JP2011151551A - カメラモジュールの製造方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】厚みの薄い基板に実装される撮像素子でも確実に保持して位置調整を行う。
【解決手段】レンズユニット計測工程２０は、レンズユニット５と計測用撮像素子２４を測定チャート２５に直交するＺ軸上にセットし、Ｚ軸上の複数の測定位置にレンズユニット５を順次移動して計測用撮像素子２４で撮像を行い、計測用撮像素子２４から得られる撮像信号に基づいて各測定位置での合焦評価を行って撮影レンズ４の近似結像面を算出し、算出した情報を調整・固定工程２２に出力する。素子ユニット計測工程２１は、変位・チルトセンサ２７を使用して基板の裏面を吸着保持した素子ユニット６の基板に対する撮像面の位置及び傾きを測定し、測定した情報を調整・固定工程２２に出力する。調整・固定工程２２は、前記２つの情報に基づいてレンズユニット５に対する素子ユニット６の位置及び傾きを調整し、調整後に双方を接着する。
【選択図】図５

Description

本発明は、携帯情報端末や携帯電話等の携帯機器に組み込まれるカメラモジュールの製造方法及び装置に関し、さらに詳しくは、撮影レンズと撮像素子とを位置調整して固定するカメラモジュールの製造方法及び装置に関するものである。

撮影レンズを鏡筒に組み込んだレンズユニットと、ＣＣＤやＣＭＯＳ等の撮像素子を基板やホルダに組み付けた素子ユニットとを一体化したカメラモジュールが知られている。

現在のカメラモジュールは、一般的なデジタルカメラと同様に撮像素子の高画素化が進んでおり、例えば５００〜１０００万画素の撮像素子を使用したものが増えている。高画素数の撮像素子は、開口率が低くなるので、画素数に見合った解像度の画像を得るには、撮影レンズと撮像素子との厳密な位置調整が必要となる。しかも、デジタルカメラや携帯電話と同様に薄型化が進んでおり、これに伴いカメラモジュールの高さ（光軸方向の長さ）を低くすること（低背化）が望まれている。

光学ブロック（レンズユニット）に対して撮像ブロック（素子ユニット）を位置調整した後に、双方を接着により固定するカメラモジュールの生産方法及びその方法を用いた組立装置が提案されている（特許文献１）。光学ブロックは、レンズ鏡筒に光学レンズ（撮影レンズ）を組み込んだものである。撮像ブロックは、断面コ字状の撮像素子ホルダ（基板）の凹部にＣＣＤやＣＭＯＳ等の個体撮像素子を組み込んだものである。個体撮像素子は、撮像素子ホルダの下面に露出している複数の電極パッドに電気的に接続されている。複数の電極パッドを通じて電力が供給され、また、撮像した画像情報等からなる信号が外部に取り出される。撮像素子ホルダは、回転テーブルの上に位置決めされた状態で載置される。回転テーブルには、挿通孔を通じて電極パッドに接触するプローブピンが設けられている。撮像素子ホルダの上方には、可動式の光学系ホルダにより光学ブロックが把持されており、その上には測定用チャートが配されている。光学レンズを通して測定用チャートの画像を撮像素子で撮像して、得られた画像情報に基づいて撮像ブロックに対する光学ブロックの姿勢を調整している。

特開２００５−１９８１０３号公報

しかしながら、撮像素子ホルダは、固体撮像素子を固定した面の周縁に一段高いリブを設けた断面コ字状となっており、光軸方向での厚みが厚い。しかも、そのリブの上端面に光学ブロックの下端面が接着固定されるため、カメラモジュールの高さ方向も高くなる。

カメラモジュールの低背化を考慮すると、撮像素子ホルダの厚みを薄くするのが好適である。また、撮像素子を基板に実装したリフロー実装が可能なカメラモジュールの場合でも、基板の厚みを薄くすることで低背化を実現することができる。

しかしながら、基板（以下、ホルダも含め「基板」と称す。）の厚みを薄くすると、撓みやすくなるため、例えば基板の外端面を両側から挟持すると、基板に撓みや反りが生じて素子ユニットを精度良く位置決め保持することができなくなり、結果的に位置調整を精度良く行えない。そこで、基板の裏面を、例えば吸着パッド等で保持することが考えられる。しかしながら、基板の裏面を保持すると、画像情報を取り出すための電極パッドを覆ってしまうことになり、カメラモジュールに使用する撮像素子から得られる画像情報に基づいて位置調整を行うことができなくなってしまう。

本発明は、基板の厚みを薄くした素子ユニットを保持することでも確実に位置調整が行えるようにしたカメラモジュールの製造方法及び装置を提供しようとするものである。

本発明では、レンズ保持手段により保持した撮影レンズと前記撮影レンズにより結像されるチャート像を撮像する計測用撮像素子とを測定チャートに直交するＺ軸上にセットし、前記Ｚ軸上に予め離散的に設定した複数の測定位置に前記測定チャート、撮影レンズ、及び計測用撮像素子のうちのいずれか一つを順次移動して前記計測用撮像素子で撮像を行い、前記計測用撮像素子から得られる撮像信号に基づいて撮影レンズの光軸倒れ及び焦点ズレを計測するレンズ計測工程と；基板の表面に取り付けられている撮像素子を撮像素子保持手段により保持し、光源からの光を平行光線にして前記撮像素子の撮像面に投光し、前記撮像面からの反射光を二次元イメージセンサに集光し、その集光スポットの位置に基づいて前記基板に対する前記撮像面の位置及び傾きを測定し、測定した情報を出力する撮像素子計測工程と；前記２つの計測工程から得られる情報に基づいて前記撮影レンズと前記撮像素子とのいずれか一方の、他方に対するＺ軸上での位置、及び傾きを調整し、前記撮像素子の撮像面と前記撮影レンズの近似結像面との平行度を一致させる調整工程と；を含むものである。

基板としては、撮像信号を取り出すための電極を裏面に設けたプラスチック製のホルダや極薄の半導体ウェーハとしてもよい。ウェーハを用いるカメラモジュールは、撮像素子がウェーハの表面に実装されており、撮像素子の電極とウェーハに設けた貫通電極の一端が電気的に接続され、貫通電極の他端がウェーハの裏面に露呈しており、基板を用いるものと比べてワイヤボンディングのスペースを削減したコンパクトな構造になっている。

撮像素子保持手段としては、基板の裏面を吸着パッド等で真空吸着してもよいし、基板の表面と裏面を挟持してもよい。挟持する場合には、撮像素子やワイヤボンディングのスペースを除く範囲を挟持すればよい。これにより、リフロー実装が可能なカメラモジュールにも適用することができる。カメラモジュールをリフロー実装することができれば、例えば携帯電話のメイン基板を作る上で完全自動実装が可能となり、品質・コスト面で大幅なメリットが得られる。

レンズ保持手段、及び撮像素子保持手段としては、調整工程との間で移動自在に設け、計測前に保持した撮影レンズ、及び撮像素子の基板を計測後に持ち替えずに、調整工程で位置調整をするまでその保持を継続するように構成してもよい。このようにすれば、レンズ保持手段、及び撮像素子保持手段を調整工程での保持手段として兼用することができる。

レンズ計測工程としては、レーザー光や平行光を撮影レンズに入射させて出射光を二次元センサ等で受光してその位置を計測することで、撮影レンズの光軸倒れ、及び結像位置を計測してもよい。

また、レンズ計測工程としては、計測用撮像素子の撮像面上に設定された少なくとも５つの測定点の合焦度合を表す個別の合焦評価値を複数の測定位置毎に算出し、撮像位置の各々について所定の合焦評価値が得られたときにそれぞれのＺ軸上の位置を合焦座標値とする合焦座標取得工程と；計測用撮像素子の撮像面をＺ軸に直交するＸＹ座標平面に対応させたときの各撮像位置のＸＹ座標値と、それぞれの撮像位置ごとに得られたＺ軸上の合焦座標値との組み合わせで表される少なくとも５つの評価点をＸＹ座標平面とＺ軸とを組み合わせた三次元座標系に展開したときに、これらの評価点の相対位置に基づいて三次元座標系で一平面として表される近似結像面を算出する結像面算出工程と；を含むのが望ましい。この場合、調整固定には、Ｚ軸と近似結像面との交点である結像面座標値と、ＸＹ座標平面に対する近似結像面のＸ軸及びＹ軸回りの回転角度とを算出する調整値算出手段を含む。なお、調整値算出手段をレンズ計測固定に含ませても良い。

また、レンズ計測工程では、撮影レンズの光軸倒れ及び結像位置を計測するのに加えて、測定チャートの像に基づいて解像度等の検査も一緒に行ってもよい。

本発明では、レンズ計測工程と撮像素子計測工程とに分けて、撮影レンズの軸倒れ及び結像位置と、撮像素子の撮像面の位置及び傾きを個別に計測して、調整工程で撮影レンズと撮像素子とのいずれか一方の、他方に対する位置及び傾きを位置調整するため、例えば撮像素子の裏面を保持してカメラモジュールに使用する撮像素子から撮像信号を取り出すことができなくても、確実に位置調整を行うことができる。また、レンズ保持手段、及び撮像素子保持手段を調整工程との間で移動自在に設け、計測前に保持した撮影レンズ、及び撮像素子の基板を計測後に持ち替えずに、調整工程で位置調整をするまでその保持を継続するように構成したので、レンズ保持手段、及び撮像素子保持手段を調整工程での保持手段として兼用することができ、よって調整効率を大幅にアップさせる事が可能となる。

本発明のカメラモジュールの外観を示す正面側斜視図である。 カメラモジュールの背面側斜視図である。 レンズユニットと素子ユニットの外観を示す斜視図である。 カメラモジュールの断面図である。 カメラモジュールの製造装置の概略を示す説明図である。 レンズユニット計測装置の概略を示す説明図である。 測定チャートのチャート面を示す正面図である。 レンズユニット計測装置の概略を示すブロック図である。 計測用撮像素子の撮像面上に設定された撮像位置を示す説明図である。 素子ユニット計測装置の概略を示す説明図である。 吸着保持部の概略を示す斜視図である。 吸着保持部を示す断面図である。 素子ユニット計測装置の概略を示すブロック図である。 調整・固定装置の概略を示す説明図である。 調整・固定装置の概略を示すブロック図である。 レンズユニット計測工程の手順を示すフローチャートである。 合焦座標値取得工程の手順を示すフローチャートである。 素子ユニット計測工程の手順を示すフローチャートである。 調整・固定工程の手順を示すフローチャートである。 計測した各撮像位置のＨ−ＣＴＦ値を示すグラフである。 計測した各撮像位置のＶ−ＣＴＦ値を示すグラフである。 計測した各撮像位置の評価点をＸ軸側から見た３次元グラフである。 計測した各撮像位置の評価点をＹ軸側から見た３次元グラフである。 各撮像位置の合焦座標値から見た近似結像面をＸ軸側から見た３次元グラフである。 近似結像面の面方向から見た各評価点の３次元グラフである。

以下、本発明の一実施の形態を説明する。図１に示すカメラモジュール２は、立方形状になっており、前面中央に撮影開口３が形成されている。撮影開口３の奥には、撮影レンズ４が配置されている。カメラモジュール２の背面には、図２に示すように、撮像した撮像信号を取り出すための接点群６ａが露出している。

カメラモジュール２は、図３に示すように、撮影光軸Ｌ方向に分割したレンズユニット５と素子ユニット６から構成されている。レンズユニット５には、撮影レンズ４が組み込まれている。両側面には、保持するときの位置決めとなる切欠７，８（図２参照）が設けられている。素子ユニット６は、撮像素子を組み込んだカバー部材１０を厚みの薄い基板９に接着して一体化したものである。カバー部材１０には、前面にガラス１０ａが組み込まれている。撮像素子の撮像面は、ガラス１０ａを通して露呈される。素子ユニット６は、撮像面がレンズユニット５の疑似結像面に平行になるようにレンズユニット５の背面側に接着により固定されている。

図４に示すように、レンズユニット５は、略筒状に形成されたユニット本体１１と、このユニット本体１１内に組み込まれたレンズ鏡筒１２と、ユニット本体１１の前面に固着される前カバー１３から構成されている。撮影開口３は、前カバー１３に設けられている。

レンズ鏡筒１２は、円筒状に形成されており、例えば３群構成の撮影レンズ４が組み込まれている。レンズ鏡筒１２は、ユニット本体１１の前面に取り付けられた金属製の板バネ１４に保持されており、板バネ１４の弾性によって光軸Ｌ方向に移動自在となっている。

レンズ鏡筒１２の外周とユニット本体１１の内周には、互いに対峙するように永久磁石１５と電磁石１６とが取り付けられ、オートフォーカス機能を実現している。電磁石１６は、供給される電流の向きが切り換えられることにより極性が変化する。レンズ鏡筒１２は、永久磁石１５が電磁石１６の極性変化に応じて反発または吸引されることにより、光軸Ｌ方向に移動してフォーカスを調整している。電磁石１６に電流を供給する接点１６ａは、例えば、ユニット本体１１の下面から露出するように設けられている。なお、オートフォーカス機能に用いる機構としては、パルスモータ＋送りネジ、ピエゾ振動子による送り機構等も考えられる。

素子ユニット６を構成する基板９には、撮像素子１７が実装されている。撮像素子１７は、各端子が基板９の端子にワイヤボンディングされている。基板９は、撮像素子１７用のドライバ等を含む回路パターンを有し、裏面に前述した接点群６ａ（図２参照）が設けられている。基板９は、カバー部材１０よりも一回り大きな輪郭形状になっている。撮像素子１７の撮像面１７ａは、複数のマイクロアレイによって単一の平面に形成されている。カバー部材１０は、断面コ字状になっており、開放側で撮像素子１７を覆うように基板９に接着固定されている。

次に、本発明のカメラモジュール２の製造装置について説明する。カメラモジュール２の製造装置は、図５に示すように、レンズユニット計測工程２０、素子ユニット計測工程２１、及び調整・固定工程２２とで構成されている。

レンズユニット計測工程２０では、レンズユニット保持機構２３で保持したレンズユニットと、レンズユニット５により結像されるチャート像を撮像する計測用撮像素子２４とを測定チャート３３に直交するＺ軸上にセットし、Ｚ軸上に予め離散的に設定した複数の測定位置にレンズユニット５を順次移動して測定位置毎に計測用撮像素子２４で撮像を行い、計測用撮像素子２４から得られる各撮像信号に基づいてレンズユニット５の近似結像面を算出し、そのデータを調整・固定工程２２に送る。また、レンズユニット保持機構２３は、調整・固定工程２２との間で移動自在に設けられており、レンズユニット計測工程２０で計測を完了したレンズユニット５を持ち替えずに調整・固定工程２２に送る。なお、計測時にレンズユニット５を複数の測定位置に移動する代わりに、レンズユニット５を固定しておき、測定チャート３３、又は計測用撮像素子２４を移動してもよい。

素子ユニット計測工程２１では、基板９を素子ユニット保持機構２６で裏面から吸着保持し、変位・チルトセンサ２７を用いて基板９に対する撮像面１７ａの位置、及び傾きを測定し、測定したデータを調整・固定工程２２に送る。また、素子ユニット保持機構２６は、調整・固定工程２２との間で移動自在に設けられており、素子ユニット計測工程２１で計測を完了した素子ユニット６を持ち替えずに調整・固定工程２２に送る。

調整・固定工程２２には、レンズユニット保持機構２３と、素子ユニット保持機構２６とが移動してくる。移動してくるとレンズユニット５の光軸Ｌ中心と素子ユニット６の撮像面１７ａの中心１７ｂとが予め決めた直線Ｐ上に略一致するように位置決めされる。調整・固定工程２２では、レンズユニット５の背面と素子ユニット６の前面とのいずれか一方に、接着剤供給器２８により紫外線硬化接着剤を塗布し、前記２つの計測工程２０，２１で計測したデータに基づいて素子ユニット６の、レンズユニット５に対するＺ軸上での位置、及び傾きを調整し、撮像面１７ａと近似結像面との平行度を一致させた後に、紫外線ランプ２９から紫外線を照射して紫外線硬化接着剤を硬化させて双方を固定する。

詳しく説明すると、レンズユニット計測工程２０にレンズユニット計測装置２０ａが配されている。レンズユニット計測装置２０ａは、図６に示すように、例えば、チャートユニット３０と、集光ユニット３１と、レンズユニット保持機構２３と、計測用撮像素子２４と、これらを制御するレンズ計測用制御部４８から構成されている。

チャートユニット３０は、筐体３２内に嵌合される測定チャート３３と、筐体３２内に組み込まれて測定チャート３３を背面から平行光で照明する光源３４とから構成されている。測定チャート３３は、例えば、光拡散性を有するプラスチック板で形成されている。

測定チャート３３は、詳しくは図７に示すように矩形状のチャート面を有し、チャート面には、中心３３ａと、４象限上の左上、左下、右上、右下とに第１〜第５チャート画像３５〜３９がそれぞれ印刷されている。第１〜第５チャート画像３５〜３９は、全て同一の画像であり、黒色の線を所定間隔で配列させた、いわゆるラダー状のチャートパターンであり、それぞれ水平方向に配列させた水平チャート画像３５ａ〜３９ａと、垂直方向に配列させた垂直チャート画像３５ｂ〜３９ｂから構成されている。

集光ユニット３１は、測定チャート３３の中心３３ａに直交するＺ軸上に集光レンズ４１を保持している。集光レンズ４１は、チャートユニット３０から放射された光を集光し、開口４２を通してレンズユニット５に入射させる。

レンズユニット保持機構２３は、Ｚ軸上でチャートユニット３０に前面が向くようにレンズユニット５を位置決め保持する保持プレート４３、この保持プレート４３をＺ軸方向に移動させるＺ軸方向用移動ステージ４４、及び調整・固定工程２２との間で移動するための工程間用移動ステージ４５で構成されている。

保持プレート４３には、電磁石１６の接点１６ａに接触する複数のプローブピン４６ａを備えたプローブユニット４６が取り付けられている。このプローブユニット４６は、電磁石１６と、ＡＦドライバ４７（図８参照）とを電気的に接続する。

Ｚ軸方向用移動ステージ４４は、周知の自動精密ステージになっており、図示しないモータの回転によってボールネジを回転させ、このボールネジに噛合された保持プレート４３をＺ軸方向に移動させる。工程間用移動ステージ４５は、Ｚ軸方向用移動ステージ４４と略同じ構成になっており、保持プレート４３を調整・固定工程との間で移動させる。

レンズユニット計測工程２０で説明した各部は、レンズ計測用制御部４８に接続されている。計測用撮像素子２４は、レンズユニット保持機構２３に対してチャートユニット３０とは逆側で、かつＺ軸上の予め決められた位置に固定して配されており、レンズユニット５が測定位置に移動する毎にチャート像を撮像し、各撮像信号をレンズ計測用制御部４８に送る。なお、計測用撮像素子２４の撮像面２４ａは、測定チャート２５と平行になっている。

レンズ計測用制御部４８は、図８に示すように、例えば、ＣＰＵやＲＯＭ、ＲＡＭ等を備えたマイクロコンピュータであり、ＲＯＭに記憶されている制御プログラムに基づいて各部を制御している。また、レンズ計測用制御部４８には、合焦座標値取得回路４９、結像面算出回路５０が設けられており、また、各種設定を行うキーボードやマウス等の入力装置６３、設定内容や作業内容、作業結果等が表示されるモニタ５２、データを記憶するメモリ５３、及び調整・固定工程２２との間でデータ通信を行う通信部５４等が接続されている。

ＡＦドライバ４７は、電磁石１６を駆動する駆動回路であり、プローブユニット４６を介して電磁石１６に電流を流している。計測用撮像素子ドライバ５１は、計測用撮像素子２４を駆動する駆動回路であり、計測用撮像素子２４に制御信号を入力する。

合焦座標値取得回路４９は、図９に示す撮像素子１７の撮像面１７ａ上に設定された第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅのＺ軸方向において、合焦度合の高い位置である合焦座標値を取得する。第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅは、撮像面１７ａの中心１７ｂと、４象限上の左上、左下、右上、右下とに設定されており、測定チャート３３の第１〜第５チャート画像３５〜３９が撮像可能な位置及び範囲をそれぞれ有している。なお、測定チャート３３は、撮影レンズ４により上下左右が反転して結像されるので、第２〜第５撮像位置５５ｂ〜５５ｅは、それぞれ対角線上の反対側に配置された第２〜第５チャート画像３６〜３９を撮像する。

レンズ計測用制御部４８は、第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの合焦座標値を取得する際に、Ｚ軸方向用移動ステージ４４を制御し、Ｚ軸上に予め離散的に設定された複数の測定位置に、レンズユニット５を順次に移動させる。また、レンズ計測用制御部４８は、計測用撮像素子ドライバ５１を制御し、各測定位置で撮影レンズ４が結像した第１〜第５チャート画像３５〜３９のチャート像を計測用撮像素子２４に撮像させる。

合焦座標値取得回路４９は、計測用撮像素子２４から得られる撮像信号から第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅに対応する画素の信号を抽出し、その画素信号から第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅについて個別の合焦評価値を複数の測定位置ごとに算出し、第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの各々について所定の合焦評価値が得られたときの測定位置をＺ軸上の合焦座標値としている。

本実施形態では、合焦評価値として、コントラスト伝達関数値（Contrast Transfer Function：以下、ＣＴＦ値と呼ぶ）を用いている。ＣＴＦ値は、空間周波数に対する像のコントラストを表す値であり、ＣＴＦ値が高いときに合焦しているとみなすことができる。ＣＴＦ値は、計測用撮像素子２４から出力された撮像信号の出力値の最大値と最小値との差を、出力値の最大値と最小値との和で除して求められる。例えば撮像信号の出力値の最大値をＰとし、最小値をＱとしたとき、ＣＴＦ値は、以下の式（１）によって算出される。

［数１］
ＣＴＦ値＝（Ｐ−Ｑ）／（Ｐ＋Ｑ）・・・（１）

合焦座標値取得回路４９は、第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの各々について、Ｚ軸上に設定された複数の測定位置ごとに、ＸＹ座標平面上で設定した複数方向のそれぞれに対してＣＴＦ値を算出している。ＣＴＦ値が算出される方向としては、任意の第１方向とこの第１方向に直交する第２方向であり、例えば本実施形態では、計測用撮像素子２４の撮像面２４ａの横方向である水平方向（Ｘ軸方向）と、これに直交する垂直方向（Ｙ軸方向）のＣＴＦ値であるＨ−ＣＴＦ値及びＶ−ＣＴＦ値をそれぞれ算出する。また、合焦座標値取得回路４９は、第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの各々について、Ｈ−ＣＴＦ値及びＶ−ＣＴＦ値が最大となる測定位置のＺ軸上の座標を水平合焦座標値及び垂直合焦座標値として取得する。

結像面算出回路５０には、合焦座標値取得回路４９から第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの水平合焦座標値及び垂直合焦座標値が入力される。結像面算出回路５０は、撮像面２４ａをＸＹ座標平面に対応させたときの各撮像位置５５ａ〜５５ｅのＸＹ座標値と、それぞれの撮像位置５５ａ〜５５ｅごとに得られたＺ軸上の水平合焦座標値及び垂直合焦座標値との組み合わせで表される１０点の評価点を、ＸＹ座標平面とＺ軸とを組み合わせた三次元座標系に展開し、これらの評価点の相対位置に基づいて三次元座標系で一平面として表される近似結像面を算出する。

結像面算出回路５０による近似結像面の算出には、例えば、ａＸ＋ｂＹ＋ｃＺ＋ｄ＝０の式（ａ〜ｄは任意の定数）で表される最小自乗法が用いられている。結像面算出回路５０は、第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅのＸＹ座標平面上の座標値と、合焦座標値取得回路４９により求められたＺ軸上の水平合焦座標値または垂直合焦座標値とを上記式に代入して演算することにより、近似結像面を算出する。算出した近似結像面のデータは、調整・固定工程２２に送られる。

素子ユニット計測工程２１には、図１０に示すように、素子ユニット計測用装置５８が配されている。素子ユニット計測用装置５８は、素子ユニット保持機構２６、変位・チルトセンサ２７、及びこれらを制御する素子ユニット計測用制御部５９等からなる。

素子ユニット保持機構２６は、変位・チルトセンサ２７に撮像面１７ａが向くように素子ユニット６の裏面を真空吸着して保持する吸着保持部５７と、吸着保持部５７をＺ軸に直交する２軸（Ｘ、Ｙ軸）の回りで傾きを調整する２軸回転ステージ６０、２軸回転ステージ６０をＺ軸方向に移動させるＺ軸方向用移動ステージ６１、及び調整・固定工程との間で移動させる工程間用移動ステージ６２で構成されている。

吸着保持部５７は、撮像素子１７を実装する基板９の裏面を真空吸着する。真空吸着により基板９を背後から保持するため、撓みやすい薄厚の基板９でも確実に保持することができる。吸着保持部５７は、詳しくは図１１に示すように、吸着面６５、吸着溝７０、位置決め部６４が設けられている。吸着面６５は、研磨仕上げが施された平滑面になっており、基板９の裏面を支持する。位置決め部６４は、吸着面６５から僅かに突出する位置決めピン６４ａ、〜６４ｃで構成されている。位置決めピン６４ａは基板９の外周のうちの垂直な一端面に当接し、また位置決めピン６４ｂ，６４ｃは前記垂直な端面に隣接する水平な一端面に当接して素子ユニット６を吸着面６５の面内の所定位置に位置決めする。吸着溝７０は、吸着面６５に形成されている溝であり、矩形状の矩形溝７０ａと、矩形溝７０ａの対角線上に沿って形成されているクロス溝７０ｂ，７０ｃとで構成されている。クロス溝７０ｂ，７０ｃは、矩形溝７０ａに四隅でそれぞれ接続されており、またクロス溝７０ｂ，７０ｃの要溝７４には、開口７３が設けられている。開口７３は、ダクト７１に接続されているポンプ６９に接続されている。なお、ポンプ６９の駆動は、素子ユニット計測用制御部５９により制御される。

要溝７４は、図１２に示すように、基板９の裏面の略中心を吸着し、また、矩形溝７０ａは、基板９の裏面のうちの撮像素子１７を実装する範囲外を吸着するサイズになっている。吸着力は、要溝７４の吸着が最も強く、これからクロス溝７０ｂ，７０ｃ、及び矩形溝７０ａの順に吸着力が弱まるため、撮像素子１７を実装する部位からカバー部材１０を接着した部位にかけて生じる基板９の反りを解消することができる。

図１０に示す２軸回転ステージ６０は、いわゆる自動２軸ゴニオステージと呼ばれるもので、図示しない２つのモータの回転により、撮像面１７ａの中心１７ｂを中心にして、吸着保持部５７をＸ軸の回りのθＸ方向と、Ｚ軸及びＸ軸に直交するＹ軸の回りのθＹ方向で傾ける。これにより、素子ユニット６を各方向に傾けた際に、撮像面１７ａの中心１７ｂとＺ軸との位置関係がずれることがない。

Ｚ軸方向用移動ステージ６１は、２軸回転ステージ６０をＺ軸方向に移動させる。なお、Ｚ軸方向用移動ステージ６１は、レンズユニット計測工程２０で説明したＺ軸方向用移動ステージ４４とサイズ等が異なる以外はほぼ同様のものなので、詳しい説明は省略する。

工程間用移動ステージ６２は、レンズユニット計測工程２０で説明した工程間用移動ステージ４５と略同じ構成になっており、Ｚ軸方向用移動ステージ６１を調整・固定工程との間で移動させる。

変位・チルトセンサ２７は、光源７５からの光を第１コリメータレンズ７６で平行光線にして、ハーフミラー７７で反射した反射光をガラス１０ａの奧の撮像面１７ａに投光する。そして、撮像面１７ａからの反射光を、ハーフミラー７７を透過させて第２コリメータレンズ７８により二次元イメージセンサ７９に集光し、そのスポット光の位置に基づいて素子ユニット６の基板９に対する撮像面１７ａの傾きを測定する。なお、変位・チルトセンサ２７は、第１コリメータレンズ７６から出射される平行光線が吸着面６５に対して略垂直に入射する姿勢に予め位置決め固定されている。

変位・チルトセンサ２７は、吸着面６５に対して予め決めた間隔に固定されている。変位・チルトセンサ２７の変位計測は、Ｚ軸方向用移動ステージ６１を駆動して二次元イメージセンサ７９に集光するスポット光の径を計測する。スポット光の径が最小になる位置を探ることで、基板９に対する撮像面１７ａの基準位置からの変位を算出することができる。なお、素子ユニット保持機構２６をＺ軸方向に移動する代わりに、変位・チルトセンサ２７を移動させてスポット光の径を計測してもよい。

素子ユニット計測工程２１で説明した各部は、素子ユニット計測用制御部５９に接続されている。素子ユニット計測用制御部５９は、図１３に示すように、例えば、ＣＰＵやＲＯＭ、ＲＡＭ等を備えたマイクロコンピュータであり、ＲＯＭに記憶されている制御プログラムに基づいて各部を制御し、撮像面１７ａの位置及び傾き算出回路８３で、変位・チルトセンサ２７から得られるデータに基づいて結像面の位置、及び傾きを算出し、算出したデータを調整・固定工程２２に送る。なお、素子ユニット計測用制御部５９には、図示していなが、各種設定を行うキーボードやマウス等の入力装置８４と、設定内容や作業内容、作業結果等が表示されるモニタ８５、データを記憶するメモリ８６、及び調整・固定工程２２との間でデータ通信を行う通信部８７等が接続されている。

調整・固定工程２２には、図１４に示すように、調整・固定用装置９０が配されている。調整・固定用装置９０は、接着剤供給器９１、紫外線ランプ９２、及びこれらを統括的に制御する調整・固定用制御部９３で構成されている。

接着剤供給器９１は、素子ユニット６の位置調整を行う前に、レンズユニット５の裏面、又は素子ユニット６の前面に紫外線硬化接着剤を供給する。紫外線ランプ９２は、素子ユニット６の位置調整を行った後に、紫外線硬化接着剤を供給した部位に紫外線を照射して紫外線硬化接着剤を硬化させる。なお、接着剤としては、瞬間接着剤、熱硬化接着剤、自然硬化接着剤等も利用可能である。瞬間接着剤を用いる場合には、素子ユニット６の位置調整を行った後で供給するのが望ましい。

調整・固定工程２２で説明した各部は、調整・固定用制御部９３に接続されている。調整・固定用制御部９３は、素子ユニット計測用制御部５９を介して素子ユニット保持機構２６を制御して、レンズユニット５に対する素子ユニット６の位置、及び素子ユニット６の傾きを調整する。また、図１５に示すように、前記２つの工程２０，２１から得られるデータを記憶するメモリ９５、及びそれらデータに基づいて疑似結像面を算出するための調整値算出回路９４を有している。

調整値算出回路９４には、レンズユニット計測工程２０で計測したレンズユニット５の疑似結像面の位置、及び傾きと、素子ユニット計測工程２１で計測した撮像面の位置、及び傾きとのデータがそれぞれ入力される。調整値算出回路９４は、近似結像面とＺ軸との交点であるＺ軸上の結像面座標値と、ＸＹ座標平面に対する近似結像面のＸ軸回り及びＹ軸回りの傾きであるＸＹ方向回転角度とを算出する。調整・固定用制御部９３は、調整値算出回路９４から入力された結像面座標値及びＸＹ方向回転角度に基づいてレンズユニット保持機構２３、及び素子ユニット保持機構２６のＺ軸方向用移動ステージ４４，６１を駆動させ、撮像面１７ａが近似結像面に一致するようにレンズユニット５と素子ユニット６の間隔、及び素子ユニット６の姿勢を調整する。

なお、調整・固定用制御部９３は、例えば、ＣＰＵやＲＯＭ、ＲＡＭ等を備えたマイクロコンピュータであり、ＲＯＭに記憶されている制御プログラムに基づいて各部を制御する。この調整・固定用制御部９３には、各制御部４８，５９と通信を行うための通信部９７が接続されている。

次に、上記実施形態の作用について、図１６及び図１７のフローチャートを参照しながら説明する。まず、レンズユニット５は、図示しないロボットによりハンドリングされてレンズユニット保持機構２３に供給される。レンズユニット保持機構２３は、切欠７を利用してレンズユニット５を位置決めして保持する（Ｓ１）。これによりプローブユニット４６が接点１６ａに接触して電磁石１６と、ＡＦドライバ４７とが電気的に接続される。

レンズユニット５の保持を完了した後、Ｚ軸方向用移動ステージ４４を駆動してレンズユニット５をＺ軸上の予め決めた位置に移動し、撮影レンズ４を予め決めた焦点位置にセットする（Ｓ２）。その後、計測用撮像素子２４の撮像面２４ａの第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの水平合焦座標値及び垂直合焦座標値が取得される（Ｓ３）。レンズ計測用制御部４８は、Ｚ軸方向用移動ステージ４４を制御して撮影レンズ４が計測用撮像素子２４に最も近くなる最初の測定位置にレンズユニット５を移動させる（Ｓ３−１）。

レンズ計測用制御部４８は、チャートユニット３０の光源３４を発光させる。発光後、計測用撮像素子ドライバ５１を制御して、撮影レンズ４が結像した第１〜第５チャート画像３５〜３９を計測用撮像素子２４に撮像させる（Ｓ３−２）。計測用撮像素子２４から出力された撮像信号は、合焦座標値取得回路４９に入力される。

合焦座標値取得回路４９は、入力された撮像信号から第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅに対応する画素の信号を抽出し、その画素信号から第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅについてのＨ−ＣＴＦ値及びＶ−ＣＴＦ値を算出する（Ｓ３−３）。Ｈ−ＣＴＦ値及びＶ−ＣＴＦ値は、メモリ５３に記憶される。

レンズ計測用制御部４８は、レンズユニット５を複数の測定位置に順次に移動させ、各測定位置で計測用撮像素子２４に測定チャート３３のチャート像を撮像させる。合焦座標値取得回路４９は、各測定位置で第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅのＨ−ＣＴＦ値及びＶ−ＣＴＦ値を算出する（Ｓ３−２〜Ｓ３−４）。

図２０、２１のグラフは、第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの各測定位置におけるＨ−ＣＴＦ値であるＨａ１〜Ｈａ５と、Ｖ−ＣＴＦ値であるＶａ１〜Ｖａ５の算出結果の一例を示している。なお、測定位置「０」は、撮影レンズ４による設計上の結像面を表している。合焦座標値取得回路４９は、第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの各々について、算出された複数のＨ−ＣＴＦ値Ｈａ１〜Ｈａ５、及びＶ−ＣＴＦ値Ｖａ１〜Ｖａ５の中から最大値を選択し、最大値が得られた測定位置のＺ軸座標を第１〜第５撮像位置５５ａ〜５５ｅの水平合焦座標値及び垂直合焦座標値として取得する（Ｓ３−６）。

図２０、２１に示す例では、Ｈ−ＣＴＦ値ｈａ１〜ｈａ５、及びＶ−ＣＴＦ値ｖａ１〜ｖａ５がそれぞれ最大値となっており、これらのＣＴＦ値に対応する測定位置Ｚ０〜Ｚ５及びＺ０〜Ｚ４のＺ軸座標が、水平合焦座標値及び垂直合焦座標値として取得される。

図２２、２３に示すグラフは、撮像面２４ａをＸＹ座標平面に対応させたときの各撮像位置５５ａ〜５５ｅのＸＹ座標値と、それぞれの撮像位置５５ａ〜５５ｅごとに得られたＺ軸上の水平合焦座標値及び垂直合焦座標値との組み合わせで表される１０個の評価点Ｈｂ１〜Ｈｂ５及びＶｂ１〜Ｖｂ５を、ＸＹＺの三次元座標系に展開した状態を示している。これらのグラフから分るように、水平方向の評価点Ｈｂ１〜Ｈｂ５、及び垂直方向のＶｂ１〜Ｖｂ５により表される撮影レンズ４の実際の結像面は、各部品の製造誤差、組立誤差により、Ｚ軸の「０」上に形成される設計上の結像面に対してずれてしまう。

合焦座標値取得回路４９において取得された水平合焦座標値及び垂直合焦座標値は、結像面算出回路５０に入力される。結像面算出回路５０は、最小自乗法により平面近似された近似結像面を算出する（Ｓ４）。図２４及び２５に示すように、結像面算出回路５０により算出された近似結像面Ｆは、評価点Ｈｂ１〜Ｈｂ５及びＶｂ１〜Ｖｂ５の相対位置に基づいてバランスよく設定されている。

結像面算出回路５０で算出された近似結像面Ｆのデータは、メモリ５３に記憶され（Ｓ５）、その後、調整・固定工程２２に送られる（Ｓ６）。レンズ計測用制御部４８は、データを送出後、工程間用移動ステージ４５を制御して計測後のレンズユニット５を持ち替えることなくレンズユニット保持機構２３を調整・固定工程に移動させる（Ｓ８）。

一方、素子ユニット計測工程２１では、素子ユニット６の計測が、レンズユニット５の計測と並行して行われている。

図１０で説明した素子ユニット計測工程の吸着保持部５７には、図示していない真空ピンセットを用いて人手により素子ユニット６がセットされる。これを図示していないセンサ等で検出することに応答して素子ユニット計測用制御部５９がポンプ６９を駆動する。これにより、吸着保持部５７が基板９の裏面を吸着保持する（Ｓ９）。基板９の端面の一部が位置決めピン６４ａ〜６４ｃにそれぞれ当接して吸着面６５の所定位置に位置決めされる。

素子ユニット計測用制御部５９は、Ｚ軸方向用移動ステージ６１を駆動してＺ軸方向のうちの変位・チルトセンサ２７に寄った基準位置に素子ユニット６を移動させる（Ｓ１０）。その後、変位・チルトセンサ２７を作動して二次元イメージセンサ７９に集光するスポット光の位置に基づいて撮像面１７ａの基板９に対する傾きを計測し、その後に、Ｚ軸方向用移動ステージ６１を駆動して素子ユニット保持機構２６を変位・チルトセンサ２７から離れる方向に向けて移動して二次元イメージセンサ７９に集光するスポット光が最小になる位置を探ることで基板９に対する撮像面１７ａの基準位置からの変位を計測する（Ｓ１２）。計測したデータは、メモリ８６に記憶され（Ｓ１３）、また、調整・固定工程２２に送られる（Ｓ１４）。素子ユニット設計用制御部５９は、データを送出後、工程間用移動ステージ６２を駆動して、計測後の素子ユニット６を持ち替えることなく素子ユニット保持機構２６を調整・固定工程に移動させる（Ｓ１５）。

調整・固定用制御部９３は、前記２つの工程２０，２１からデータをそれぞれ受け取っているか（Ｓ１７）、また、レンズユニット保持機構２３、及び素子ユニット保持機構２６が移動してきたかを確認し（Ｓ１８，Ｓ２０）、確認後、レンズユニット保持機構２３、及び素子ユニット保持機構２６の工程間用移動ステージ４５，６２を駆動してレンズユニット５と素子ユニット６とを、光軸と撮像面１７ａの中心１７ｂとが一直線上に並ぶ位置にそれぞれ位置決めする（Ｓ１９，Ｓ２１）。その後、調整・固定用制御部９３は、接着剤供給器９１から紫外線硬化接着剤を、レンズユニット５又は素子ユニット６の嵌合部に供給する（Ｓ２２）。

各制御部４８，５９から得られるデータは、メモリ９５に格納した後に、調整値算出回路９４に入力される。図２４及び図２５で説明したように、調整値算出回路９４は、近似結像面ＦとＺ軸との交点である結像面座標値Ｆ１と、ＸＹ座標平面に対する近似結像面のＸ軸回り及びＹ軸回りの傾きであるＸＹ方向回転角度とを算出する（Ｓ２３）。

そして、調整・固定用制御部９３は、結像面座標値Ｆ１とＸＹ方向回転角度に基づいて、素子ユニット保持機構２６の２軸回転ステージ６０、及びＺ軸方向用移動ステージ６１を制御して、撮像面１７ａの中心１７ｂが撮影レンズ４の結像面座標値Ｆ１に一致するように、素子ユニット６をＺ軸方向に移動させ、また、撮像面１７ａの傾きが撮影レンズ４の近似結像面Ｆに一致するように、素子ユニット６のθＸ方向及びθＹ方向の角度を調整する（Ｓ２４）。

レンズユニット５に対する素子ユニット６の位置及び傾きを調整した後に、調整・固定用制御部９３は、紫外線ランプ９２を点灯させて紫外線硬化接着剤を硬化させる（Ｓ２５）。硬化後に調整・固定用制御部９３は、素子ユニット計測用制御部５９を介してポンプ６９の作動を停止する。その後、図示しないロボットがレンズユニット５を保持し、その後、レンズユニット保持機構２３での保持が解除されることでハンドリングされて、カメラモジュール２が調整・固定工程２２から取り出される（Ｓ２６）。取り出しを確認した後に、調整・固定用制御部９３は、レンズユニット保持機構２３、及び素子ユニット保持機構２６をレンズユニット計測工程２０、及び素子ユニット計測工程２１にそれぞれ戻すように制御する（Ｓ２８）。レンズユニット計測工程２０、及び素子ユニット計測工程２１では、レンズユニット保持機構２３、及び素子ユニット保持機構２６が戻ってきたことを確認（Ｓ８，Ｓ１６）してから、前述した手順を繰り返し行う。

上記実施形態では、レンズユニット計測工程２０でレンズユニット５を各測定位置に移動させているが、ＡＦドライバ４７を制御してレンズ鏡筒１２を各測定位置に移動させてもよい。また、計測用撮像素子２４を各測定位置に移動してもよいし、測定チャート３３を移動させるようにしてもよい。

また、上記各実施形態では、調整・固定工程２２でレンズユニット５と素子ユニット６の間隔を調整するときに、レンズユニット５に対して素子ユニット６を寄せているが、Ｚ軸方向用移動ステージ４４を制御してレンズユニット５を素子ユニット６に寄せるようにしてもよいし、Ｚ軸方向用移動ステージ４４、６１をそれぞれ制御して両方を寄せるようにしてもよい。さらに、近似結像面に撮像面が一致にするようにレンズユニット５に対して素子ユニット６を調整しているが、逆に素子ユニット６に対してレンズユニット５を調整するようにしてもよい。この場合には、２軸回転ステージをレンズユニット保持機構２３に設ければよい。

上記各実施形態のレンズユニット計測工程２０では、計測用撮像素子２４の撮像面２４ａ上に設定された少なくとも５つの撮像位置から得られる撮像信号に基づいて各々の撮像位置での合焦度合を表す個別の合焦評価値を複数の測定位置ごとに算出してレンズユニット５の近似結像面を算出しているが、代わりに、レーザー光や平行光等を利用した周知の計測装置を用いてレンズユニット５の焦点ズレ、及びユニット本体１１に対する撮影レンズ４の光軸倒れを計測してもよい。

上記各実施形態のレンズユニット計測工程２０では、レンズユニット５の光軸倒れ及び焦点ズレを計測している。この計測時に、各撮像位置の合焦評価値に基づいて、撮影レンズ４単体の解像度等の検査を同時に行うようにしてもよい。例えば、一の撮像位置の合焦評価値が他の撮像位置での合焦評価値に比べて明らかにおかしいものや調整範囲外のもの場合、ＮＧ品としてここで除外すればよい。このようにすれば、レンズユニット５単体の解像度等の検査を別の工程で行う必要がないため、工数を削減することができる。

上記各実施形態では、レンズユニット保持手段、及び素子ユニット保持手段を調整・固定工程との間で移動自在に設け、持ち替えしないでレンズユニット５及び素子ユニット６を調整・固定工程に供給しているが、本発明ではこれに限らず、レンズユニット保持手段、及び素子ユニット保持手段を調整・固定工程にそれぞれ設けてもよい。

２ カメラモジュール
４ 撮影レンズ
５ レンズユニット
６ 素子ユニット
９ 基板
１７ 撮像素子
２３ レンズ保持機構
２４ 計測用撮像素子
２５ 測定チャート
２６ 素子ユニット保持機構

Claims (8)

1. レンズ保持手段により保持した撮影レンズと前記撮影レンズにより結像されるチャート像を撮像する計測用撮像素子とを測定チャートに直交するＺ軸上にセットし、前記Ｚ軸上に予め離散的に設定した複数の測定位置に前記測定チャート、撮影レンズ、及び計測用撮像素子のうちのいずれか一つを順次移動して前記計測用撮像素子で撮像を行い、前記計測用撮像素子から得られる撮像信号に基づいて前記撮影レンズの光軸倒れ及び焦点ズレを計測し、計測した情報を出力するレンズ計測工程と、
   基板の表面に取り付けられた撮像素子を撮像素子保持手段により保持し、光源からの光を平行光線にして前記撮像素子の撮像面に投光し、前記撮像面からの反射光を二次元イメージセンサに集光し、その集光スポットの位置に基づいて前記基板に対する前記撮像面の位置及び傾きを測定し、測定した情報を出力する撮像素子計測工程と、
   前記２つの計測手段から得られる情報に基づいて前記撮影レンズと前記撮像素子とのいずれか一方を、前記撮像素子の撮像面と前記撮影レンズの近似結像面との平行度が一致するように位置調整する調整工程と、を含むことを特徴とするカメラモジュールの製造方法。
2. 前記撮像素子保持手段は、前記基板の裏面をエアー吸着することを特徴とする請求項１記載のカメラモジュールの製造方法。
3. 前記レンズ保持手段、及び前記撮像素子保持手段は、計測前に保持した前記撮影レンズ、及び前記撮像素子を、計測後に持ち替えずに保持したままの状態で前記調整工程に移動して前記調整工程での保持手段として兼用されることを特徴とする請求項１又は２記載のカメラモジュールの製造方法。
4. 前記レンズ計測工程は、
   前記計測用撮像素子の撮像面上に設定された少なくとも５つの測定点の合焦度合を表す個別の合焦評価値を前記複数の測定位置毎に算出し、前記撮像位置の各々について所定の合焦評価値が得られたときにそれぞれのＺ軸上の位置を合焦座標値とする合焦座標取得工程と、
   前記撮像面をＺ軸に直交するＸＹ座標平面に対応させたときの各撮像位置のＸＹ座標値と、それぞれの撮像位置ごとに得られたＺ軸上の合焦座標値との組み合わせで表される少なくとも５つの評価点を前記ＸＹ座標平面とＺ軸とを組み合わせた三次元座標系に展開したときに、これらの評価点の相対位置に基づいて前記三次元座標系で一平面として表される近似結像面を算出する結像面算出工程と、を含み、
   前記レンズ計測工程、又は調整工程には、
   前記Ｚ軸と前記近似結像面との交点である結像面座標値と、前記ＸＹ座標平面に対する前記近似結像面のＸ軸及びＹ軸回りの回転角度とを算出する調整値算出工程を含むことを特徴とする請求項１ないし３いずれか記載のカメラモジュールの製造方法。
5. 撮影レンズが組み込まれレンズユニット保持手段により保持されるレンズユニットと、前記撮影レンズにより結像されるチャート像を撮像する計測用撮像素子と、を測定チャートに直交するＺ軸上にセットし、前記Ｚ軸上に予め離散的に設定した複数の測定位置に前記測定チャート、レンズユニット、及び計測用撮像素子のうちのいずれか一つを順次移動して前記計測用撮像素子で撮像を行い、前記計測用撮像素子から得られる撮像信号に基づいて前記レンズユニットの光軸倒れ及び焦点ズレを計測するレンズユニット計測手段と、
   基板の表面に撮像素子が取り付けられている素子ユニットを撮像素子保持手段により保持し、光源からの光を平行光線にして前記撮像素子の撮像面に投光し、前記撮像面からの反射光を二次元イメージセンサに集光し、その集光スポットの位置に基づいて前記基板に対する前記撮像面の位置及び傾きを測定し、測定した情報を出力する撮像素子計測手段と、
   前記２つの計測手段から得られる情報に基づいて前記レンズユニットと前記素子ユニットとのいずれか一方の、他方に対するＺ軸上での位置、及び傾きを調整し、前記素子ユニットの撮像面と前記レンズユニットの近似結像面との平行度を一致させる調整手段と、を備えたことを特徴とするカメラモジュールの製造装置。
6. 前記撮像素子保持手段は、前記基板の裏面をエアー吸着することを特徴とする請求項５記載のカメラモジュールの製造装置。
7. 前記レンズユニット保持手段、及び前記撮像素子保持手段は、計測前に保持した前記レンズユニット、及び前記素子ユニットを、前記調整手段での位置調節が完了するまで持ち替えずに保持を継続することを特徴とする請求項５又は６記載のカメラモジュールの製造装置。
8. 前記レンズユニット計測手段は、
   前記計測用撮像素子の撮像面上に設定された少なくとも５つの測定点の合焦度合を表す個別の合焦評価値を前記複数の測定位置毎に算出し、前記撮像位置の各々について所定の合焦評価値が得られたときにそれぞれのＺ軸上の位置を合焦座標値とする合焦座標取得手段と、
   前記撮像面をＺ軸に直交するＸＹ座標平面に対応させたときの各撮像位置のＸＹ座標値と、それぞれの撮像位置ごとに得られたＺ軸上の合焦座標値との組み合わせで表される少なくとも５つの評価点を前記ＸＹ座標平面とＺ軸とを組み合わせた三次元座標系に展開したときに、これらの評価点の相対位置に基づいて前記三次元座標系で一平面として表される近似結像面を算出する結像面算出手段と、を備えており、
   前記レンズユニット計測手段、又は調整手段は、
   前記Ｚ軸と前記近似結像面との交点である結像面座標値と、前記ＸＹ座標平面に対する前記近似結像面のＸ軸及びＹ軸回りの回転角度とを算出する調整値算出手段を備えていることを特徴とする請求項５ないし７いずれか記載のカメラモジュールの製造装置。

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