JP2011216583A - Semiconductor laser device and optical pickup device using the same - Google Patents

Semiconductor laser device and optical pickup device using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2011216583A
JP2011216583A JP2010081843A JP2010081843A JP2011216583A JP 2011216583 A JP2011216583 A JP 2011216583A JP 2010081843 A JP2010081843 A JP 2010081843A JP 2010081843 A JP2010081843 A JP 2010081843A JP 2011216583 A JP2011216583 A JP 2011216583A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cap
semiconductor laser
cover glass
laser device
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010081843A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ryoichi Kawasaki
良一 川崎
Yoshio Noisshiki
慶夫 野一色
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Electronic Device Sales Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Optec Design Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd, Sanyo Optec Design Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP2010081843A priority Critical patent/JP2011216583A/en
Publication of JP2011216583A publication Critical patent/JP2011216583A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that a material cost and a manufacturing cost are increased since an antireflection film is formed at a glass plate closing the opening of a cap in a conventional semiconductor laser device.SOLUTION: In a semiconductor laser device 1, the cap 3 is arranged on a stem 2 on a side fixing an LD 10. The opening 4 is formed in a transmission region of a laser beam in the cap 3, and cover glass 5 is arranged so as to close the opening 4. The antireflection film is not formed at the cover glass 5, and the cover glass 5 is abutted against projections 11 and 12 disposed near the opening 4 and inclined and disposed at the internal side face of the cap 4. According to the structure, the semiconductor laser device 1 reducing astigmatism resulting from an astigmatic difference As is achieved in conformity with the return-light countermeasure of the laser beam projected from the LD 10.

Description

本発明は、簡易な方法にて戻り光対策を実現する半導体レーザー装置及びそれを用いた光ピックアップ装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor laser device that realizes a countermeasure against return light by a simple method and an optical pickup device using the same.

従来の半導体レーザー装置の一実施例として、図6に示す構造が知られている。図示の如く、半導体レーザー装置51は、例えば、660nmのレーザー光を出射する半導体レーザーチップ52と、ケース53と、キャップ54とを有する。キャップ54の一部は、半導体レーザーチップ52からのレーザー光の出射経路に位置し、その領域のキャップ54には開口部55が形成される。そして、ガラスから成る出射窓56が、開口部55を塞ぐようにキャップ54の内側に配置され、出射窓56の両面には反射防止膜57が形成される。反射防止膜57は、例えば、半導体レーザーチップ52から出射される660nmのレーザー光に対して1.0%の反射率を有するものであり、戻り光に起因するノイズの発生が防止され、光信号の読み取り精度が向上される(例えば、特許文献1参照。)。   As an example of a conventional semiconductor laser device, a structure shown in FIG. 6 is known. As illustrated, the semiconductor laser device 51 includes, for example, a semiconductor laser chip 52 that emits 660 nm laser light, a case 53, and a cap 54. A part of the cap 54 is located in the laser light emission path from the semiconductor laser chip 52, and an opening 55 is formed in the cap 54 in that region. An exit window 56 made of glass is disposed inside the cap 54 so as to close the opening 55, and antireflection films 57 are formed on both sides of the exit window 56. The antireflection film 57 has, for example, a reflectance of 1.0% with respect to the 660 nm laser light emitted from the semiconductor laser chip 52, and the generation of noise due to the return light is prevented. Is improved (see, for example, Patent Document 1).

また、従来の半導体レーザー装置の他の一実施例として図7に示す構造が知られている。図示の如く、半導体レーザー装置61は、半導体レーザー素子62と、ステム63と、キャップ64とを有する。ステム63は、円形金属板から成り、例えば、その厚さが1〜2mm程度であり、ステム63上面には鋼製の放熱用のブロック65が固着される。そして、ブロック65の側面にはシリコン製のサブマウント66が固着され、サブマウント66の側面には半導体レーザー素子62が、ジャンクションダウンにて固着される。尚、ステム63上面には、半導体レーザー素子62の下面から出射されるレーザー光を受光するモニター用の受光素子67が固着される。   As another example of a conventional semiconductor laser device, a structure shown in FIG. 7 is known. As illustrated, the semiconductor laser device 61 includes a semiconductor laser element 62, a stem 63, and a cap 64. The stem 63 is made of a circular metal plate, and has a thickness of, for example, about 1 to 2 mm. A steel heat dissipating block 65 is fixed to the upper surface of the stem 63. A silicon submount 66 is fixed to the side surface of the block 65, and the semiconductor laser element 62 is fixed to the side surface of the submount 66 by junction down. A monitoring light receiving element 67 for receiving laser light emitted from the lower surface of the semiconductor laser element 62 is fixed to the upper surface of the stem 63.

キャップ64には、円形の窓68が形成され、透明なガラス板69が、円形の窓68を塞ぐようにキャップ64の内側に配置され、半導体レーザー素子62から出射されるレーザー光は、透明なガラス板69を透過する。そして、レーザー発光点70が設けられた半導体レーザー素子62の端面71には、レーザー光の戻り光の反射を防止するための反射防止加工領域72が配置される。反射防止加工領域72は、レーザー加工によって粗面化され、戻り光に起因するノイズの発生が防止される(例えば、特許文献2参照。)。   A circular window 68 is formed in the cap 64, and a transparent glass plate 69 is disposed inside the cap 64 so as to close the circular window 68. Laser light emitted from the semiconductor laser element 62 is transparent. It passes through the glass plate 69. An antireflection processing region 72 for preventing reflection of the return light of the laser light is disposed on the end surface 71 of the semiconductor laser element 62 provided with the laser emission point 70. The antireflection processing region 72 is roughened by laser processing to prevent the occurrence of noise due to return light (see, for example, Patent Document 2).

特開2005−72448号公報(第7−8頁、第3図)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-72448 (page 7-8, FIG. 3) 特開平10−107372号公報(第2−3頁、第1図)Japanese Patent Laid-Open No. 10-107372 (page 2-3, FIG. 1)

先ず、図6に示す従来の半導体レーザー装置51では、半導体レーザーチップ52は、紙面XZ方向の基準面と平行に配置され、半導体レーザーチップ52から出射されるレーザー光の出射方向は、紙面Z軸方向となる。そして、キャップ54に配置された出射窓56は、レーザー光の出射方向に対して垂直面であり、紙面XY方向の基準面と平行に配置される。この構造では、出射窓56に反射したレーザー光の一部が、半導体レーザーチップ52の発光点に戻り、レーザー光の戻り光に起因するノイズが発生する。そのため、半導体レーザー装置51では、前述したように、出射窓56に反射防止膜57が形成され、レーザー光の戻り光を低減し、戻り光による影響を大幅に抑止している。しかしながら、出射窓56に反射防止膜57を形成することで、材料コストや製造コストが嵩むという問題がある。   First, in the conventional semiconductor laser device 51 shown in FIG. 6, the semiconductor laser chip 52 is arranged in parallel with the reference plane in the paper plane XZ direction, and the emission direction of the laser light emitted from the semiconductor laser chip 52 is the Z axis on the paper plane. Direction. The emission window 56 arranged in the cap 54 is a plane perpendicular to the laser beam emission direction and is arranged in parallel with the reference plane in the paper plane XY direction. In this structure, part of the laser light reflected by the emission window 56 returns to the light emitting point of the semiconductor laser chip 52, and noise is generated due to the return light of the laser light. For this reason, in the semiconductor laser device 51, as described above, the antireflection film 57 is formed on the emission window 56 to reduce the return light of the laser light and greatly suppress the influence of the return light. However, the formation of the antireflection film 57 on the exit window 56 has a problem that material costs and manufacturing costs increase.

次に、図7に示す従来の半導体レーザー装置61では、図6に示す従来の半導体レーザー装置51と同様に、透明なガラス板69が、レーザー光の出射方向に対して垂直面であり、紙面XY方向の基準面と平行に配置される。そのため、前述したように、半導体レーザー素子62の端面71に反射防止加工領域72を配置することで、戻り光による影響を抑止している。しかしながら、微細な半導体レーザー素子62の端面71にレーザー加工を行う必要があり、製造コストが嵩み、その製造方法も煩雑化するという問題がある。   Next, in the conventional semiconductor laser device 61 shown in FIG. 7, as in the conventional semiconductor laser device 51 shown in FIG. 6, the transparent glass plate 69 is a plane perpendicular to the laser beam emitting direction, It is arranged in parallel with the reference plane in the XY direction. For this reason, as described above, the antireflection processing region 72 is disposed on the end surface 71 of the semiconductor laser element 62 to suppress the influence of the return light. However, it is necessary to perform laser processing on the end surface 71 of the fine semiconductor laser element 62, which increases the manufacturing cost and complicates the manufacturing method.

本発明の半導体レーザー装置では、レーザー光を出射するレーザーダイオードが固着されたステムと、前記レーザーダイオードが固着された前記ステムの上面側に配置され、前記レーザー光が透過する領域に開口部が形成されたキャップと、前記キャップの開口部を塞ぐように配置されたカバーガラスとを有し、前記キャップの内側面側には、前記開口部の中心軸に対して対称に配置された一対の突起部が形成され、前記カバーガラスは前記突起部と当接し、前記キャップの内側面に対して傾いて配置されることを特徴とする。   In the semiconductor laser device of the present invention, a stem to which a laser diode that emits laser light is fixed, and an upper surface side of the stem to which the laser diode is fixed are formed, and an opening is formed in a region through which the laser light is transmitted. And a pair of protrusions arranged symmetrically with respect to the central axis of the opening on the inner surface side of the cap, the cover glass being disposed so as to close the opening of the cap The cover glass is in contact with the protrusion and is inclined with respect to the inner surface of the cap.

本発明では、カバーガラスが、キャップの内側面に対して傾いて配置されることで、レーザー光の戻り光がLDの発光点に入射せず、戻り光に起因するノイズの発生が防止される。   In the present invention, since the cover glass is disposed to be inclined with respect to the inner side surface of the cap, the return light of the laser light does not enter the light emitting point of the LD, and the generation of noise due to the return light is prevented. .

また、本発明では、カバーガラスに反射防止膜を形成することなく、カバーガラスの配置により戻り光対策を実現することで、材料コスト及び製造コストが大幅に低減される。   Moreover, in this invention, material cost and manufacturing cost are reduced significantly by implement | achieving a return light countermeasure by arrangement | positioning of a cover glass, without forming an antireflection film in a cover glass.

また、本発明では、カバーガラス側に向かって開口部の周端部にバリが形成されることで、低融点ガラスが開口部側のカバーガラス上へと流出することが防止される。   Moreover, in this invention, it is prevented that a low melting glass flows out on the cover glass by the side of an opening by forming a burr | flash in the peripheral edge part of an opening toward the cover glass side.

また、本発明では、カバーガラスの配置により、非点隔差Asに起因する非点収差が低減される。   In the present invention, astigmatism due to the astigmatism As is reduced by the arrangement of the cover glass.

また、本発明では、主に、カバーガラスの配置により、レーザー光の水平方向の見かけ上の焦点位置が調整され、非点隔差Asに起因する非点収差が低減される。   In the present invention, the apparent focal position in the horizontal direction of the laser light is adjusted mainly by the arrangement of the cover glass, and astigmatism due to the astigmatic difference As is reduced.

また、本発明では、前述した構造の半導体レーザー装置を用いることで、簡易な構造にてコストが低減され、戻り光対策が施された光ピックアップ装置が実現される。   Further, in the present invention, by using the semiconductor laser device having the above-described structure, an optical pickup device in which cost is reduced with a simple structure and a countermeasure against returning light is taken is realized.

本発明の実施の形態における光ピックアップ装置の半導体レーザー装置を説明する(A)断面図、(B)断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1A is a cross-sectional view illustrating a semiconductor laser device of an optical pickup device in an embodiment of the present invention, and FIG. 本発明の実施の形態における光ピックアップ装置の半導体レーザー装置を説明する(A)平面図、(B)断面図、(C)断面図である。1A is a plan view, FIG. 1B is a cross-sectional view, and FIG. 1C is a cross-sectional view illustrating a semiconductor laser device of an optical pickup device according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態における光ピックアップ装置の(A)レーザー光を説明する概略図、(B)半導体レーザー装置を説明する断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1A is a schematic diagram for explaining laser light of an optical pickup device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a cross-sectional view for explaining a semiconductor laser device. 本発明の実施の形態における光ピックアップ装置の半導体レーザー装置の取付装置を説明する(A)斜視図、(B)斜視図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS (A) Perspective view and (B) Perspective view for explaining a mounting device for a semiconductor laser device of an optical pickup device in an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態における光ピックアップ装置の光学系を説明する概略図である。It is the schematic explaining the optical system of the optical pick-up apparatus in embodiment of this invention. 従来の実施の形態における光ピックアップ装置の半導体レーザー装置を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the semiconductor laser apparatus of the optical pick-up apparatus in conventional embodiment. 従来の実施の形態における光ピックアップ装置の半導体レーザー装置を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the semiconductor laser apparatus of the optical pick-up apparatus in conventional embodiment.

以下に、本発明の一実施の形態である半導体レーザー装置及びそれを用いた光ピックアップ装置について説明する。以下の説明では、例えば、紙面X軸方向は半導体レーザー装置の横幅方向(ハウジングの幅方向)とし、紙面Y軸方向は半導体レーザー装置の縦幅方向(ハウジングの高さ方向)とし、紙面Z軸方向は半導体レーザー装置の高さ方向(ハウジングの奥行き方向)とする。尚、紙面Z軸方向は、光ピックアップ装置の光軸方向と一致し、LDから出射されるレーザー光の出射方向とも一致する。   Hereinafter, a semiconductor laser device and an optical pickup device using the same according to an embodiment of the present invention will be described. In the following description, for example, the paper surface X-axis direction is the lateral width direction (housing width direction) of the semiconductor laser device, the paper surface Y-axis direction is the vertical width direction (housing height direction) of the semiconductor laser device, and the paper surface Z-axis direction. The direction is the height direction of the semiconductor laser device (the depth direction of the housing). The Z-axis direction on the paper surface coincides with the optical axis direction of the optical pickup device, and also coincides with the emission direction of the laser light emitted from the LD.

先ず、図1(A)及び図1(B)は、CANパッケージのキャップを用いた半導体レーザー装置の一実施例を説明する断面図である。   First, FIGS. 1A and 1B are cross-sectional views for explaining an embodiment of a semiconductor laser device using a cap of a CAN package.

図1(A)は、紙面YZ方向の基準面に対して平行な断面を示す。そして、半導体レーザー装置1は、主に、LDや受光素子等の光半導体素子が搭載されるステム2と、ステム2上面に覆うように配置されるCANパッケージのキャップ3と、キャップ3に設けられた開口部4を塞ぐカバーガラス5と、ステム2から導出するリード6から構成される。   FIG. 1A shows a cross section parallel to the reference plane in the YZ direction on the paper surface. The semiconductor laser device 1 is mainly provided on a stem 2 on which an optical semiconductor element such as an LD or a light receiving element is mounted, a cap 3 of a CAN package disposed so as to cover the upper surface of the stem 2, and the cap 3. A cover glass 5 that closes the opening 4 and a lead 6 that is led out from the stem 2.

ステム2は、例えば、FeやCu等の金属材料を円形状にプレス加工し、形成され、その厚さは1〜2mm程度となる。そして、ステム2上面には、FeやCu等の金属材料から成る放熱用ブロック7が固着される。また、点線にて示すように、ステム2には、その厚み方向(紙面Z軸方向)に貫通する貫通孔8が形成され、その貫通孔8内にはリード6が、例えば、低融点ガラスにて固着される。   The stem 2 is formed by, for example, pressing a metal material such as Fe or Cu into a circular shape and has a thickness of about 1 to 2 mm. A heat radiating block 7 made of a metal material such as Fe or Cu is fixed to the upper surface of the stem 2. Further, as shown by a dotted line, the stem 2 is formed with a through hole 8 penetrating in the thickness direction (Z-axis direction on the paper surface), and the lead 6 is formed in, for example, low melting point glass in the through hole 8. To be fixed.

キャップ3は、例えば、Fe−Ni−Co合金であるコバールを円筒のキャップ状にプレス加工し、形成される。図示したように、キャップ3の上面には、レーザー光が透過するための円形の開口部4が形成され、キャップ3の内側には開口部4を塞ぐようにカバーガラス5が、例えば、低融点ガラスにて固着される。同様に、キャップ3は、ステム2上面に低融点ガラスを用いて固着される。また、ステム2の上面側は、前述したキャップ3の構造により、窒素ガス等の不活性ガスを注入した状態にて気密封止される。尚、キャップ3は、FeやFe−Ni合金から形成される場合でも良い。   The cap 3 is formed by, for example, pressing Kovar, which is an Fe—Ni—Co alloy, into a cylindrical cap shape. As shown in the figure, a circular opening 4 for transmitting laser light is formed on the upper surface of the cap 3, and a cover glass 5 is formed inside the cap 3 so as to close the opening 4, for example, a low melting point. It is fixed with glass. Similarly, the cap 3 is fixed to the upper surface of the stem 2 using low melting point glass. Further, the upper surface side of the stem 2 is hermetically sealed with an inert gas such as nitrogen gas injected by the structure of the cap 3 described above. The cap 3 may be formed of Fe or Fe—Ni alloy.

また、前述したように、キャップ3をプレス加工する際に、開口部4近傍の紙面Y軸方向に2つの突起部11、12が、キャップ3の内側面側に突出するように形成される。突起部11、12は、実質、同じ高さとなるように形成され、カバーガラス5は突起部11、12と当接するように配置される。   Further, as described above, when the cap 3 is pressed, the two protrusions 11 and 12 are formed so as to protrude toward the inner side surface of the cap 3 in the Y-axis direction in the vicinity of the opening 4. The protrusions 11 and 12 are formed so as to have substantially the same height, and the cover glass 5 is disposed so as to contact the protrusions 11 and 12.

図示したように、放熱用ブロック7の側面には、シリコン製のサブマウント9が固着され、そのサブマウント9の側面にはLD10が固着される。LD10の上面(発光点側の側面)は、キャップ3の開口部4側へ配置される。前述した放熱用ブロック7の側面及びサブマウント9の側面は、紙面XZ方向の基準面に対して平行に配置され、LD10から出射されるレーザー光の出射方向は、紙面Z軸方向となる。   As shown in the drawing, a silicon submount 9 is fixed to the side surface of the heat dissipation block 7, and the LD 10 is fixed to the side surface of the submount 9. The upper surface (side surface on the light emitting point side) of the LD 10 is disposed on the opening 4 side of the cap 3. The side surface of the heat dissipation block 7 and the side surface of the submount 9 are arranged in parallel to the reference plane in the paper surface XZ direction, and the emission direction of the laser light emitted from the LD 10 is the Z axis direction of the paper surface.

尚、図示していないが、ステム2の上面には、LD10の下面から出射されるレーザー光を受光するモニター用の受光素子が固着される。   Although not shown, a monitoring light receiving element that receives laser light emitted from the lower surface of the LD 10 is fixed to the upper surface of the stem 2.

図1(B)は、紙面XZ方向の基準面に対して平行な断面を示す。詳細は後述するが、この断面では、カバーガラス5が、紙面XY方向の基準面(キャップ3の内側面)に対して傾いて配置される。この構造により、少なくともLD10側のカバーガラス5に反射防止膜を形成することなく、LD10への戻り光対策が成される。そして、カバーガラス5の紙面XY方向の基準面に対する傾き角度は、突起部11、12(図1(A)参照)の高さにより調節される。   FIG. 1B shows a cross section parallel to the reference plane in the paper plane XZ direction. Although details will be described later, in this cross section, the cover glass 5 is disposed to be inclined with respect to a reference plane (inner side face of the cap 3) in the paper plane XY direction. With this structure, it is possible to take measures against returning light to the LD 10 without forming an antireflection film at least on the cover glass 5 on the LD 10 side. The inclination angle of the cover glass 5 with respect to the reference plane in the paper plane XY direction is adjusted by the height of the protrusions 11 and 12 (see FIG. 1A).

次に、図2(A)は、半導体レーザー装置1の上面側からの図である。尚、カバーガラス5及び突起部11、12は、キャップ3の内側面側に配置されるが、実線にて表示している。   Next, FIG. 2A is a view from the upper surface side of the semiconductor laser device 1. The cover glass 5 and the protrusions 11 and 12 are arranged on the inner surface side of the cap 3, but are indicated by solid lines.

図示したように、一点鎖線13は、半導体レーザー装置1(キャップ3の開口部4)の中心軸を通り、紙面X軸方向に延在する軸であり、二点鎖線14は、半導体レーザー装置1(キャップ3の開口部4)の中心軸を通り、紙面Y軸方向に延在する軸である。一点鎖線13と二点鎖線14と交わり、×印15にて示す点が、半導体レーザー装置1(キャップ3の開口部4)の中心軸となる。そして、LD10の発光点が、×印15にて示す中心軸上に位置するように、LD10はサブマウント9上に固着される。また、突起部11、12は、キャップ3の開口部4の近傍であり、一点鎖線13にて示す紙面X軸上に中心軸に対して対称に配置される。   As illustrated, the alternate long and short dash line 13 is an axis that passes through the central axis of the semiconductor laser device 1 (the opening 4 of the cap 3) and extends in the X-axis direction on the paper surface, and the alternate long and two short dashes line 14 indicates the semiconductor laser device 1. This is an axis that passes through the central axis of the (opening 4 of the cap 3) and extends in the Y-axis direction on the paper surface. A point that intersects with the alternate long and short dash line 13 and the two-dot chain line 14 and is indicated by a cross 15 is the central axis of the semiconductor laser device 1 (the opening 4 of the cap 3). The LD 10 is fixed on the submount 9 so that the light emitting point of the LD 10 is located on the central axis indicated by the x mark 15. Further, the protrusions 11 and 12 are in the vicinity of the opening 4 of the cap 3, and are arranged symmetrically with respect to the central axis on the paper surface X-axis indicated by a one-dot chain line 13.

そして、カバーガラス5は、四方形状に加工され、カバーガラス5の一側面18aは、紙面YZ方向の基準面に対して平行に配置され、カバーガラス5の一側面18bは、紙面XZ方向の基準面に対して平行に配置される。   The cover glass 5 is processed into a quadrilateral shape, one side surface 18a of the cover glass 5 is arranged in parallel to the reference plane in the paper surface YZ direction, and one side surface 18b of the cover glass 5 is a reference material in the paper surface XZ direction. Arranged parallel to the surface.

図2(B)は、二点鎖線14に沿った断面図であり、突起部11、12は、矢印16側からプレス加工により形成され、突起部11、12の高さT1は、実質、同一となる。そして、カバーガラス5は、突起部11、12と当接するように、砂状ハッチングにて示す低融点ガラス17にて固着される。一方、図2(C)は、一点鎖線13に沿った断面図であり、丸印19にて示すように、カバーガラス5の一側辺18aの端部が、キャップ3の内側面と当接するように低融点ガラス17にて固着される。この構造により、カバーガラス5は、キャップ3の内側面に対して少なくとも3箇所にて固定され、安定した状態にて固着される。そして、カバーガラス5は、その一側辺18aの端部を回転軸として突起部11、12の高さT1に応じて紙面XY方向の基準面(キャップ3の内側面)に対する傾き角度が調整される。   FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the two-dot chain line 14, and the protrusions 11 and 12 are formed by pressing from the arrow 16 side, and the heights T1 of the protrusions 11 and 12 are substantially the same. It becomes. The cover glass 5 is fixed by a low melting point glass 17 indicated by sand-like hatching so as to come into contact with the protrusions 11 and 12. On the other hand, FIG. 2C is a cross-sectional view taken along the alternate long and short dash line 13, and the end of one side 18 a of the cover glass 5 abuts on the inner side of the cap 3 as indicated by a circle 19. In this way, it is fixed by the low melting point glass 17. With this structure, the cover glass 5 is fixed to the inner surface of the cap 3 at at least three locations and fixed in a stable state. The inclination angle of the cover glass 5 with respect to the reference plane (inner side surface of the cap 3) in the paper XY direction is adjusted according to the height T1 of the projections 11 and 12 with the end portion of the one side 18a as the rotation axis. The

また、図2(B)及び図2(C)に示すように、キャップ3の開口部4は、矢印16側からキャップ3を打ち抜いて形成される。そのため、開口部4の周囲には、丸印20にて示すように、キャップ3の内側面側へ向かって環状のバリが形成される。そして、カバーガラス5は、前述したように、キャップ3の突起部11、12等の3箇所を用いて位置固定した後、カバーガラス5とキャップ3の内側面との間に低融点ガラス17を流入させる。その後、キャップ3を加熱炉内に配置し、低融点ガラス17が溶融される温度まで加熱することで、キャップ3の開口部4側の封止を行う。このとき、溶融された低融点ガラス17は、カバーガラス5とキャップ3の内側面の間に広がるが、開口部4の内側では、溶融された低融点ガラス17が、その表面張力により、キャップ3のバリ先端とカバーガラス5とを結ぶように形成される。そして、溶融された低融点ガラス17が、バリにより開口部4側へと流出することが防止され、低融点ガラス17は、カバーガラス5とキャップ3間に一定形状にて固定される。そして、カバーガラス5とキャップ3の内側面との間が低融点ガラス17により密閉されることで、特に、青紫色(青色)波長帯400nm〜420nm(例えば405nm))のLDを用いた場合には、塵等の空気中の浮遊物が、LDの発光点に集積し、出力が低下する等の問題が解消される。   2B and 2C, the opening 4 of the cap 3 is formed by punching the cap 3 from the arrow 16 side. Therefore, an annular burr is formed around the opening 4 toward the inner surface of the cap 3 as indicated by a circle 20. As described above, the cover glass 5 is fixed in position using the three portions such as the projections 11 and 12 of the cap 3, and then the low melting point glass 17 is placed between the cover glass 5 and the inner surface of the cap 3. Let it flow. Thereafter, the cap 3 is placed in a heating furnace and heated to a temperature at which the low melting point glass 17 is melted, whereby the opening 4 side of the cap 3 is sealed. At this time, the melted low melting point glass 17 spreads between the cover glass 5 and the inner surface of the cap 3, but inside the opening 4, the melted low melting point glass 17 is cap 3 due to its surface tension. The tip of the burr and the cover glass 5 are connected. The melted low melting point glass 17 is prevented from flowing out toward the opening 4 due to the burr, and the low melting point glass 17 is fixed between the cover glass 5 and the cap 3 in a fixed shape. The space between the cover glass 5 and the inner side surface of the cap 3 is sealed with the low-melting glass 17, particularly when an LD having a blue-violet (blue) wavelength band of 400 nm to 420 nm (for example, 405 nm) is used. This solves the problem that suspended matter in the air such as dust accumulates at the light emitting point of the LD and the output decreases.

また、図2(A)に示すように、開口部4やキャップ3の上面は円形状であるが、カバーガラス5は、四方形状に加工されたものが用いられる。カバーガラス5は、以下に説明する工程により形成される。先ず、例えば、ホウ珪酸ガラスから成る大判状のガラス板を準備し、そのガラス板に対し、例えば、高浸透刃のダイヤモンドカッターを用い、カバーガラス5形状にスクライブを行う。このとき、スクライブ作業では、ガラス板の厚さ方向に切り欠きを形成し、その厚さ方向に垂直クラックを形成する。その後、作業員の手作業により、スクライブ側からガラス板に押圧を加えることで、個々のカバーガラス5へと分割される。つまり、カバーガラスの形状を四方形状とすることで、従前の円形や六角形の形状の場合と比較して、その加工性が大幅に向上される。   As shown in FIG. 2A, the upper surface of the opening 4 and the cap 3 is circular, but the cover glass 5 processed into a quadrilateral shape is used. The cover glass 5 is formed by the steps described below. First, for example, a large glass plate made of borosilicate glass is prepared, and the glass plate is scribed in the shape of the cover glass 5 using, for example, a diamond cutter having a high penetration blade. At this time, in the scribe operation, a notch is formed in the thickness direction of the glass plate, and a vertical crack is formed in the thickness direction. Then, it is divided | segmented into each cover glass 5 by applying a press to a glass plate from the scribe side by a worker's manual work. That is, by making the shape of the cover glass a quadrilateral shape, the workability is greatly improved as compared with the case of a conventional circular or hexagonal shape.

図3(A)は、一般的なLDから出射されるレーザー光の強度分布を説明する概略図である。LDは、レーザー光を出射する活性層を有し、LDから出射されたレーザー光は、この活性層に対して水平方向に分布する水平方向のレーザー光と、活性層に対して垂直方向に分布する垂直方向のレーザー光とを有している。図示したように、水平方向のレーザー光の見かけ上の焦点はxであり、垂直方向のレーザー光の見かけ上の焦点はyであり、焦点xは、焦点yよりもLDの奥方向に位置する。そして、この焦点xと焦点yとの位置の差は非点隔差Asと呼ばれる。通常、垂直方向のレーザー光のレーザー光の広がり角度θ1は、水平方向のレーザー光の広がり角度θ2よりも大きくなり、レーザー光の強度分布は、Y軸方向に大きく広がる楕円状の分布を有している。   FIG. 3A is a schematic diagram illustrating the intensity distribution of laser light emitted from a general LD. The LD has an active layer that emits laser light, and the laser light emitted from the LD is distributed in the horizontal direction in the horizontal direction with respect to the active layer and in the vertical direction with respect to the active layer. And a vertical laser beam. As shown in the figure, the apparent focal point of the horizontal laser beam is x, the apparent focal point of the vertical laser beam is y, and the focal point x is located in the depth direction of the LD from the focal point y. . The difference in position between the focal point x and the focal point y is called astigmatism difference As. Usually, the spread angle θ1 of the laser beam in the vertical direction is larger than the spread angle θ2 of the horizontal laser beam, and the intensity distribution of the laser beam has an elliptical distribution that spreads greatly in the Y-axis direction. ing.

図3(B)に示すように、先ず、カバーガラス5には反射防止膜が形成されていないため、実線21にて示すように、LD10から出射されたレーザー光の一部は、LD10側へと反射される。このとき、カバーガラス5が、傾いて配置されることで、反射された戻り光が、LD10の発光点から離れた領域へと進み、LD10から出射されたレーザー光が、戻り光と干渉することが防止される。その結果、レーザー光の戻り光に起因するノイズの発生が防止され、FFP(Far−Field Pattern)波形が大幅に乱れることはなく、光情報記録媒体への集光性が向上される。そして、光情報記録媒体へのデータの書き込みや光情報記録媒体からのデータの読み取りが精度良く行われる。また、前述したように、カバーガラス5に反射防止膜を形成する必要がないため、材料コストや製造コストが大幅に低減される。   As shown in FIG. 3B, first, since the anti-reflection film is not formed on the cover glass 5, a part of the laser light emitted from the LD 10 is directed to the LD 10 side as indicated by the solid line 21. And reflected. At this time, since the cover glass 5 is disposed at an inclination, the reflected return light travels to a region away from the light emitting point of the LD 10, and the laser light emitted from the LD 10 interferes with the return light. Is prevented. As a result, the generation of noise due to the return light of the laser beam is prevented, the FFP (Far-Field Pattern) waveform is not significantly disturbed, and the light condensing property to the optical information recording medium is improved. Then, data writing to the optical information recording medium and data reading from the optical information recording medium are performed with high accuracy. Moreover, since it is not necessary to form an antireflection film on the cover glass 5 as described above, material costs and manufacturing costs are greatly reduced.

次に、例えば、図3(A)にて前述した水平方向のレーザー光が、紙面X軸方向と一致し、垂直方向のレーザー光が紙面Y軸方向と一致するように、LD10は、サブマウント9の側面上に固着される。そのため、LD10から出射されるレーザー光の強度分布は、紙面Y軸方向に大きく広がる楕円状の分布を有する。そして、この非点隔差Asに起因する非点収差を低減するために、本実施の形態では、非点隔差Asに起因する非点収差とは、逆方向の非点収差を発生させる。つまり、前述した水平方向のレーザー光に対してカバーガラスを傾けて配置することで、水平方向の見かけ上の焦点xが、垂直方向の見かけ上の焦点yへと近づき、非点隔差Asに起因する非点収差が低減される。具体的には、青紫色(青色)波長帯405nmのレーザー光を出射するLD10を用い、LD10の非点隔差Asの2〜3μmであり、カバーガラス5の厚みが、0.25μmであり、その屈折率が1.52の場合、そのレーザー光の水平方向において、カバーガラス5が、紙面XY方向の基準面(光軸に対して垂直面)に対して、LD10側へと10度程度傾いて配置されることで、非点隔差Asに起因する非点収差が大幅に打ち消される方向へと補正される。つまり、本実施の形態では、カバーガラス5が、水平方向のレーザー光を調整する方向に傾けて配置されることで、LD10から出射されるレーザー光の戻り光対策に合わせて、非点隔差Asに起因する非点収差が低減される。   Next, for example, the LD 10 is mounted on the submount so that the horizontal laser beam described above with reference to FIG. 3A matches the X-axis direction of the paper surface and the vertical laser beam matches the Y-axis direction of the paper surface. 9 is fixed on the side surface. Therefore, the intensity distribution of the laser light emitted from the LD 10 has an elliptical distribution that spreads greatly in the Y-axis direction on the paper surface. In order to reduce the astigmatism due to the astigmatism As, in this embodiment, astigmatism in the opposite direction to the astigmatism due to the astigmatism As is generated. That is, by arranging the cover glass so as to be inclined with respect to the above-described horizontal laser light, the apparent focal point x in the horizontal direction approaches the apparent focal point y in the vertical direction, which is caused by the astigmatism As. Astigmatism is reduced. Specifically, the LD 10 that emits a laser beam having a blue-violet (blue) wavelength band of 405 nm is used, the astigmatism As of the LD 10 is 2 to 3 μm, the thickness of the cover glass 5 is 0.25 μm, When the refractive index is 1.52, in the horizontal direction of the laser light, the cover glass 5 is inclined about 10 degrees toward the LD 10 side with respect to the reference plane in the paper XY direction (a plane perpendicular to the optical axis). By arranging, the astigmatism due to the astigmatism As is corrected in a direction that greatly cancels out. In other words, in the present embodiment, the astigmatism As is adjusted in accordance with the countermeasure against the return light of the laser light emitted from the LD 10 by arranging the cover glass 5 tilted in the direction of adjusting the horizontal laser light. Astigmatism due to the is reduced.

次に、図4(A)は、前述した半導体レーザー装置1が取り付けられるLDホルダ22を図示する。LDホルダ22は直方体形状であり、側面23、24は光軸方向に対してXY方向の基準面となり、光軸方向に対して垂直面となる。また、側面25、26は、光軸方向に対してYZ方向の基準面となり、側面27、28は、光軸に対してXZ方向の基準面となる。そして、対向する側面23、24を貫通するように、LDホルダ22には、半導体レーザー装置1と同形状の貫通孔29が形成され、貫通孔29内には、半導体レーザー装置1を位置固定する座面30が形成される。座面30は、側面23、24に平行なXY方向の基準面となる。   Next, FIG. 4A illustrates the LD holder 22 to which the semiconductor laser device 1 described above is attached. The LD holder 22 has a rectangular parallelepiped shape, and the side surfaces 23 and 24 serve as reference planes in the XY direction with respect to the optical axis direction and are perpendicular to the optical axis direction. Further, the side surfaces 25 and 26 become reference planes in the YZ direction with respect to the optical axis direction, and the side surfaces 27 and 28 become reference planes in the XZ direction with respect to the optical axis. A through hole 29 having the same shape as the semiconductor laser device 1 is formed in the LD holder 22 so as to penetrate the opposing side surfaces 23 and 24, and the position of the semiconductor laser device 1 is fixed in the through hole 29. A seating surface 30 is formed. The seat surface 30 serves as a reference surface in the XY direction parallel to the side surfaces 23 and 24.

次に、図4(B)は、LDホルダ22が取り付けられるハウジング31を図示する。ハウジング31のLDホルダ22の取り付け領域には、例えば、LDホルダ22形状に合わせた凹部32が形成される。凹部32内の側面33は、光軸方向に対してXY方向の基準面となり、側面34は、光軸方向に対してYZ方向の基準面となる。側面33には、LDホルダ22の貫通孔29に合わせて開口部35が形成され、三点鎖線にて示すように開口部35の中心軸が光ピックアップ装置の光軸方向と一致する。そして、LDホルダ22内から出射されたレーザー光は、開口部35を介して三点鎖線にて示す光軸上を進む。   Next, FIG. 4B illustrates the housing 31 to which the LD holder 22 is attached. In the attachment region of the LD holder 22 of the housing 31, for example, a recess 32 that matches the shape of the LD holder 22 is formed. The side surface 33 in the recess 32 serves as a reference surface in the XY direction with respect to the optical axis direction, and the side surface 34 serves as a reference surface in the YZ direction with respect to the optical axis direction. An opening 35 is formed on the side surface 33 in alignment with the through hole 29 of the LD holder 22, and the center axis of the opening 35 coincides with the optical axis direction of the optical pickup device as indicated by a three-dot chain line. Then, the laser light emitted from the LD holder 22 travels on the optical axis indicated by a three-dot chain line through the opening 35.

ここで、LDホルダ22のハウジング31への取り付け方法について説明する。先ず、LDホルダ22の側面23とハウジング30の側面33とを当接させ、光ピックアップ装置の光軸方向に対して垂直面(XY方向の基準面)が固定される。尚、この時、LDホルダ22の側面28がハウジング31上に当接し、XZ方向の基準面も固定される。次に、LDホルダ22をX軸方向へ水平移動させ、LDホルダ22の側面26とハウジング31の側面34とを当接させ、YZ方向の基準面が固定される。その後、LDホルダ22をZ軸方向へ水平移動させるように、ハウジング31に対してLDホルダ22を圧入することで、LDホルダ22はハウジング31に固着される。   Here, a method of attaching the LD holder 22 to the housing 31 will be described. First, the side surface 23 of the LD holder 22 and the side surface 33 of the housing 30 are brought into contact with each other, and the vertical surface (reference surface in the XY direction) is fixed with respect to the optical axis direction of the optical pickup device. At this time, the side surface 28 of the LD holder 22 abuts on the housing 31, and the reference surface in the XZ direction is also fixed. Next, the LD holder 22 is moved horizontally in the X-axis direction, the side surface 26 of the LD holder 22 and the side surface 34 of the housing 31 are brought into contact with each other, and the reference surface in the YZ direction is fixed. Thereafter, the LD holder 22 is fixed to the housing 31 by press-fitting the LD holder 22 into the housing 31 so as to horizontally move the LD holder 22 in the Z-axis direction.

前述したように、半導体レーザー装置1がLDホルダ22に取り付けられる際及びLDホルダ22がハウジングへの取り付けられる際に、それぞれXY方向の基準面、XZ方向の基準面、YZ方向の基準面が考慮されて取り付けられることで、LD10から出射されるレーザー光の戻り光対策に合わせて、非点隔差Asに起因する非点収差が低減される。   As described above, when the semiconductor laser device 1 is attached to the LD holder 22 and when the LD holder 22 is attached to the housing, the reference plane in the XY direction, the reference plane in the XZ direction, and the reference plane in the YZ direction are considered. Thus, astigmatism due to the astigmatism As is reduced in accordance with the countermeasure against the return light of the laser light emitted from the LD 10.

最後に、図5を用いて光ピックアップ装置の光学系を説明する。尚、図示した三点鎖線が、光ピックアップ装置の光軸を示し、下記に説明する光学系部品は、光軸に対して位置精度良く配置される。   Finally, the optical system of the optical pickup device will be described with reference to FIG. The illustrated three-dot chain line indicates the optical axis of the optical pickup device, and the optical system components described below are arranged with high positional accuracy with respect to the optical axis.

第1半導体レーザー装置36Aは、第1波長(青紫色(青色)波長帯400nm〜420nm(例えば405nm))のレーザー光を出射する。第2半導体レーザー装置36Bは、第2波長(赤色波長帯645nm〜675nm(例えば、655nm))のレーザー光及び第3波長(赤外波長帯765nm〜805nm(例えば、785nm))のレーザー光を出射する。尚、半導体レーザー装置36A、36Bの構造は、前述した半導体レーザー装置1の構造と同様である。   The first semiconductor laser device 36A emits laser light having a first wavelength (blue-violet (blue) wavelength band 400 nm to 420 nm (for example, 405 nm)). The second semiconductor laser device 36B emits laser light having a second wavelength (red wavelength band 645 nm to 675 nm (for example, 655 nm)) and laser light having a third wavelength (infrared wavelength band 765 nm to 805 nm (for example, 785 nm)). To do. The structures of the semiconductor laser devices 36A and 36B are the same as the structure of the semiconductor laser device 1 described above.

第1回折格子37は、第1半導体レーザー装置36Aと偏光ビームスプリッタ38との間に配置され、第1半導体レーザー装置36Aから出射されるレーザー光が入射する。そして、第1回折格子37は、入射するレーザー光を0次光、+1次回折光、−1次回折光に分離する回折格子と、入射するレーザー光を偏光ビームスプリッタ38の偏光面に対してS偏光の直線偏光光に変換する1/2波長板とから構成される。同様に、第2回折格子39は、第2半導体レーザー装置36Bと偏光ビームスプリッタ38との間に配置され、回折格子と1/2波長板とから構成される。尚、第2回折格子39では、入射するレーザー光を偏光ビームスプリッタ38の偏光面に対してP偏光の直線偏光光に変換する。   The first diffraction grating 37 is disposed between the first semiconductor laser device 36A and the polarization beam splitter 38, and laser light emitted from the first semiconductor laser device 36A is incident thereon. The first diffraction grating 37 includes a diffraction grating that separates incident laser light into 0th-order light, + 1st-order diffracted light, and −1st-order diffracted light, and S-polarized light with respect to the polarization plane of the polarization beam splitter 38. And a half-wave plate that converts the light into linearly polarized light. Similarly, the second diffraction grating 39 is disposed between the second semiconductor laser device 36B and the polarization beam splitter 38, and includes a diffraction grating and a half-wave plate. The second diffraction grating 39 converts incident laser light into P-polarized linearly polarized light with respect to the polarization plane of the polarization beam splitter 38.

カップリングレンズ40は、第2回折格子39と偏光ビームスプリッタ38との間に配置され、入射するレーザー光の発散角度を変換する。図示したように、カップリングレンズ40を用いることで、複数のレーザー光に対してコリメートレンズ42と対物レンズ44を共用することができる。そして、偏光ビームスプリッタ38は、第1回折格子37から入射するS偏光のレーザー光を反射し、カップリングレンズ40から入射するP偏光のレーザー光を透過する。   The coupling lens 40 is disposed between the second diffraction grating 39 and the polarization beam splitter 38, and converts the divergence angle of the incident laser light. As illustrated, by using the coupling lens 40, the collimating lens 42 and the objective lens 44 can be shared for a plurality of laser beams. The polarization beam splitter 38 reflects the S-polarized laser light incident from the first diffraction grating 37 and transmits the P-polarized laser light incident from the coupling lens 40.

ハーフミラー41は、偏光ビームスプリッタ38で反射されて入射するS偏光のレーザー光及び偏光ビームスプリッタ38を透過して入射するP偏光のレーザー光をコリメートレンズ42の方向へ反射する。また、ハーフミラー41は、コリメートレンズ42から入射するレーザー光の戻り光を透過する。そして、コリメートレンズ42は、ハーフミラー41から入射するレーザー光を平行光に変換する。コリメートレンズ42によって変換されたレーザー光の平行光は、1/4波長板43に入射する。   The half mirror 41 reflects the S-polarized laser light incident after being reflected by the polarizing beam splitter 38 and the P-polarized laser light incident through the polarizing beam splitter 38 in the direction of the collimating lens 42. Further, the half mirror 41 transmits the return light of the laser light incident from the collimator lens 42. The collimating lens 42 converts the laser light incident from the half mirror 41 into parallel light. The parallel light of the laser beam converted by the collimator lens 42 enters the quarter wavelength plate 43.

1/4波長板43は、コリメートレンズ42から入射するレーザー光を直線偏光光から円偏光光に変換する。また、1/4波長板43は、対物レンズ44から入射するレーザー光の戻り光を円偏光光から直線偏光光に変換する。そして、対物レンズ44は、1/4波長板43から入射するレーザー光を夫々が対応する光情報記録媒体45の信号記録層に集光させる。   The quarter wavelength plate 43 converts the laser light incident from the collimator lens 42 from linearly polarized light to circularly polarized light. The quarter-wave plate 43 converts the return light of the laser light incident from the objective lens 44 from circularly polarized light to linearly polarized light. The objective lens 44 condenses the laser light incident from the quarter wavelength plate 43 on the signal recording layer of the optical information recording medium 45 to which the objective lens 44 corresponds.

光情報記録媒体45において反射したレーザー光の戻り光は、対物レンズ44によって平行光に変換されて1/4波長板43に入射し、1/4波長板43によって円偏光光から直線偏光光に変換される。そして、直線偏光光となったレーザー光の戻り光は、コリメートレンズ42を透過してハーフミラー41を透過し、検出レンズ46に入射する。   The return light of the laser beam reflected by the optical information recording medium 45 is converted into parallel light by the objective lens 44 and is incident on the quarter wavelength plate 43, and from the circularly polarized light to the linearly polarized light by the quarter wavelength plate 43. Converted. Then, the return light of the laser light that has become linearly polarized light passes through the collimator lens 42, passes through the half mirror 41, and enters the detection lens 46.

検出レンズ46は、レーザー光の戻り光を光検出器47上に集光させるとともに、レーザー光の戻り光に非点収差を発生させてフォーカスエラー信号を生成する。そして、光検出器47は、受光したレーザー光の戻り光を光電変換する。   The detection lens 46 condenses the return light of the laser light on the photodetector 47 and generates astigmatism in the return light of the laser light to generate a focus error signal. And the photodetector 47 photoelectrically converts the return light of the received laser beam.

前述したカバーガラス5が固定されるキャップ3を備える半導体レーザー装置1を用いることで、簡易な構造によりLD10の戻り光対策が施され、光情報記録媒体へのデータの書き込みや光情報記録媒体からのデータの読み取りが精度良く行われる光ピックアップ装置が実現される。   By using the semiconductor laser device 1 including the cap 3 to which the cover glass 5 is fixed as described above, a countermeasure for returning light of the LD 10 is taken with a simple structure, and data writing to the optical information recording medium or from the optical information recording medium is performed. Thus, an optical pickup device that can accurately read the data is realized.

尚、本実施の形態では、カバーガラス5は、紙面XY方向の基準面(キャップ3の内側面)に対して、突起部11、12及びカバーガラス5の一側辺18aの端部の3箇所にて固定され、カバーガラス5の紙面XY方向の基準面に対する傾き角度は、突起部11、12の高さにより調節される場合について説明したが、この場合に限定するものではない。例えば、図2(A)に示すように、開口部4近傍の一点鎖線13上に突起部を形成し、新たな突起部及び突起部11、12の3箇所にてカバーガラス5が固定される場合でも良い。この場合には、新たな突起部の高さを調整することで、カバーガラス5の紙面XY方向の基準面に対する傾き角度が調整される。また、突起部11、12が配置された二点鎖線14が回転軸となることで、カバーガラス5も一定方向に傾けられることで、より効率的に非点隔差Asに起因する非点収差が低減される。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。   In the present embodiment, the cover glass 5 has three portions, that is, the protrusions 11 and 12 and the end portion of the one side 18a of the cover glass 5 with respect to the reference plane (the inner surface of the cap 3) in the paper plane XY direction. In the above description, the inclination angle of the cover glass 5 with respect to the reference plane in the paper plane XY direction is adjusted by the height of the protrusions 11 and 12, but the present invention is not limited to this case. For example, as shown in FIG. 2 (A), a protrusion is formed on the alternate long and short dash line 13 in the vicinity of the opening 4, and the cover glass 5 is fixed at three positions of the new protrusion and the protrusions 11 and 12. Even if it is good. In this case, the inclination angle of the cover glass 5 with respect to the reference plane in the paper XY direction is adjusted by adjusting the height of the new protrusion. Further, since the two-dot chain line 14 in which the protrusions 11 and 12 are arranged serves as a rotation axis, the cover glass 5 is also tilted in a certain direction, so that astigmatism due to the astigmatism As is more efficiently caused. Reduced. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

1 半導体レーザー装置
3 キャップ
4 開口部
5 カバーガラス
10 LD
11、12 突起部
17 低融点ガラス
22 LDホルダ
31 ハウジング
1 Semiconductor Laser Device 3 Cap 4 Opening 5 Cover Glass 10 LD
11, 12 Protrusions 17 Low melting point glass 22 LD holder 31 Housing

Claims (6)

レーザー光を出射するレーザーダイオードが固着されたステムと、
前記レーザーダイオードが固着された前記ステムの上面側に配置され、前記レーザー光が透過する領域に開口部が形成されたキャップと、
前記キャップの開口部を塞ぐように配置されたカバーガラスとを有し、
前記キャップの内側面側には、前記開口部の中心軸に対して対称に配置された一対の突起部が形成され、前記カバーガラスは前記突起部と当接し、前記キャップの内側面に対して傾いて配置されることを特徴とする半導体レーザー装置。
A stem to which a laser diode emitting laser light is fixed;
A cap disposed on the upper surface side of the stem to which the laser diode is fixed, and an opening formed in a region through which the laser light is transmitted;
A cover glass arranged to close the opening of the cap;
A pair of protrusions disposed symmetrically with respect to the central axis of the opening is formed on the inner surface side of the cap, the cover glass abuts on the protrusion, and the inner surface of the cap A semiconductor laser device, wherein the semiconductor laser device is tilted.
前記カバーガラスには、反射防止膜が形成されていないことを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザー装置。 2. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein an antireflection film is not formed on the cover glass. 前記開口部は、前記キャップをその内側面側に打ち抜くことで形成され、前記開口部の周端部には前記内側面側にバリが配置され、
前記カバーガラスと前記キャップとを固着する低融点ガラスは、前記開口部側では、前記バリと前記カバーガラス間を結ぶように形成されることを特徴とする請求項2に記載の半導体レーザー装置。
The opening is formed by punching the cap to the inner surface side, and a burr is disposed on the inner surface side at the peripheral end of the opening,
3. The semiconductor laser device according to claim 2, wherein the low melting point glass for fixing the cover glass and the cap is formed on the opening side so as to connect the burr and the cover glass.
前記開口部の中心軸は前記レーザー光の光軸と一致し、前記キャップの内側面は前記光軸に対して垂直面となり、前記一対の突起部は、前記レーザー光の垂直方向に対して平行となるように配置されることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の半導体レーザー装置。 The central axis of the opening coincides with the optical axis of the laser beam, the inner surface of the cap is a plane perpendicular to the optical axis, and the pair of protrusions are parallel to the vertical direction of the laser beam. The semiconductor laser device according to claim 2, wherein the semiconductor laser device is arranged so as to be 前記カバーガラスは四方形状であり、前記カバーガラスの一側面は、前記レーザー光の垂直方向に対して平行となるように配置され、
前記カバーガラスの一側辺の端部が、前記キャップの内側面と当接し、前記カバーガラスは前記一側辺の端部を回転軸として前記キャップの内側面に対して傾いて配置されることを特徴とする請求項4に記載の半導体レーザー装置。
The cover glass has a four-sided shape, and one side surface of the cover glass is arranged to be parallel to the vertical direction of the laser light,
An end portion of one side edge of the cover glass is in contact with an inner surface of the cap, and the cover glass is inclined with respect to an inner surface surface of the cap with the end portion of the one side edge as a rotation axis. The semiconductor laser device according to claim 4.
少なくとも半導体レーザー装置から出射されるレーザー光により光情報記録媒体へのデータの書き込みまたは前記光情報記録媒体からのデータの読み込みを行う光ピックアップ装置において、
前記半導体レーザー装置は、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の半導体レーザー装置であることを特徴とする光ピックアップ装置。
In an optical pickup device that writes data to an optical information recording medium or reads data from the optical information recording medium by laser light emitted from at least a semiconductor laser device,
6. The optical pickup device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device is the semiconductor laser device according to any one of claims 1 to 5.
JP2010081843A 2010-03-31 2010-03-31 Semiconductor laser device and optical pickup device using the same Pending JP2011216583A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010081843A JP2011216583A (en) 2010-03-31 2010-03-31 Semiconductor laser device and optical pickup device using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010081843A JP2011216583A (en) 2010-03-31 2010-03-31 Semiconductor laser device and optical pickup device using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011216583A true JP2011216583A (en) 2011-10-27

Family

ID=44946046

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010081843A Pending JP2011216583A (en) 2010-03-31 2010-03-31 Semiconductor laser device and optical pickup device using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011216583A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013115363A (en) * 2011-11-30 2013-06-10 Mitsubishi Electric Corp Optical module, optical transmitter receiver, and method of manufacturing optical transmitter receiver
JP2014011442A (en) * 2012-07-03 2014-01-20 Alps Electric Co Ltd Translucent window with lens barrel and optical module
JP2018046268A (en) * 2016-09-07 2018-03-22 セイコーエプソン株式会社 Light emitting element module, atomic oscillator, electronic apparatus, and mobile body
CN112825410A (en) * 2019-11-19 2021-05-21 青岛海信激光显示股份有限公司 Laser device
CN112909730A (en) * 2019-11-19 2021-06-04 青岛海信激光显示股份有限公司 Laser device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013115363A (en) * 2011-11-30 2013-06-10 Mitsubishi Electric Corp Optical module, optical transmitter receiver, and method of manufacturing optical transmitter receiver
JP2014011442A (en) * 2012-07-03 2014-01-20 Alps Electric Co Ltd Translucent window with lens barrel and optical module
JP2018046268A (en) * 2016-09-07 2018-03-22 セイコーエプソン株式会社 Light emitting element module, atomic oscillator, electronic apparatus, and mobile body
CN112825410A (en) * 2019-11-19 2021-05-21 青岛海信激光显示股份有限公司 Laser device
CN112909730A (en) * 2019-11-19 2021-06-04 青岛海信激光显示股份有限公司 Laser device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6097253B2 (en) Three color light source
US7483468B2 (en) Multiple wavelengths semiconductor laser device
JP2645862B2 (en) Semiconductor light emitting device and its applied products
JP2011216583A (en) Semiconductor laser device and optical pickup device using the same
JP4094501B2 (en) Optical pickup device
JP4098951B2 (en) Light source device for optical head
US20060262820A1 (en) Semiconductor laser device and optical pickup apparatus having the device
US6907054B2 (en) Semiconductor laser device
US7414949B2 (en) Semiconductor laser device and optical pickup device
US20030169664A1 (en) Optical pickup device
JP2006338848A (en) Optical integrated module and optical pickup device
JP2004047855A (en) Semiconductor laser equipment, optical pickup, and optical disk drive
JP5076694B2 (en) Semiconductor laser device
JP6380471B2 (en) Three color light source
JP2006041085A (en) Semiconductor laser device and optical pickup unit equipped therewith
JP2008097808A (en) Optical head device and its manufacturing method
JPH04280487A (en) Semiconductor laser equipment
US6922425B2 (en) Semiconductor laser device and optical pickup device
JP3599917B2 (en) Semiconductor laser device
WO2023112993A1 (en) Optical device and method for manufacturing optical device
US8077587B2 (en) Laser attachment device and optical pick-up device using the same
JPH02213189A (en) Semiconductor laser device
US20050162994A1 (en) Two-wavelength optical element
US20110051773A1 (en) Semiconductor laser device
JP3157596B2 (en) Light head