JP2011134489A - 有機elディスプレイ基板の点灯検査設備及び点灯検査方法、有機elディスプレイ基板の欠陥検査修正装置及び欠陥検査修正方法並びに有機elディスプレイ製造システム及び製造方法。 - Google Patents
有機elディスプレイ基板の点灯検査設備及び点灯検査方法、有機elディスプレイ基板の欠陥検査修正装置及び欠陥検査修正方法並びに有機elディスプレイ製造システム及び製造方法。 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本発明は有機EL素子の各画素を点灯させる点灯検査用の専用配線及び専用電極パッドを有するマザー基板の前記専用電極パットに給電し前記各画素を点灯させ、前記点灯結果に基づいて前記各画素のうち点灯していない欠陥画素とその位置を検出する。そして、封止前に前記欠陥画素の異物にレーザ光を照射して欠陥を修復する。
【選択図】図10
Description
特許文献1記載の技術によれば、単純マトリクス駆動するパッシブ型有機ELディスプレイで、欠陥画素に対応する金属電極から、短絡等の発生領域をレーザで除去することにより、金属電極と透明電極の間の短絡が解消され、部分的に除去された金属電極と透明電極の間の有機発光層が発光可能となる為、欠陥画素が修復される。
特許文献2では、有機発光層とこれを挟む上下の電極からなる有機EL表示装置において、有機EL膜が発光するか否を検査し、発光しない場合に透明電極側から異物を検出し、この異物を囲む帯状の領域を透明電極側からレーザ照射することにより、対向する不透明電極薄膜を帯状に除去することで上下電極の短絡を解消する欠陥画素修復方法が開示されている。
現在量産されている携帯電話等の製品は、2〜3インチ程度とパネルサイズが小さいために画素修復をしなくとも歩留まりが確保されるので大きな問題とはなっていないが、上記のごとく、有機樹脂封止構造の有機ELパネルに対しては有効な欠陥画素修復手段がなく、今後量産化が始まる大画面有機ELディスプレイに対しては、工業的に合理的な欠陥画素修復手段が強く求められている。
また、アクティブ型有機ELディスプレイの大型パネル構造に適したもう一つの候補として、白色有機ELデバイスとカラーフィルタの組み合わせがあるが、この構造では、レーザ光をカラーフィルタの色パターンを介して照射する必要があるので、色パターンによるレーザ光吸収の為に画素修復は不可能となる。
第1の本発明によれば、有機EL素子や配線が形成されたマザー基板上の有機ELパネルに対し、専用配線によって各パネルの画素に給電することで点灯検査が可能となり、非点灯(欠陥)画素の検出をすることができる。
第2の本発明によれば、前記画素内の欠陥部位をレーザで除去することにより修復することができるので、最終パネル形態が樹脂封止構造やカラーフィルタを組み合わせた構造であっても画素欠陥を修復することができる。
また、本発明は、上記の目的を達成するために、第2の特徴に加え、前記欠陥画素の修正と共に除去されたバリア膜を再形成するバリア膜形成設備を有することを特徴とする。
好適なバリア膜形成方法としては、H. Lifka et. al., SID ’04 Digest, p.1384 (2004)に開示されている。更に好ましくは、レーザ除去によって生じた凹部を低温で且つ段差被覆性高く平坦化成膜できる有機ケイ素系原料を用いた真空紫外光CVD法が上げられるが、保護機能を持つ成膜方法であれば良く、これらに限定されない。
第4の本発明によれば、低湿度雰囲気に維持することで有機ELパネルの発光寿命確保できる。低湿度雰囲気維持手段としては水分除去機構又は不活性乾燥ガスによる維持する構造が考えられる。
第5、第6の本発明によれば、画素の点灯検査・修正は封止工程の前で実施されるので、パネルの封止構造によらず検査・修正が可能となる。また、マザー基板単位で検査・修正できるので従来のパネル単位で検査・修正する方法で必要であったパネルサイズ毎の設備や冶具を不要にすることができる。また、有機ELデバイス形成工程から封止工程までをマザー基板単位で処理することができるので、ライン全体を自動化し易く生産性が向上する。
第7の本発明によれば、低湿度に雰囲気制御した基板搬送設備で有機ELデバイス形成工程、検査修正工程、封止工程を連結して全体工程を低湿度に雰囲気制御することができる為に、パネル発光寿命に影響を及ぼす湿度の影響を極限まで抑制できる。
また、本発明は、上記の目的を達成するために、第2または第5あるいは第6の特徴に加え、前記各画素に給電し点灯した状態を画像で捉え、前記画像に基づいて前記パネル単位で線欠陥、ムラ不良、画素内色ずれのうち少なくとも一つの不良を検査して良品不良品の判定をし、前記欠陥修正は前記欠陥画素の不良のみの前記パネルを選別して前記欠陥画素を修正することを第8の特徴とする。
第8の本発明によれば、非点灯画素以外の不良を含むパネルを除外してから、画素欠陥の修復を行う為に修正すべきパネルを絞り込むことができ生産性が向上する。
例えば、真空成膜設備では赤、青、緑の各画素を分離してパターニングするため、色毎にシャドウマスクで塗り分けているが、高精細マスク或いは大型マスクになるにつれ、シャドウマスクの位置合わせズレのために色が混色する可能性が増える。有機ELディスプレイ基板の検査修正において、バックプレーン形成工程で作製したパターンとの有機膜パターンとのズレを計測し、このズレ量をオフセット値として真空成膜設備にフィードバックすることでシャドウマスク位置合わせ時のズレを防止し、これにより歩留まりを向上させることができる。
本発明の有機ELディスプレイ検査修正設備では、有機ELパネルの発光寿命確保の為に、該検査修正設備内も水分除去機構又は不活性乾燥ガスによって検査雰囲気及びレーザ加工雰囲気を低湿度に制御した構造を有することが好ましいが、更に好ましくは不活性乾燥ガスの使用量低減や結露点管理の為に、内容積を低減した構造とすることが望ましい。即ち、基板を保持するステージは、水分除去機構又は不活性乾燥ガスによって低湿度に制御された構造体の中にあり、該構造体には検査に必要な光やレーザを透過するガラス製の窓が設けられ、点灯検査の検出系、画素内欠陥の検出系、修正用レーザ光照射系が該構造体の外にあって、前記ガラス製の窓を介して検査修正する有機ELディスプレイ検査修正設備及び有機ELディスプレイ製造システムとすることで、不活性乾燥ガスを必要とする内容積を著しく低減することができる。
まず、通電しても発光しない欠陥画素の原因を図2のトップエミッションアクティブ型有機ELディスプレイの断面概念図を用いて説明する。このデバイスは、まずバックプレーン工程で単なるガラス基板の状態にあるマザー基板108上に、TFT素子110、配線層109、絶縁層107、105、有機EL部の第1電極106等を、薄膜プロセスを用いて形成する。有機発光層120(120a、120b)のパターンは第1電極106のパターン上にシャドウマスクを用いて真空蒸着され、更に真空を破らず連続的に第2電極104、バリア膜103を形成して有機EL素子が形成される。水分による寿命低下や機械的保護の為にカバーガラス101で封止してデバイスは完成するが、カバーガラスと有機EL素子側基板との間は方式の違いにより樹脂層又は中空層102となる。
カバーガラスと有機EL素子側基板の間が中空層である場合と樹脂層である場合で、レーザ照射による欠陥修復効果に違いがあり、中空層(構造)の場合は欠陥修復が容易である。図3は中空層160である場合の画素欠陥の修復メカニズムを示す概念図である。異物のある場所にパルスレーザ光140のビームを照射すると、照射部の第2電極104、有機発光層120b、導電性異物130がレーザの熱衝撃で飛散し、開口部170が生じる。開口しなかった残余の画素は、電気的短絡から開放されて発光が回復した画素100cとなる。全画素面積に対し、レーザ照射によって生成した開口部170の面積が小さければ実用上問題のない画素として機能する。
欠陥修正設備の構成について説明する。光源417から出射され投影光420はコリメートレンズ416によってコリメート光とし、ハーフミラー412、410をへてマザー基板320に投影される。基板からの反射光をハーフミラー410によって導き、結像レンズ415をへて撮像素子413でマザー基板320上の画素画像を撮像する。画像は画像処理部414によって処理され、異物の位置を算出してマスクステージ408上に置かれたマスク407を異物の位置まで精密に移動する。
結像レンズ409と対物レンズ414はマスク407の像をマザー基板320上に投影するように配置されており、結像レンズ409と対物レンズ414の焦点距離の比倍の大きさでマザー基板320上にマスク像を投影する。この光学系構成により、マスク407の透過部分を縮小した領域にレーザ光照射することができる。
照射するレーザ光の波長は、200〜1100nmの範囲から選択できる。典型的な波長としては266nm、532nm、1064nm等の波長があげられるが、有機発光層の光吸収特性に合わせて選択する。
は非発光部となる。この部分の面積が残余の発光部に比べて小さければ、パネル全体を点灯した際には人間の目にはほとんど視認されない。正常画素501Rと点灯を回復した画素510Rの輝度比は発光部面積に比例するので、非発光部、即ちマスク407のリング状の開口部602の径は、設計者の非発光許容率から規定することができる。例えば、200μmx80μmの発光面積で非発光許容率が5%であれば、最大16μmの径が許容できる。有機EL膜形成工程で問題となる異物径は100nmオーダから大きくても数ミクロンオーダなので、位置合わせズレ等の精度を考慮してもマージン幅広くレーザ加工することができる。
上記のごとく、全ての工程をマザー基板単位で処理できるので自動化し易く生産性が高い。
20:有機EL膜形成設装置のクラスター
30:マザー基板単位で画素の点灯検査修正設備のクラスター
40:封止設備のクラスター 45:基板
50、60、80:受渡設備 51:真空トランスファチャンバー
52:トランスファチャンバー 90:トランスファロボット
100a:欠陥画素 100b:正常画素
100c:発光が回復した画素
100d:レーザ照射によって修復しなかった画素
101:カバーガラス 102:樹脂層又は中空層
103:バリア膜 104:第2電極
105、107:絶縁層 106:第1電極
108:ガラス基板の状態にあるマザー基板 109:配線層
110:TFT素子 120a、120b:有機発光層(膜)
130:導電性異物 140:パルスレーザ光
150:レーザ光による飛散物 160:中空層
170:レーザ照射によって生成した開口部 180:樹脂層
190:レーザ光による焼損部 200:第2電極(不透明)
301:パネル領域 302:表示部領域
303:ゲートLSI搭載領域 304:ソースLSI搭載領域
305:ゲート部給電用電極パッド 306:ゲート部給電配線
307:ソース部給電用電極パッド 308:ソース部給電配線
309:第2電極用給電パッド 310:第2電極給電配線
320:マザー基板(専用給電配線付き:図9)321、803:ステージ
322:ゲート部給電用プローバ 323:ソース部給電用プローバ
324:ラインセンサ 330:欠陥画素
450:観察系 460:レーザ照射系
417:光源 420:投影光
416:コリメートレンズ 412、410:ハーフミラー
415:結像レンズ 413:撮像素子
414:画像処理部 408:マスクステージ
407:マスク 400:レーザ発振器
401:レーザ光 402:ビームエキスパンダ
403:ホモジナイザ 408:マスクステージ
409:結像レンズ 450:観察系
460:レーザ照射系 414:対物レンズ
501R:赤のサブ画素 501G:緑のサブ画素
501B:青のサブ画素 500R:欠陥画素
510R:点灯を回復した画素 520:レーザ照射部
600:レーザ除去部 601:遮光部
602:開口部 701、702、703:有機EL膜形成設備
704、705:第2電極膜形成設備 706:バリア膜形成設備
710、711、806:点灯検査設備 712、713、714、715:欠陥修正設備
721:封止設備 800:ガラス窓
802:プローバ 803、813:構造体
804、816:トランスファチャンバー 805、812:ステージ
810:ガラス窓 815:レーザ修正装置
820:レーザ照射系 901:ゲート線
902:データ線 910:有機発光層。
Claims (28)
- 有機EL素子の各画素を点灯させる点灯検査用の専用配線及び専用電極パッドを有するマザー基板の前記専用電極パッドに給電し前記各画素を点灯させる点灯手段と、前記点灯結果に基づいて前記各画素のうち点灯していない欠陥画素とその位置を検出する欠陥画素検出手段とを有することを特徴とする有機ELディスプレイ基板の点灯検査設備。
- 前記電極パッドは前記マザー基板の少なくとも一辺に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の有機ELディスプレイ基板の点灯検査設備。
- 前記マザー基板は少なくとも1枚のパネルを有し、前記点灯手段は少なくともパネル単位で前記各画素に一括給電が可能であることを特徴とする請求項1に記載の有機ELディスプレイ基板の点灯検査設備。
- 請求項1に記載の有機ELディスプレイ基板の点灯検査設備と、前記欠陥画素の異物の位置を光学的に検出する異物位置検出手段と前記検出した異物の位置にレーザ光を照射して前記欠陥画素を修正する欠陥修正手段とを具備する欠陥修正設備とを有することを特徴とする有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。
- 前記異物位置検出手段は欠陥画素の画像を捉え、正常画素の画像と比較して画素内の欠陥とその位置を検出する手段であることを特徴とする請求項4に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。
- 。
前記欠陥画素の修正と共に除去されたバリア膜を再形成するバリア膜形成設備を有することを特徴とする請求項4に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。 - 前記欠陥画素の修正後に少なくとも前記欠陥画素に給電し、画素が点灯するか否かを判定する判定手段を有することを特徴とする請求項4に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。
- 前記点灯検査設備、前記欠陥修正設備は低湿度雰囲気に制御する低湿度雰囲気維持手段を有することを特徴とする請求項4に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。
- 前記低湿度雰囲気維持手段は水分を除去する水分除去手段または不活性乾燥ガス雰囲気に維持する手段であることを特徴とする請求項8に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。
- 前記欠陥修正設備は、前記マザー基板を低湿度雰囲気中に載置し、前記レーザを透明窓を介して前記異物に照射することを特徴とする請求項4に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。
- 前記欠陥画素検出手段は前記画素に給電し点灯した状態を画像で捉え、前記画像を処理し前記欠陥画素を検出する手段であって、前記点灯検査設備は前記画像に基づいて前記パネル単位で線欠陥、ムラ不良、画素内色ずれのうち少なくとも一つの不良を検査して良品不良品の判定を行う判定手段を備え、前記欠陥修正設備は前記欠陥画素の不良のみの前記パネルを選別して前記欠陥画素を修正することを特徴とする請求項4記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。
- 前記欠陥画素検出手段は前記点灯した状態を画像で捉え、前記画像を処理し前記欠陥画素を検出する手段であって、前記欠陥修正手段は前記パネル内の前記欠陥画素が所定の個数内のときに前記パネルの前記欠陥画素を修正することを特徴とする請求項4記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置。
- 有機EL素子の各画素を点灯させる点灯検査用の専用配線及び専用電極パッドを有するマザー基板の前記専用電極パットに給電し前記各画素を点灯させる点灯ステップと、前記点灯結果に基づいて前記各画素のうち点灯していない欠陥画素とその位置を検出する欠陥画素検出ステップとを有する有機ELディスプレイ基板の点灯検査方法。
- 前記マザー基板は少なくとも1枚のパネルを有し、前記点灯ステップは少なくとパネル単位で前記画素に一括給電が可能であることを特徴とする請求項13に記載の有機ELディスプレイ基板の点灯検査方法。
- 請求項13に記載の有機ELディスプレイ基板の点灯検査方法の有するステップに加え、前記欠陥画素の異物の位置を光学的に検出する異物位置検出ステップと、前記検出した異物の位置にレーザ光を照射して前記欠陥画素を修正する欠陥修正ステップとを有することを特徴とする有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正方法。
- 前記異物位置検出ステップは欠陥画素の画像を捉え、正常画素の画像と比較して画素内の欠陥とその位置を検出するステップであることを特徴とする請求項15の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正方法。
- 前記欠陥画素の修正と共に除去されたバリア膜を再形成するバリア膜再形成ステップを有することを特徴とする請求項15に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正方法。
- 前記欠陥画素の修正後に少なくとも前記欠陥画素に給電し、前記欠陥画素が点灯するか否かを判定する判定ステップを有することを特徴とする請求項15に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正方法。
- 前記欠陥画素検出ステップは前記各画素に給電し点灯した状態を画像で捉え、前記点灯検査方法は前記画像に基づいて前記パネル単位で線欠陥、ムラ不良、画素内色ずれのうち少なくとも一つの不良を検査して良品不良品の判定を行う判定ステップを備え、前記欠陥修正ステップは前記欠陥画素の不良のみの前記パネルを選別して前記欠陥画素を修正することを特徴とする請求項15に記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正方法。
- マザー基板に有機EL素子形成材料を成膜する有機EL膜形成設備を具備する成膜クラスター、前記成膜クラスターの後段に設けられ前記マザー基板の画素を点灯し点灯状態を検査し欠陥画素を検出する点灯検査設備と前記点灯検査手段の検査結果に基づいて前記欠陥画素を修正する欠陥修正設備を具備する点灯検査修正クラスター、前記点灯検査修正クラスターの後段に設けられ前記マザー基板の一面をカバーガラスで封止する封止設備を有する封止クラスターと、前記成膜クラスターと前記点灯検査修正クラスターとの間に設けられ前記マザー基板の受け渡しを行う第1の受渡設備と、前記点灯検査修正クラスターと前記封止クラスターとの間に設けられ前記マザー基板の受け渡しを行う第2の受渡設備と、前記マザー基板を搬送する基板搬送設備とを有することを特徴とする有機ELディスプレイ製造システム。
- 前記点灯検査修正クラスターは請求項1乃至3のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板の点灯検査設備を有することを特徴する請求項20に記載の有機ELディスプレイ製造システム。
- 前記点灯検査修正クラスターは請求項4乃至12のいずれかに記載の有機ELディスプレイ基板の欠陥検査修正装置を有することを特徴する請求項20に記載の有機ELディスプレイ製造システム。
- 前記点灯検査修正クラスターの他、前記封止クラスター、前記第1の受渡設備、前記第2の受渡設備及び前記基板搬送設備を低湿度雰囲気に制御する全体低湿度雰囲気維持手段を設けることを特徴とする請求項20に記載の有機ELディスプレイ製造システム。
- マザー基板上の下層TFTパターンと有機発光層パターンとのパターンズレを評価し、前記有機EL膜形成設備の画素パターン位置合わせにオフセット値としてフィードバックする手段を有することを特徴とする請求項20に記載の有機ELディスプレイ製造システム。
- 前記点灯検査修正クラスターは低湿度雰囲気に制御する低湿度雰囲気維持手段を有し、前記第1の受渡設備は真空雰囲気から低湿度雰囲気に切換える雰囲気切換手段を有していることを特徴とする請求項20に記載の有機ELディスプレイ製造システム。
- マザー基板に有機EL素子形成材料を成膜する成膜ステップと、前記マザー基板の各画素に給電し前記各画素を点灯させる点灯ステップと、前記点灯結果に基づいて前記各画素のうち点灯していない欠陥画素とその位置を検出する欠陥画素検出ステップと、前記欠陥画素内の異物を検出し前記欠陥画素を修正する欠陥修正ステップと、前記欠陥修正後前記マザー基板の一面を封止する封止ステップを有することを特徴とする有機ELディスプレイ製造方法。
- 前記給電は前記マザー基板に設けられた点灯検査用の専用配線及び専用電極パッドを介して行なわれることを特徴とする請求項26に記載の有機ELディスプレイ製造方法。
- マザー基板上の下層TFTパターンと有機発光層パターンとのパターンズレを評価し、前記有機EL膜形成設備の画素パターン位置合わせにオフセット値としてフィードバックするステップ有することを特徴とする請求項26に記載の有機ELディスプレイ製造方法。
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