JP2011210829A - Method of manufacturing laminated electronic component - Google Patents

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Masahiko Sugimoto
昌彦 杉本
Masujiro Seki
益二朗 関
Hiroshi Yagi
弘 八木
Akira Kitano
章 北野
Hiroaki Kawaguchi
宏昭 川口
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a laminated electronic component suppressing generation of irregular spots in a thickness direction of a ceramic green sheet and suppressing occurrence of sheet attack, while suppressing generation of a level difference caused by the thickness of a conductor layer.SOLUTION: A carrier film CF with the conductor layer CL formed is prepared. A first ceramic slurry CS1 is applied onto the prepared carrier film CF1 to cover the conductor layer CL. The applied first ceramic slurry CS1 is dried so that a solvent contained in the first ceramic slurry CS1 is remained. A second ceramic slurry CS2 is applied onto the first ceramic slurry CS1. The applied first and second ceramic slurries CS1, CS2 are dried to obtain the ceramic green sheet CG with the conductor layer CL disposed. The plurality of ceramic green sheets CG are laminated to obtain a ceramic green sheet laminate.

Description

本発明は、積層コンデンサ等の積層電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer electronic component such as a multilayer capacitor.

積層コンデンサ等の積層電子部品を製造する場合、セラミックグリーンシートそれぞれの上面に形成される導体層の厚みで段差が生じるため、各グリーンシートをそのまま積層して圧着すると、段差により、デラミネーションやクラックなどの内部構造欠陥を発生させてしまう懼れがあった。このため、特許文献1に記載された製造方法では、複数の導体層が形成された支持体を用意し、複数の導体層を覆うように支持体上に第1のセラミックスラリーを付与し、未乾燥状態の第1のセラミックスラリー上に第2のセラミックスラリーを付与し、第1及び第2のセラミックスラリーを乾燥させ、複数の導体層が配置されたセラミックグリーンシートを得ることにより、段差の発生を抑制している。   When manufacturing multilayer electronic components such as multilayer capacitors, a step occurs due to the thickness of the conductor layer formed on the upper surface of each ceramic green sheet. There was a fear of generating internal structural defects. For this reason, in the manufacturing method described in Patent Document 1, a support body on which a plurality of conductor layers are formed is prepared, and a first ceramic slurry is applied on the support body so as to cover the plurality of conductor layers. The second ceramic slurry is applied onto the dried first ceramic slurry, the first and second ceramic slurries are dried, and a ceramic green sheet having a plurality of conductor layers is obtained, thereby generating a step. Is suppressed.

特許文献2に記載された製造方法では、複数の導体層が形成された支持体を用意し、複数の導体層を覆うように支持体上に第1のセラミックスラリーを付与し、乾燥させた後、導体層に起因する凹凸をセラミックスのインキで埋め、乾燥状態の第1のセラミックスラリー上に第2のセラミックスラリーを付与し、第2のセラミックスラリーを乾燥させて、複数の導体層が配置されたセラミックグリーンシートを得ることにより、段差の発生を抑制している。   In the manufacturing method described in Patent Document 2, after preparing a support body on which a plurality of conductor layers are formed, applying a first ceramic slurry on the support body so as to cover the plurality of conductor layers, and drying the support body The unevenness caused by the conductor layer is filled with ceramic ink, the second ceramic slurry is applied on the dried first ceramic slurry, the second ceramic slurry is dried, and a plurality of conductor layers are arranged. The generation of a step is suppressed by obtaining a ceramic green sheet.

特開2006−66627号公報JP 2006-66627 A 特開平2−36509号公報JP-A-2-36509

本発明者等の調査研究の結果、未乾燥状態の第1のセラミックスラリー上に第2のセラミックスラリーを付与した場合、セラミックグリーンシートの厚みに不規則な斑が生じることが新たに判明した。セラミックグリーンシートの厚みに不規則な斑が生じると、厚みが薄い部分は強度が低下することとなり、セラミックグリーンシートを支持体から適切に剥離することができない懼れがある。また、セラミックグリーンシートの厚みが薄い部分が不規則に分布していると、焼成後の誘電体層の厚みを所望の値に管理することが困難となり、電気的特性が劣化する懼れもある。   As a result of the research conducted by the present inventors, it has been newly found that when the second ceramic slurry is applied on the first ceramic slurry in an undried state, irregular spots occur in the thickness of the ceramic green sheet. When irregular spots occur in the thickness of the ceramic green sheet, the strength of the thin portion is reduced, and the ceramic green sheet may not be properly peeled from the support. In addition, if the ceramic green sheet is thinly distributed, the thickness of the dielectric layer after firing becomes difficult to manage to a desired value, and the electrical characteristics may deteriorate. .

乾燥状態の第1のセラミックスラリー上にセラミックスのインキや第2のセラミックスラリーを付与した場合、セラミックスのインキや第2のセラミックスラリーペーストに含まれている溶剤により、乾燥状態の第1のセラミックスラリーに含まれている樹脂が溶解してしまう、いわゆるシートアタックが生じてしまう懼れがある。   When the ceramic ink or the second ceramic slurry is applied on the first ceramic slurry in the dry state, the first ceramic slurry in the dry state is applied by the solvent contained in the ceramic ink or the second ceramic slurry paste. There is a possibility that a so-called sheet attack occurs in which the resin contained in the resin melts.

本発明は、導体層の厚みに起因する段差の発生を抑制しつつ、セラミックグリーンシートの厚みに不規則な斑が生じるのを抑制すると共にシートアタックの発生を抑制することが可能な積層電子部品の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention relates to a multilayer electronic component capable of suppressing generation of irregular spots in the thickness of a ceramic green sheet and suppressing occurrence of sheet attack while suppressing generation of a step due to the thickness of a conductor layer. It aims at providing the manufacturing method of.

本発明に係る積層電子部品の製造方法は、複数の導体層が形成された支持体を用意する工程と、支持体上に、複数の導体層を覆うように第1のセラミックスラリーを付与する工程と、付与された第1のセラミックスラリーを、該第1のセラミックスラリーに含まれる溶剤が残存するように乾燥させる工程と、第1のセラミックスラリー上に、第2のセラミックスラリーを付与する工程と、第1及び第2のセラミックスラリーを乾燥させ、複数の導体層が配置されたセラミックグリーンシートを得る工程と、セラミックグリーンシートを複数積層して、セラミックグリーンシート積層体を得る工程と、セラミックグリーンシート積層体を切断して、複数の積層体チップを得る工程と、複数の積層体チップを焼成し、複数のコンデンサ素体を得る工程と、を備えていることを特徴とする。   The method for manufacturing a laminated electronic component according to the present invention includes a step of preparing a support body on which a plurality of conductor layers are formed, and a step of applying a first ceramic slurry on the support body so as to cover the plurality of conductor layers. And drying the applied first ceramic slurry so that the solvent contained in the first ceramic slurry remains, and applying the second ceramic slurry on the first ceramic slurry; A step of drying the first and second ceramic slurries to obtain a ceramic green sheet on which a plurality of conductor layers are disposed, a step of obtaining a ceramic green sheet laminate by laminating a plurality of ceramic green sheets, and a ceramic green Cutting the sheet laminate to obtain a plurality of laminate chips, and firing the plurality of laminate chips to obtain a plurality of capacitor bodies; And extent, characterized in that it comprises.

本発明に係る積層電子部品の製造方法では、支持体上に付与された第1のセラミックスラリーが支持体の導体層間の領域(以下、導体層非形成領域と称する)に送り込まれ、また、第1のセラミックスラリー上に付与された第2のセラミックスラリーが第1のセラミックスラリー上の導体層非形成領域に対応する領域に送り込まれる。これにより、導体層間におけるセラミックグリーンシートの厚みと、導体層上に於けるセラミックグリーンシートの厚みとの差が低減され、導体層の厚みに起因する段差の発生を抑制することができる。   In the method for manufacturing a laminated electronic component according to the present invention, the first ceramic slurry applied on the support is fed into a region between the conductor layers of the support (hereinafter referred to as a conductor layer non-formation region), and the first The 2nd ceramic slurry provided on 1 ceramic slurry is sent into the field corresponding to the conductor layer non-formation field on the 1st ceramic slurry. Thereby, the difference between the thickness of the ceramic green sheet between the conductor layers and the thickness of the ceramic green sheet on the conductor layer is reduced, and the occurrence of a step due to the thickness of the conductor layer can be suppressed.

本発明では、溶剤が残存するように乾燥した第1のセラミックスラリー上に第2のセラミックスラリーが付与される。このため、乾燥状態の第1のセラミックスラリー上に第2のセラミックスラリーを付与する際に生じていたシートアタックや未乾燥状態の第1のセラミックスラリー上に第2のセラミックスラリーを付与する際に生じていたセラミックグリーンシートの厚みの不規則な斑の発生を抑制することができる。   In the present invention, the second ceramic slurry is applied on the first ceramic slurry dried so that the solvent remains. For this reason, when the second ceramic slurry is applied on the first ceramic slurry in the sheet attack or the undried state that has been generated when the second ceramic slurry is applied on the first ceramic slurry in the dry state. It is possible to suppress the occurrence of irregular spots of the thickness of the generated ceramic green sheet.

好ましくは、第1のセラミックスラリーを該第1のセラミックスラリーに含まれる溶剤が残存するように乾燥させる工程では、送風により第1のセラミックスラリーを乾燥させている。この場合、第1のセラミックスラリーを積極的に乾燥させることにより、乾燥にかかる時間を短縮することができる共に、溶剤の残存状態を精度よく制御することができる。   Preferably, in the step of drying the first ceramic slurry so that the solvent contained in the first ceramic slurry remains, the first ceramic slurry is dried by blowing air. In this case, by actively drying the first ceramic slurry, the time required for drying can be shortened and the remaining state of the solvent can be accurately controlled.

好ましくは、第1のセラミックスラリーに室温の空気を送風している。この場合、第1のセラミックスラリーの過乾燥を防ぎつつ、溶剤の残存状態をより一層精度よく制御することができる。   Preferably, air at room temperature is blown through the first ceramic slurry. In this case, the remaining state of the solvent can be controlled with higher accuracy while preventing the first ceramic slurry from being excessively dried.

好ましくは、第1及び第2のセラミックスラリーは、セラミック粉末に対する溶剤の含有量が略同一である。この場合、第1のセラミックスラリー上に第2のセラミックスラリーを付与した際に、第1及び第2のセラミックスラリーの混ざり具合が良好となり、セラミックグリーンシートの厚みの不規則な斑の発生をより一層抑制することができる。   Preferably, the first and second ceramic slurries have substantially the same solvent content relative to the ceramic powder. In this case, when the second ceramic slurry is applied onto the first ceramic slurry, the mixing condition of the first and second ceramic slurries is improved, and the occurrence of irregular irregularities in the thickness of the ceramic green sheet is further increased. Further suppression can be achieved.

好ましくは、第1のセラミックスラリーを付与する工程では、グラビアロールを用いたグラビア印刷により第1のセラミックスラリーを付与しており、支持体の送り速度よりもグラビアロールの周速度が速い。この場合、支持体の導体層非形成領域に送り込まれる第1のセラミックスラリーの量が増加することとなり、導体層の厚みに起因する段差の発生をより一層抑制することができる。   Preferably, in the step of applying the first ceramic slurry, the first ceramic slurry is applied by gravure printing using a gravure roll, and the peripheral speed of the gravure roll is faster than the feed speed of the support. In this case, the amount of the first ceramic slurry fed into the conductor layer non-formation region of the support increases, and the occurrence of a step due to the thickness of the conductor layer can be further suppressed.

好ましくは、第2のセラミックスラリーを付与する工程では、グラビアロールを用いたグラビア印刷により第2のセラミックスラリーを付与しており、支持体の送り速度よりもグラビアロールの周速度が速い。この場合、第1のセラミックスラリー上の導体層非形成領域に対応する領域に送り込まれる第2のセラミックスラリーの量が増加することとなり、導体層の厚みに起因する段差の発生をより一層抑制することができる。   Preferably, in the step of applying the second ceramic slurry, the second ceramic slurry is applied by gravure printing using a gravure roll, and the peripheral speed of the gravure roll is faster than the feed speed of the support. In this case, the amount of the second ceramic slurry fed to the area corresponding to the conductor layer non-formation area on the first ceramic slurry increases, and the generation of a step due to the thickness of the conductor layer is further suppressed. be able to.

本発明によれば、導体層の厚みに起因する段差の発生を抑制しつつ、セラミックグリーンシートの厚みに不規則な斑が生じるのを抑制すると共にシートアタックの発生を抑制することが可能な積層電子部品の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to suppress the occurrence of irregularities in the thickness of the ceramic green sheet while suppressing the occurrence of a step due to the thickness of the conductor layer, and to suppress the occurrence of a sheet attack. An electronic component manufacturing method can be provided.

本実施形態に係る積層コンデンサの斜視図である。1 is a perspective view of a multilayer capacitor according to an embodiment. 本実施形態に係る積層コンデンサの断面構成を示す図である。It is a figure showing the section composition of the multilayer capacitor concerning this embodiment. 本実施形態に係る積層コンデンサの製造方法を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the multilayer capacitor which concerns on this embodiment. 積層コンデンサの製造工程を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of a multilayer capacitor. グラビア印刷装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows a gravure printing apparatus. 送風装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an air blower. 積層コンデンサの製造工程を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of a multilayer capacitor. 積層体チップの断面構成を示す図である。It is a figure which shows the cross-sectional structure of a laminated body chip | tip.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

本実施形態に係る積層電子部品の製造方法を用いて製造される積層電子部品の一例である積層コンデンサ1について図1及び図2を参照して説明する。図1は、本実施形態に係る積層コンデンサの斜視図である。図2は、本実施形態に係る積層コンデンサの断面構成を示す図である。積層コンデンサ1は、図1に示されるように、略直方体形状の素体3と、素体3に形成された一対の第1端子電極5及び第2端子電極7と、を備える。   A multilayer capacitor 1 which is an example of a multilayer electronic component manufactured using the method for manufacturing a multilayer electronic component according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a perspective view of the multilayer capacitor in accordance with the present embodiment. FIG. 2 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration of the multilayer capacitor in accordance with the present embodiment. As shown in FIG. 1, the multilayer capacitor 1 includes a substantially rectangular parallelepiped element body 3 and a pair of first terminal electrodes 5 and second terminal electrodes 7 formed on the element body 3.

素体3は、素体3の長手方向に対向する一対の端面と、素体3の積層方向に対向する一対の側面と、長手方向及び積層方向に垂直な方向に対向する一対の側面とを有している。第1端子電極5は、一方の端面の全面を覆い、更にその一部が各側面上に回りこんで形成されている。第2端子電極7は、他方の端面の全面を覆い、更にその一部が各側面上に回り込んで形成されている。素体3の積層方向に対向する一対の側面のいずれか一方の側面は、積層コンデンサ1が外部基板に実装されたときに、当該外部基板に対向する面である。   The element body 3 includes a pair of end faces opposed to the longitudinal direction of the element body 3, a pair of side faces opposed to the stacking direction of the element body 3, and a pair of side faces opposed to the longitudinal direction and the direction perpendicular to the stacking direction. Have. The first terminal electrode 5 is formed so as to cover the entire surface of one end surface, and further, a part of the first terminal electrode 5 wraps around each side surface. The second terminal electrode 7 is formed so as to cover the entire surface of the other end surface, and further, a part of which wraps around each side surface. One side surface of the pair of side surfaces facing the stacking direction of the element body 3 is a surface facing the external substrate when the multilayer capacitor 1 is mounted on the external substrate.

素体3は、図2に示すように、第1内部電極11と第2内部電極13と誘電体層15とを有している。本実施形態では、素体3は、それぞれ二つの第1内部電極11と第2内部電極13とを有している。矩形形状を呈する第1内部電極11は、一辺が第1端子電極5の形成された素体3の端面に露出して、第1端子電極5に直接的に接続されている。これにより、第1内部電極11と第1端子電極5とは電気的に接続されることとなる。矩形形状を呈する第2内部電極13は、一辺が第2端子電極7の形成された素体3の端面に露出して、第2端子電極7と直接的に接続されている。これにより、第2内部電極13と第2端子電極7とは電気的に接続されることとなる。第1内部電極11と第2内部電極13とは、誘電体層15を介して交互に積層されている。   As shown in FIG. 2, the element body 3 includes a first internal electrode 11, a second internal electrode 13, and a dielectric layer 15. In the present embodiment, the element body 3 includes two first internal electrodes 11 and second internal electrodes 13. The first internal electrode 11 having a rectangular shape is directly connected to the first terminal electrode 5 with one side exposed to the end face of the element body 3 on which the first terminal electrode 5 is formed. Thereby, the 1st internal electrode 11 and the 1st terminal electrode 5 will be electrically connected. The second internal electrode 13 having a rectangular shape is directly connected to the second terminal electrode 7 with one side exposed to the end face of the element body 3 on which the second terminal electrode 7 is formed. Thereby, the 2nd internal electrode 13 and the 2nd terminal electrode 7 will be electrically connected. The first internal electrodes 11 and the second internal electrodes 13 are alternately stacked via the dielectric layers 15.

引き続いて、本実施形態に係る積層コンデンサ1の製造方法について説明する。図3は、本実施形態に係る積層コンデンサの製造方法を示すフロー図である。積層コンデンサ1の製造工程は、導体層形成工程S1と、第1のセラミックスラリー付与工程S2と、第1の乾燥工程S3と、第2のセラミックスラリー付与工程S4と、第2の乾燥工程S5と、積層体形成工程S6と、チップ形成工程S7と、焼成工程S8と、端子形成工程S9と、を含んでいる。   Subsequently, a method for manufacturing the multilayer capacitor 1 according to the present embodiment will be described. FIG. 3 is a flowchart showing the method for manufacturing the multilayer capacitor in accordance with this embodiment. The manufacturing process of the multilayer capacitor 1 includes a conductor layer forming step S1, a first ceramic slurry applying step S2, a first drying step S3, a second ceramic slurry applying step S4, and a second drying step S5. The laminate forming step S6, the chip forming step S7, the firing step S8, and the terminal forming step S9 are included.

各工程について図4〜図8を参照して説明する。図4及び図7は、積層コンデンサの製造工程を説明するための模式図である。図5は、積層コンデンサの製造方法に用いられる、グラビア印刷装置を示す模式図である。図6は、積層コンデンサの製造方法に用いられる、送風装置を示す模式図である。図8は、積層体チップの断面構成を示す図である。   Each step will be described with reference to FIGS. 4 and 7 are schematic views for explaining the manufacturing process of the multilayer capacitor. FIG. 5 is a schematic diagram showing a gravure printing apparatus used in the method for manufacturing a multilayer capacitor. FIG. 6 is a schematic diagram showing a blower used in a method for manufacturing a multilayer capacitor. FIG. 8 is a diagram illustrating a cross-sectional configuration of the multilayer chip.

導体層形成工程S1では、図4(a)に示されるように、キャリアフィルム(支持体)CF上に複数の導体層CLを形成する。これにより、複数の導体層CLが形成されたキャリアフィルムCFが用意されることとなる。導体層CLは、電極ペーストを付与後、乾燥することにより形成される。電極ペーストは、積層コンデンサ1における第1及び第2内部電極11,13を構成する導電性材料の粉末に、樹脂及び溶剤を加えて混合分散することにより得られる。導電性材料としては、例えばNi、Ag、Pdなどの金属粉末が挙げられる。電極ペーストを付与する手法として、例えばスクリーン印刷法等がある。   In the conductor layer forming step S1, as shown in FIG. 4A, a plurality of conductor layers CL are formed on the carrier film (support) CF. Thereby, carrier film CF in which a plurality of conductor layers CL are formed is prepared. The conductor layer CL is formed by applying an electrode paste and then drying it. The electrode paste is obtained by adding and mixing a resin and a solvent to the conductive material powder constituting the first and second internal electrodes 11 and 13 in the multilayer capacitor 1. Examples of the conductive material include metal powders such as Ni, Ag, and Pd. As a method for applying the electrode paste, for example, there is a screen printing method.

続く、第1のセラミックスラリー付与工程S2では、図4(b)に示されるように、キャリアフィルムCF上に、複数の導体層CLを覆うように第1のセラミックスラリーCS1を付与する。ここでは、図5に示されるようなグラビア印刷装置GPにより第1のセラミックスラリーCS1をシート状に塗布している。これにより、キャリアフィルムCF上に、第1のセラミックスラリーCS1からなる層が形成されることとなる。キャリアフィルムCF上に付与された第1のセラミックスラリーCS1は、キャリアフィルムCFにおける導体層CL間の領域(導体層非形成領域と称する)に送り込まれる。   In the subsequent first ceramic slurry application step S2, as shown in FIG. 4B, the first ceramic slurry CS1 is applied on the carrier film CF so as to cover the plurality of conductor layers CL. Here, the first ceramic slurry CS1 is applied in a sheet form by a gravure printing apparatus GP as shown in FIG. As a result, a layer made of the first ceramic slurry CS1 is formed on the carrier film CF. The first ceramic slurry CS1 applied on the carrier film CF is sent to a region between the conductor layers CL (referred to as a conductor layer non-formation region) in the carrier film CF.

グラビア印刷装置GPは、上方が開口すると共にセラミックスラリーを収容するスラリータンクSTと、スラリータンクSTの上方にスラリータンクST内にその一部が入り込むように配置されるグラビアロールGRと、グラビアロールGRの表面に付着したセラミックスラリーを除去するブレードBLと、を備えている。グラビア印刷装置GPでは、キャリアフィルムCFを搬送機構(不図示)により所定の方向(図中、矢印B方向)へ送りつつ、グラビアロールGRを駆動機構(不図示)により所定の方向(図中、矢印A方向)に回転駆動させることにより、セラミックスラリーがキャリアフィルムCFに塗布される。   The gravure printing apparatus GP has a slurry tank ST that is open at the top and contains ceramic slurry, a gravure roll GR that is arranged so that a part of the slurry tank ST enters the slurry tank ST, and a gravure roll GR. Blade BL for removing the ceramic slurry adhering to the surface. In the gravure printing apparatus GP, the gravure roll GR is sent in a predetermined direction (in the drawing, by a driving mechanism (not shown) while the carrier film CF is fed in a predetermined direction (in the direction of arrow B in the drawing) by a transport mechanism (not shown). The ceramic slurry is applied to the carrier film CF by being driven to rotate in the direction of arrow A).

本実施形態では、キャリアフィルムCFの送り速度よりもグラビアロールGRの周速度が速く設定されている。例えば、グラビアロールGRの周速度は、キャリアフィルムCFの送り速度の1.5〜3.0倍程度に設定される。   In the present embodiment, the peripheral speed of the gravure roll GR is set faster than the feed speed of the carrier film CF. For example, the peripheral speed of the gravure roll GR is set to about 1.5 to 3.0 times the feed speed of the carrier film CF.

第1のセラミックスラリーCS1は、積層コンデンサ1における誘電体層15を構成するセラミック材料の粉末に、樹脂及び溶剤を加えて混合分散することにより得られる。第1のセラミックスラリーCS1は、必要に応じて可塑剤等を含んでいてもよい。第1のセラミックスラリーCS1では、セラミック粉末に対する溶剤の含有量が40〜70wt%に設定されている。   The first ceramic slurry CS1 is obtained by adding a resin and a solvent to the ceramic material powder constituting the dielectric layer 15 in the multilayer capacitor 1 and dispersing the mixture. The first ceramic slurry CS1 may contain a plasticizer or the like as necessary. In 1st ceramic slurry CS1, content of the solvent with respect to ceramic powder is set to 40-70 wt%.

続く、第1の乾燥工程S3では、付与された第1のセラミックスラリーCS1を、第1のセラミックスラリーCS1に含まれる溶剤が残存するように乾燥させる。ここでは、図6に示されるように、空気ARを噴出させるノズルNZを備える送風装置BUを用いて、第1のセラミックスラリーCS1が塗布されたキャリアフィルムCFを搬送機構(不図示)により所定の方向(図中、矢印B方向)へ送りつつ、送風により第1のセラミックスラリーCS1を乾燥させている。ノズルNZから噴出される空気ARの量(風量)は、例えば80〜120l/minに設定される。ノズルNZから噴出される空気ARの温度は、例えば室温に設定される。乾燥時間は、例えば1〜5secに設定される。   In the subsequent first drying step S3, the applied first ceramic slurry CS1 is dried so that the solvent contained in the first ceramic slurry CS1 remains. Here, as shown in FIG. 6, the carrier film CF to which the first ceramic slurry CS1 is applied is transported by a transport mechanism (not shown) using a blower unit BU provided with a nozzle NZ that ejects air AR. The first ceramic slurry CS1 is dried by blowing air while feeding in the direction (in the direction of arrow B in the figure). The amount (air volume) of the air AR ejected from the nozzle NZ is set to 80 to 120 l / min, for example. The temperature of the air AR ejected from the nozzle NZ is set to room temperature, for example. The drying time is set to 1 to 5 seconds, for example.

第1のセラミックスラリーCS1からなる層の表面近傍に存在している溶剤が除去され易いが、第1のセラミックスラリーCS1からなる層内に存在している溶剤は除去され難い。したがって、第1の乾燥工程S3によって、第1のセラミックスラリーCS1からなる層では、その表面近傍において残存する溶剤が少なくなり、溶剤の残存状態に差が生じる。   The solvent present in the vicinity of the surface of the layer made of the first ceramic slurry CS1 is easily removed, but the solvent present in the layer made of the first ceramic slurry CS1 is difficult to remove. Accordingly, in the first drying step S3, in the layer made of the first ceramic slurry CS1, the amount of the solvent remaining in the vicinity of the surface is reduced, and a difference occurs in the remaining state of the solvent.

続く、第2のセラミックスラリー付与工程S4では、図4(c)に示されるように、第1のセラミックスラリーCS1上に第2のセラミックスラリーCS2を付与する。ここでは、図5に示されるようなグラビア印刷装置GPにより第2のセラミックスラリーCS2をシート状に塗布している。これにより、第1のセラミックスラリーCS1からなる層上に、第2のセラミックスラリーCS2からなる層が形成されることとなる。第1のセラミックスラリーCS1上に付与された第2のセラミックスラリーCS2は、第1のセラミックスラリーCS1からなる層における導体層非形成領域に対応する領域に送り込まれる。   In the subsequent second ceramic slurry application step S4, as shown in FIG. 4 (c), the second ceramic slurry CS2 is applied onto the first ceramic slurry CS1. Here, the 2nd ceramic slurry CS2 is apply | coated to the sheet form with the gravure printing apparatus GP as shown in FIG. As a result, a layer made of the second ceramic slurry CS2 is formed on the layer made of the first ceramic slurry CS1. The second ceramic slurry CS2 applied on the first ceramic slurry CS1 is fed into a region corresponding to the conductor layer non-forming region in the layer made of the first ceramic slurry CS1.

ところで、第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2とは溶剤を含んでいることから、互いに混ざり合い、第1のセラミックスラリーCS1と第2のセラミックスラリーCS2との境界が認識できない程度に一体化する。図4(c)では、説明のため、第1のセラミックスラリーCS1と第2のセラミックスラリーCS2との境界を一点鎖線にて示している。   By the way, since the first and second ceramic slurries CS1 and CS2 contain a solvent, they are mixed with each other and integrated so that the boundary between the first ceramic slurry CS1 and the second ceramic slurry CS2 cannot be recognized. To do. In FIG.4 (c), the boundary of 1st ceramic slurry CS1 and 2nd ceramic slurry CS2 is shown with the dashed-dotted line for description.

本実施形態では、第2のセラミックスラリーCS2を塗布する場合でも、キャリアフィルムCFの送り速度よりもグラビアロールGRの周速度が速く設定されている。例えば、グラビアロールGRの周速度は、キャリアフィルムCFの送り速度の1.5〜3.0倍程度に設定される。   In the present embodiment, even when the second ceramic slurry CS2 is applied, the peripheral speed of the gravure roll GR is set faster than the feed speed of the carrier film CF. For example, the peripheral speed of the gravure roll GR is set to about 1.5 to 3.0 times the feed speed of the carrier film CF.

第2のセラミックスラリーCS2は、第1のセラミックスラリーCS1と同じく、積層コンデンサ1における誘電体層15を構成するセラミック材料の粉末に、樹脂及び溶剤を加えて混合分散することにより得られる。第2のセラミックスラリーCS2も、必要に応じて可塑剤等を含んでいてもよい。第2のセラミックスラリーCS2では、セラミック粉末に対する溶剤の含有量が40〜70wt%に設定されており、第1のセラミックスラリーCS1における上記含有量と略同一に設定されている。   Similar to the first ceramic slurry CS1, the second ceramic slurry CS2 is obtained by adding and mixing a resin and a solvent to the ceramic material powder constituting the dielectric layer 15 in the multilayer capacitor 1. The second ceramic slurry CS2 may also contain a plasticizer or the like as necessary. In the second ceramic slurry CS2, the content of the solvent with respect to the ceramic powder is set to 40 to 70 wt%, and is set to be substantially the same as the content in the first ceramic slurry CS1.

第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2に用いられるセラミック材料としては、セラミックコンデンサに用いられる誘電体材料であれば特に制限なく適用することができる。例えば、チタン酸バリウム(BaTiO)系材料、鉛複合ペロブスカイト化合物系材料、チタン酸ストロンチウム系(SrTiO)系材料等の公知の高誘電率セラミック材料が適用できる。第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2に用いられる樹脂としては、ブチラール樹脂、アクリル樹脂、及びこれらの混合系樹脂等が挙げられ、ブチラール樹脂又はアクリル樹脂が好ましい。第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2に用いられる溶媒としては、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒(例えば、メチルエチルケトン)、芳香族炭化水素系溶媒(例えば、トルエン、キシレン)等を適用できる。用いられる樹脂及び溶剤は、第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2とで異なっていてもよい。 The ceramic material used for the first and second ceramic slurries CS1 and CS2 can be applied without particular limitation as long as it is a dielectric material used for a ceramic capacitor. For example, known high dielectric constant ceramic materials such as barium titanate (BaTiO 3 ) -based materials, lead composite perovskite compound-based materials, and strontium titanate-based (SrTiO 3 ) -based materials can be applied. Examples of the resin used for the first and second ceramic slurries CS1 and CS2 include butyral resins, acrylic resins, and mixed resins thereof, but a butyral resin or an acrylic resin is preferable. As a solvent used for the first and second ceramic slurries CS1 and CS2, an alcohol solvent, a ketone solvent (for example, methyl ethyl ketone), an aromatic hydrocarbon solvent (for example, toluene, xylene), or the like can be applied. The resin and solvent used may be different between the first and second ceramic slurries CS1 and CS2.

続く、第2の乾燥工程S5では、第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2を乾燥させる。これにより、複数の導体層CLが配置されたセラミックグリーンシートCGが得られることとなる。ここでは、所定の加熱条件下において、第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2を乾燥させて、第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2に含まれる溶剤を略全量を除去する。乾燥温度は、例えば40〜100℃に設定される。   In the subsequent second drying step S5, the first and second ceramic slurries CS1 and CS2 are dried. Thereby, a ceramic green sheet CG in which a plurality of conductor layers CL are arranged is obtained. Here, under predetermined heating conditions, the first and second ceramic slurries CS1 and CS2 are dried, and substantially all of the solvent contained in the first and second ceramic slurries CS1 and CS2 is removed. A drying temperature is set to 40-100 degreeC, for example.

続く、積層体形成工程S6では、まず、複数のセラミックグリーンシートCG及び導体層CLが配置されていない複数のセラミックグリーンシートCGを用意する。そして、図7に示されるように、用意した複数のセラミックグリーンシートCG,CGを所定の順序で積層する。このとき、複数のセラミックグリーンシートCGを、セラミックグリーンシートCGの積層方向で隣り合う導体層CLが当該積層方向に直交する所定の方向にずれるように積層する。これにより、セラミックグリーンシート積層体GLが得られることとなる。そして、セラミックグリーンシート積層体GLを加圧処理(例えば、静水圧プレス処理等)し、セラミックグリーンシートCG,CGを圧着する。 In the subsequent laminated body forming step S6, first, a plurality of ceramic green sheets CG 0 on which the plurality of ceramic green sheets CG and the conductor layer CL are not arranged are prepared. Then, as shown in FIG. 7, for laminating a plurality of ceramic green sheets CG which is prepared, the CG 0 in a predetermined order. At this time, the plurality of ceramic green sheets CG are stacked such that the conductor layers CL adjacent in the stacking direction of the ceramic green sheets CG are shifted in a predetermined direction orthogonal to the stacking direction. Thereby, the ceramic green sheet laminated body GL will be obtained. Then, the ceramic green sheet laminate GL pressure treatment (e.g., isostatic pressing, etc.), and crimping the ceramic green sheets CG, the CG 0.

続く、チップ形成工程S7では、セラミックグリーンシート積層体GLを切断装置により所定サイズの積層体チップに切断する。このとき、セラミックグリーンシート積層体GLを、図8に示されるように、導体層CLが積層体チップLCの端面に断面として露出するように切断する。図8に示された積層体チップLCでは、セラミックグリーンシートCG,CGの境界の図示を省略している。 In subsequent chip forming step S7, the ceramic green sheet laminate GL is cut into laminate chips of a predetermined size by a cutting device. At this time, as shown in FIG. 8, the ceramic green sheet laminate GL is cut so that the conductor layer CL is exposed as a cross section on the end face of the laminate chip LC. In laminate chip LC shown in FIG. 8, the ceramic green sheets CG, it is not illustrated boundaries of CG 0.

続く、焼成工程S8では、積層体チップLCを焼成する。具体的には、積層体チップLCに含まれる樹脂を除去した後(脱バインダ)、この積層体チップLCを焼成する。この焼成により、セラミックグリーンシートCG等から誘電体層15が、また、導体層CLから第1及び第2内部電極11,13がそれぞれ形成された素体3が得られることとなる。脱バインダは、積層体チップLCを、例えば、空気中、又は、N及びHの混合ガスなどの還元雰囲気中で、200〜600℃の温度下で所定時間加熱することにより行うことができる。焼成は、脱バインダ後の積層体チップLCを、例えば、還元雰囲気下で1100〜1300℃の温度下で所定時間加熱することにより行うことができる。 In the subsequent firing step S8, the multilayer chip LC is fired. Specifically, after removing the resin contained in the multilayer chip LC (debinding), the multilayer chip LC is baked. By this firing, the element body 3 in which the dielectric layer 15 is formed from the ceramic green sheet CG or the like and the first and second internal electrodes 11 and 13 are formed from the conductor layer CL is obtained. The binder removal can be performed by heating the multilayer chip LC for a predetermined time at a temperature of 200 to 600 ° C. in a reducing atmosphere such as air or a mixed gas of N 2 and H 2. . Firing can be performed by heating the laminated chip LC after the binder removal at a temperature of 1100 to 1300 ° C. for a predetermined time in a reducing atmosphere, for example.

続く、端子形成工程S9では、素体3の表面における所定の領域に、第1及び第2端子電極5,7を形成する。ここでは、素体3の表面における上記所定の領域、すなわち各端面全体、及び、各側面の端面寄りの部分の上に導電性ペーストを付与する。導電性ペーストの付与は、ディップ法、印刷法、又は転写法等により行うことができる。導電性ペーストには、上述したように、導電性金属粉末(例えば、Cu粉末を主成分とする金属粉末など)に、ガラス粉末(例えば、ガラスフリット等)及び上述したような有機ビヒクルを混合したものを用いる。そして、導電性ペーストが付与された素体3に、所望の加熱処理を実施して導電性ペーストを素体3に焼き付ける。これにより、素体3に第1及び第2端子電極5,7が形成されることとなる。導電性ペーストの焼き付けは、例えば600〜800℃の温度下で所定時間加熱することにより行われる。第1及び第2端子電極5,7は、その表面にめっき層が形成されていてもよい。   In the subsequent terminal formation step S9, first and second terminal electrodes 5 and 7 are formed in a predetermined region on the surface of the element body 3. Here, the conductive paste is applied to the predetermined region on the surface of the element body 3, that is, the entire end surfaces and the portions near the end surfaces of the side surfaces. The application of the conductive paste can be performed by a dipping method, a printing method, a transfer method, or the like. In the conductive paste, as described above, a conductive metal powder (for example, a metal powder mainly composed of Cu powder) is mixed with glass powder (for example, glass frit) and an organic vehicle as described above. Use things. Then, a desired heat treatment is performed on the element body 3 to which the conductive paste is applied, and the conductive paste is baked on the element body 3. As a result, the first and second terminal electrodes 5 and 7 are formed on the element body 3. The baking of the conductive paste is performed by heating at a temperature of 600 to 800 ° C. for a predetermined time, for example. The first and second terminal electrodes 5 and 7 may have plating layers formed on the surfaces thereof.

上述した工程を経ることにより、積層コンデンサ1が得られる。   The multilayer capacitor 1 is obtained through the above-described steps.

以上のように、本実施形態では、キャリアフィルムCF上に付与された第1のセラミックスラリーCS1がキャリアフィルムCFの導体層非形成領域に送り込まれ、また、第1のセラミックスラリーCS1上に付与された第2のセラミックスラリーCS2が第1のセラミックスラリーCS1上の導体層非形成領域に対応する領域に送り込まれる。これにより、導体層CL間におけるセラミックグリーンシートCGの厚みと、導体層CL上に於けるセラミックグリーンシートCGの厚みとの差が低減され、導体層CLの厚みに起因する段差の発生を抑制することができる。   As described above, in the present embodiment, the first ceramic slurry CS1 applied onto the carrier film CF is fed into the conductor layer non-formation region of the carrier film CF, and is applied onto the first ceramic slurry CS1. The second ceramic slurry CS2 is fed into an area corresponding to the conductor layer non-formation area on the first ceramic slurry CS1. Thereby, the difference between the thickness of the ceramic green sheet CG between the conductor layers CL and the thickness of the ceramic green sheet CG on the conductor layer CL is reduced, and the occurrence of a step due to the thickness of the conductor layer CL is suppressed. be able to.

そして、本実施形態では、溶剤が残存するように乾燥した第1のセラミックスラリーCS1上に第2のセラミックスラリーCS2が付与される。このため、乾燥状態の第1のセラミックスラリーCS1上に第2のセラミックスラリーCS2を付与する際に生じていたシートアタックや未乾燥状態の第1のセラミックスラリーCS1上に第2のセラミックスラリーCS2を付与する際に生じていたセラミックグリーンシートの表面の不規則な斑の発生を抑制することができる。   In the present embodiment, the second ceramic slurry CS2 is applied onto the first ceramic slurry CS1 dried so that the solvent remains. For this reason, the second ceramic slurry CS2 is formed on the first ceramic slurry CS1 or the sheet attack generated when the second ceramic slurry CS2 is applied on the first ceramic slurry CS1 in the dry state. The generation of irregular spots on the surface of the ceramic green sheet that has occurred during the application can be suppressed.

本実施形態にあっては、第1の乾燥工程S3において、送風により第1のセラミックスラリーCS1を乾燥させている。これにより、第1のセラミックスラリーCS1を積極的に乾燥させることにより、乾燥にかかる時間を短縮することができる共に、溶剤の残存状態を精度よく制御することができる。   In the present embodiment, the first ceramic slurry CS1 is dried by blowing air in the first drying step S3. Thus, by actively drying the first ceramic slurry CS1, it is possible to reduce the time required for drying and to accurately control the remaining state of the solvent.

そして、第1の乾燥工程S3では、第1のセラミックスラリーCS1に室温の空気を送風している。これにより、第1のセラミックスラリーCS1の過乾燥を防ぎつつ、溶剤の残存状態をより一層精度よく制御することができる。   In the first drying step S3, air at room temperature is blown to the first ceramic slurry CS1. Thereby, the remaining state of the solvent can be controlled with higher accuracy while preventing the first ceramic slurry CS1 from being overdried.

本実施形態にあっては、第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2は、セラミック粉末に対する溶剤の含有量が略同一に設定されている。これにより、第1のセラミックスラリーCS1上に第2のセラミックスラリーCS2を付与した際に、第1及び第2のセラミックスラリーCS1,CS2の混ざり具合が良好となり、セラミックグリーンシートCGの厚みの不規則な斑の発生をより一層抑制することができる。   In the present embodiment, the first and second ceramic slurries CS1 and CS2 are set to have substantially the same solvent content with respect to the ceramic powder. Accordingly, when the second ceramic slurry CS2 is applied on the first ceramic slurry CS1, the mixing condition of the first and second ceramic slurries CS1 and CS2 becomes good, and the thickness of the ceramic green sheet CG is irregular. Generation of irregular spots can be further suppressed.

本実施形態にあっては、第1のセラミックスラリー付与工程S2において、グラビア印刷装置GPにより第1のセラミックスラリーCS1を付与しており、キャリアフィルムCFの送り速度よりもグラビアロールGRの周速度が速く設定されている。これにより、キャリアフィルムCFの導体層非形成領域に送り込まれる第1のセラミックスラリーCS1の量が増加することとなり、導体層CLの厚みに起因する段差の発生をより一層抑制することができる。   In the present embodiment, in the first ceramic slurry application step S2, the first ceramic slurry CS1 is applied by the gravure printing device GP, and the peripheral speed of the gravure roll GR is higher than the feed speed of the carrier film CF. It is set fast. As a result, the amount of the first ceramic slurry CS1 fed into the conductor layer non-formation region of the carrier film CF is increased, and generation of a step due to the thickness of the conductor layer CL can be further suppressed.

本実施形態にあっては、第2のセラミックスラリー付与工程S4において、グラビア印刷装置GPによりにより第2のセラミックスラリーCS2を付与しており、キャリアフィルムCFの送り速度よりもグラビアロールGRの周速度が速く設定されている。これにより、第1のセラミックスラリーCS1上の導体層非形成領域に対応する領域に送り込まれる第2のセラミックスラリーCS2の量が増加することとなり、導体層CLの厚みに起因する段差の発生をより一層抑制することができる。   In the present embodiment, the second ceramic slurry CS2 is applied by the gravure printing apparatus GP in the second ceramic slurry applying step S4, and the peripheral speed of the gravure roll GR is higher than the feed speed of the carrier film CF. Is set faster. As a result, the amount of the second ceramic slurry CS2 fed into the region corresponding to the conductor layer non-formation region on the first ceramic slurry CS1 increases, and the occurrence of a step due to the thickness of the conductor layer CL is further increased. Further suppression can be achieved.

以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

第1の乾燥工程S3において、送風により第1のセラミックスラリーCS1を乾燥させているが、第1のセラミックスラリーCS1を乾燥させる手法は、送風に限られない。たとえば、第1のセラミックスラリーCS1を付与し第2のセラミックスラリーCS2を付与するまでの時間を管理することにより、第1のセラミックスラリーCS1を自然乾燥させてもよい。第1のセラミックスラリーCS1を自然乾燥させる場合でも、第1のセラミックスラリーCS1を溶剤が残存するように乾燥させる。   In 1st drying process S3, although 1st ceramic slurry CS1 is dried by ventilation, the method of drying 1st ceramic slurry CS1 is not restricted to ventilation. For example, the first ceramic slurry CS1 may be naturally dried by managing the time from applying the first ceramic slurry CS1 to applying the second ceramic slurry CS2. Even when the first ceramic slurry CS1 is naturally dried, the first ceramic slurry CS1 is dried so that the solvent remains.

本発明は、積層コンデンサに限られることなく、積層バリスタ、積層圧電アクチュエータ、コンデンサとインダクタとの積層複合部品、又は、コンデンサとビーズとの積層複合部品等の積層電子部品にも適用できる。   The present invention is not limited to multilayer capacitors, and can also be applied to multilayer electronic components such as multilayer varistors, multilayer piezoelectric actuators, multilayer composite components of capacitors and inductors, or multilayer composite components of capacitors and beads.

1…積層コンデンサ、3…素体、11…第1内部電極、13…第2内部電極、15…誘電体層、AR…空気、BU…送風装置、CF…キャリアフィルム、CG…セラミックグリーンシート、CL…導体層、CS1…第1のセラミックスラリー、CS2…第2のセラミックスラリー、GL…セラミックグリーンシート積層体、GP…グラビア印刷装置、GR…グラビアロール、LC…積層体チップ、S1…導体層形成工程、S2…第1のセラミックスラリー付与工程、S3…第1の乾燥工程、S4…第2のセラミックスラリー付与工程、S5…第2の乾燥工程、S6…積層体形成工程、S7…チップ形成工程、S8…焼成工程、S9…端子形成工程。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer capacitor, 3 ... Element body, 11 ... 1st internal electrode, 13 ... 2nd internal electrode, 15 ... Dielectric layer, AR ... Air, BU ... Air blower, CF ... Carrier film, CG ... Ceramic green sheet, CL: conductor layer, CS1: first ceramic slurry, CS2: second ceramic slurry, GL: ceramic green sheet laminate, GP: gravure printing device, GR: gravure roll, LC: laminate chip, S1: conductor layer Forming step, S2 ... first ceramic slurry applying step, S3 ... first drying step, S4 ... second ceramic slurry applying step, S5 ... second drying step, S6 ... laminated body forming step, S7 ... chip formation Step, S8: Firing step, S9: Terminal forming step.

Claims (6)

複数の導体層が形成された支持体を用意する工程と、
前記支持体上に、前記複数の導体層を覆うように第1のセラミックスラリーを付与する工程と、
付与された前記第1のセラミックスラリーを、該第1のセラミックスラリーに含まれる溶剤が残存するように乾燥させる工程と、
前記第1のセラミックスラリー上に、第2のセラミックスラリーを付与する工程と、
前記第1及び第2のセラミックスラリーを乾燥させ、前記複数の導体層が配置されたセラミックグリーンシートを得る工程と、
前記セラミックグリーンシートを複数積層して、セラミックグリーンシート積層体を得る工程と、
前記セラミックグリーンシート積層体を切断して、複数の積層体チップを得る工程と、
前記複数の積層体チップを焼成し、複数のコンデンサ素体を得る工程と、を備えていることを特徴とする積層電子部品の製造方法。
Preparing a support on which a plurality of conductor layers are formed;
Applying a first ceramic slurry on the support so as to cover the plurality of conductor layers;
Drying the applied first ceramic slurry so that the solvent contained in the first ceramic slurry remains;
Applying a second ceramic slurry on the first ceramic slurry;
Drying the first and second ceramic slurries to obtain a ceramic green sheet in which the plurality of conductor layers are disposed;
Laminating a plurality of the ceramic green sheets to obtain a ceramic green sheet laminate;
Cutting the ceramic green sheet laminate to obtain a plurality of laminate chips;
Firing the plurality of multilayer chips to obtain a plurality of capacitor bodies, and a method for producing a multilayer electronic component.
前記第1のセラミックスラリーを該第1のセラミックスラリーに含まれる溶剤が残存するように乾燥させる前記工程では、送風により前記第1のセラミックスラリーを乾燥させていることを特徴とする請求項1に記載の積層電子部品の製造方法。   The first ceramic slurry is dried by blowing air in the step of drying the first ceramic slurry so that the solvent contained in the first ceramic slurry remains. The manufacturing method of the laminated electronic component of description. 前記第1のセラミックスラリーに室温の空気を送風していることを特徴とする請求項2に記載の積層電子部品の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer electronic component according to claim 2, wherein air at room temperature is blown to the first ceramic slurry. 前記第1及び第2のセラミックスラリーは、セラミック粉末に対する溶剤の含有量が略同一であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer electronic component according to any one of claims 1 to 3, wherein the first and second ceramic slurries have substantially the same solvent content relative to the ceramic powder. 前記第1のセラミックスラリーを付与する前記工程では、グラビアロールを用いたグラビア印刷により前記第1のセラミックスラリーを付与しており、前記支持体の送り速度よりもグラビアロールの周速度が速いことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   In the step of applying the first ceramic slurry, the first ceramic slurry is applied by gravure printing using a gravure roll, and the peripheral speed of the gravure roll is faster than the feed speed of the support. The manufacturing method of the multilayer electronic component as described in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned. 前記第2のセラミックスラリーを付与する前記工程では、グラビアロールを用いたグラビア印刷により前記第2のセラミックスラリーを付与しており、前記支持体の送り速度よりもグラビアロールの周速度が速いことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の積層電子部品の製造方法。   In the step of applying the second ceramic slurry, the second ceramic slurry is applied by gravure printing using a gravure roll, and the peripheral speed of the gravure roll is faster than the feed speed of the support. The manufacturing method of the multilayer electronic component as described in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned.
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