報を温度センサ10は得るので、温度センサ10が設けられた箇所から離れた領域(画素領域)においても温度を正確に求めることができ、ダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときのX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および温度センサ10で測定されたX線変換層23周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、ダーク信号量算出の機能はダーク信号量を正確に求めることができる。その結果、上述した実施例1〜3と同様に、温度センサ10を容易に配設して、ダーク信号量を正確に求めて撮像を行うことができる。   According to the X-ray imaging apparatus according to the fourth embodiment described above, a plurality of temperatures around the X-ray conversion layer 23 are set in a predetermined plane around the X-ray conversion layer 23 (resin film 44 in the fourth embodiment). Since the temperature sensor 10 obtains in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23, the temperature can be accurately obtained even in a region (pixel region) away from the location where the temperature sensor 10 is provided. The correlation between the dark signal amount and the in-plane distribution information regarding the temperature around the X-ray conversion layer 23 when the dark signal amount is obtained, and the vicinity of the X-ray conversion layer 23 measured by the temperature sensor 10 Based on the in-plane distribution information related to temperature, the dark signal amount calculation function can accurately determine the dark signal amount. As a result, similarly to the first to third embodiments described above, the temperature sensor 10 can be easily disposed, and the dark signal amount can be accurately obtained and imaging can be performed.

本実施例4では、X線変換層23のX線の入射側に設けられた構造物(本実施例4では樹脂膜44)に温度センサ10を配設している。もちろん、上述した実施例1、2のように、入射側とは逆側に設けられた構造物(実施例1ではベース板41、実施例2では絶縁基板21)に温度センサ10を配設するとともに、上述した実施例3や本実施例4のように、変換層(各実施例1〜4ではX線変換層23)の光または放射線(各実施例1〜4ではX線)の入射側に設けられた構造物(実施例3では電圧印加電極24、本実施例4では樹脂膜44)に温度センサ10を配設して、実施例1、2と実施例3、本実施例4とを組み合わせてもよい。   In the fourth embodiment, the temperature sensor 10 is disposed on a structure (resin film 44 in the fourth embodiment) provided on the X-ray incident side of the X-ray conversion layer 23. Of course, as in the first and second embodiments described above, the temperature sensor 10 is disposed on a structure (the base plate 41 in the first embodiment and the insulating substrate 21 in the second embodiment) provided on the side opposite to the incident side. In addition, as in Example 3 and Example 4 described above, the incident side of light or radiation (X-rays in Examples 1 to 4) of the conversion layer (X-ray conversion layer 23 in Examples 1 to 4). The temperature sensor 10 is disposed on the structure (the voltage application electrode 24 in the third embodiment and the resin film 44 in the fourth embodiment) provided in the first, second, third, fourth, and fourth embodiments. May be combined.

本実施例4では、X線変換層23および検出素子用回路2を絶縁物である樹脂膜44で封止し、その封止した樹脂膜44に温度センサ10を配設している。もちろん、上述した実施例1のベース板41、実施例2の絶縁基板21あるいは実施例3の電圧印加電極24と組み合わせて、ベース板41、絶縁基板21あるいは電圧印加電極24に温度センサ10を配設するとともに、樹脂膜44に温度センサ10を配設してもよい。ベース板41や絶縁基板21や電圧印加電極24や樹脂膜44の全てに温度センサ10をそれぞれ配設してもよい。   In the fourth embodiment, the X-ray conversion layer 23 and the detection element circuit 2 are sealed with a resin film 44 that is an insulator, and the temperature sensor 10 is disposed on the sealed resin film 44. Of course, the temperature sensor 10 is arranged on the base plate 41, the insulating substrate 21 or the voltage applying electrode 24 in combination with the base plate 41 of the first embodiment, the insulating substrate 21 of the second embodiment, or the voltage applying electrode 24 of the third embodiment. In addition, the temperature sensor 10 may be disposed on the resin film 44. The temperature sensors 10 may be disposed on all of the base plate 41, the insulating substrate 21, the voltage application electrode 24, and the resin film 44, respectively.

この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified as follows.

(1)上述した各実施例では、図1に示すようなX線撮影装置を例に採って説明したが、この発明は、例えばC型アームに配設されたX線透視撮影装置にも適用してもよい。また、この発明は、X線CT装置にも適用してもよい。   (1) In each of the above-described embodiments, the X-ray imaging apparatus as shown in FIG. 1 has been described as an example. However, the present invention is also applicable to an X-ray fluoroscopic imaging apparatus disposed on a C-type arm, for example. May be. The present invention may also be applied to an X-ray CT apparatus.

(2)上述した各実施例では、入射したX線に代表される放射線をX線変換層(変換層)によって電荷情報に直接に変換した、「直接変換型」の検出素子用回路をこの発明は適用したが、入射した放射線をシンチレータなどの変換層によって光に変換し、光感応型の物質で形成された変換層によってその光を電荷情報に変換する「間接変換型」の検出素子用回路をこの発明は適用してもよい。   (2) In each of the embodiments described above, a “direct conversion type” detection element circuit in which radiation represented by incident X-rays is directly converted into charge information by an X-ray conversion layer (conversion layer) is provided in the present invention. Applied, but the incident radiation is converted into light by a conversion layer such as a scintillator, and the light is converted into charge information by a conversion layer formed of a photosensitive material. The present invention may be applied.

(3)上述した各実施例では、X線を検出するための検出素子用回路を例に採って説明したが、この発明は、ECT(Emission Computed Tomography)装置のように放射性同位元素(RI)を投与された被検体から放射されるγ線を検出するための検出素子用回路に例示されるように、放射線を検出する検出素子用回路であれば特に限定されない。同様に、この発明は、上述したECT装置に例示されるように、放射線の入射により撮像を行う装置であれば特に限定されない。   (3) In each of the above-described embodiments, the detection element circuit for detecting X-rays has been described as an example. However, the present invention provides a radioisotope (RI) as in an ECT (Emission Computed Tomography) apparatus. The detection element circuit is not particularly limited as long as it is a detection element circuit for detecting radiation, as exemplified by the detection element circuit for detecting γ-rays radiated from the subject to which is administered. Similarly, the present invention is not particularly limited as long as it is an apparatus that performs imaging by incidence of radiation, as exemplified by the above-described ECT apparatus.

(4)上述した各実施例では、X線などに代表される放射線撮像を例に採って説明したが、この発明は、光の入射により撮像を行う装置にも適用することができる。   (4) In each of the embodiments described above, radiation imaging typified by X-rays and the like has been described as an example, but the present invention can also be applied to an apparatus that performs imaging by the incidence of light.

(5)上述した各実施例では、電圧印加電極24は図2や図4に示すような構造であったが、例えば支持基板と電圧印加電極とを兼用したグラファイト基板を備えた構造にもこの発明は適用することができる。この場合には、上述した実施例3と同様にグラファイト基板に温度センサを配設することが可能となる。また、図4に示すようなモールド封止する構造に限定されない。   (5) In each of the embodiments described above, the voltage application electrode 24 has a structure as shown in FIG. 2 or FIG. 4, but for example, a structure having a graphite substrate that also serves as a support substrate and a voltage application electrode. The invention can be applied. In this case, a temperature sensor can be disposed on the graphite substrate as in the third embodiment. Moreover, it is not limited to the structure for mold sealing as shown in FIG.

(6)上述した各実施例のように、温度センサ10の配設箇所はベース板41や絶縁基板21や電圧印加電極24や樹脂膜44に限定されない。変換層(各実施例ではX線変換層23)周辺であって、変換層に近い温度や、変換層の温度が推定可能であれば、温度センサ10の配設箇所は他の箇所でもよい。   (6) As in the above-described embodiments, the location of the temperature sensor 10 is not limited to the base plate 41, the insulating substrate 21, the voltage application electrode 24, and the resin film 44. If the temperature near the conversion layer (X-ray conversion layer 23 in each embodiment) and the temperature near the conversion layer or the temperature of the conversion layer can be estimated, the location of the temperature sensor 10 may be another location.

(7)上述した各実施例では、温度補間を行ったが必ずしも温度補間を行う必要はない。   (7) In each of the above-described embodiments, the temperature interpolation is performed, but the temperature interpolation is not necessarily performed.

10 … 温度センサ
2 … 検出素子用回路
21 … 絶縁基板
23 … X線変換層
24 … 電圧印加電極
41 … ベース板
44 … 樹脂膜
6 … コントローラ
7a … 相関関係メモリ部
7b … 係数面内分布情報メモリ部
I … ダーク信号量(変換層リーク成分)
T … 温度
α,β … 定数
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Temperature sensor 2 ... Detection element circuit 21 ... Insulating substrate 23 ... X-ray conversion layer 24 ... Voltage application electrode 41 ... Base board 44 ... Resin film 6 ... Controller 7a ... Correlation memory part 7b ... Coefficient in-plane distribution information memory Part I ... Dark signal amount (conversion layer leak component)
T ... Temperature α, β ... Constant

Claims (11)

光または放射線の入射により前記光または放射線の情報を電荷情報に変換する変換層と、
その変換層で変換された電荷情報を蓄積して読み出す蓄積・読み出し回路と
を備え、
その蓄積・読み出し回路で読み出された電荷情報に基づいて画像を得る撮像装置であって、
前記変換層周辺の温度を、変換層周辺にある所定の面内で複数に測定して、変換層周辺の温度に関する面内分布情報を得る温度測定手段と、
光または放射線の非照射時の電荷と等価なダーク信号量とそのダーク信号量が得られたときの変換層周辺の温度に関する面内分布情報との相関関係、および前記温度測定手段で測定された変換層周辺の温度に関する面内分布情報に基づいて、前記ダーク信号量を求めるダーク信号量算出手段と、
そのダーク信号量算出手段で求められた前記ダーク信号量に基づいて照射時の電荷情報を補正する補正手段と
を備えることを特徴とする撮像装置。
A conversion layer that converts light or radiation information into charge information by the incidence of light or radiation; and
A storage / readout circuit that stores and reads out the charge information converted by the conversion layer,
An imaging device that obtains an image based on charge information read by the storage / readout circuit,
A temperature measuring means for measuring a plurality of temperatures around the conversion layer within a predetermined plane around the conversion layer, and obtaining in-plane distribution information relating to the temperature around the conversion layer;
Correlation between the dark signal amount equivalent to the charge when not irradiated with light or radiation and the in-plane distribution information regarding the temperature around the conversion layer when the dark signal amount was obtained, and measured by the temperature measuring means Dark signal amount calculating means for obtaining the dark signal amount based on in-plane distribution information relating to the temperature around the conversion layer;
An image pickup apparatus comprising: a correction unit that corrects charge information at the time of irradiation based on the dark signal amount obtained by the dark signal amount calculation unit.
請求項1に記載の撮像装置において、
前記相関関係を予め記憶した相関関係記憶手段を備えることを特徴とする撮像装置。
The imaging device according to claim 1,
An imaging apparatus comprising correlation storage means for storing the correlation in advance.
請求項1または請求項2に記載の撮像装置において、
前記温度測定手段が設けられていない箇所での温度を、前記温度測定手段が設けられた箇所での温度を用いて補間する温度補間手段を備えることを特徴とする撮像装置。
In the imaging device according to claim 1 or 2,
An imaging apparatus comprising temperature interpolation means for interpolating a temperature at a location where the temperature measurement means is not provided using a temperature at a location where the temperature measurement means is provided.
請求項1から請求項3のいずれかに記載の撮像装置において、
前記相関関係は、前記ダーク信号量と前記変換層周辺の温度に関する面内分布情報とに関する近似式であって、
その近似式で用いられる係数に関する面内分布情報を記憶する係数面内分布情報記憶手段を備えることを特徴とする撮像装置。
In the imaging device in any one of Claims 1-3,
The correlation is an approximate expression related to the dark signal amount and in-plane distribution information related to the temperature around the conversion layer,
An image pickup apparatus comprising coefficient in-plane distribution information storage means for storing in-plane distribution information relating to a coefficient used in the approximate expression.
請求項1から請求項4のいずれかに記載の撮像装置において、
前記変換層の前記光または放射線の入射側とは逆側に設けられた構造物に前記温度測定手段を配設することを特徴とする撮像装置。
In the imaging device according to any one of claims 1 to 4,
An image pickup apparatus, wherein the temperature measuring means is disposed on a structure provided on a side opposite to the light or radiation incident side of the conversion layer.
請求項5に記載の撮像装置において、
前記構造物の前記光または放射線の検出有効エリアにも前記温度測定手段を配設することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 5,
An image pickup apparatus, wherein the temperature measuring means is also disposed in the effective detection area of the light or radiation of the structure.
請求項1から請求項6のいずれかに記載の撮像装置において、
前記変換層の前記光または放射線の入射側に設けられた構造物に前記温度測定手段を配設することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to any one of claims 1 to 6,
An image pickup apparatus, wherein the temperature measuring means is disposed on a structure provided on the light or radiation incident side of the conversion layer.
請求項1から請求項7のいずれかに記載の撮像装置において、
前記変換層および前記蓄積・読み出し回路を保持する保持部材を備え、
その保持部材に前記温度測定手段を配設することを特徴とする撮像装置。
In the imaging device in any one of Claims 1-7,
A holding member for holding the conversion layer and the storage / readout circuit;
An image pickup apparatus, wherein the temperature measuring means is disposed on the holding member.
請求項1から請求項8のいずれかに記載の撮像装置において、
前記蓄積・読み出し回路をパターン形成する基板を備え、
その基板に前記温度測定手段を配設することを特徴とする撮像装置。
In the imaging device in any one of Claims 1-8,
A substrate for patterning the storage / readout circuit;
An image pickup apparatus, wherein the temperature measuring means is disposed on the substrate.
請求項1から請求項9のいずれかに記載の撮像装置において、
バイアス電圧を印加する電圧印加電極を備え、
その電圧印加電極に前記温度測定手段を配設することを特徴とする撮像装置。
In the imaging device in any one of Claims 1-9,
A voltage application electrode for applying a bias voltage;
An image pickup apparatus, wherein the temperature measuring means is disposed on the voltage application electrode.
請求項1から請求項10のいずれかに記載の撮像装置において、
前記変換層および前記蓄積・読み出し回路を絶縁物で封止し、
その封止した絶縁物に前記温度測定手段を配設することを特徴とする撮像装置。
In the imaging device in any one of Claims 1-10,
Sealing the conversion layer and the storage / readout circuit with an insulator;
An image pickup apparatus, wherein the temperature measuring means is disposed on the sealed insulator.
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