JP2011215452A - 液晶装置の製造方法、液晶装置、および、液晶装置を備えた電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】簡単な構成で放電による回路構成の損傷を防止できる反射型液晶パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】ＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路および画素電極が積層された積層領域３１７Ｃを含む表示素子部３１７が一面に複数配列形成され、隣り合う周縁電極３１７Ｂが離間する素子側マザー基板と、この素子側マザー基板の一面に対向配置され、素子側マザー基板の一面に対向する対向面に透明電極が設けられた対向側マザー基板と、を用い、素子側マザー基板の周縁電極３１７Ｂは、外周縁から隣接する他の周縁電極３１７Ｂに向けて突出し先端に向けて幅狭となる放電誘発部３１７Ｅを有する。
【選択図】図４

Description

本発明は、液晶装置の製造方法、液晶装置、および、液晶装置を備えた電子機器に関するものである。

プロジェクター、デジタルカメラのビューファインダー等の電子機器におけるカラー画像表示部には、液晶装置等の電気光学装置が使用されている。近年、外光利用による省電力化、画素間の隙間を小さくして高品質な画像を表示できるという観点から反射型の液晶装置が注目されている。
この反射型の液晶装置は、一面に駆動回路、反射電極、および駆動回路により動作する液晶を含む表示素子部を表面に積層形成した素子基板と、この素子基板の一面と対向配置され、素子基板との対向面に透明電極が形成された対向基板と、これらの基板間に密閉封入される液晶素子とを含んで構成されている（例えば、特許文献１参照）。
このような反射型の液晶装置を製造する場合、単結晶シリコンやガラス等のマザー基板上に、複数の駆動回路および反射電極を積層形成し、表示素子部を構成する領域の回りにシール材を配置した後、シール材によって対向基板を貼り合わせ、液晶装置毎に切断する。
ここで、特許文献１に記載の技術では、切断後に液晶素子を注入する工程を実施するため、各液晶装置の反射電極の一部を、マザー基板の切断線まで拡張しておき、この反射電極の拡張された部分に沿ってシール材をマザー基板の切断線まで突出させる。
切断後の液晶装置は、この拡張部分で液晶注入口が開口形成されることとなるので、ここから液晶素子を注入し、最後にシール材を密閉することにより、液晶装置が完成する。
また、近年、プロジェクター等の電子機器では、機器の小型化に伴い、このような反射型の液晶装置の小型化、集積化も促進されており、反射電極の拡張された分部の直下まで駆動回路が形成されるようになってきている。

特開２００５−１５６７９６号公報

ところで、上記特許文献１に記載の製造方法では、シール材が隣接した液晶表示素子部へ侵入して液晶表示素子部の分離時に隣接する液晶表示素子部を破壊する不都合を防止するため、液晶注入口に設けた反射電極の突出形状を、隣り合う反射電極と離間させている。
このため、特許文献１に記載のような液晶表示素子部の周囲の反射電極がそれぞれ独立する構成では、例えば単結晶シリコンマザー基板に配向膜を形成するなどの製造工程中、各液晶表示素子部や周囲の反射電極に静電気が帯電しやすい。特に、近年の液晶装置の小型化や集積化により、帯電した静電気が放電して回路構成を損傷するおそれがある。

本発明は、このような点に鑑みて、簡単な構成で放電による回路構成の損傷を防止できる液晶装置の製造方法、液晶装置、および、液晶装置を備えた電子機器を提供することを目的とする。

本発明に記載の液晶装置の製造方法は、一面に駆動回路および前記駆動回路に積層された反射電極を含む表示素子部が設けられた素子基板と、前記素子基板の一面に対向配置され、前記素子基板の一面に対向する対向面に透明電極が形成された対向基板と、前記素子基板と前記対向基板との間に、前記表示素子部を囲んで設けられたシール材と、前記素子基板と前記対向基板との間に挟持され、前記シール材で囲まれた領域内に封入された液晶と、を備えた液晶装置の製造方法であって、駆動回路および反射電極が積層された積層領域を含む表示素子部が一面に複数配列形成され、隣り合う反射電極が離間する素子側マザー基板と、前記素子側マザー基板の一面に対向配置され、前記素子側マザー基板の一面に対向する対向面に透明電極が設けられた対向側マザー基板と、を用い、前記素子側マザー基板における各表示素子部をそれぞれ囲む領域、または、前記対向側マザー基板における各表示素子部に対応する対向位置をそれぞれ囲む領域に、シール材を設けるシール材形成工程と、前記素子側マザー基板および前記対向側マザー基板を貼り合わせて貼り合わせ体を形成する貼り合わせ工程と、前記貼り合わせ体を各液晶装置毎に切断する切断工程と、貼り合わせ工程の前または切断工程の後に、シール材で囲まれた領域内に液晶を配置する液晶配置工程と、を実施し、前記素子側マザー基板の反射電極は、外周縁から隣接する他の反射電極に向けて突出し先端に向けて幅狭となる放電誘発部を有することを特徴とする。
この発明では、駆動回路および該駆動回路に積層された反射電極を含み駆動回路および反射電極が積層された積層領域を含む表示素子部が一面に複数配列形成され、かつ隣り合う反射電極が離間する素子側マザー基板であって、反射電極の外周縁に、隣接する他の反射電極に向けて突出し先端に向けて幅狭となる放電誘発部を設けたものを用いて製造する。このことにより、シール材が駆動回路や隣り合う反射電極に亘って設けられることによる回路構成の損傷を防止するために反射電極を離間して設けたことにより、製造時に静電気が反射電極に帯電しても、放電誘発部で積極的に放電される。このため、先端に向けて幅狭に突出する簡単な構成で、例えば表示素子部で放電するなどの駆動回路の損傷を防止でき、安定した特性を提供できる。

そして、本発明では、前記放電誘発部は、先端が互いに対向する状態に、隣接する反射電極の外周縁にそれぞれ対をなして設けられていることが好ましい。
この発明では、隣接する反射電極の外周縁にそれぞれ対をなして設ける放電誘発部の先端が互いに対向するので、対をなす放電誘発部間で帯電する静電気を積極的に放電できる。このため、他の部位で放電して駆動回路が損傷する不都合を、簡単な構成で防止できる。

また、本発明では、前記素子側マザー基板は、前記素子側マザー基板は、前記反射電極の外周縁に突出し、前記素子基板を切り出す際に切断されて液晶注入口を形成する拡張部がそれぞれ設けられたものが用いられ、前記放電誘発部は、この拡張部に設けられていることが好ましい。
この発明では、反射電極の外周縁に素子基板を切り出す際に切断されて液晶注入口を形成する拡張部を設けているので、この拡張部に亘ってシール材を設けて液晶が注入される液晶注入口を形成することで、液晶注入口が確実に形成でき、液晶を漏れなく注入できる。さらに、隣接する反射電極は離間するので、シール材が隣接する反射電極に亘って設けられることで素子側マザー基板を切断する際にシール材にて駆動回路を破損するという不都合も防止できる。そして、この液晶注入口を形成する拡張部に、放電誘発部を設けているので、隣り合う反射電極までの距離が短くなるので、容易に放電できるための間隙で形成する放電誘発部を小さく形成でき、製造性の向上が図れる。

本発明に記載の液晶装置は、前述したいずれかの液晶装置の製造方法により形成されたことを特徴とする。
この発明では、表示素子部での放電による回路構成の損傷などを防止でき安定した特性を簡単な構成で提供できる本発明の液晶装置の製造方法で製造しているので、安定した特性を提供でき、簡単な構成による製造性の向上も図れる。

本発明に記載の電子機器は、前述した液晶装置を備えたことを特徴とする。
この発明では、安定した特性を提供でき、簡単な構成による製造性の向上も図れる本発明の液晶装置を備えているので、安定した特性を提供できる。

本発明の一実施形態におけるプロジェクターの概略構成を示す模式図。 上記実施形態における反射型液晶パネルの概略構成の一部を示す断面図。 上記実施形態における素子側マザー基板を拡大した一部を示す平面図。 上記実施形態におけるシール材を設けた素子側マザー基板の一部を示す平面図。 上記実施形態における素子側マザー基板の放電誘発部近傍を示す平面図。 上記実施形態における製造方法を示すフローチャート。 本発明の他の実施形態における素子側マザー基板の放電誘発部近傍を示す平面図。

以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
〔プロジェクターの構成〕
図１に示すように、プロジェクター１は、光源から射出される光束を画像情報に応じて変調してカラー画像（画像光）を形成し、このカラー画像をスクリーンＳ上に拡大投射する。
このプロジェクター１は、光源部１２、インテグレータレンズ１３および偏光変換素子１４を備えた偏光照明装置１１と、この偏光照明装置１１から出射されたＳ偏光光束をＳ偏光光束反射面１６により反射させる偏光ビームスプリッター１５と、偏光ビームスプリッター１５のＳ偏光光束反射面１６から反射された光のうち、青色光（Ｂ）の成分を分離するダイクロイックミラー１７と、青色光が分離された後の光束のうち、赤色光（Ｒ）の成分を反射させて分離するダイクロイックミラー１８とを有している。また、プロジェクター１は、各色光が入射する３つの反射型液晶装置３０（赤色光側の反射型液晶装置を３０Ｒ、緑色光側の反射型液晶装置を３０Ｇ、青色光側の反射型液晶装置を３０Ｂとする）を備えている。

この３つの反射型液晶装置３０は、シリコン基板上に液晶が形成されたいわゆるＬＣＯＳ(Liquid Crystal On Silicon)で構成されている液晶装置としての反射型液晶パネル３１（反射型液晶装置３０と同様に、各色光側の反射型液晶パネルを３１Ｒ，３１Ｇ，３１Ｂとする）を備える。そして、各反射型液晶装置３０は、図示しない各偏光分離素子を透過した光束の光軸に対して反射型液晶パネル３１が略直交した状態でそれぞれ配置される。
反射型液晶パネル３１は、図示しない制御装置からの駆動信号に応じて、液晶の配向状態が制御され、入射する光の光束の偏光方向を変調し、ダイクロイックミラー１７，１８に向けて反射する。
なお、反射型液晶パネル３１の詳細な構成については、後述する。

そして、プロジェクター１は、３つの反射型液晶装置３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂにて変調された光をダイクロイックミラー１７，１８、および偏光ビームスプリッター１５にて合成した後、投射レンズ１９を介して合成した合成光をスクリーンＳに投写する。

〔反射型液晶パネルの詳細な構成〕
次に、反射型液晶パネルの詳細な構成を図面に基づいて説明する。
図２は、反射型液晶パネルの概略構成の一部を示す断面図である。

反射型液晶パネル３１は、図２に示すように、駆動回路としてのＭＯＳ型電界効果トランジスター（以下、ＭＯＳ−ＦＥＴ）アレイ回路３１１が一面に形成された素子基板３１０と、透明電極３２１が一面に形成された対向基板３２０との間に、液晶３３０を封入した構造である。
液晶３３０としては、エステル系、ビフェニル系、フェニルシクロヘキサン系、フェニルピリジン系、ジオキサン系など、各種材料を単独または適宜組み合わせて利用することができる。

素子基板３１０は、例えばシリコンウエハーである素子側マザー基板３０１から切り出された板状に形成されている。なお、シリコンウエハーに限らず、対向基板３２０のように石英ガラスを用いてもよい。この素子基板３１０の一面には、ＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１が設けられている。
ＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１は、ＭＯＳ−ＦＥＴ３１２とコンデンサー３１３とが配線３１４により直列接続され、マトリックス状に配列された複数の直列回路を備えている。各ＭＯＳ−ＦＥＴ３１２は、ソース３１２Ｓ、ゲート３１２Ｇおよびドレイン３１２Ｄを備え、ドレイン３１２Ｄが配線３１４を介してコンデンサー３１３に接続され、ゲート３１２Ｇは図示しない液晶駆動用のドライバーＩＣからの配線に接続されている。また、ＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１は、素子基板３１０の一面に設けられた絶縁層３１５および絶縁層３１５内に設けられた遮光層３１６を備えている。遮光層３１６は、素子基板３１０の一面に沿った層状に設けられ、一部が切り欠かれている。
そして、ＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１の絶縁層３１５上には、各直列回路の配置位置に応じてマトリックス状に配列された反射電極としての複数の画素電極３１７Ａが形成され、各画素電極３１７Ａ上には液晶３３０を含む複数の表示素子部３１７がマトリックス状に積層して設けられている。画素電極３１７Ａは、遮光層３１６の切り欠かれた部分を介して、配線３１４によりＭＯＳ−ＦＥＴ３１２およびコンデンサー３１３の直列回路に接続されている。これらＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１、画素電極３１７Ａおよび表示素子部３１７が積層する領域が、積層領域３１７Ｃとなる。
また、ＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１の絶縁層３１５上には、マトリックス状に配列された複数の画素電極３１７Ａの周囲に位置して、反射電極である周縁電極３１７Ｂ（図３参照）が積層して設けられている。
なお、素子基板３１０には、少なくとも表示素子部３１７に対応する領域に、配向処理が施されて図示しない配向膜が設けられている。

対向基板３２０は、例えば石英ガラスなどのガラス基板である対向側マザー基板３０２から切り出された板状に形成されている。
そして、対向基板３２０の一面、すなわち素子基板３１０に対向する対向面には、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などのスパッタリングにより、透明電極３２１が設けられている。

反射型液晶パネル３１には、素子基板３１０と対向基板３２０との間に、表示素子部３１７の周囲を囲む状態で環状に設けられた図２では図示しないシール材が設けられている。
シール材としては、例えばアクリル系樹脂およびエポキシ系樹脂を配合した光・熱硬化性樹脂が利用できる。そして、シール材は、所定の粒径のシリカ球や樹脂球などのギャップスペーサーと、シリカ球や樹脂球の表面に金等の導電性材料が被覆形成された導電性のギャップスペーサーとを含み、これらのギャップスペーサーにより、素子基板３１０と対向基板３２０との対向距離を保持している。なお、シール材としては、このようなものに限られるものではなく、各種材料を利用できる。
そして、反射型液晶パネル３１は、シール材と素子基板３１０と対向基板３２０とにより囲まれた領域に液晶３３０が封入されている。
また、反射型液晶パネル３１には、表示素子部３１７の各ＭＯＳ−ＦＥＴ３１２をオンオフさせる駆動電圧を印加するための複数の端子３１８（図３参照）が設けられている。なお、図３において、説明の都合上、端子３１８を１１個設けた構成を示すが、この限りではない。

〔反射型液晶パネルの製造方法〕
次に、反射型液晶パネル３１の製造方法を、図面を参照して説明する。
図３は、素子側マザー基板を拡大した一部を示す平面図である。図４は、シール材を設けた素子側マザー基板の一部を示す平面図である。図５は、素子側マザー基板の放電誘発部近傍を示す平面図である。図６は、製造方法を示すフローチャートである。
なお、図３〜５は、素子側マザー基板の切断位置を一点鎖線および二点鎖線で示し、対向側マザー基板の切断位置を一点鎖線および点線で示す。

まず、製造に際しての前処理として、図６に示すように、前処理工程Ｓ１を実施する。この前処理工程Ｓ１は、素子側マザー基板３０１および対向側マザー基板３０２とを、予め製造しておく。具体的には、シリコンウエハーの一面にＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１および図示しない配向膜が積層形成された素子側マザー基板３０１と、ガラス基板の一面に透明電極３２１が設けられた対向側マザー基板３０２とを製造しておく。
ここで、素子側マザー基板３０１は、図３に示すように、積層するＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１、表示素子部３１７、および、表示素子部３１７の周縁に位置して設けられた反射電極である周縁電極３１７Ｂが、反射型液晶パネル３１毎に複数配列形成されている。周縁電極３１７Ｂは、それぞれ隣接する周縁電極３１７Ｂと電気的に接続されていない独立した島状構造に形成されている。

そして、周縁電極３１７Ｂにおける端子３１８が設けられた側と反対側の縁の略中央には、舌片状に一連に突出する拡張部３１７Ｄが設けられている。
この拡張部３１７Ｄは、隣接する周縁電極３１７Ｂとの間隙が４００μｍとなるように形成されている。拡張部３１７Ｄと隣接する周縁電極３１７Ｂとの間隙は、１００μｍ以上、好ましくは２００μｍ以上となるように離間して形成することが好ましい。これは、拡張部３１７Ｄが隣接する周縁電極３１７Ｂの外周縁に近付きすぎると、後述する素子側マザー基板３０１の切断の際、素子側マザー基板３０１および周縁電極３１７Ｂに加わる応力により、周縁電極３１７Ｂが引っ張られてＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１が損傷するおそれがあるためである。

さらに、周縁電極３１７Ｂには、拡張部３１７Ｄの先端縁の略中央に、先端に向けて幅狭となる平面視で略三角形状の放電誘発部３１７Ｅが、一連に突出形成されている。また、周縁電極３１７Ｂには、図３〜図６に示すように、隣接する周縁電極３１７Ｂに設けられた放電誘発部３１７Ｅに対向して、同形状に一連に突出する放電誘発部３１７Ｅが対をなすように設けられている。
これら放電誘発部３１７Ｅは、底辺が１５０μｍ、高さが１９０μｍの三角形状に形成されている。また、対をなす放電誘発部３１７Ｅ間の間隙は、２０μｍに設計されている。これら対をなす放電誘発部３１７Ｅは、先端間の間隙が１００μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下で形成されていることが好ましい。

そして、前処理工程Ｓ１の後、シール材形成工程Ｓ２が実施される。
すなわち、シール材形成工程Ｓ２では、あらかじめ積層領域３１７Ｃが複数配列形成された素子側マザー基板３０１に、図４に示すように、拡張部３１７Ｄの突出する先端縁を始点および終点として、拡張部３１７Ｄに亘って各表示素子部３１７の周囲をそれぞれ囲んでシール材３４０を設ける。

このシール材形成工程Ｓ２の後、貼り合わせ工程Ｓ３が実施される。
具体的には、素子側マザー基板３０１に、対向側マザー基板３０２を重ね合わせる。この重ね合わせの際、シール材３４０が対向側マザー基板３０２の間隙が均一な所定の値となるように、例えば２０ｋＰａで重ね合わせた方向で加圧する。そして、１５０℃で１時間加熱してシール材３４０を硬化させる。シール材３４０としては、熱硬化性のエポキシ樹脂を使用する。

この貼り合わせ工程Ｓ３の後、切断工程Ｓ４が実施される。
具体的には、切断工程Ｓ４では、反射型液晶パネル３１の外周縁に対応する位置（図４〜６中の一点鎖線、二点鎖線および点線）に、スクライバー（scriber）で罫書き線を刻みつけた後、素子側マザー基板３０１および対向側マザー基板３０２のそれぞれに面外方向から力を作用させ、液晶３３０が配置されていない反射型液晶パネル３１である貼り合わせ体を切断する。すなわち、図３〜５中の一点鎖線および二点鎖線で示す位置で素子側マザー基板３０１を切断し、図３〜５中の一点鎖線および点線で示す位置で対向側マザー基板３０２を切断し、シール材３４０を介して素子基板３１０と対向基板３２０とが貼り合わされた図示しない貼り合わせ体を切断する。
この貼り合わせ体は、切断位置（図３〜５中の二点鎖線）に拡張部３１７Ｄおよびシール材３４０が位置するので、貼り合わせ体の外周縁に、シール材３４０と素子基板３１０と対向基板３２０とにて構成された液晶注入口３１７Ｆ（図４，５参照）が開口形成する状態となっている。

この切断工程Ｓ４の後、液晶配置工程Ｓ５が実施される。
具体的には、液晶配置工程Ｓ５では、例えば１３３．３２２Ｐａ（１Torr）程度まで減圧された環境下で、切断工程Ｓ４で切断した貼り合わせ体の液晶注入口３１７Ｆから液晶３３０を注入する。そして、大気圧下に解放後、液晶注入口３１７Ｆを封止して、反射型液晶パネル３１が製造される。

〔実施形態の作用効果〕
上述したように、上記実施形態では、ＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１、画素電極３１７Ａおよび表示素子部３１７が積層する積層領域３１７Ｃが一面に複数配列形成され、かつ表示素子部３１７の周囲に設けられた周縁電極３１７Ｂが隣り合う周縁電極３１７Ｂと離間する島状構造に形成された素子側マザー基板３０１として、周縁電極３１７Ｂの外周縁に、隣接する他の周縁電極３１７Ｂに向けて突出し先端に向けて幅狭となる放電誘発部３１７Ｅを設けたものを用いる。
すなわち、シール材３４０がＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１や隣り合う周縁電極３１７Ｂに亘って設けられることによるＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１の損傷などを防止するために周縁電極３１７Ｂを離間した島状構造に設ける。さらに、配向膜の形成などの製造時に発生する静電気が島状構造の周縁電極３１７Ｂに帯電しても、放電誘発部３１７Ｅで積極的に放電できる構成としている。
このため、先端に向けて幅狭に突出する簡単な構成の放電誘発部３１７Ｅで、例えば表示素子部３１７で放電するなどによるＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１の損傷を防止でき、安定した特性を提供できる。このため、製造時の製品の歩留まりが向上してコストの低減も図れる。

そして、上記実施形態では、隣接する周縁電極３１７Ｂの外周縁に、先端が互いに対向し対をなす放電誘発部３１７Ｅをそれぞれ設けている。
このため、対をなす放電誘発部３１７Ｅ間で、周縁電極３１７Ｂに帯電する静電気を積極的に放電できる。したがって、他の部位で放電してＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１が損傷する不都合を、簡単な構成で防止できる。

さらに、上記実施形態では、周縁電極３１７Ｂの外周縁に素子基板３１０を切り出す際に切断される拡張部３１７Ｄを設け、表示素子部３１７を囲み拡張部３１７Ｄに亘ってシール材３４０を設けて液晶３３０が注入される液晶注入口３１７Ｆを形成している。
このため、素子側マザー基板３０１から切り出した素子基板３１０の外周縁にシール材３４０の端部が位置する。このことにより、液晶注入口３１７Ｆが確実に構成され、液晶３３０を漏れなく注入できる。さらに、隣接する周縁電極３１７Ｂは離間するので、シール材３４０が隣接する周縁電極３１７Ｂに亘って設けられることで素子側マザー基板３０１を切断する際にシール材３４０にてＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１を破損するなどの不都合も防止できる。

そして、上記実施形態では、拡張部３１７Ｄに放電誘発部３１７Ｅを設けている。
このため、隣り合う周縁電極３１７Ｂまでの距離が短い位置に設けているので、容易に放電できるための間隙となる放電誘発部３１７Ｅを小さく形成でき、製造性の向上が図れる。

また、上記実施形態では、シール材３４０として導電性材料を含有するものを用いた。
このことにより、素子基板３１０のＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路３１１と、対向基板３２０の透明電極３２１との電気的導通が得られる。このため、電気的導通の為の構成を別途設ける必要がなく、表示素子部３１７の画素毎にＭＯＳ−ＦＥＴ３１２をオンオフ可能な回路構成が得られ、製造性を向上できる。特に、導電性材料が、シリカ球のようにギャップスペーサーとして機能する為に所定の粒径に形成したものを用いることにより、シリカ球を用いることなく導電性材料のみで、所定の距離のセルギャップに設定でき、製品間での品質の安定化が得られる。

〔実施形態の変形例〕
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
すなわち、放電誘発部３１７Ｅとして、隣接する周縁電極３１７Ｂに、先端が互いに対向して対をなすようにそれぞれ設けて説明したが、例えば図７に示すように、先端が互いに対向せず、互い違いに隣接する周縁電極３１７Ｂの外周縁に対向するように形成してもよい。なお、この場合、積極的に放電させるために間隙を所定の寸法以下に設定することが好ましいことから、距離が狭くなる位置である拡張部３１７Ｄに設けることが好ましい。そして、この場合の間隙の距離としては、５０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下とすることが好ましい。
さらに、隣接する周縁電極３１７Ｂの外周縁に向けて突出する放電誘発部３１７Ｅとしては、１つのみに限らず、複数設けてもよい。
そして、平面視で三角形状に形成したが、例えば先端部分のみ、先端に向けて幅狭となる三角形状としてもよい。さらには、次第に幅狭となる形状としては、二等辺三角形のような形状に限らず、直角三角形のように片側のみ傾斜する形状、さらにはフォーク状に複数突出する形状としてもよい。

また、周縁電極３１７Ｂに拡張部３１７Ｄを設けて液晶注入口３１７Ｆを形成する構成を例示したが、拡張部３１７Ｄを有しない構成としてもよい。
この構成の場合、反射型液晶パネル３１を製造する際には、表示素子部３１７の周囲を囲む環状にシール材３４０を形成した後、シール材３４０で囲まれた領域に液晶３３０を滴下して配置する。この後、例えば１３３．３２２Ｐａ（１Torr）程度の減圧下で対向側マザー基板３０２を貼り合わせてシール材３４０を硬化させ、素子側マザー基板３０１および対向側マザー基板３０２を所定の位置で切断して反射型液晶パネル３１を分離すればよい。
このような拡張部３１７Ｄを有しない周縁電極３１７Ｂでも、周縁電極３１７Ｂの外周縁に、隣接する周縁電極３１７Ｂの外周縁に向けて突出する放電誘発部３１７Ｅを設ければ、上述した実施形態と同様の作用効果を奏する。
さらに、この拡張部３１７Ｄを設けない構成では、シール材３４０が環状に形成されて切断位置を跨って設けられない。このため、切断時にシール材３４０に引張力が作用せず、シール材３４０に作用する引張力にて周縁電極３１７Ｂなどに引張力が作用して回路構成を損傷するなどの不都合も生じない。

そして、本発明では、ギャップスペーサーおよび導電性のギャップスペーサーを含有するシール材３４０を用いたが、この限りではない。
例えば、シール材３４０とは別体のギャップスペーサーを用い、ギャップスペーサーを含有しないシール材３４０を用いてもよい。また、素子基板３１０と対向基板３２０との電気的導通が得られる別構成を設け、シール材３４０には導電性の材料を含有しない構成としてもよい。
さらに、熱硬化性のエポキシ樹脂に限らず、光硬化性のアクリル樹脂および熱硬化性のエポキシ樹脂を配合したもの、あるいは光硬化性のアクリル樹脂のみのものでもよい。

また、素子側マザー基板３０１にシール材３４０を設けて説明したが、対向側マザー基板３０２に形成してもよい。
特に、拡張部３１７Ｄを有しない構成においては、対向側マザー基板３０２に、貼り合わされる素子側マザー基板３０１の表示素子部３１７に対応する対向位置を囲む位置に環状にシール材３４０を設ける。そして、このシール材３４０が設けられた対向側マザー基板３０２のシール材３４０に囲まれた対向位置内に、液晶３３０を滴下して素子側マザー基板３０１を貼り合わせてもよい。

そして、上記実施形態では、三板式のプロジェクター１で使用される反射型液晶パネル３１であり、各反射型液晶パネル３１は単色を光変調する構成について説明したが、この限りではない。すなわち、石英ガラス基板上にＲＧＢの三色のカラーフィルターを設けた反射型液晶パネルとしてもよい。このようなカラーフィルターを備えた反射型液晶パネルは、例えば、デジタルカメラ等のビューファインダーとして好適に利用することができる。さらには、反射型液晶パネル３１を設けた電子機器として、携帯型ピコプロジェクター、ヘッドマウントディスプレイ、例えば車両のフロントガラスに投影される車載型のヘッドアップディスプレイ等にも適用できる。

１…電子機器としてのプロジェクター、３１…液晶装置としての反射型液晶パネル、３０１…素子側マザー基板、３０２…対向側マザー基板、３１０…素子基板、３１１…駆動回路としてのＭＯＳ−ＦＥＴアレイ回路、３１７…表示素子部、３１７Ｂ…反射電極としての周縁電極、３１７Ｃ…積層領域、３１７Ｄ…拡張部、３１７Ｅ…放電誘発部、３１７Ｆ…液晶注入口、３２０…対向基板、３２１…透明電極、３３０…液晶、３４０…シール材

Claims (5)

1. 一面に駆動回路および前記駆動回路に積層された反射電極を含む表示素子部が設けられた素子基板と、
   前記素子基板の一面に対向配置され、前記素子基板の一面に対向する対向面に透明電極が形成された対向基板と、
   前記素子基板と前記対向基板との間に、前記表示素子部を囲んで設けられたシール材と、
   前記素子基板と前記対向基板との間に挟持され、前記シール材で囲まれた領域内に封入された液晶と、を備えた液晶装置の製造方法であって、
   駆動回路および反射電極が積層された積層領域を含む表示素子部が一面に複数配列形成され、隣り合う反射電極が離間する素子側マザー基板と、
   前記素子側マザー基板の一面に対向配置され、前記素子側マザー基板の一面に対向する対向面に透明電極が設けられた対向側マザー基板と、を用い、
   前記素子側マザー基板における各表示素子部をそれぞれ囲む領域、または、前記対向側マザー基板における各表示素子部に対応する対向位置をそれぞれ囲む領域に、シール材を設けるシール材形成工程と、
   前記素子側マザー基板および前記対向側マザー基板を貼り合わせて貼り合わせ体を形成する貼り合わせ工程と、
   前記貼り合わせ体を各液晶装置毎に切断する切断工程と、
   貼り合わせ工程の前または切断工程の後に、シール材で囲まれた領域内に液晶を配置する液晶配置工程と、を実施し、
   前記素子側マザー基板の反射電極は、外周縁から隣接する他の反射電極に向けて突出し先端に向けて幅狭となる放電誘発部を有する
   ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
2. 請求項１に記載の液晶装置の製造方法であって、
   前記放電誘発部は、先端が互いに対向する状態に、隣接する反射電極の外周縁にそれぞれ対をなして設けられている
   ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
3. 請求項１または請求項２に記載の液晶装置の製造方法であって、
   前記素子側マザー基板は、前記反射電極の外周縁に突出し、前記素子基板を切り出す際に切断されて液晶注入口を形成する拡張部がそれぞれ設けられたものが用いられ、
   前記放電誘発部は、この拡張部に設けられている
   ことを特徴とする液晶装置の製造方法。
4. 請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の液晶装置の製造方法により形成された
   ことを特徴とする液晶装置。
5. 請求項４に記載の液晶装置を備えた
   ことを特徴とする電子機器。

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