JP5725188B2 - Imaging device - Google Patents

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    • H04N5/00Details of television systems
    • H04N5/30Transforming light or analogous information into electric information
    • H04N5/32Transforming X-rays

Description

この発明は、医療分野、工業分野、さらには原子力分野などに用いられる撮像装置に関する。   The present invention relates to an imaging apparatus used in the medical field, the industrial field, the nuclear field, and the like.

電荷情報に基づいて画像を得る撮像装置についてX線を入射して電荷情報に変換する場合を例に採って説明する。撮像装置は、X線感応型のX線変換層を備えており、X線の入射によりX線変換層はキャリア(電荷情報)に変換する。X線変換層としては、X線を電荷情報に直接に変換する「直接変換型」と、X線をCsI等の蛍光体(シンチレータ)によって光に変換し、光感応型の物質で形成された変換層によってその光を電荷情報に変換する「間接変換型」とに大別される。直接変換型においては、従来は、X線変換層としては非晶質のアモルファスセレン(a−Se)膜が用いられていたが、近年では、CdTe(テルル化カドミウム)またはCdZnTe(テルル化カドミウム亜鉛)の結晶体が採用されている。   An imaging device that obtains an image based on charge information will be described taking an example in which X-rays are incident and converted into charge information. The imaging apparatus includes an X-ray sensitive X-ray conversion layer, and the X-ray conversion layer converts into carriers (charge information) by the incidence of X-rays. As the X-ray conversion layer, the “direct conversion type” that directly converts X-rays into charge information and the X-rays converted into light by a phosphor (scintillator) such as CsI are formed of a light-sensitive material. It is roughly classified into “indirect conversion type” in which the light is converted into charge information by the conversion layer. In the direct conversion type, an amorphous amorphous selenium (a-Se) film has been conventionally used as the X-ray conversion layer. However, in recent years, CdTe (cadmium telluride) or CdZnTe (cadmium zinc telluride) is used. ) Is used.

また、撮像装置は、X線変換層で変換されたキャリアを蓄積して読み出す回路を備えている。この回路は、図6に示すように、2次元状に配列した複数のゲートラインGおよびデータラインDで構成されているとともに、キャリアを蓄積するコンデンサCaおよびそのコンデンサCaに蓄積されたキャリアをON/OFFの切り換えで読み出す薄膜トランジスタ(TFT)Trを2次元状に配列して構成されている。ゲートラインGは、各々の薄膜トランジスタTrのON/OFF切り換えを制御し、かつ各々の薄膜トランジスタTrのゲートに電気的に接続されている。データラインDは、薄膜トランジスタTrの読み出し側に電気的に接続されている。   In addition, the imaging device includes a circuit that accumulates and reads out carriers converted by the X-ray conversion layer. As shown in FIG. 6, this circuit is composed of a plurality of gate lines G and data lines D arranged two-dimensionally, and also turns on a capacitor Ca for accumulating carriers and a carrier accumulated in the capacitor Ca. Thin film transistors (TFTs) Tr that are read out by switching between / OFF are arranged in a two-dimensional manner. The gate line G controls ON / OFF switching of each thin film transistor Tr and is electrically connected to the gate of each thin film transistor Tr. The data line D is electrically connected to the reading side of the thin film transistor Tr.

各々のコンデンサCaや各々の薄膜トランジスタTrなどで各検出素子を構成しており、ゲートラインGを選択することで、その選択されたゲートラインGに電気的に接続された検出素子を駆動させてキャリアの読み出しを行う。したがって、ゲートラインGは、検出素子を駆動させる駆動ラインの役割を果たす。ゲートラインGを駆動させる前に、先にバイアス電圧を電圧印加電極(図6では図示省略)に印加した状態で、検出対象であるX線を入射させる(例えば、特許文献1参照)。   Each detection element is constituted by each capacitor Ca, each thin film transistor Tr, and the like. By selecting the gate line G, the detection element electrically connected to the selected gate line G is driven to generate a carrier. Is read out. Therefore, the gate line G serves as a drive line for driving the detection element. Before driving the gate line G, X-rays to be detected are made incident with a bias voltage applied to a voltage application electrode (not shown in FIG. 6) (see, for example, Patent Document 1).

特開2000−349269号公報JP 2000-349269 A

しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、特許文献1のようにX線強度(入射線量)に応じてバイアス電圧を可変する以外には、バイアス電圧については一定の値を使用している。実際に、バイアス電圧が一定の値の場合には、より高いダイナミックレンジや空間解像度を得ることができないということが判明した。   However, in the case of the conventional example having such a configuration, a constant value is used for the bias voltage except that the bias voltage is varied according to the X-ray intensity (incident dose) as in Patent Document 1. ing. Actually, it has been found that when the bias voltage is a constant value, a higher dynamic range or spatial resolution cannot be obtained.

この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、所望の検出膜特性を得ることができる撮像装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide an imaging device capable of obtaining desired detection film characteristics.

発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意研究した結果、次のような知見を得た。   As a result of earnest research to solve the above problems, the inventors have obtained the following knowledge.

すなわち、上記の問題を解決するためには、上述のダイナミックレンジや空間解像度などに代表される検出膜特性に関わらず、従来ではバイアス電圧については一定の値を使用していたのを、検出膜特性とバイアス電圧との間に一定の相関関係があるとの仮定の下で、設定すべき検出膜特性に応じてバイアス電圧を設定制御するという知見を得た。図4(a)は、温度毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係を概略的に示したグラフであり、図4(b)は、空間解像度とバイアス電圧との相関関係を概略的に示したグラフである。図4の各グラフからも明らかなように、検出膜特性とバイアス電圧との間に一定の相関関係があることが判明した以上、設定すべき検出膜特性に応じてバイアス電圧を設定制御すれば、設定制御されたバイアス電圧で印加すると、その設定すべき検出膜特性が所望の検出膜特性になるという知見を得た。   In other words, in order to solve the above problem, a constant value for the bias voltage is conventionally used regardless of the detection film characteristics represented by the dynamic range and spatial resolution described above. Based on the assumption that there is a certain correlation between the characteristics and the bias voltage, the inventors have found that the bias voltage is set and controlled in accordance with the detection film characteristics to be set. FIG. 4A is a graph schematically showing the correlation between the dynamic range for each temperature and the bias voltage, and FIG. 4B schematically shows the correlation between the spatial resolution and the bias voltage. It is a graph. As is clear from each graph of FIG. 4, since it has been found that there is a certain correlation between the detection film characteristics and the bias voltage, if the bias voltage is set and controlled in accordance with the detection film characteristics to be set, As a result, it has been found that the detection film characteristic to be set becomes a desired detection film characteristic when applied with a bias voltage whose setting is controlled.

このような知見に基づくこの発明は、次のような構成をとる。
すなわち、この発明に係る撮像装置は、放射線を検出する検出素子を2次元マトリックス状配列で構成された検出器を備え、その検出器で検出されたデータに基づいて画像を得る撮像装置であって、前記放射線をキャリアに変換する変換層を検出膜として備えるとともに、バイアス電圧を印加する電圧印加電極と、パターン形成された絶縁基板とを備え、前記絶縁基板,前記変換層および前記電圧印加電極を順に積層形成し、前記撮像装置は、さらに前記検出器における検出膜特性と、前記電圧印加電極に印加するバイアス電圧との相関関係を記憶する相関関係記憶手段と、その相関関係記憶手段に記憶された前記検出膜特性と前記バイアス電圧との前記相関関係、および設定すべき前記検出膜特性に基づいて、前記バイアス電圧を設定制御するバイアス電圧設定制御手段とを備えることを特徴とするものである。
The present invention based on such knowledge has the following configuration.
In other words, an imaging apparatus according to the present invention is an imaging apparatus that includes a detector configured with a two-dimensional matrix array of detection elements that detect radiation , and obtains an image based on data detected by the detector. And a conversion layer that converts the radiation into carriers as a detection film, a voltage application electrode that applies a bias voltage, and a patterned insulation substrate, the insulation substrate, the conversion layer, and the voltage application electrode. The imaging device is further sequentially stacked, and the imaging device is further stored in a correlation storage unit that stores a correlation between a detection film characteristic of the detector and a bias voltage applied to the voltage application electrode , and the correlation storage unit. The bias voltage is set and controlled based on the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage and the detection film characteristic to be set. It is characterized in that and a that the bias voltage setting control means.

[作用・効果]この発明に係る撮像装置は、放射線をキャリアに変換する変換層を検出膜として備えるとともに、バイアス電圧を印加する電圧印加電極と、パターン形成された絶縁基板とを備え、絶縁基板,変換層および電圧印加電極を順に積層形成している。かかる撮像装置によれば、検出膜特性とバイアス電圧との相関関係を記憶する相関関係記憶手段を備え、相関関係記憶手段に記憶された検出膜特性とバイアス電圧との相関関係、および設定すべき検出膜特性に基づいて、バイアス電圧を設定制御するバイアス電圧設定制御手段を備えている。このように相関関係記憶手段およびバイアス電圧設定制御手段を備えることで、相関関係記憶手段に記憶された検出膜特性とバイアス電圧との相関関係を用いて、設定すべき検出膜特性に応じてバイアス電圧設定制御手段がバイアス電圧を設定制御すれば、設定制御されたバイアス電圧で印加すると、その設定すべき検出膜特性が所望の検出膜特性になる。その結果、所望の検出膜特性を得ることができる。 [Operation / Effect] An imaging apparatus according to the present invention includes a conversion layer for converting radiation into a carrier as a detection film, a voltage application electrode for applying a bias voltage, and a patterned insulating substrate. The conversion layer and the voltage application electrode are sequentially laminated. According to such an imaging apparatus , the correlation storage unit that stores the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage is provided, the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage stored in the correlation storage unit, and to be set Bias voltage setting control means for setting and controlling the bias voltage based on the detection film characteristics is provided. By providing the correlation storage means and the bias voltage setting control means in this way, the bias is determined according to the detection film characteristics to be set using the correlation between the detection film characteristics and the bias voltage stored in the correlation storage means. If the voltage setting control means controls the setting of the bias voltage, the detection film characteristic to be set becomes a desired detection film characteristic when the bias voltage is applied with the setting-controlled bias voltage. As a result, desired detection film characteristics can be obtained.

上述した検出膜特性が、検出器を使用する温度にも依存する場合には、この発明に係る撮像装置において、相関関係記憶手段は、検出膜特性とバイアス電圧との相関関係の他に、さらに温度との相関関係を記憶し、検出器を使用する温度に基づいて、バイアス電圧設定制御手段はバイアス電圧を設定制御するのが好ましい。例えば、検出器の使用が想定される複数の環境温度(例えば標準設定温度の−5℃〜+5℃)毎に最適なバイアス電圧を設定制御することで、使用環境に応じて設定変更できるようにする。   In the case where the above-described detection film characteristic also depends on the temperature at which the detector is used, in the imaging device according to the present invention, the correlation storage means further includes the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage. The bias voltage setting control means preferably stores and controls the bias voltage based on the temperature at which the detector is used and the correlation with the temperature is stored. For example, the optimum bias voltage can be set and controlled for each of a plurality of environmental temperatures (for example, −5 ° C. to + 5 ° C. of the standard set temperature) where the detector is assumed to be used so that the setting can be changed according to the usage environment. To do.

検出膜特性が温度にも依存する場合には、検出膜特性の一例として、リーク電流やリーク電流に関連したダイナミックレンジがある。したがって、相関関係記憶手段は、ダイナミックレンジあるいはリーク電流とバイアス電圧との相関関係の他に、さらに温度との相関関係を記憶するのが好ましい。   When the detection film characteristic also depends on the temperature, examples of the detection film characteristic include a leak current and a dynamic range related to the leak current. Therefore, it is preferable that the correlation storage means further stores the correlation with the temperature in addition to the correlation between the dynamic range or the leakage current and the bias voltage.

上述したこれらの撮像装置において、検出器における検出膜の一例は、CdTe(テルル化カドミウム)またはCdZnTe(テルル化カドミウム亜鉛)で形成された半導体層である。   In these imaging devices described above, an example of a detection film in the detector is a semiconductor layer formed of CdTe (cadmium telluride) or CdZnTe (cadmium zinc telluride).

この発明に係る撮像装置は、放射線をキャリアに変換する変換層を検出膜として備えるとともに、バイアス電圧を印加する電圧印加電極と、パターン形成された絶縁基板とを備え、絶縁基板,変換層および電圧印加電極を順に積層形成している。かかる撮像装置によれば、検出膜特性とバイアス電圧との相関関係を記憶する相関関係記憶手段と相関関係記憶手段に記憶された検出膜特性とバイアス電圧との相関関係、および設定すべき検出膜特性に基づいて、バイアス電圧を設定制御するバイアス電圧設定制御手段とを備えることで、所望の検出膜特性を得ることができる。 An imaging apparatus according to the present invention includes a conversion layer that converts radiation into carriers as a detection film, and includes a voltage application electrode that applies a bias voltage and a patterned insulating substrate, and includes the insulating substrate, the conversion layer, and the voltage. The application electrodes are sequentially stacked. According to such an imaging apparatus , the correlation storage means for storing the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage, the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage stored in the correlation storage means, and the detection film to be set By providing bias voltage setting control means for setting and controlling the bias voltage based on the characteristics, desired detection film characteristics can be obtained.

実施例に係るX線撮影装置の概略ブロック図である。1 is a schematic block diagram of an X-ray imaging apparatus according to an embodiment. X線撮影装置のX線変換層周辺の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view around an X-ray conversion layer of an X-ray imaging apparatus. (a)は温度毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係のテーブル、(b)は空間解像度とバイアス電圧との相関関係のテーブルである。(A) is a table of the correlation between the dynamic range for each temperature and the bias voltage, and (b) is a table of the correlation between the spatial resolution and the bias voltage. (a)は温度毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係を概略的に示したグラフ、(b)は空間解像度とバイアス電圧との相関関係を概略的に示したグラフである。(A) is a graph schematically showing the correlation between the dynamic range for each temperature and the bias voltage, and (b) is a graph schematically showing the correlation between the spatial resolution and the bias voltage. 変形例に係る温度毎のリーク電流とバイアス電圧との相関関係を概略的に示したグラフである。It is the graph which showed roughly the correlation of the leakage current for every temperature and bias voltage which concern on a modification. 従来のX線撮影装置の概略ブロック図である。It is a schematic block diagram of the conventional X-ray imaging apparatus.

以下、図面を参照してこの発明の実施例を説明する。
図1は、実施例に係るX線撮影装置の概略ブロック図であり、図2は、X線撮影装置のX線変換層周辺の概略断面図である。本実施例では、入射する放射線としてX線を例に採って説明するとともに、撮像装置としてX線撮影装置を例に採って説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic block diagram of the X-ray imaging apparatus according to the embodiment, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view around the X-ray conversion layer of the X-ray imaging apparatus. In the present embodiment, X-rays will be described as an example of incident radiation, and an X-ray imaging apparatus will be described as an example of an imaging apparatus.

本実施例に係るX線撮影装置は、被検体にX線を照射して撮像を行う。具体的には、被検体を透過したX線像がX線変換層(本実施例ではCdTeまたはCdZnTe)上に投影されて、像の濃淡に比例したキャリア(電荷情報)が層内に発生することでキャリアに変換される。   The X-ray imaging apparatus according to the present embodiment performs imaging by irradiating a subject with X-rays. Specifically, an X-ray image transmitted through the subject is projected on an X-ray conversion layer (CdTe or CdZnTe in this embodiment), and carriers (charge information) proportional to the density of the image are generated in the layer. Is converted into a carrier.

X線撮影装置は、図1に示すように、後述するゲートラインGを選択するゲート駆動回路1と、X線変換層23(図2を参照)で変換されたキャリアを蓄積して読み出すことでX線を検出する検出素子用回路2と、その検出素子用回路2で読み出されたキャリアを電圧に変換した状態で増幅する電荷電圧変換アンプ3と、その電荷電圧変換アンプ3で増幅された電圧のアナログ値からディジタル値に変換するA/D変換器4と、そのA/D変換器4でディジタル値に変換された電圧値に対して信号処理を行って画像を得る画像処理部5と、これらの回路1,2や電荷電圧変換アンプ3やA/D変換器4や画像処理部5や後述するメモリ部7やモニタ9などを統括制御するコントローラ6と、処理された画像などを記憶するメモリ部7と、入力設定を行う入力部8と、処理された画像などを表示するモニタ9とを備えている。本明細書では、キャリアや画像などの情報を、画像に関する画像情報とする。X線変換層23は、この発明における検出膜に相当し、検出素子用回路2は、この発明における検出器に相当する。   As shown in FIG. 1, the X-ray imaging apparatus accumulates and reads out carriers converted by a gate drive circuit 1 that selects a gate line G, which will be described later, and an X-ray conversion layer 23 (see FIG. 2). A detection element circuit 2 that detects X-rays, a charge-voltage conversion amplifier 3 that amplifies the carrier read out by the detection element circuit 2 into a voltage, and the charge-voltage conversion amplifier 3 An A / D converter 4 for converting a voltage analog value into a digital value, and an image processing unit 5 for obtaining an image by performing signal processing on the voltage value converted into a digital value by the A / D converter 4; The controller 6 that controls the circuits 1 and 2, the charge / voltage conversion amplifier 3, the A / D converter 4, the image processing unit 5, the memory unit 7 and the monitor 9 described later, and the processed image are stored. Memory unit 7 and input An input unit 8 which performs a constant, and a monitor 9 for displaying the processed images. In this specification, information such as a carrier and an image is image information related to the image. The X-ray conversion layer 23 corresponds to the detection film in the present invention, and the detection element circuit 2 corresponds to the detector in the present invention.

ゲート駆動回路1は複数のゲートラインGに電気的に接続されている。ゲート駆動回路1から各ゲートラインGに電圧を印加することで、後述する薄膜トランジスタ(TFT)TrをONにして後述するコンデンサCaに蓄積されたキャリアの読み出しを開放し、各ゲートラインGへの電圧を停止する(電圧を−10Vにする)ことで、薄膜トランジスタTrをOFFにしてキャリアの読み出しを遮断する。なお、各ゲートラインGに電圧を印加することでOFFにしてキャリアの読み出しを遮断し、各ゲートラインGへの電圧を停止することでONにしてキャリアの読み出しを開放するように、薄膜トランジスタTrを構成してもよい。   The gate drive circuit 1 is electrically connected to a plurality of gate lines G. By applying a voltage from the gate driving circuit 1 to each gate line G, a thin film transistor (TFT) Tr described later is turned on to release reading of carriers accumulated in a capacitor Ca described later, and the voltage applied to each gate line G Is stopped (the voltage is set to −10 V), and the thin film transistor Tr is turned off to block carrier reading. Note that the thin film transistor Tr is turned off by applying a voltage to each gate line G to cut off carrier reading and stopping the voltage to each gate line G to turn on and release carrier reading. It may be configured.

検出素子用回路2は、2次元状に配列した複数のゲートラインGおよびデータラインDで構成されているとともに、キャリアを蓄積するコンデンサCaおよびそのコンデンサCaに蓄積されたキャリアをON/OFFの切り換えで読み出す薄膜トランジスタTrを2次元状に配列して構成されている。ゲートラインGは、各々の薄膜トランジスタTrのON/OFF切り換えを制御し、かつ各々の薄膜トランジスタTrのゲートに電気的に接続されている。データラインDは、薄膜トランジスタTrの読み出し側に電気的に接続されている。   The detection element circuit 2 includes a plurality of gate lines G and data lines D arranged in a two-dimensional manner, and switches the capacitor Ca that accumulates carriers and the carriers accumulated in the capacitor Ca to ON / OFF. The thin film transistors Tr to be read out are arranged in a two-dimensional manner. The gate line G controls ON / OFF switching of each thin film transistor Tr and is electrically connected to the gate of each thin film transistor Tr. The data line D is electrically connected to the reading side of the thin film transistor Tr.

説明の便宜上、本実施例では、縦・横式2次元マトリックス状配列で10×10個の薄膜トランジスタTrおよびコンデンサCaが形成されているとする。すなわち、ゲートラインGは、10本のゲートラインG1〜G10からなり、データラインDは、10本のデータラインD1〜D10からなる。各ゲートラインG1〜G10は、図1中のX方向に並設された10個の薄膜トランジスタTrのゲートにそれぞれ接続され、各データラインD1〜D10は、図1中のY方向に並設された10個の薄膜トランジスタTrの読み出し側にそれぞれ接続されている。薄膜トランジスタTrの読み出し側とは逆側にはコンデンサCaが電気的に接続されており、薄膜トランジスタTrとコンデンサCaとの個数が一対一に対応する。   For convenience of explanation, in this embodiment, it is assumed that 10 × 10 thin film transistors Tr and capacitors Ca are formed in a vertical and horizontal two-dimensional matrix arrangement. That is, the gate line G is composed of ten gate lines G1 to G10, and the data line D is composed of ten data lines D1 to D10. The gate lines G1 to G10 are respectively connected to the gates of ten thin film transistors Tr arranged in parallel in the X direction in FIG. 1, and the data lines D1 to D10 are arranged in parallel in the Y direction in FIG. Each of the ten thin film transistors Tr is connected to the reading side. A capacitor Ca is electrically connected to the side opposite to the reading side of the thin film transistor Tr, and the number of the thin film transistor Tr and the capacitor Ca corresponds one to one.

また、検出素子用回路2は、図2に示すように、検出素子DUが2次元マトリックス状配列で絶縁基板21にパターン形成されている。すなわち、絶縁基板21の表面に、各種真空蒸着法による薄膜形成技術やフォトリソグラフィ法によるパターン技術を利用して、上述したゲートラインG1〜G10およびデータラインD1〜D10を配線し、薄膜トランジスタTr,コンデンサCa,キャリア収集電極22,X線変換層23および電圧印加電極24を順に積層形成することで構成されている。検出素子DUは、この発明における検出素子に相当する。   In the detection element circuit 2, as shown in FIG. 2, the detection elements DU are patterned on the insulating substrate 21 in a two-dimensional matrix arrangement. That is, the gate lines G1 to G10 and the data lines D1 to D10 described above are wired on the surface of the insulating substrate 21 by using a thin film forming technique by various vacuum deposition methods and a pattern technique by a photolithography method. Ca, the carrier collection electrode 22, the X-ray conversion layer 23, and the voltage application electrode 24 are laminated in order. The detection element DU corresponds to the detection element in the present invention.

X線変換層23は、X線感応型の半導体厚膜(検出膜)で形成されており、本実施例では、CdTe(テルル化カドミウム)またはCdZnTe(テルル化カドミウム亜鉛)で形成された半導体層で形成されている。X線変換層23は、X線の入射によりX線の情報を電荷情報であるキャリアに変換する。なお、X線変換層23は、X放射線の入射によりキャリアが生成されるX線感応型の物質であれば、CdTeやCdZnTeに限定されない。また、X線以外の放射線(γ線など)を入射して撮像を行う場合には、X線変換層23の替わりに、放射線の入射によりキャリアが生成される放射線感応型の物質を用いてもよい。また、光を入射して撮像を行う場合には、X線変換層23の替わりに、光の入射によりキャリアが生成される光感応型の物質を用いてもよい。   The X-ray conversion layer 23 is formed of an X-ray sensitive semiconductor thick film (detection film). In this embodiment, the semiconductor layer is formed of CdTe (cadmium telluride) or CdZnTe (cadmium zinc telluride). It is formed with. The X-ray conversion layer 23 converts X-ray information into carriers as charge information by the incidence of X-rays. The X-ray conversion layer 23 is not limited to CdTe or CdZnTe as long as it is an X-ray sensitive material that generates carriers by the incidence of X radiation. In addition, when imaging is performed by injecting radiation other than X-rays (such as γ-rays), a radiation-sensitive material that generates carriers by the incidence of radiation may be used instead of the X-ray conversion layer 23. Good. Further, when imaging is performed with light incident, instead of the X-ray conversion layer 23, a photosensitive material that generates carriers by the incidence of light may be used.

キャリア収集電極22は、コンデンサCaに電気的に接続されており、X線変換層23で変換されたキャリアを収集してコンデンサCaに蓄積する。このキャリア収集電極22も、薄膜トランジスタTrおよびコンデンサCaと同様に、縦・横式2次元マトリックス状配列で多数個(本実施例では10×10個)形成されている。それらキャリア収集電極22,コンデンサCaおよび薄膜トランジスタTrが各検出素子DUとしてそれぞれ分離形成されている。また、電圧印加電極24は、全検出素子DUの共通電極として全面にわたって形成されている。   The carrier collection electrode 22 is electrically connected to the capacitor Ca, collects the carrier converted by the X-ray conversion layer 23 and accumulates it in the capacitor Ca. Similarly to the thin film transistor Tr and the capacitor Ca, a large number (10 × 10 in this embodiment) of the carrier collection electrodes 22 are formed in a vertical / horizontal two-dimensional matrix arrangement. The carrier collecting electrode 22, the capacitor Ca, and the thin film transistor Tr are separately formed as each detecting element DU. Further, the voltage application electrode 24 is formed over the entire surface as a common electrode of all the detection elements DU.

このように、検出素子DUなどが2次元マトリックス状配列でパターン形成した絶縁基板21、X線変換層23および電圧印加電極24を順に積層形成している。これらのX線変換層23を含んだ検出素子用回路2はフラットパネル型X線検出器(FPD: Flat Panel Detector)とも呼ばれている。   In this way, the insulating substrate 21, the X-ray conversion layer 23, and the voltage application electrode 24 in which the detection elements DU and the like are patterned in a two-dimensional matrix arrangement are sequentially stacked. The detection element circuit 2 including these X-ray conversion layers 23 is also called a flat panel X-ray detector (FPD).

本実施例では、その他に、X線変換層23の温度を測定する温度センサ10を備えている。温度センサ10による測定結果をコントローラ6に送り込む。温度センサ10を備えることで、検出素子用回路2を使用する温度、ひいては環境温度を測定する。   In this embodiment, in addition, a temperature sensor 10 for measuring the temperature of the X-ray conversion layer 23 is provided. The measurement result by the temperature sensor 10 is sent to the controller 6. By providing the temperature sensor 10, the temperature at which the detection element circuit 2 is used, and hence the environmental temperature, is measured.

X線変換層23の温度を測定するには、図2に示すように検出有効エリア(図示省略)から外れた端部において電圧印加電極24に温度センサ10を設ける。具体的には、図2(a)に示すように電圧印加電極24中に温度センサ10を埋め込んでもよいし、図2(b)に示すように電圧印加電極24上に温度センサ10を積層してもよい。なお、X線変換層23中に温度センサを埋め込む、あるいはX線変換層23上に温度センサ10を積層してもよい。   In order to measure the temperature of the X-ray conversion layer 23, as shown in FIG. 2, the temperature sensor 10 is provided on the voltage application electrode 24 at an end portion outside the effective detection area (not shown). Specifically, the temperature sensor 10 may be embedded in the voltage application electrode 24 as shown in FIG. 2A, or the temperature sensor 10 is laminated on the voltage application electrode 24 as shown in FIG. May be. Note that the temperature sensor may be embedded in the X-ray conversion layer 23 or the temperature sensor 10 may be stacked on the X-ray conversion layer 23.

画像処理部5は、A/D変換器4でディジタル値に変換された電圧値に対して各種の信号処理を行って画像を求める。コントローラ6は、回路1,2や電荷電圧変換アンプ3やA/D変換器4や画像処理部5や後述するメモリ部7やモニタ9などを統括制御し、本実施例では後述する検出膜特性とバイアス電圧との相関関係、および設定すべき検出膜特性に基づいて、バイアス電圧を設定制御する機能(バイアス電圧設定制御の機能)をも備えている。画像処理部5およびコントローラ6は、中央演算処理装置(CPU)や、プログラマブルロジックデバイス(FPGA)などの組み合わせで構成されている。コントローラ6は、この発明におけるバイアス電圧設定制御手段に相当する。   The image processing unit 5 obtains an image by performing various signal processing on the voltage value converted into a digital value by the A / D converter 4. The controller 6 comprehensively controls the circuits 1 and 2, the charge / voltage conversion amplifier 3, the A / D converter 4, the image processing unit 5, a memory unit 7 and a monitor 9 described later, and in this embodiment, a detection film characteristic described later. And a function of setting and controlling the bias voltage (function of bias voltage setting control) based on the correlation between the bias voltage and the detection film characteristic to be set. The image processing unit 5 and the controller 6 are configured by a combination of a central processing unit (CPU) and a programmable logic device (FPGA). The controller 6 corresponds to the bias voltage setting control means in this invention.

メモリ部7は、画像情報などを書き込んで記憶し、コントローラ6からの読み出し指令に応じて画像情報などがメモリ部7から読み出される。メモリ部7は、ROM(Read-only Memory)やRAM(Random-Access Memory)などに代表される記憶媒体などで構成されている。なお、画像情報の書き込みにはRAMが用いられ、例えば制御シーケンスに関するプログラムの読み出しによって制御シーケンスをコントローラ6に実行させる場合には、制御シーケンスに関するプログラムの読み出し専用にはROMが用いられる。本実施例では、上述の相関関係、および設定すべき検出膜特性に基づいて、バイアス電圧を設定制御する制御シーケンスに関するプログラムをメモリ部7に記憶させ、そのプログラムの読み出しによって制御シーケンスをコントローラ6に実行させる。   The memory unit 7 writes and stores image information and the like, and the image information and the like are read from the memory unit 7 in response to a read command from the controller 6. The memory unit 7 includes a storage medium represented by ROM (Read-only Memory), RAM (Random-Access Memory), and the like. Note that a RAM is used for writing image information. For example, when the controller 6 executes the control sequence by reading a program related to the control sequence, a ROM is used exclusively for reading the program related to the control sequence. In the present embodiment, a program relating to a control sequence for setting and controlling the bias voltage is stored in the memory unit 7 based on the above-described correlation and the detection film characteristics to be set, and the control sequence is stored in the controller 6 by reading the program. Let it run.

その他に、メモリ部7は、上述の相関関係を予め記憶した相関関係メモリ部7aを備えている。相関関係メモリ部7aは、この発明における相関関係記憶手段に相当する。   In addition, the memory unit 7 includes a correlation memory unit 7a that stores the above-described correlation in advance. The correlation memory unit 7a corresponds to the correlation storage means in this invention.

入力部8は、マウスやキーボードやジョイスティックやトラックボールやタッチパネルなどに代表されるポインティングデバイス、あるいはボタンやスイッチやレバーなどの入力手段で構成されている。入力部8に入力設定すると、入力設定データがコントローラ6に送り込まれ、入力設定データに基づいて回路1,2や電荷電圧変換アンプ3やA/D変換器4や画像処理部5やメモリ部7やモニタ9などが制御される。   The input unit 8 includes a pointing device represented by a mouse, a keyboard, a joystick, a trackball, a touch panel, or the like, or an input means such as a button, a switch, or a lever. When input is set in the input unit 8, input setting data is sent to the controller 6, and based on the input setting data, the circuits 1, 2, the charge / voltage conversion amplifier 3, the A / D converter 4, the image processing unit 5 and the memory unit 7. And the monitor 9 are controlled.

続いて、本実施例のX線撮影装置の制御シーケンスについて説明する。電圧印加電極24に高電圧(例えば数10V〜数100V程度)のバイアス電圧Vを印加した状態で、検出対象であるX線を入射させる。なお、バイアス電圧Vについては、後述する説明から明らかなように、一定の値でなく、コントローラ6によって選択されて設定制御される。Subsequently, a control sequence of the X-ray imaging apparatus of the present embodiment will be described. X-rays to be detected are incident on the voltage application electrode 24 with a high voltage (for example, several tens of volts to several hundreds of volts) bias voltage VA applied thereto. Note that the bias voltage V A is not a fixed value but is selected and controlled by the controller 6 as will be apparent from the description below.

X線の入射によってX線変換層23でキャリアが生成されて、そのキャリアが電荷情報としてキャリア収集電極22を介してコンデンサCaに蓄積される。ゲート駆動回路1の信号(ここではキャリア)読み出し用の走査信号(すなわちゲート駆動信号)によって、対象となるゲートラインGが選択される。本実施例では、ゲートラインG1,G2,G3,…,G9,G10の順に1つずつ選択されるものとして説明する。また、ゲート駆動回路1からの信号読み出し用の走査信号は、ゲートラインGに電圧(例えば15V程度)を印加する信号である。   Carriers are generated in the X-ray conversion layer 23 by the incidence of X-rays, and the carriers are accumulated in the capacitor Ca through the carrier collection electrode 22 as charge information. A target gate line G is selected by a scanning signal (that is, a gate driving signal) for reading a signal (here, carrier) of the gate driving circuit 1. In the present embodiment, description will be made assuming that gate lines G1, G2, G3,..., G9, G10 are selected one by one in order. The scanning signal for reading signals from the gate driving circuit 1 is a signal for applying a voltage (for example, about 15 V) to the gate line G.

ゲート駆動回路1から対象となるゲートラインGを選択して、選択されたゲートラインGに接続されている各薄膜トランジスタTrが選択指定される。この選択指定で選択指定された薄膜トランジスタTrのゲートに電圧が印加されてON状態となる。その選択指定された各薄膜トランジスタTrに接続されているコンデンサCaから蓄積されたキャリアが、選択指定されてON状態に移行した薄膜トランジスタTrを経由して、データラインDに読み出される。すなわち、選択されたゲートラインGに関する検出素子DUが選択指定されて、その選択指定された検出素子DUのコンデンサCaに蓄積されたキャリアが、データラインDに読み出される。   A target gate line G is selected from the gate drive circuit 1, and each thin film transistor Tr connected to the selected gate line G is selected and designated. A voltage is applied to the gate of the thin film transistor Tr selected and designated by this selection designation to turn on. Carriers accumulated from the capacitors Ca connected to the selected and designated thin film transistors Tr are read out to the data line D via the thin film transistors Tr that have been designated and designated to be turned on. That is, the detection element DU related to the selected gate line G is selected and designated, and carriers accumulated in the capacitor Ca of the selected and designated detection element DU are read out to the data line D.

具体的には、データラインDに接続されている電荷電圧変換アンプ3がリセットされて、さらに薄膜トランジスタTrがON状態(すなわちゲートがON)に移行することで、キャリアがデータラインDに読み出され、電荷電圧変換アンプ3にて電圧に変換された状態で増幅される。   Specifically, the charge-voltage conversion amplifier 3 connected to the data line D is reset, and the thin film transistor Tr is turned on (that is, the gate is turned on), whereby the carrier is read out to the data line D. Then, it is amplified in a state converted into a voltage by the charge-voltage conversion amplifier 3.

つまり、各検出素子DUのアドレス(番地)指定は、ゲート駆動回路1からの信号読み出し用の走査信号と、データラインDに接続されている電荷電圧変換アンプ3の選択とに基づいて行われる。   That is, the address (address) designation of each detection element DU is performed based on the scanning signal for signal reading from the gate drive circuit 1 and the selection of the charge voltage conversion amplifier 3 connected to the data line D.

先ず、ゲート駆動回路1からゲートラインG1を選択して、選択されたゲートラインG1に関する検出素子DUが選択指定されて、その選択指定された検出素子DUのコンデンサCaに蓄積されたキャリアが、全データラインD同時に読み出されて、サンプルホールド後にデータラインD1〜D10の順にA/D変換器4にてディジタル値に変換される。次に、ゲート駆動回路1からゲートラインG2を選択して、同様の手順で、選択されたゲートラインG2に関する検出素子DUが選択指定されて、その選択指定された検出素子DUのコンデンサCaに蓄積されたキャリアが、全データラインD同時に読み出されて、サンプルホールド後にデータラインD1〜D10の順にA/D変換器4にてディジタル値に変換される。残りのゲートラインGについても同様に順に選択することで、2次元状のキャリアを読み出す。   First, the gate line G1 is selected from the gate drive circuit 1, the detection element DU related to the selected gate line G1 is selected and specified, and the carriers accumulated in the capacitor Ca of the selected and specified detection element DU are all stored. Data line D is read out simultaneously, and after sample hold, data lines D1 to D10 are converted into digital values by A / D converter 4 in this order. Next, the gate line G2 is selected from the gate drive circuit 1, and the detection element DU related to the selected gate line G2 is selected and specified in the same procedure, and is stored in the capacitor Ca of the selected detection element DU. All the data lines D are read out simultaneously, and after sample-holding, the data lines D1 to D10 are converted into digital values by the A / D converter 4 in this order. Similarly, the remaining gate lines G are sequentially selected to read out a two-dimensional carrier.

読み出された各キャリアは電荷電圧変換アンプ3で電圧に変換された状態でそれぞれ増幅されて、A/D変換器4でアナログ値からディジタル値に変換される。このディジタル値に変換された電圧値に基づいて、画像処理部5は各種の信号処理を行って、2次元状の画像を得る。得られた2次元状の画像やキャリアなどに代表される画像情報は、コントローラ6を介してメモリ部7に書き込まれて記憶され、必要に応じてコントローラ6を介してメモリ部7から読み出される。また、画像情報は、コントローラ6を介してモニタ9に表示される。   Each read carrier is amplified in a state of being converted into a voltage by the charge-voltage conversion amplifier 3 and converted from an analog value to a digital value by the A / D converter 4. Based on the voltage value converted into the digital value, the image processing unit 5 performs various signal processing to obtain a two-dimensional image. The obtained two-dimensional image and image information represented by a carrier are written and stored in the memory unit 7 via the controller 6 and are read from the memory unit 7 via the controller 6 as necessary. Further, the image information is displayed on the monitor 9 via the controller 6.

次に、検出膜特性とバイアス電圧との相関関係、およびバイアス電圧設定制御の機能について、図3および図4を参照して説明する。図3(a)は、温度毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係のテーブルであり、図3(b)は、空間解像度とバイアス電圧との相関関係のテーブルであり、図4(a)は、温度毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係を概略的に示したグラフであり、図4(b)は、空間解像度とバイアス電圧との相関関係を概略的に示したグラフである。   Next, the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage and the function of the bias voltage setting control will be described with reference to FIGS. 3A is a table showing the correlation between the dynamic range for each temperature and the bias voltage, and FIG. 3B is a table showing the correlation between the spatial resolution and the bias voltage. FIG. 4 is a graph schematically showing the correlation between the dynamic range and the bias voltage for each temperature, and FIG. 4B is a graph schematically showing the correlation between the spatial resolution and the bias voltage.

検出素子用回路2(図1、図2を参照)における検出膜特性と、その検出素子用回路2(の電圧印加電極24(図2を参照))に印加するバイアス電圧との相関関係を相関関係メモリ部7a(図1を参照)に書き込んで記憶する。検出膜特性としては、検出膜に相当するX線変換層23(図2を参照)に依存する特性であれば特に限定されず、本実施例ではダイナミックレンジ(DR: dynamic range)および空間解像度(MTF: Modulation Transfer Function)を例に採って説明する。   Correlates the correlation between the detection film characteristics in the detection element circuit 2 (see FIGS. 1 and 2) and the bias voltage applied to the detection element circuit 2 (voltage application electrode 24 (see FIG. 2)). The data is written and stored in the related memory unit 7a (see FIG. 1). The detection film characteristics are not particularly limited as long as the characteristics depend on the X-ray conversion layer 23 (see FIG. 2) corresponding to the detection film, and in this embodiment, the dynamic range (DR: dynamic range) and spatial resolution ( An explanation will be given by taking MTF: Modulation Transfer Function) as an example.

本実施例では、検出素子用回路2をも含んだX線撮影装置の出荷時に、印加されるバイアス電圧の最適値を、個々の装置で取得された画像のダイナミックレンジや空間解像度と対応付けることで、ダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係を相関関係メモリ部7aに書き込んで記憶するとともに、空間解像度とバイアス電圧との相関関係を相関関係メモリ部7aに書き込んで記憶する。相関関係メモリ部7aに書き込んで記憶する場合には、例えば図3に示すテーブル形式で記憶してもよいし、図4に示す近似式のプログラムとして記憶してもよい。   In this embodiment, when an X-ray imaging apparatus including the detection element circuit 2 is shipped, the optimum value of the bias voltage to be applied is associated with the dynamic range and spatial resolution of an image acquired by each apparatus. The correlation between the dynamic range and the bias voltage is written and stored in the correlation memory unit 7a, and the correlation between the spatial resolution and the bias voltage is written and stored in the correlation memory unit 7a. When writing and storing in the correlation memory unit 7a, it may be stored in the table format shown in FIG. 3, for example, or may be stored as an approximate expression program shown in FIG.

図3に示すテーブル形式で記憶する場合で、温度毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係を相関関係メモリ部7aに書き込んで記憶するときには、図3(a)に示すように行う。具体的には、図3(a)に示すように、環境温度Tにおいてバイアス電圧VとダイナミックレンジDR11とを対応付け、環境温度Tにおいてバイアス電圧VとダイナミックレンジDR12とを対応付け、以下同様にして環境温度Tにおいて各バイアス電圧と各ダイナミックレンジとをそれぞれ対応付けることで、環境温度T毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係をテーブル形式で記憶する。同様に、図3(a)に示すように、環境温度Tにおいてバイアス電圧VとダイナミックレンジDR21とを対応付け、環境温度Tにおいてバイアス電圧VとダイナミックレンジDR22とを対応付け、以下同様にして環境温度Tにおいて各バイアス電圧と各ダイナミックレンジとをそれぞれ対応付けることで、環境温度T毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係をテーブル形式で記憶する。同様に、図3(a)に示すように、環境温度Tにおいてバイアス電圧VとダイナミックレンジDR31とを対応付け、環境温度Tにおいてバイアス電圧VとダイナミックレンジDR32とを対応付け、以下同様にして環境温度Tにおいて各バイアス電圧と各ダイナミックレンジとをそれぞれ対応付けることで、環境温度T毎のダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係をテーブル形式で記憶する。In the case of storing in the table format shown in FIG. 3, when the correlation between the dynamic range for each temperature and the bias voltage is written and stored in the correlation memory unit 7a, the correlation is performed as shown in FIG. Specifically, as shown in FIG. 3 (a), associates the bias voltage V 1 and the dynamic range DR 11 at ambient temperatures T 1, and a bias voltage V 2 and the dynamic range DR 12 at ambient temperatures T 1 correspondence, following similar manner by associating at ambient temperatures T 1 and the bias voltage and the dynamic range, respectively, stores a correlation between the dynamic range and the bias voltage for each environmental temperature T 1 of a table format. Similarly, as shown in FIG. 3 (a), associates the bias voltage V 1 and the dynamic range DR 21 at environmental temperature T 2, associates the bias voltage V 2 and the dynamic range DR 22 at environmental temperature T 2 , following a similar manner by associating the environmental temperature T 2 and the bias voltage and the dynamic range, respectively, it stores a correlation between the dynamic range and the bias voltage for each environmental temperature T 2 in a table format. Similarly, as shown in FIG. 3 (a), associates the bias voltage V 1 and the dynamic range DR 31 at ambient temperature T 3, associates the bias voltage V 2 and the dynamic range DR 32 at ambient temperature T 3 , following a similar manner by associating at ambient temperature T 3 and the bias voltage and the dynamic range, respectively, stores a correlation between the dynamic range and the bias voltage for each environmental temperature T 3 in the form of a table.

一方、図3に示すテーブル形式で記憶する場合で、空間解像度とバイアス電圧との相関関係を相関関係メモリ部7aに書き込んで記憶するときには、図3(b)に示すように行う。具体的には、図3(b)に示すように、バイアス電圧Vと空間解像度MTF11とを対応付け、バイアス電圧Vと空間解像度MTF12とを対応付け、以下同様にして各バイアス電圧と各空間解像度とをそれぞれ対応付けることで、空間解像度とバイアス電圧との相関関係をテーブル形式で記憶する。On the other hand, when storing in the table format shown in FIG. 3, the correlation between the spatial resolution and the bias voltage is written and stored in the correlation memory unit 7a as shown in FIG. 3B. Specifically, as shown in FIG. 3B, the bias voltage V 1 and the spatial resolution MTF 11 are associated, the bias voltage V 2 and the spatial resolution MTF 12 are associated, and so on. Is correlated with each spatial resolution, and the correlation between the spatial resolution and the bias voltage is stored in a table format.

また、図3に示すテーブル形式以外の検出膜特性(ダイナミックレンジや空間解像度)を参照してバイアス電圧を設定制御する場合には、最も近い値の検出膜特性を参照してバイアス電圧を設定制御する。あるいは、テーブル形式で記憶された相関関係からバイアス電圧を補間してもよい。例えば、相関関係が図4に示すような一次式の関係で表される場合において、ダイナミックレンジDR11とDR12との中間値のダイナミックレンジ(DR11+DR12)/2からバイアス電圧を設定制御する場合には、ダイナミックレンジDR11,DR12に対応したバイアス電圧VとVとの中間値の(V+V)/2をバイアス電圧として求めて、その求められたバイアス電圧(V+V)/2の値に設定制御すればよい。When the bias voltage is set and controlled with reference to the detection film characteristics (dynamic range and spatial resolution) other than the table format shown in FIG. 3, the bias voltage is set and controlled with reference to the closest detection film characteristics. To do. Alternatively, the bias voltage may be interpolated from the correlation stored in the table format. For example, when the correlation is expressed by a linear relationship as shown in FIG. 4, the bias voltage is set and controlled from the dynamic range (DR 11 + DR 12 ) / 2 of the intermediate value between the dynamic ranges DR 11 and DR 12. In this case, an intermediate value (V 1 + V 2 ) / 2 between the bias voltages V 1 and V 2 corresponding to the dynamic ranges DR 11 and DR 12 is obtained as a bias voltage, and the obtained bias voltage (V It is only necessary to perform setting control to a value of 1 + V 2 ) / 2.

図3に示すテーブル形式では、離散的な値の集合であるので、図4に示すような関数で近似して、その近似式のプログラムを相関関係メモリ部7aに書き込んで記憶してもよい。このように近似式のプログラムを記憶することにより連続的な値でバイアス電圧を設定制御することが可能である。なお、近似式については最小自乗法などを用いて求めればよい。また、近似式については、図4に示すような一次式の関係に限定されず、二次式以上の多項式であってもよいし、部分的に指数関数や三角関数や対数関数などでそれぞれ近似してもよい。   Since the table format shown in FIG. 3 is a set of discrete values, it may be approximated by a function as shown in FIG. 4, and the program of the approximate expression may be written and stored in the correlation memory unit 7a. By storing the approximate expression program in this way, it is possible to set and control the bias voltage with a continuous value. The approximate expression may be obtained by using the least square method. Further, the approximation formula is not limited to the linear relationship shown in FIG. 4, and may be a polynomial of a quadratic formula or higher, and partially approximated by an exponential function, a trigonometric function, a logarithmic function, or the like. May be.

図4(a)に示すようにバイアス電圧Vが高くなるとダイナミックレンジDRは低下するが、図4(b)に示すように空間解像度MTFは高くなって、空間解像度の良い画像を撮影して取得することができる。また、環境温度をT<T<Tとすると、図4(a)に示すように、環境温度が相対的に低い(例えばT)場合に比較すると、環境温度が相対的に高い(例えばT)と、同じバイアス電圧Vではリーク電流が減少して、逆にダイナミックレンジDRは上昇する。As shown in FIG. 4A, when the bias voltage V increases, the dynamic range DR decreases. However, as shown in FIG. 4B, the spatial resolution MTF increases, and an image with good spatial resolution is captured and acquired. can do. Further, when the environmental temperature is T 1 <T 2 <T 3 , as shown in FIG. 4A, the environmental temperature is relatively high as compared with the case where the environmental temperature is relatively low (eg, T 1 ). (For example, T 3 ), the leak current decreases at the same bias voltage V, and the dynamic range DR increases.

上述したように、バイアス電圧Vが高いほど空間解像度MTFは高くなって空間解像度の特性は良くなるが、最低限保つべきダイナミックレンジDRの値(図4(a)ではDRbottom)を考慮して、X線撮影装置や検出素子用回路2の使用が想定される複数の環境温度T,T,T(例えば標準設定温度の−5℃〜+5℃)それぞれにおいて最適なバイアス電圧(例えば図4(a)ではV,V,V)を算出しておくことで、使用環境に応じてバイアス電圧を変更することが可能である。なお、図3中のバイアス電圧V,V,Vと図4中のバイアス電圧V,V,Vとはそれぞれ別の値であることに留意されたい。As described above, the higher the bias voltage V, the higher the spatial resolution MTF and the better the spatial resolution characteristics, but considering the value of the dynamic range DR that should be kept to a minimum (DR bottom in FIG. 4A). , a plurality of environmental temperature T 1, T 2, T 3 (e.g., -5 ℃ ~ + 5 ℃ standard set temperature) optimum bias voltage in each use of X-ray imaging device and the detection device circuit 2 is assumed (e.g. In FIG. 4A, by calculating V 1 , V 2 , V 3 ), the bias voltage can be changed according to the use environment. It should be noted that the bias voltage V 1, V 2, V 3 and the bias voltages V 1 in FIG. 4, V 2, V 3 in FIG. 3 is a separate value.

このようにして、図3あるいは図4に示す相関関係を用いて、出荷後の使用時において、設定すべき検出膜特性(例えば図4(a)中のDRbottom)に応じてコントローラ6(図1を参照)がバイアス電圧を設定制御する。最低限保つべきダイナミックレンジDRの値としてDRbottomを設定した場合には、図4(a)に示すように環境温度TのときにVの値をバイアス電圧として選択して設定制御する。同様に、環境温度TのときにVの値をバイアス電圧として選択して設定制御する。同様に、環境温度TのときにVの値をバイアス電圧として選択して設定制御する。In this way, using the correlation shown in FIG. 3 or FIG. 4, the controller 6 (see FIG. 4) according to the detection film characteristic to be set (for example, DR bottom in FIG. 4A) at the time of use after shipment. 1) set and control the bias voltage. When DR bottom is set as the value of the dynamic range DR to be kept to the minimum, the value of V 1 is selected as the bias voltage and controlled at the environmental temperature T 1 as shown in FIG. Similarly, to set control values for V 2 when the environmental temperature T 2 is selected as a bias voltage. Similarly, when the environmental temperature is T 3 , the value of V 3 is selected as the bias voltage and set and controlled.

なお、環境温度が未知の場合には、温度センサ10(図2を参照)によってX線変換層23の温度を測定すればよい。環境温度が既知の場合には、入力部8(図1を参照)により環境温度の値を入力すればよい。このようにして、コントローラ6がバイアス電圧を設定制御すれば、設定制御されたバイアス電圧で印加すると、その設定すべきダイナミックレンジDRbottomが所望のダイナミックレンジになる。設定すべき空間解像度に応じてバイアス電圧を設定制御する場合も、ダイナミックレンジに応じてバイアス電圧を設定制御する場合と手法が同じであるので、その説明を省略する。When the environmental temperature is unknown, the temperature of the X-ray conversion layer 23 may be measured by the temperature sensor 10 (see FIG. 2). When the environmental temperature is known, the value of the environmental temperature may be input by the input unit 8 (see FIG. 1). In this way, if the controller 6 controls the setting of the bias voltage, the dynamic range DR bottom to be set becomes the desired dynamic range when the bias voltage is applied with the setting controlled. The method for setting and controlling the bias voltage in accordance with the spatial resolution to be set is the same as the method for setting and controlling the bias voltage in accordance with the dynamic range, and thus the description thereof is omitted.

上述した本実施例に係るX線撮影装置によれば、検出膜特性(本実施例ではダイナミックレンジおよび空間解像度)とバイアス電圧との相関関係を記憶する相関関係メモリ部7aを備え、相関関係メモリ部7aに記憶された検出膜特性(ダイナミックレンジおよび空間解像度)とバイアス電圧との相関関係、および設定すべき検出膜特性(ダイナミックレンジおよび空間解像度)に基づいて、バイアス電圧を設定制御するバイアス電圧設定制御の機能をコントローラ6は備えている。このように相関関係メモリ部7aおよびバイアス電圧設定制御の機能を備えることで、相関関係メモリ部7aに記憶された検出膜特性(ダイナミックレンジおよび空間解像度)とバイアス電圧との相関関係を用いて、設定すべき検出膜特性(ダイナミックレンジおよび空間解像度)に応じてバイアス電圧設定制御の機能がバイアス電圧を設定制御すれば、設定制御されたバイアス電圧で印加すると、その設定すべき検出膜特性(ダイナミックレンジおよび空間解像度)が所望の検出膜特性(ダイナミックレンジおよび空間解像度)になる。その結果、所望の検出膜特性(ダイナミックレンジおよび空間解像度)を得ることができる。   The X-ray imaging apparatus according to the present embodiment described above includes the correlation memory unit 7a that stores the correlation between the detection film characteristics (dynamic range and spatial resolution in the present embodiment) and the bias voltage, and includes a correlation memory. Bias voltage for setting and controlling the bias voltage based on the correlation between the detection film characteristic (dynamic range and spatial resolution) stored in the unit 7a and the bias voltage and the detection film characteristic (dynamic range and spatial resolution) to be set The controller 6 has a setting control function. By providing the correlation memory unit 7a and the bias voltage setting control function in this way, the correlation between the detection film characteristics (dynamic range and spatial resolution) stored in the correlation memory unit 7a and the bias voltage is used. If the bias voltage setting control function controls the bias voltage according to the detection film characteristics to be set (dynamic range and spatial resolution), when the bias voltage is applied with the setting controlled bias, the detection film characteristics to be set (dynamic Range and spatial resolution) are the desired detection film properties (dynamic range and spatial resolution). As a result, desired detection film characteristics (dynamic range and spatial resolution) can be obtained.

本実施例のように、検出膜特性(例えばダイナミックレンジ)が、検出器(検出素子用回路2)を使用する温度(例えば環境温度)にも依存する場合には、好ましくは、相関関係メモリ部7aは、検出膜特性(ダイナミックレンジ)とバイアス電圧との相関関係の他に、図3(a)あるいは図4(a)に示すように、さらに温度との相関関係を記憶し、検出器(検出素子用回路2)を使用する温度に基づいて、バイアス電圧設定制御の機能はバイアス電圧を設定制御している。例えば、検出器(検出素子用回路2)の使用が想定される複数の環境温度(例えば標準設定温度の−5℃〜+5℃)毎に最適なバイアス電圧を設定制御することで、使用環境に応じて設定変更できるようにする。   In the case where the detection film characteristic (for example, dynamic range) also depends on the temperature (for example, environmental temperature) at which the detector (detection element circuit 2) is used as in the present embodiment, preferably, the correlation memory unit In addition to the correlation between the detection film characteristic (dynamic range) and the bias voltage, 7a further stores the correlation with the temperature as shown in FIG. 3A or FIG. Based on the temperature at which the detection element circuit 2) is used, the bias voltage setting control function sets and controls the bias voltage. For example, the optimum bias voltage is set and controlled for each of a plurality of environmental temperatures (for example, the standard set temperature of −5 ° C. to + 5 ° C.) where the detector (detection element circuit 2) is assumed to be used. The setting can be changed accordingly.

本実施例では、検出膜特性が温度にも依存する場合として、リーク電流に関連したダイナミックレンジを例に採って説明している。したがって、本実施例では、好ましくは、相関関係メモリ部7aは、ダイナミックレンジとバイアス電圧との相関関係の他に、図3(a)あるいは図4(a)に示すように、さらに温度との相関関係を記憶している。   In the present embodiment, the case where the detection film characteristic also depends on the temperature is described by taking a dynamic range related to the leakage current as an example. Therefore, in the present embodiment, preferably, the correlation memory unit 7a is further connected to the temperature as shown in FIG. 3A or FIG. 4A in addition to the correlation between the dynamic range and the bias voltage. The correlation is memorized.

本実施例では、検出器(検出素子用回路2)における検出膜(本実施例ではX線変換層23)として、CdTe(テルル化カドミウム)またはCdZnTe(テルル化カドミウム亜鉛)で形成された半導体層を例に採って説明している。   In this embodiment, a semiconductor layer formed of CdTe (cadmium telluride) or CdZnTe (cadmium zinc telluride) as a detection film (X-ray conversion layer 23 in this embodiment) in the detector (detection element circuit 2). Is taken as an example.

この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified as follows.

(1)上述した実施例では、図1に示すようなX線撮影装置を例に採って説明したが、この発明は、例えばC型アームに配設されたX線透視撮影装置にも適用してもよい。また、この発明は、X線CT装置にも適用してもよい。   (1) In the above-described embodiment, the X-ray imaging apparatus as shown in FIG. 1 has been described as an example. However, the present invention is also applicable to an X-ray fluoroscopic imaging apparatus disposed on a C-type arm, for example. May be. The present invention may also be applied to an X-ray CT apparatus.

(2)上述した実施例では、入射したX線に代表される放射線をX線変換層(変換層)によって電荷情報に直接に変換した、「直接変換型」の検出素子用回路をこの発明は適用したが、入射した放射線をシンチレータなどの変換層によって光に変換し、光感応型の物質で形成された変換層によってその光を電荷情報に変換する「間接変換型」の検出素子用回路をこの発明は適用してもよい。   (2) In the embodiment described above, the present invention provides a “direct conversion type” detection element circuit in which radiation represented by incident X-rays is directly converted into charge information by an X-ray conversion layer (conversion layer). Although applied, an indirect conversion type detection element circuit that converts incident radiation into light by a conversion layer such as a scintillator and converts the light into charge information by a conversion layer formed of a photosensitive material The present invention may be applied.

(3)上述した実施例では、X線を検出するための検出素子用回路を例に採って説明したが、この発明は、ECT(Emission Computed Tomography)装置のように放射性同位元素(RI)を投与された被検体から放射されるγ線を検出するための検出素子用回路に例示されるように、放射線を検出する検出素子用回路であれば特に限定されない。同様に、この発明は、上述したECT装置に例示されるように、放射線の入射により撮像を行う装置であれば特に限定されない。   (3) In the above-described embodiment, the detection element circuit for detecting X-rays has been described as an example. However, the present invention uses a radioisotope (RI) as in an ECT (Emission Computed Tomography) apparatus. The detection element circuit is not particularly limited as long as it is a detection element circuit for detecting radiation, as exemplified by a detection element circuit for detecting γ-rays emitted from an administered subject. Similarly, the present invention is not particularly limited as long as it is an apparatus that performs imaging by incidence of radiation, as exemplified by the above-described ECT apparatus.

(4)上述した実施例では、X線などに代表される放射線撮像を例に採って説明したが、この発明は、光の入射により撮像を行う装置にも適用することができる。   (4) In the above-described embodiments, radiation imaging represented by X-rays and the like has been described as an example, but the present invention can also be applied to an apparatus that performs imaging by incidence of light.

(5)上述した実施例では、電圧印加電極24は図2に示すような構造であったが、例えば支持基板と電圧印加電極とを兼用したグラファイト基板を備えた構造にもこの発明は適用することができる。   (5) In the above-described embodiment, the voltage application electrode 24 has a structure as shown in FIG. 2, but the present invention is also applied to a structure having a graphite substrate that also serves as a support substrate and a voltage application electrode, for example. be able to.

(6)上述した実施例では、検出膜特性として、ダイナミックレンジおよび空間解像度を例に採って説明したが、上述したように検出膜に依存する特性であれば特に限定されない。例えば、これら以外にも、検出膜特性としては、リーク電流や(電荷に関する)感度や(時間的な)応答などであってもよい。特に、検出膜特性がリーク電流の場合には、ダイナミックレンジと同様に、リーク電流とバイアス電圧との相関関係の他に、図5に示すように、さらに温度との相関関係を記憶してもよい。図5の場合には、バイアス電圧Vが高いほどリーク電流Lは高くなる。また、環境温度が相対的に低い(例えばT)場合に比較すると、環境温度が相対的に高い(例えばT)と、同じバイアス電圧Vではリーク電流Lは増加する。(6) In the above-described embodiments, the dynamic range and the spatial resolution have been described as examples of the detection film characteristics. However, the characteristics are not particularly limited as long as the characteristics depend on the detection film as described above. For example, in addition to these, the detection film characteristics may be leakage current, sensitivity (related to charge), response (in time), and the like. In particular, when the detection film characteristic is a leakage current, as in the dynamic range, in addition to the correlation between the leakage current and the bias voltage, as shown in FIG. Good. In the case of FIG. 5, the leakage current L increases as the bias voltage V increases. Further, compared with a case where the environmental temperature is relatively low (for example, T 1 ), the leakage current L increases at the same bias voltage V when the environmental temperature is relatively high (for example, T 3 ).

(7)上述した実施例では、出荷時に検出膜特性とバイアス電圧との相関関係を相関関係メモリ部7aに書き込んで記憶したが、出荷後の使用時に検出膜特性とバイアス電圧との相関関係を記憶することで出荷後の使用時の相関関係に書き換え可能に相関関係メモリ部7aを構成してもよい。したがって、相関関係が経年変化した場合においても、対応することができる。   (7) In the above-described embodiment, the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage is written and stored in the correlation memory unit 7a at the time of shipment. However, the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage is used at the time of use after shipment. The correlation memory unit 7a may be configured to be rewritable to the correlation at the time of use after shipment. Therefore, even when the correlation changes over time, it is possible to cope with it.

2 … 検出素子用回路
6 … コントローラ
7a … 相関関係メモリ部
23 … X線変換層
DU … 検出素子
T … 温度
V … バイアス電圧
DR … ダイナミックレンジ
MTF … 空間解像度
L … リーク電流
2 ... Detection element circuit 6 ... Controller 7a ... Correlation memory unit 23 ... X-ray conversion layer DU ... Detection element T ... Temperature V ... Bias voltage DR ... Dynamic range MTF ... Spatial resolution L ... Leakage current

Claims (11)

放射線を検出する検出素子を2次元マトリックス状配列で構成された検出器を備え、その検出器で検出されたデータに基づいて画像を得る撮像装置であって、
前記放射線をキャリアに変換する変換層を検出膜として備えるとともに、
バイアス電圧を印加する電圧印加電極と、
パターン形成された絶縁基板と
を備え、
前記絶縁基板,前記変換層および前記電圧印加電極を順に積層形成し、
前記撮像装置は、さらに
前記検出器における検出膜特性と、前記電圧印加電極に印加するバイアス電圧との相関関係を記憶する相関関係記憶手段と、
その相関関係記憶手段に記憶された前記検出膜特性と前記バイアス電圧との前記相関関係、および設定すべき前記検出膜特性に基づいて、前記バイアス電圧を設定制御するバイアス電圧設定制御手段と
を備えることを特徴とする撮像装置。
An imaging apparatus comprising a detector configured with a two-dimensional matrix array of detection elements for detecting radiation , and obtaining an image based on data detected by the detector,
With a conversion layer that converts the radiation into carriers as a detection film,
A voltage application electrode for applying a bias voltage;
Patterned insulating substrate and
With
The insulating substrate, the conversion layer, and the voltage application electrode are sequentially laminated,
The imaging device further includes correlation storage means for storing a correlation between a detection film characteristic in the detector and a bias voltage applied to the voltage application electrode ;
Bias voltage setting control means for setting and controlling the bias voltage based on the correlation between the detection film characteristic stored in the correlation storage means and the bias voltage, and the detection film characteristic to be set. An imaging apparatus characterized by that.
請求項1に記載の撮像装置において、
前記相関関係記憶手段は、前記検出膜特性と前記バイアス電圧との相関関係の他に、さらに温度との相関関係を記憶し、
前記検出器を使用する温度に基づいて、前記バイアス電圧設定制御手段は前記バイアス電圧を設定制御することを特徴とする撮像装置。
The imaging device according to claim 1,
In addition to the correlation between the detection film characteristic and the bias voltage, the correlation storage unit further stores a correlation with temperature,
2. The imaging apparatus according to claim 1, wherein the bias voltage setting control means sets and controls the bias voltage based on a temperature at which the detector is used.
請求項2に記載の撮像装置において、
前記検出膜特性は、ダイナミックレンジであって、
前記相関関係記憶手段は、前記ダイナミックレンジと前記バイアス電圧との相関関係の他に、さらに温度との相関関係を記憶することを特徴とする撮像装置。
The imaging device according to claim 2,
The detection film characteristic is a dynamic range,
In addition to the correlation between the dynamic range and the bias voltage, the correlation storage unit further stores a correlation with temperature.
請求項2に記載の撮像装置において、
前記検出膜特性は、リーク電流であって、
前記相関関係記憶手段は、前記リーク電流と前記バイアス電圧との相関関係の他に、さらに温度との相関関係を記憶することを特徴とする撮像装置。
The imaging device according to claim 2,
The detection film characteristic is a leakage current,
In addition to the correlation between the leakage current and the bias voltage, the correlation storage unit further stores a correlation with temperature.
請求項2から請求項4のいずれかに記載の撮像装置において
前記変換層の温度を測定する温度センサを備え、
前記温度センサを備えることで前記検出器を使用する温度を測定することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to any one of claims 2 to 4 ,
A temperature sensor for measuring the temperature of the conversion layer;
An image pickup apparatus that measures the temperature at which the detector is used by providing the temperature sensor.
請求項5に記載の撮像装置において
前記電圧印加電極または前記変換層に前記温度センサを設けることを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 5 ,
An image pickup apparatus, wherein the temperature sensor is provided on the voltage application electrode or the conversion layer .
請求項1に記載の撮像装置において、
各前記バイアス電圧と各前記検出膜特性とを対応付けることにより前記相関関係記憶手段はテーブル形式で記憶することを特徴とする撮像装置。
The imaging device according to claim 1,
The correlation storage unit stores each bias voltage and each detection film characteristic in association with each other in a table format.
請求項7に記載の撮像装置において、
前記テーブル形式以外の検出膜特性を参照してバイアス電圧を設定制御する場合には、テーブル形式で記憶された相関関係からバイアス電圧を補間することを特徴とする撮像装置。
The imaging apparatus according to claim 7 ,
An image pickup apparatus that interpolates a bias voltage from a correlation stored in a table format when the bias voltage is set and controlled with reference to a detection film characteristic other than the table format.
請求項1に記載の撮像装置において、
前記バイアス電圧と前記検出膜特性とを関数で近似して、近似式のプログラムを前記相関関係記憶手段は記憶することを特徴とする撮像装置。
The imaging device according to claim 1,
An imaging apparatus, wherein the correlation storage unit stores an approximate expression program by approximating the bias voltage and the detection film characteristic with a function.
請求項1から請求項9のいずれかに記載の撮像装置において、
前記検出膜特性は、空間解像度であって、
前記相関関係記憶手段は、前記空間解像度と前記バイアス電圧との相関関係を記憶することを特徴とする撮像装置。
In the imaging device in any one of Claims 1-9 ,
The detection film characteristic is spatial resolution,
The correlation storage unit stores a correlation between the spatial resolution and the bias voltage.
請求項1から請求項10のいずれかに記載の撮像装置において、
前記検出器における検出膜は、CdTe(テルル化カドミウム)またはCdZnTe(テルル化カドミウム亜鉛)で形成された半導体層であることを特徴とする撮像装置。
In the imaging device in any one of Claims 1-10 ,
An imaging device, wherein the detection film in the detector is a semiconductor layer formed of CdTe (cadmium telluride) or CdZnTe (cadmium zinc telluride).
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