JP2011145438A - 反射防止フィルム - Google Patents

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Abstract

【課題】
ハードコート層の厚みが1μm未満であっても、耐擦傷性が良好でかつ干渉縞の発生が抑制された反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】
基材上に、厚みが0.3μm以上1μm未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量100質量%に対して、前記無機微粒子を10質量%以上45質量%未満、前記重合性モノマーを30質量%以上85質量%未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を0.5質量%以上10質量%未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
【選択図】なし

Description

本発明は反射防止フィルムに関し、特に干渉縞の発生が少なく、かつ耐擦傷性に優れた反射防止フィルムに関する。
CRT、液晶、プラズマ、有機EL等のディスプレイが知られている。これらのディスプレイの画像表示面には、外光の反射を防止するための反射防止フィルムが一般的に配置されている。
ところが、従来から一般的に用いられている反射防止フィルムは、その構成(屈折率の異なる層を積層)上、反射防止膜表面に干渉縞(反射色ムラ)が発生しやすく、この干渉縞は反射防止フィルムをディスプレイに配置したときに画像品質の低下を招いていた。
干渉縞を抑制する手段として、基材とハードコート層との屈折率差を小さくすることが提案されている(特許文献1〜4)
一方、反射防止フィルムの反射防止膜には、一般に高い耐擦傷性が要求されている。反射防止膜の耐擦傷性を高めるために、特に最表面に位置する低屈折率層に、反応性シリコーンオイル、アクリル変性シリコーン樹脂、あるいはポリエーテル変性/ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンを含有させることが知られている(例えば特許文献5〜7)。
特開2005−316428号公報(請求項1) 特開2006−35493号公報(請求項1) 特開2006−163156号公報(請求項1) 特開2009−3354号公報(請求項1) 特開2008−1869号公報(段落0037) 特開2008−233371号公報(段落0039) 特開2009−198863号公報(請求項1)
従来から、ハードコート層の厚みは、ハードコート層本来の機能である耐擦傷性を高めるという観点から、通常2〜10μm程度が一般的であり、少なくもと1μm以上であった。しかしながら、上記のようにハードコート層の厚みが大きい場合は、干渉縞には不利に働くことが分かった。
そこで、本発明は上記従来技術の課題に鑑み、ハードコート層の厚みが1μm未満であっても、耐擦傷性が良好でかつ干渉縞の発生が抑制された反射防止フィルムを提供することを目的とする。
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
1)基材上に、厚みが0.3μm以上1μm未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量100質量%に対して、前記無機微粒子を10質量%以上45質量%未満、前記重合性モノマーを30質量%以上85質量%未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を0.5質量%以上10質量%未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
2)前記ハードコート層の屈折率が1.55〜1.75の範囲であり、かつ前記低屈折率層の屈折率が1.3〜1.45の範囲である、前記1)に記載の反射防止フィルム。
3)前記無機微粒子がシリカまたはフッ化マグネシウムである、前記1)または2)に記載の反射防止フィルム。
4)前記無機微粒子が中空状または多孔質である、前記1)〜3)のいずれかに記載の反射防止フィルム。
5)前記基材と前記ハードコート層との間に厚みが5〜40nmの易接着層を有し、易接着層と基材の屈折率差、及び易接着層とハードコート層との屈折率差が、それぞれ0.3以下である、前記1)〜4)のいずれかに記載の反射防止フィルム。
6)前記易接着層がフルオレン基を有するポリエステル樹脂を含む、前記5)に記載の反射防止フィルム。
本発明によれば、干渉縞が抑制され、かつ耐擦傷性が良好な反射防止フィルムを提供することができる。
本発明の反射防止フィルムは、基材上に、厚みが0.3μm以上1μm未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する。本発明の反射防止フィルムは、ハードコート層上に直接に低屈折率層が積層されていることが好ましい。
(ハードコート層)
本発明のハードコート層は、厚みが0.3μm以上1μm未満である。ハードコート層の厚みが0.3μm未満であると反射防止膜表面の耐擦傷性が低下し、一方、ハードコート層の厚みが1μm以上となると反射防止膜の干渉縞が目立ちやすくなる。ここで反射防止膜とは、ハードコート層と低屈折率層を含む積層膜を意味する。
本発明のハードコート層の厚みは、0.3〜0.9μmの範囲が好ましく、0.4〜0.9μmの範囲がより好ましく、更に0.5〜0.9μmの範囲が好ましく、特に0.6〜0.8μmの範囲が好ましい。
従来、ハードコート層の厚みが1μm未満であると、耐擦傷性の維持が難しくなると考えられていたが、本発明の低屈折率層と組み合わせることによって、耐擦傷性の維持が可能となった。
本発明のハードコート層は、屈折率が1.55〜1.75の高屈折率のハードコート層であることが好ましく、ハードコート層の屈折率を1.55以上と高くするために、金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。かかる金属酸化物微粒子の平均一次粒子径は、150nm以下が好ましく、100nm以下がより好ましい。金属酸化物微粒子の平均一次粒子径の下限は3nm程度である。本発明のハードコート層の屈折率は、更に1.6〜1.7の範囲がより好ましく、特に1.62〜1.68の範囲が好ましい。
本発明のハードコート層における金属酸化物微粒子の含有量は、ハードコート層の固形分総量100質量%に対して30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましく、特に50質量%以上が好ましい。これによって、ハードコート層の屈折率を高くすることができる。金属酸化物微粒子の含有量の上限は、ハードコート層に高い透明性を確保すると言う観点から、ハードコート層の固形分総量100質量%に対して、95質量%以下が好ましく、90質量%以下がより好ましく、特に85質量%以下が好ましい。
ハードコート層に含有させる金属酸化物微粒子としては、屈折率が1.6以上のものが好ましく、特に屈折率が1.7〜2.8のものが好ましく用いられる。かかる金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物微粒子は単独で用いても良いし、複数併用してもよい。
ハードコート層は、反射防止膜表面に傷が発生するのを防止するために、硬度が高いことが好ましく、後述の実施例で定義しているスチールウール硬度評価において4級以上が好ましく、特に5級が好ましい。
ハードコート層の硬度を高くするために、ハードコート層は樹脂成分として紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂を含有することが好ましい。ハードコート層中における活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、ハードコート層の固形分総量100質量%に対して、10〜60質量%の範囲が好ましく、20〜50質量%の範囲がより好ましい。
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する、モノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合した組成物を用いることができる。
モノマーの例としては、スチレン、メチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ(メタ)アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)トリアクリレート、トリメチロールプロパン(メタ)アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、アルキット(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレート等を挙げることができる。
上記した、モノマー、オリゴマー、プレポリマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、本発明のハードコート層には、特に3官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。
ハードコート層には、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって、モノマー、オリゴマー、プレポリマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、p−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、2種以上組み合せて用いてもよい。
光重合開始剤の含有量は、ハードコート層の固形分総量100質量%に対して0.05〜10質量%の範囲が適当である。
ハードコート層には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、帯電防止剤などを含有させることができる。
(低屈折率層)
本発明の低屈折率層は、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層であって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量100質量%に対して、前記無機微粒子を10質量%以上45質量%未満、前記重合性モノマーを30質量%以上85質量%未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を0.5質量%以上10質量%未満、それぞれ含有する。
ここで、活性エネルギー線硬化性組成物が無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含むとは、無機微粒子と重合性モノマーの合計量が活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して50質量%以上含むことを意味し、更に無機微粒子と重合性モノマー以外の全ての成分の個々の含有比率が、無機微粒子と重合性モノマーのそれぞれの含有比率より小さいことを意味する。但し、無機微粒子と重合性モノマー以外の成分には有機溶媒は含まれない。
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、無機微粒子と重合性モノマーの合計量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、60質量%以上が好ましく、70質量%以上がより好ましく、特に80質量%が好ましい。上限は99質量%以下が好ましく、98質量%以下がより好ましい。
本発明にかかる低屈折率層の屈折率は、1.3〜1.45の範囲が好ましく、1.35〜1.43の範囲がより好ましく、特に1.38〜1.43の範囲が好ましい。
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して無機微粒子を10質量%以上45質量%未満含有する。ここで無機微粒子は低屈折率層の屈折率を下げる役目を有する。かかる無機微粒子としては、シリカやフッ化マグネシウム等の低屈折率無機微粒子が好ましく用いられる。更にこれらの無機微粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。特に中空状のシリカやフッ化マグネシウムが好ましく用いられる。
本発明に用いられる無機微粒子の屈折率は、1.20〜1.40であるのが好ましく、1.20〜1.35であるのがより好ましい。
無機微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して10質量%未満であると、反射率の低い反射防止膜が得られず、また反射防止膜の耐擦傷性も低下する傾向にある。一方、無機微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して45質量%以上であると、反射防止膜の耐擦傷性が低下し、また反射防止膜の干渉縞が発生しやすくなる。
無機微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して15質量%以上40質量%未満が好ましく、特に20質量%以上35質量%未満が好ましい。
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、重合性モノマーを30質量%以上85質量%未満含有する。ここで重合性モノマーとは、分子中にビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する化合物である。本発明に用いられる重合性モノマーとしては、好ましくは分子中にエチレン性不飽和基を2〜10個の範囲で有する化合物であり、より好ましくは分子中にエチレン性不飽和基を3〜10個の範囲で有する化合物である。
かかる重合性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、1,2,4−シクロヘキサンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレートなどが挙げられる。
重合性モノマーの含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して30質量%未満であると、反射防止膜の良好な耐傷性が得られない。一方、重合性モノマーの含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して85質量%以上であると、反射率の低い反射防止膜が得られない。
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物における重合性モノマーの含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、40質量%以上80質量%未満の範囲が好ましく、50質量%以上75質量%未満の範囲がより好ましい。
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を0.5質量%以上10質量%未満含有する。ここでエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物は、分子中のポリシロキサン主鎖の末端あるいは側鎖のいずれかに1個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等が挙げられる。エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物におけるエチレン性不飽和基の数は、1〜6個の範囲が好ましい。また、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、エチレン性不飽和基を有するポリジメチルシロキサン化合物が好ましい。
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としては、特開2009−84327号公報の製造例1−1〜1−3の化合物、あるいはチッソ(株)製のサイラプレーンFM−0711、同FM−0721、同FM−0725、信越化学工業(株)製のX−24−8201、X−22−174DX、X−22−2426、X−22−2404、X−22−164A、X−22−164C、東レ・ダウコーニング(株)製のBY16−152D、BY16−152、BY16−152C等の市販品を用いることができる。
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して0.5質量%未満であると、反射防止膜の良好な耐擦傷性が得られない。一方、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して10質量%以上であると、反射防止膜の耐擦傷性が低下する。
また、ポリシロキサン化合物がエチレン性不飽和基を有していないと、たとえポリシロキサン化合物の含有量が、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して0.5質量%以上10質量%未満の範囲内であっても、反射防止膜の良好な耐擦傷性が得られない。
エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して1質量%以上8質量%未満の範囲が好ましく、1.3質量%以上6質量%未満の範囲がより好ましく、特に1.5質量%以上5質量%未満の範囲が好ましい。
本発明にかかる活性エネルギー線硬化性組成物は、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって、重合性モノマーの重合を開始させるために、光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、上述のハードコート層に用いられる光重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量100質量%に対して、0.5〜10質量%の範囲が適当である。
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、帯電防止剤などを含有させることができる。
本発明にかかる低屈折率層の厚みは、50〜150nmの範囲が好ましく、80〜120nmの範囲がより好ましい。
(基材)
本発明にかかる反射防止フィルムの基材としては、プラスチックフィルムが好ましい。かかるプラスチックフィルムを構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン等のポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アートン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフォン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂及びセルロース樹脂が好ましく、特にポリエステル樹脂が好ましく用いられる。プラスチックフィルムの厚みとしては、50〜300μmの範囲が適当であり、80〜250μmの範囲が好ましい。
(易接着層)
本発明に用いられる基材は、易接着層が予め積層されたプラスチックフィルムが好ましく、特に易接着層が予め積層されたポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)が好ましい。
PETフィルムの屈折率は1.62〜1.66程度であり、前述したハードコート層の屈折率は1.62〜1.68の範囲が特に好ましいが、PETフィルムとハードコート層の間に介在する易接着層の屈折率は、干渉縞低減の観点から1.62〜1.68の範囲が好ましい。更に、PETフィルムの屈折率と易接着層の屈折率の差、及び易接着層とハードコート層の屈折率の差は、いずれも0.03以下にあることが好ましく、0.02以下であることがより好ましく、特に0.01以下であることが好ましい。
以下、PETフィルムに予め積層される易接着層について説明する。かかる易接着層は、上記したように屈折率は1.62〜1.68の範囲が好ましいが、このように易接着層の屈折率を高くするためには、易接着層に、芳香族環を有する化合物を含有させることが好ましい。特に、縮合多環式芳香族環を有する化合物を含有する易接着層が好ましい。上記の縮合多環式芳香族環を有する化合物は、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の高分子化合物が好ましく、特にポリエステル樹脂には比較的多くの縮合多環式芳香族環を導入することができるのでより好ましい。
縮合多環式芳香族環としては、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環等が挙げられるが、特にフルオレン環が好ましい。
易接着層は、架橋剤を含有することが好ましい。かかる架橋剤としては、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
易接着層は、更に易滑性や耐ブロッキング性の向上のために、無機微粒子を含有することが好ましい。かかる無機微粒子としては、コロイダルシリカが好ましく用いられる。
易接着層の厚みは、5〜40nmの範囲が好ましく、10〜30nmの範囲がより好ましい。易接着層の厚みを40nm以下にすることによって、易接着層の塗工欠点の低減が図られ、5nm以上とすることによってハードコート層との良好な密着性を確保することができる。
(反射防止フィルム)
本発明の反射防止フィルムの好ましい態様は、PETフィルム、易接着層、ハードコート層、低屈折率層が、この順に他の層を介在せずに積層されたものである。
また、本発明の反射防止フィルムは、基材の反対面、即ち、基材に対してハードコート層及び低屈折率層が設けられている面とは反対側の面に、近赤外線遮蔽層を設けることができる。
かかる近赤外線遮蔽層は、波長800〜1100nmの範囲における平均透過率が20%以下となるように調整されていることが好ましい。近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を含む樹脂層であってもよいし、近赤外線吸収剤を含む粘着剤層であってもよい。近赤外線吸収剤としては、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイモニウム系化合物等の有機系近赤外線吸収剤、あるいは酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫、硫化亜鉛、セシウム含有酸化タングステン等の無機系近赤外線吸収剤を用いることができる。
樹脂バインダーとしては、ポリエステル系樹脂、( メタ) アクリル系樹脂、( メタ) アクリルウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等が好ましく用いられ、中でも( メタ) アクリル系樹脂が好適である。
粘着剤としては、アクリル系、シリコーン系、ウレタン系、ポリビニルブチラール系、エチレン−酢酸ビニル系等の粘着剤層を用いることができる。特にアクリル系粘着剤が好ましい。
本発明の反射防止フィルムの基材の反対面に積層される近赤外線遮蔽層は、近赤外線吸収剤を含有する粘着剤層であることが好ましい。また、この粘着剤層は、本発明の反射防止フィルムをディスプレイに貼り付けるための粘着剤層として適用することが好ましい。
近赤外線遮蔽層には、更に、570〜610nmに極大吸収を有する色素、例えばテトラアザポルフィリン系色素を含有させることが好ましい。前記吸収極大波長における透過率は30%以下となるように調整されていることが好ましい。
また、近赤外線遮蔽層には、500nm付近、550nm付近に吸収を有する色素を含有させて色補正機能を付与することができる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法及び評価方法を以下に示す。
(1)ハードコート層、低屈折率層、易接着層の厚みの測定
各サンプルの断面を透過型電子顕微鏡(日立製H−7100FA型)で加速電圧100kVにて観察する。試料調整は超薄切片法もしくは凍結超薄切片法を用いる。5〜30万倍の倍率で観察し厚みを測定する。
(2)屈折率の測定
ハードコート層、低屈折率層、易接着層の各塗料をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜(乾燥厚み約2μm)について、25℃の温度条件下で位相差測定装置(ニコン(株)製:NPDM−1000)で633nmの屈折率を測定した。
また、PETフィルムの屈折率は、JIS K7105(1981)に準じてアッベ屈折率計で測定した。
(3)視感反射率の測定
<試料の作成>
各サンプルを150mm×150mmに切り出し、PETフィルムの反射防止膜とは反対側の面に黒粘着テープを貼り付けて測定用試料を作製した。
<測定>
分光光度計(島津製作所製、UV3150PC)を用いて、測定面から5度の入射角で波長380〜780nmの範囲で反射率(片面反射)を算出し、視感反射率(JIS Z8701−1999において規定されている反射の刺激値Y)を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、JIS Z8701−1999に従って反射率(片面光線反射)を算出する。算出式は以下の通りである。
T=K・ ∫S(λ)・y(λ)・ R(λ) ・dλ (ただし、積分区間は380〜780nm)
T:片面光線反射率
S(λ) :色の表示に用いる標準の光の分布
y(λ) :XYZ表示系における等色関数
R(λ) :分光立体角反射率。
(4)干渉縞の目視の評価
各サンプルを150mm×150mmに切り出し、PETフィルムの反射防止膜とは反対側の面に黒粘着テープ(日東電工製“ビニルテープNo.21 トクハバ 黒”)を貼り付け、暗室三波長蛍光灯下にて目視にて反射防止膜の干渉縞(反射色ムラ)の評価を以下の基準で行った。
◎:干渉縞がほぼ見えない
○:干渉縞がわずかに見える
△:弱い干渉縞が明確に見える
×:干渉縞が強く見える。
(5)耐擦傷性;スチールウール硬度評価
各サンプルの反射防止膜面を、#0000のスチールウールに250gの荷重をかけて、ストローク幅10cm、速度30mm/secで10往復摩擦した後、反射防止膜表面を目視で観察し、傷の付き方を次の5段階で評価した。
5級:傷が全く付かない
4級:傷が1本以上10本以下
3級:傷が11本以上30本以下
2級:傷が31本以上
1級:全面に無数の傷。
(実施例1)
以下の要領で反射防止フィルムを作製した。
<易接着層が積層されたPETフィルム>
厚み100μmのPETフィルムの一方の面に、フルオレン環を有するポリエステル樹脂(フルオレン共重合ポリエステル樹脂)を主成分とし、該にフルオレン共重合ポリエステル樹脂100質量部に対して、メラミン系架橋剤を5質量部、コロイダルシリカを1質量部含有する易接着層を積層した。易接着層の乾燥厚みは21nmであった。PETフィルムの屈折率は1.64、易接着層の屈折率は1.64であった。
<反射防止膜の積層>
上記の易接着層が積層されたPETフィルムの易接着層面に、下記のハードコート層と低屈折率層を順次積層して、反射防止フィルムを作製した。
<ハードコート層の積層>
紫外線硬化性樹脂(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートの混合物)30質量部、平均一次粒子径が50nmの五酸化アンチモン粒子70質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア184」)5質量部を有機溶媒(メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノンの混合溶媒)に溶解・分散したハードコート層形成用塗料を用意した。この塗料の固形分濃度は30質量%で、粘度(23℃)は6mPa・Sである。この塗料をグラビアコーターでリバース塗工し、90℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射して硬化させ、厚みが0.8μmのハードコート層(屈折率1.64)を形成した。
<低屈折率層の積層>
無機微粒子として中空シリカ(日揮触媒化成(株)製のELECOM−P5024)を固形分で40質量部、重合性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを54質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物としてチッソ(株)製の「サイラプレーンFM−0711」を3質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「イルガキュア907」)3質量部を、有機溶媒(イソプロピルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンの混合溶媒)に溶解・分散して、低屈折率層形成用の活性エネルギー線硬化性組成物を用意した。この組成物の固形分濃度は3質量%で、粘度(23℃)は1mPa・Sである。この塗料をグラビアコーターで塗工し、90℃で乾燥後、紫外線400mJ/cmを照射して硬化させ、厚みが100nmの低屈折率層(屈折率1.39)を形成した。
(実施例2)
実施例1の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を30質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを64質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(実施例3)
実施例1の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を20質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを74質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(実施例4)
実施例2のハードコート層の厚みを、0.5μmに変更した以外は、実施例2と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(実施例5)
実施例2の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を信越化学工業(株)製の「X−22−164C」に変更した以外は、実施例2と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(実施例6)
実施例2の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを66質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を1部に変更した以外は、実施例2と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(実施例7)
実施例2の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを60質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を7部に変更した以外は、実施例2と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(比較例1)
実施例1のハードコート層の厚みを1.5μmに変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(比較例2)
実施例1のハードコート層の厚みを3.0μmに変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(比較例3)
実施例1の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を50質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを44質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(比較例4)
実施例1の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を70質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを24質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(比較例5)
実施例1の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の中空シリカの固形分量を5質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを89質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(比較例6)
実施例1の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを57質量部に変更し、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を添加しなかった以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(比較例7)
実施例1の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を、エチレン性不飽和基を有しないポリシロキサン化合物(ポリエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン;ビックケミー・ジャパン(株)製の「BYK370」)に変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
(比較例8)
実施例1の低屈折率層形成用活性エネルギー線硬化性組成物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを42質量部、エチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を15質量部に変更した以外は、実施例1と同様にして反射防止フィルムを作製した。
<評価>
上記で作製した各反射防止フィルムについて、低屈折率層の屈折率、反射防止膜の視感反射率、干渉縞、耐擦傷性を評価した。その結果を表1に示す。
Figure 2011145438
表1の結果から、本発明の実施例は、干渉縞の発生がなく、かつ耐擦傷性が良好であることがわかる。
一方、比較例1、2は、ハードコート層の厚みが1μm以上であり、干渉縞の発生が抑制されていない。
比較例3は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が45質量%以上であり、干渉縞の発生が抑制されてなく、耐擦傷性も不十分である。
比較例4は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が45質量%以上で重合性モノマーの含有量が30質量%未満であり、干渉縞の発生が抑制されてなく、耐擦傷性も不十分である。
比較例5は、低屈折率層の無機微粒子の含有量が10質量%未満であり、視感反射率が高く十分な反射防止性が得られない。
比較例6、7は、低屈折率層がエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を含有していないので、耐擦傷性が不十分である。
比較例8は、低屈折率層のエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物の含有量が10質量%以上であり、耐擦傷性が不十分である。

Claims (6)

  1. 基材上に、厚みが0.3μm以上1μm未満のハードコート層と、無機微粒子と重合性モノマーを主成分として含む活性エネルギー線硬化性組成物を硬化せしめた低屈折率層をこの順に有する反射防止フィルムであって、前記活性エネルギー線硬化性組成物が、該組成物の固形分総量100質量%に対して、前記無機微粒子を10質量%以上45質量%未満、前記重合性モノマーを30質量%以上85質量%未満、及びエチレン性不飽和基を有するポリシロキサン化合物を0.5質量%以上10質量%未満、それぞれ含有することを特徴とする反射防止フィルム。
  2. 前記ハードコート層の屈折率が1.55〜1.75の範囲であり、かつ前記低屈折率層の屈折率が1.3〜1.45の範囲である、請求項1に記載の反射防止フィルム。
  3. 前記無機微粒子がシリカまたはフッ化マグネシウムである、請求項1または2に記載の反射防止フィルム。
  4. 前記無機微粒子が中空状または多孔質である、請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  5. 前記基材と前記ハードコート層との間に厚みが5〜40nmの易接着層を有し、該易接着層と該基材の屈折率差、及び該易接着層と該ハードコート層との屈折率差が、それぞれ0.3以下である、請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  6. 前記易接着層がフルオレン基を有するポリエステル樹脂を含む、請求項5に記載の反射防止フィルム。
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