JP2011133842A - Laminate for antireflection, method for manufacturing the same, and curable composition - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition can which form a cured film superior in a low refractive index and scratch resistance in one coating process; or to provide a laminate for antireflection, which has the cured film, and method for manufacturing thereof. <P>SOLUTION: The laminate 100 for antireflection includes a polymerizable compound having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphoric ester group, and a sulfo group, and particles 22 having a refractive index of 1.40 or less on a base material 10. The laminate has the cured film 20 of the curable composition in which the total of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphoric ester group concentration, and sulfo group concentration in the whole polymerizable compound of 1 g is 2.0-15 mmol/g. The particles 22 are unevenly distributed on a reverse face side to a face brought into contact with the base material 10 of the cured film 20. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物に関する。   The present invention relates to an antireflection laminate, a method for producing the same, and a curable composition.

近年、テレビ、パーソナルコンピュータ等の表示装置として、液晶表示装置が使用されている。かかる液晶表示装置において、外光の映りを防止して画質を向上させるために、低屈折率層を含有する反射防止膜を使用することが提案されている。   In recent years, liquid crystal display devices have been used as display devices for televisions, personal computers, and the like. In such a liquid crystal display device, it has been proposed to use an antireflection film containing a low refractive index layer in order to prevent reflection of external light and improve image quality.

従来の液晶表示装置に使用される反射防止膜は、低屈折率層とハードコート層を多層塗工することで低屈折率性および耐擦傷性を備えていた。このような多層構造を有する反射防止膜は、低屈折率層において反射率を低減させることができるが、多層構造とするために生産性やコストに劣るという問題があった。さらに、低屈折率層とハードコート層とを積層させることにより製造された反射防止膜は、低屈折率層とハードコート層との界面で剥離が起こりやすいという問題を抱えていた。   An antireflection film used in a conventional liquid crystal display device has low refractive index properties and scratch resistance by applying a multilayer coating of a low refractive index layer and a hard coat layer. The antireflection film having such a multilayer structure can reduce the reflectance in the low refractive index layer, but has a problem that the productivity and cost are inferior because of the multilayer structure. Furthermore, the antireflection film produced by laminating the low refractive index layer and the hard coat layer has a problem that peeling easily occurs at the interface between the low refractive index layer and the hard coat layer.

このような問題を解決するために、フッ素シランでシリカ粒子を修飾し、表面エネルギーによりその液体中でシリカ粒子を偏在化させてから硬化膜を形成するといった反射防止膜の製造方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In order to solve such problems, a method of manufacturing an antireflection film has been proposed in which silica particles are modified with fluorine silane, and the silica particles are unevenly distributed in the liquid by surface energy, and then a cured film is formed. (For example, refer to Patent Document 1).

特許3861562号公報Japanese Patent No. 3861562

しかしながら、特許文献1に記載の方法では、シリカ粒子の偏在性が不十分で低屈折率性が得られないばかりでなく、硬化膜表面の耐擦傷性に優れないという問題があった。   However, the method described in Patent Document 1 has a problem that not only the uneven distribution of silica particles is insufficient and low refractive index is not obtained, but also the scratch resistance on the surface of the cured film is not excellent.

そこで、本発明にかかる幾つかの態様は、上記課題を解決することで、低屈折率性および耐擦傷性に優れた硬化膜を一度の塗布工程で形成することができる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射防止用積層体ならびにその製造方法を提供するものである。   Therefore, some embodiments according to the present invention provide a curable composition that can form a cured film excellent in low refractive index and scratch resistance by a single coating step by solving the above-described problems, or An antireflection laminate having the cured film and a method for producing the same are provided.

本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following aspects or application examples.

[適用例1]
本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、
基材上に、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有するマトリックスと、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記マトリックス1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gである硬化膜を有し、
前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在していることを特徴とする。
[Application Example 1]
One aspect of the antireflection laminate according to the present invention is:
On the substrate
A matrix having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less, Having a cured film having a total of group concentration, carboxyl group concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g,
The particles are unevenly distributed on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate in the cured film.

かかる反射防止用積層体によれば、基材と接触する面とは反対の面側に屈折率が1.40以下である粒子が高密度に存在する層を有し、基材と接触する面側に1.40以下である粒子が実質的に存在しない層を有しているため、耐擦傷性および低屈折率性の双方を兼ね備えることができる。   According to such an antireflection laminate, the surface in contact with the substrate has a layer in which particles having a refractive index of 1.40 or less are present at a high density on the surface opposite to the surface in contact with the substrate. Since it has a layer substantially free of particles of 1.40 or less on the side, it can have both scratch resistance and low refractive index.

[適用例2]
適用例1の反射防止用積層体において、
前記マトリックス1g中におけるヒドロキシル基濃度が2.0mmol/g〜15mmol/gであることができる。
[Application Example 2]
In the antireflection laminate of Application Example 1,
The hydroxyl group concentration in 1 g of the matrix may be 2.0 mmol / g to 15 mmol / g.

[適用例3]
本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、
基材上に、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物の硬化膜を有し、
前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在していることを特徴とする。
[Application Example 3]
One aspect of the antireflection laminate according to the present invention is:
On the substrate
A polymerizable compound comprising a polymerizable compound having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less, and A cured film of a curable composition having a total of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration in 1 g;
The particles are unevenly distributed on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate in the cured film.

かかる反射防止用積層体によれば、基材と接触する面とは反対の面側に屈折率が1.40以下である粒子が高密度に存在する層を有し、基材と接触する面側に1.40以下である粒子が実質的に存在しない層を有しているため、耐擦傷性および低屈折率性の双方を兼ね備えることができる。   According to such an antireflection laminate, the surface in contact with the substrate has a layer in which particles having a refractive index of 1.40 or less are present at a high density on the surface opposite to the surface in contact with the substrate. Since it has a layer substantially free of particles of 1.40 or less on the side, it can have both scratch resistance and low refractive index.

[適用例4]
適用例3の反射防止用積層体において、
前記硬化性組成物は、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度が2.0mmol/g〜15mmol/gであることができる。
[Application Example 4]
In the antireflection laminate of Application Example 3,
The curable composition may have a hydroxyl group concentration of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g in 1 g of all polymerizable compounds.

[適用例5]
適用例1ないし適用例4のいずれか一例の反射防止用積層体において、
前記粒子は、中空シリカ粒子であることができる。
[Application Example 5]
In the antireflection laminate of any one of Application Examples 1 to 4,
The particles can be hollow silica particles.

[適用例6]
本発明に係る反射防止用積層体の製造方法の一態様は、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物を基材に塗布した後、硬化させる工程を含むことを特徴とする。
[Application Example 6]
One aspect of the method for producing an antireflection laminate according to the present invention is as follows.
A polymerizable compound comprising a polymerizable compound having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less, and The step of curing after applying a curable composition having a total of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration in 1 g to a substrate. It is characterized by including.

かかる反射防止用積層体の製造方法によれば、前記条件を満たす硬化性組成物を基材に一度塗布して硬化させることで、基材と接触する面とは反対の面側に屈折率が1.40以下である粒子が高密度に存在する層を形成し、基材と接触する面側に1.40以下である粒子が実質的に存在しない層を形成することができる。これにより、耐擦傷性および低屈折率性の双方を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。   According to such a method for producing an antireflection laminate, once the curable composition satisfying the above conditions is applied to a substrate and cured, the refractive index is on the side opposite to the surface in contact with the substrate. A layer in which particles of 1.40 or less are present at high density can be formed, and a layer in which particles of 1.40 or less are not substantially present can be formed on the side in contact with the substrate. As a result, an antireflection laminate having both scratch resistance and low refractive index can be produced.

[適用例7]
適用例6の反射防止用積層体の製造方法において、
前記硬化性組成物は、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度が2.0mmol/g〜15mmol/gであることができる。
[Application Example 7]
In the manufacturing method of the antireflection laminate of Application Example 6,
The curable composition may have a hydroxyl group concentration of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g in 1 g of all polymerizable compounds.

[適用例8]
適用例6または適用例7の反射防止用積層体の製造方法において、
前記粒子は、中空シリカ粒子であることができる。
[Application Example 8]
In the production method of the antireflection laminate of Application Example 6 or Application Example 7,
The particles can be hollow silica particles.

[適用例9]
本発明に係る硬化性組成物の一態様は、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、
全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gであることを特徴とする。
[Application Example 9]
One aspect of the curable composition according to the present invention is:
A polymerizable compound having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate group, and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less,
The total of the hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate ester group concentration and sulfo group concentration in 1 g of all polymerizable compounds is 2.0 mmol / g to 15 mmol / g.

[適用例10]
適用例9の硬化性組成物において、
全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度が2.0mmol/g〜15mmol/gであることができる。
[Application Example 10]
In the curable composition of Application Example 9,
The hydroxyl group concentration in 1 g of all polymerizable compounds can be 2.0 mmol / g to 15 mmol / g.

[適用例11]
適用例9または適用例10の硬化性組成物において、
前記粒子は、中空シリカ粒子であることができる。
[Application Example 11]
In the curable composition of Application Example 9 or Application Example 10,
The particles can be hollow silica particles.

本発明に係る反射防止用積層体の製造方法によれば、特定の硬化性組成物を基材に一度塗布して硬化させることで、基材と接触する面とは反対の面側に屈折率が1.40以下である粒子が高密度に存在する層を形成し、基材と接触する面側に1.40以下である粒子が実質的に存在しない層を形成することができる。これにより、耐擦傷性および低屈折率性の双方を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。   According to the method for producing an antireflection laminate according to the present invention, a specific curable composition is once applied to a substrate and cured, so that the refractive index is on the surface opposite to the surface in contact with the substrate. Can form a layer in which particles having a particle size of 1.40 or less are present at a high density, and a layer substantially free of particles having a particle size of 1.40 or less can be formed on the side in contact with the substrate. As a result, an antireflection laminate having both scratch resistance and low refractive index can be produced.

本実施の形態にかかる反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the laminated body for reflection concerning this Embodiment.

以下、本発明に係る好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において実施される各種の変型例も含む。   Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, Various modifications implemented in the range which does not change the summary of this invention are also included.

1.硬化性組成物
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、(B)屈折率が1.40以下である粒子と、を含有する。以下、本実施の形態に係る硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。なお、以下の記載において(A)ないし(D)の各材料を、それぞれ(A)成分ないし(D)成分と省略して記載することもある。
1. Curable composition The curable composition which concerns on this Embodiment is (A) The polymeric compound which has 1 or more types of polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group, and a sulfo group, B) particles having a refractive index of 1.40 or less. Hereinafter, each component of the curable composition which concerns on this Embodiment is demonstrated in detail. In the following description, the materials (A) to (D) may be abbreviated as components (A) to (D), respectively.

1.1.(A)重合性化合物
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物を有する。本実施の形態に係る(A)重合性化合物は、重合性官能基を有する化合物であり、(メタ)アクリロイル基、ビニル基またはエポキシ基を有する化合物であることが好ましい。さらに、(A)重合性化合物には、(A1)ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物が含まれる。本実施の形態に係る硬化性組成物は、前記(A1)極性基を有する重合性化合物を含有していればよく、これ以外の極性基を有しない重合性化合物(以下、(A2)成分ともいう)を含有してもよい。前記(A1)極性基を有する重合性化合物の機能の一つとしては、硬化膜を形成する際に後述する(B)成分の偏在化を引き起こして、硬化性組成物の成膜性を高めることが挙げられる。
1.1. (A) Polymerizable compound The curable composition which concerns on this Embodiment has (A) polymeric compound. The polymerizable compound (A) according to the present embodiment is a compound having a polymerizable functional group, and is preferably a compound having a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or an epoxy group. Furthermore, the polymerizable compound (A) includes (A1) a polymerizable compound having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group, and a sulfo group. The curable composition which concerns on this Embodiment should just contain the polymeric compound which has the said (A1) polar group, and the polymeric compound (henceforth (A2) component which does not have a polar group other than this) May be included). One of the functions of the polymerizable compound having a polar group (A1) is to increase the film formability of the curable composition by causing uneven distribution of the component (B) described later when forming a cured film. Is mentioned.

(A1)成分としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有していれば特に限定されないが、好ましくは(メタ)アクリルエステル類である。   The component (A1) is not particularly limited as long as it has one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group, but preferably (meth) acrylic esters. is there.

ヒドロキシル基を有する重合性化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサヒドロフタル酸エポキシアクリレート、グリセリンエポキシアクリレート、2,3−ジヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル等が挙げられる。   Examples of the polymerizable compound having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, neopentyl glycol di ( Examples include meth) acrylate, hexahydrophthalic acid epoxy acrylate, glycerin epoxy acrylate, 2,3-dihydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl vinyl ether.

カルボキシル基を有する重合性化合物としては、例えば、アクリル酸、アクリル酸ダイマー、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、2,2,2−トリアクリロイロキシメチルエチルコハク酸、10−メタクリロイルオキシデカメチレンマロン酸、4−メタアクリロイルアミノサリチル酸、4−メタアクリロイルオキシエチルオキシカルボニルフタル酸、4−メタアクリロイルオキシエチルオキシカルボニルフタル酸無水物、N−メチルアクリロイル−N’,N’−ジカルボキシメチル1,4−ジアミノベンゼン、N−2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプロピル−N−フェニルグリシン、4−ビニル安息香酸、3,4,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物と2−ヒドロキシエチルメタクリレートの1:2付加物、ピロメリト酸無水物と2−ヒドロキシエチルメタクリレートの1:2付加物等が挙げられる。   Examples of the polymerizable compound having a carboxyl group include acrylic acid, acrylic acid dimer, succinic acid-modified dipentaerythritol pentaacrylate, 2,2,2-triacryloyloxymethyl ethyl succinic acid, 10-methacryloyloxydecamethylenemalon. Acid, 4-methacryloylaminosalicylic acid, 4-methacryloyloxyethyloxycarbonylphthalic acid, 4-methacryloyloxyethyloxycarbonylphthalic anhydride, N-methylacryloyl-N ′, N′-dicarboxymethyl 1,4 -Diaminobenzene, N-2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl-N-phenylglycine, 4-vinylbenzoic acid, 3,4,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic anhydride and 2-hydroxyethyl methacrylate : 2 adduct, 1 of pyromellitic anhydride and 2-hydroxyethyl methacrylate: 2 adducts.

リン酸エステル基を有する重合性化合物としては、例えば、リン酸トリアクリレート、2−メタクリロイルオキシエチルリン酸、2−メタクリロイルオキシエチルフェニルリン酸、10−メタクリロイルオキシデカメチレンリン酸、4−ビニルベンジルリン酸、ペンタアクリロイルジペンタエリスリトールリン酸等が挙げられる。
スルホ基を有する重合性化合物としては、例えば、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等が挙げられる。
Examples of the polymerizable compound having a phosphate ester group include phosphoric acid triacrylate, 2-methacryloyloxyethyl phosphoric acid, 2-methacryloyloxyethyl phenyl phosphoric acid, 10-methacryloyloxydecamethylene phosphoric acid, 4-vinylbenzyl phosphor Acid, pentaacryloyldipentaerythritol phosphoric acid, and the like.
Examples of the polymerizable compound having a sulfo group include 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid.

(A1)成分としては、前記例示した成分のうちペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、2,2,2−トリアクリロイロキシメチルエチルコハク酸、リン酸トリアクリレート等を含有していることが好ましい。   As the component (A1), among the components exemplified above, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, succinic acid-modified dipentaerythritol pentaacrylate, 2,2,2-triacryloyloxymethyl It preferably contains ethyl succinic acid, phosphoric acid triacrylate, or the like.

これらの(A1)極性基を有する重合性化合物は、1種単独または2種以上混合して用いてもよく、前述したように(A2)極性基を有しない重合性化合物と併用してもよい。   These (A1) polymerizable compounds having a polar group may be used singly or in combination of two or more, and as described above, they may be used in combination with (A2) a polymerizable compound having no polar group. .

極性基を有しない重合性化合物は、硬化性組成物の成膜性を高める目的で用いられる。(A2)極性基を有しない重合性化合物としては、例えば多官能の(メタ)アクリルエステル化合物、多官能のビニル化合物、多官能のエポキシ化合物、アルコキシメチルアミン化合物を挙げることができ、(メタ)アクリルエステル化合物が好ましい。(メタ)アクリルエステル類としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。ビニル化合物類としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。エポキシ化合物としては、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等が挙げられる。アルコキシメチルアミン化合物としては、ヘキサメトキシメチル化メラミン、ヘキサブトキシメチル化メラミン、テトラメトキシメチル化グリコールウリル、テトラブトキシメチル化グリコールウリル等が挙げられる。   The polymerizable compound having no polar group is used for the purpose of improving the film-forming property of the curable composition. Examples of the polymerizable compound (A2) having no polar group include a polyfunctional (meth) acrylic ester compound, a polyfunctional vinyl compound, a polyfunctional epoxy compound, and an alkoxymethylamine compound. Acrylic ester compounds are preferred. (Meth) acrylic esters include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanate Nurate tri (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate , Diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, bis (2-hydroxyethyl) isocyanurate di (meth) acrylate Rate, and the like. Examples of vinyl compounds include divinylbenzene, ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, and the like. As epoxy compounds, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, etc. Is mentioned. Examples of the alkoxymethylamine compound include hexamethoxymethylated melamine, hexabutoxymethylated melamine, tetramethoxymethylated glycoluril, tetrabutoxymethylated glycoluril and the like.

また、本実施の形態に係る硬化性組成物において、全重合性化合物1g中における極性基濃度は、ヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gの範囲にあることが必要である。   In the curable composition according to the present embodiment, the polar group concentration in 1 g of the total polymerizable compound is 2.0 mmol / total of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration. It is necessary to be in the range of g to 15 mmol / g.

全重合性化合物1g中における極性基濃度が上記範囲を満たすことで、本実施の形態に係る硬化性組成物を基材上に塗布した場合、(A1)成分の極性基と基材との相互作用により(A1)成分が基材と接触している面方向へと移行する。その作用によって、後述する(B)成分が基材と接触している面とは反対側の面に偏在化するようになると考えられる。このような状態で硬化性組成物を硬化させることにより、基材と接触している面とは反対側の面に(B)成分が偏在化した硬化膜を形成することができる。このような硬化膜は、硬化膜の表面に(B)成分が偏在化しているため、反射防止機能に優れたものとなる。全重合性化合物1g中における極性基濃度が上記範囲を満たさない場合には、硬化膜の表面に(B)成分を偏在化させることができず、硬化膜の反射防止機能が損なわれてしまう。   When the polar group concentration in 1 g of the total polymerizable compound satisfies the above range, when the curable composition according to the present embodiment is applied on the substrate, the mutual relationship between the polar group of the component (A1) and the substrate Due to the action, the component (A1) shifts in the surface direction in contact with the substrate. It is considered that the component (B) described later is unevenly distributed on the surface opposite to the surface in contact with the substrate. By curing the curable composition in such a state, a cured film in which the component (B) is unevenly distributed can be formed on the surface opposite to the surface in contact with the substrate. Such a cured film has an excellent antireflection function because the component (B) is unevenly distributed on the surface of the cured film. When the polar group concentration in 1 g of all polymerizable compounds does not satisfy the above range, the component (B) cannot be unevenly distributed on the surface of the cured film, and the antireflection function of the cured film is impaired.

本実施の形態に係る硬化性組成物における(A)成分の含有量は、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに60〜99.5質量%の範囲内であり、70〜99質量%の範囲内であることが好ましく、80〜98質量%の範囲内であることがより好ましい。(A)成分が上記範囲で配合されることで、高硬度を有する硬化膜を得ることができるだけでなく、基材と接触している面とは反対側の面に(B)成分を偏在化させることが容易となる。   Content of (A) component in the curable composition which concerns on this Embodiment is in the range of 60-99.5 mass% when the sum total of the component except a solvent is 100 mass%, and is 70-99. It is preferably in the range of mass%, more preferably in the range of 80 to 98 mass%. By blending component (A) in the above range, not only can a cured film having high hardness be obtained, but component (B) is unevenly distributed on the surface opposite to the surface in contact with the substrate. It becomes easy to make.

1.2.(B)粒子
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(B)屈折率が1.40以下である粒子を含有する。かかる粒子が硬化膜の表面に偏在化することにより低屈折率層を形成し、硬化膜に反射防止膜としての機能を付与することができる。また、該粒子が硬化膜の表面に偏在化することで、硬化膜の表面の硬度を向上させたり、カールを小さくさせたりする効果も期待される。
1.2. (B) Particles The curable composition according to the present embodiment contains (B) particles having a refractive index of 1.40 or less. When such particles are unevenly distributed on the surface of the cured film, a low refractive index layer can be formed, and the function as an antireflection film can be imparted to the cured film. In addition, since the particles are unevenly distributed on the surface of the cured film, the effects of improving the hardness of the surface of the cured film and reducing the curl are also expected.

粒子としては、屈折率が1.40以下のものであれば特に限定されないが、例えば中空シリカ粒子、フッ化金属粒子等が挙げられる。これらの中でも、シリカを主成分とする中空シリカ粒子であることが好ましい。中空シリカ粒子は、その内部に空洞を有するため、中実粒子と比べてより低屈折率化することができる。   The particles are not particularly limited as long as the refractive index is 1.40 or less, and examples thereof include hollow silica particles and metal fluoride particles. Among these, hollow silica particles mainly composed of silica are preferable. Since the hollow silica particles have cavities inside, the refractive index can be further reduced as compared with the solid particles.

粒子の屈折率は、1.40以下であり、好ましくは1.35以下、より好ましくは1.30以下である。屈折率を1.40以下とした理由は、屈折率が1.40を超える粒子を添加しても、反射防止性に優れた硬化膜を得ることができないからである。また、反射防止性能は、屈折率1.00を下限とし低いほど好ましいが、中空粒子を使用した場合には、屈折率が低くなるにつれ粒子の強度が低下するため、硬化膜の硬度や耐擦傷性も低下する。そのため、屈折率の下限は1.20とすることが好ましい。   The refractive index of the particles is 1.40 or less, preferably 1.35 or less, more preferably 1.30 or less. The reason for setting the refractive index to 1.40 or less is that a cured film having excellent antireflection properties cannot be obtained even if particles having a refractive index exceeding 1.40 are added. The antireflection performance is preferably as low as possible with a refractive index of 1.00. However, when hollow particles are used, the strength of the cured film and scratch resistance are reduced because the strength of the particles decreases as the refractive index decreases. The nature is also reduced. Therefore, the lower limit of the refractive index is preferably 1.20.

本明細書中における「屈折率」とは、25℃におけるNa−D線(波長589nm)の屈折率をいう。本明細書中における「粒子の屈折率」は、同一マトリックス中に、固形分中の粒子含量を、1質量%、10質量%、20質量%とした組成物を成膜し、JIS K7105に従い、25℃におけるNa−D線での屈折率を測定し、検量線法で計算した粒子含量100質量%の値をいう。   The “refractive index” in this specification refers to the refractive index of Na-D line (wavelength 589 nm) at 25 ° C. In the present specification, “refractive index of particles” means that a composition in which the content of particles in a solid content is 1% by mass, 10% by mass, and 20% by mass is formed in the same matrix, according to JIS K7105. The refractive index at the Na-D line at 25 ° C. is measured, and the particle content is 100% by mass calculated by the calibration curve method.

透過型電子顕微鏡により測定した粒子の数平均粒子径は、好ましくは1〜100nmであり、より好ましくは5〜60nmである。粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であってもよい。   The number average particle diameter of the particles measured with a transmission electron microscope is preferably 1 to 100 nm, more preferably 5 to 60 nm. The shape of the particles is not limited to a spherical shape, and may be an irregular shape.

中空シリカ粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社製の「JX1008SIV」(透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、固形分20質量%、イソプロピルアルコール溶媒)、「JX1009SIV」(透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン溶媒)等が挙げられる。   Examples of commercially available hollow silica particles include “JX1008SIV” manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd. (number average particle diameter 50 nm, solid content 20% by mass, isopropyl alcohol solvent obtained with a transmission electron microscope), “JX1009SIV” ( And a number average particle diameter of 50 nm, a solid content of 20% by mass, and a methyl isobutyl ketone solvent) obtained with a transmission electron microscope.

本実施の形態に用いられる中空シリカ粒子は、粒子変性剤で変性されたものであってもよい。粒子変性剤としては、重合性不飽和基および加水分解性シリル基を有する化合物(以下、「重合性粒子変性剤」ともいう)が挙げられる。重合性粒子変性剤の重合性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基が挙げられる。なお、加水分解性シリル基とは、水と反応してシラノール基(Si−OH)を生成するものであって、例えば、ケイ素に1以上のメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基等のアルコキシル基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子が結合したものをいう。   The hollow silica particles used in the present embodiment may be modified with a particle modifier. Examples of the particle modifier include compounds having a polymerizable unsaturated group and a hydrolyzable silyl group (hereinafter also referred to as “polymerizable particle modifier”). Examples of the polymerizable unsaturated group of the polymerizable particle modifier include a vinyl group and a (meth) acryloyl group. The hydrolyzable silyl group is a group that reacts with water to produce a silanol group (Si—OH). For example, one or more methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups on silicon. A group, an alkoxyl group such as an n-butoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, or a halogen atom is bonded.

本実施の形態に用いられる重合性粒子変性剤は、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の市販品を使用することもできるし、例えば、国際公開公報WO97/12942号公報に記載された化合物を用いることもできる。   As the polymerizable particle modifier used in the present embodiment, a commercially available product such as methacryloyloxypropyltrimethoxysilane can be used, for example, a compound described in International Publication No. WO97 / 12942 is used. You can also.

また、粒子変性剤としては、フッ素を含有する加水分解性シリル基を有する化合物(以下、「含フッ素粒子変性剤」ともいう)を使用することもできる。含フッ素粒子変性剤を使用することで、中空シリカ粒子を効率よく偏在させることが可能となる。本実施の形態に用いられる含フッ素粒子変性剤は、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等の市販品を使用することができる。   Further, as the particle modifier, a compound having a hydrolyzable silyl group containing fluorine (hereinafter, also referred to as “fluorine-containing particle modifier”) can be used. By using the fluorine-containing particle modifier, it is possible to efficiently distribute the hollow silica particles. Commercially available products such as tridecafluorooctyltrimethoxysilane can be used as the fluorine-containing particle modifier used in the present embodiment.

さらに、アルキル基を有する粒子変性剤や、シリコーン鎖を有する粒子変性剤も、含フッ素粒子変性剤と同様に使用することができる。   Furthermore, a particle modifier having an alkyl group and a particle modifier having a silicone chain can be used in the same manner as the fluorine-containing particle modifier.

上記の各種粒子変性剤は1種単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。   The above various particle modifiers may be used alone or in combination of two or more.

本実施の形態に用いられる中空シリカ粒子を変性させるためには、中空シリカ粒子と粒子変性剤とを混合し、加水分解させることにより両者を結合させればよい。得られた反応性中空シリカ粒子中の有機重合体成分、すなわち加水分解性シランの加水分解物および縮合物の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の重量減少%の恒量値として、例えば空気中で室温から通常800℃までの熱重量分析により求めることができる。   In order to modify the hollow silica particles used in the present embodiment, the hollow silica particles and the particle modifier may be mixed and hydrolyzed to bond them together. The ratio of the organic polymer component, that is, the hydrolyzate and condensate of hydrolyzable silane, in the obtained reactive hollow silica particles is usually the weight loss when the dry powder is completely burned in air. The constant value of can be determined, for example, by thermogravimetric analysis from room temperature to usually 800 ° C. in air.

反応性中空シリカ粒子への粒子変性剤の結合量は、変性後の中空シリカ粒子を100質量%として、好ましくは0.01〜40質量%であり、より好ましくは0.1〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。中空シリカ粒子に反応させる粒子変性剤の量を上記範囲とすることで、組成物中における中空シリカ粒子の分散性を向上させることができるだけでなく、得られる硬化物の透明性や耐擦傷性を高める効果も期待できる。   The binding amount of the particle modifier to the reactive hollow silica particles is preferably 0.01 to 40% by mass, more preferably 0.1 to 30% by mass, based on 100% by mass of the modified hollow silica particles. Especially preferably, it is 1-20 mass%. By setting the amount of the particle modifier to react with the hollow silica particles in the above range, not only can the dispersibility of the hollow silica particles in the composition be improved, but also the transparency and scratch resistance of the resulting cured product can be improved. We can expect improvement effect.

本実施の形態に係る硬化性組成物中において、(B)成分の含有量は、形成する硬化膜の膜厚に応じて適宜調整できる。例えば、硬化膜の膜厚が10μmの場合、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、好ましくは0.4〜1.2質量%、より好ましくは0.5〜1質量%の範囲内である。例えば、硬化膜の膜厚が7μmの場合、好ましくは0.6〜1.8質量%、より好ましくは0.7〜1.5質量%であり、硬化膜の膜厚が3μmの場合、好ましくは1.2〜4質量%、より好ましくは1.5〜3質量%の範囲内である。(B)成分の含有量が上記の範囲未満であると、反射防止性を発現する(B)成分が高密度に存在する層(低屈折率層)を形成できない場合がある。一方、(B)成分の含有量が上記の範囲を超えると、反射防止性を発現する(B)成分が高密度に存在する層(低屈折率層)の厚さが大きくなりすぎて、反射率低減効果が発現しない場合がある。   In the curable composition which concerns on this Embodiment, content of (B) component can be suitably adjusted according to the film thickness of the cured film to form. For example, when the thickness of the cured film is 10 μm, when the total of the components excluding the solvent is 100% by mass, preferably 0.4 to 1.2% by mass, more preferably 0.5 to 1% by mass. Within range. For example, when the thickness of the cured film is 7 μm, it is preferably 0.6 to 1.8% by mass, more preferably 0.7 to 1.5% by mass, and preferably when the thickness of the cured film is 3 μm. Is in the range of 1.2 to 4 mass%, more preferably 1.5 to 3 mass%. When the content of the component (B) is less than the above range, it may be impossible to form a layer (low refractive index layer) in which the component (B) that exhibits antireflection properties exists at a high density. On the other hand, if the content of the component (B) exceeds the above range, the thickness of the layer (low refractive index layer) in which the component (B) that exhibits antireflection properties is present at a high density becomes too large, and reflection occurs. The rate reduction effect may not appear.

1.3.(C)重合開始剤
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(C)重合開始剤を含有してもよい。このような(C)重合開始剤としては、例えば(A)成分として(メタ)アクリルエステル化合物および/またはビニル化合物を含有する場合には、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物(熱ラジカル重合開始剤)および放射線(光)照射により活性ラジカル種を発生させる化合物(放射線(光)ラジカル重合開始剤)等の汎用品が挙げられる。これらの中でも、放射線(光)ラジカル重合開始剤が好ましい。
1.3. (C) Polymerization initiator The curable composition according to the present embodiment may contain (C) a polymerization initiator. As such (C) polymerization initiator, for example, when it contains (meth) acrylic ester compound and / or vinyl compound as component (A), it is a compound (thermal radical polymerization) that generates active radical species thermally. Initiators) and general-purpose products such as compounds (radiation (light) radical polymerization initiators) that generate active radical species upon irradiation with radiation (light). Among these, a radiation (light) radical polymerization initiator is preferable.

放射線(光)ラジカル重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始させられるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1,4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等が挙げられる。   The radiation (photo) radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization. For example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxy Benzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1-one 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) and the like.

放射線(光)ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、チバジャパン株式会社製のイルガキュア 184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61、ダロキュア 1116、1173、BASF社製のルシリン TPO、8893UCB社製のユベクリル P36、ランベルティ社製のエザキュアーKIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等が挙げられる。   Examples of commercially available radiation (photo) radical polymerization initiators include Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, Darocur, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. 1116, 1173, BASF's Lucillin TPO, 8893UCB's Uvekrill P36, Lamberti's Ezacure KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75 / B, and the like.

熱ラジカル重合開始剤としては、加熱により分解してラジカルを発生して重合を開始するものであれば特に制限はなく、例えば、過酸化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチル−パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。   The thermal radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it is decomposed by heating to generate radicals to initiate polymerization, and examples thereof include peroxides and azo compounds. Specific examples include: Examples include benzoyl peroxide, t-butyl-peroxybenzoate, and azobisisobutyronitrile.

また、(C)重合開始剤としては、(A)成分としてエポキシ化合物および/またはアルコキシメチルアミン化合物を含有する場合には、酸性化合物および放射線(光)照射により酸を発生させる化合物(放射線(光)酸発生剤)等の汎用品が挙げられる。   In addition, as the polymerization initiator (C), when an epoxy compound and / or an alkoxymethylamine compound is contained as the component (A), an acidic compound and a compound that generates an acid by radiation (light) irradiation (radiation (light And general-purpose products such as acid generators).

放射線(光)酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類等の化合物を使用することができる。放射線(光)酸発生剤の市販品としては、サンアプロ社製のCPI−100P、101A等が挙げられる。   As the radiation (photo) acid generator, compounds such as triarylsulfonium salts and diaryliodonium salts can be used. Examples of commercially available radiation (light) acid generators include CPI-100P and 101A manufactured by San Apro.

本実施の形態に係る硬化性組成物中において、必要に応じて用いられる(C)重合開始剤の含有量は、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、好ましくは0.01〜20質量%、より好ましくは0.1〜10質量%の範囲内である。0.01質量%未満であると、硬化物としたときの硬度が不十分となるおそれがあり、20質量%を超えると、塗膜の硬度が損なわれるおそれがある。   In the curable composition according to the present embodiment, the content of the (C) polymerization initiator used as necessary is preferably 0.01 when the total of the components excluding the solvent is 100% by mass. -20 mass%, More preferably, it exists in the range of 0.1-10 mass%. If it is less than 0.01% by mass, the hardness of the cured product may be insufficient, and if it exceeds 20% by mass, the hardness of the coating film may be impaired.

1.4.(D)溶剤
本実施の形態に係る硬化性組成物は、塗膜の厚さを調節するために、(D)溶剤で希釈して用いることができる。例えば、本実施の形態に係る硬化性組成物を反射防止膜や被覆材として用いる場合の粘度は、通常0.1〜50,000mPa・秒/25℃であり、好ましくは0.5〜10,000mPa・秒/25℃である。
1.4. (D) Solvent The curable composition according to the present embodiment can be used after being diluted with (D) a solvent in order to adjust the thickness of the coating film. For example, the viscosity when the curable composition according to the present embodiment is used as an antireflection film or a coating material is usually 0.1 to 50,000 mPa · sec / 25 ° C., preferably 0.5 to 10, 000 mPa · sec / 25 ° C.

(D)溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類等が挙げられる。   (D) Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, Esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dimethylformamide, dimethylacetamide, N -Amides such as methylpyrrolidone.

本実施の形態に係る硬化性組成物において、必要に応じて用いられる(D)溶剤の含有量は、(D)溶剤を除く成分の合計を100質量部としたときに、50〜10,000質量部の範囲内であることが好ましい。溶剤の含有量は、塗布膜厚、硬化性組成物の粘度等を考慮して適宜決定することができる。   In the curable composition which concerns on this Embodiment, content of (D) solvent used as needed is 50-10,000 when the sum total of the component except (D) solvent is 100 mass parts. It is preferably within the range of parts by mass. The content of the solvent can be appropriately determined in consideration of the coating film thickness, the viscosity of the curable composition, and the like.

1.5.その他の添加剤
本実施の形態に係る硬化性組成物は、必要に応じて、粒子分散剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、無機系充填材、有機系充填材、フィラー、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を含有することができる。なお、前記例示した粒子分散剤として、フッ素原子を含有する化合物および/またはシロキサン鎖を有する化合物を使用することで、中空シリカ粒子の偏在化を促進し、塗膜の屈折率を低下させることができる。
1.5. Other Additives The curable composition according to the present embodiment includes, as necessary, a particle dispersant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a silane coupling agent, an antiaging agent, and a thermal polymerization inhibitor. , Colorants, leveling agents, surfactants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, inorganic fillers, organic fillers, fillers, wettability improvers, coating surface improvers, and the like. In addition, by using a compound containing a fluorine atom and / or a compound having a siloxane chain as the exemplified particle dispersant, it is possible to promote uneven distribution of the hollow silica particles and to lower the refractive index of the coating film. it can.

1.6.硬化性組成物の製造方法
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物、(B)粒子、必要に応じて(C)重合開始剤、(D)溶媒、その他の添加剤をそれぞれ添加して、室温または加熱条件下で混合することにより調製することができる。具体的には、ミキサー、ニーダー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて調製することができる。但し、加熱条件下で混合する場合には、必要に応じて添加された熱重合開始剤の分解温度以下で行うことが好ましい。
1.6. Manufacturing method of curable composition The curable composition which concerns on this Embodiment is (A) polymeric compound, (B) particle | grains, (C) polymerization initiator, (D) solvent, and other addition as needed It can be prepared by adding each agent and mixing at room temperature or under heating conditions. Specifically, it can prepare using mixers, such as a mixer, a kneader, a ball mill, and a three roll. However, when mixing under heating conditions, it is preferable to carry out at or below the decomposition temperature of the thermal polymerization initiator added if necessary.

2.反射防止用積層体およびその製造方法
2.1.反射防止用積層体の製造方法
本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法は、(a)ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gの関係を満たす硬化性組成物を準備する工程(以下、「工程(a)」ともいう。)と、(b)前記硬化性組成物を基材に塗布した後、硬化させる工程(以下、「工程(b)」ともいう。)と、を含む。
2. 2. Antireflection laminate and production method thereof 2.1. Manufacturing method of antireflection laminate The manufacturing method of the antireflection laminate according to the present embodiment includes (a) one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate group, and a sulfo group And a total of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration in 1 g of all polymerizable compounds. A step of preparing a curable composition satisfying a relationship of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g (hereinafter, also referred to as “step (a)”), and (b) applying the curable composition to a substrate. And a step of curing (hereinafter, also referred to as “step (b)”).

かかる反射防止用積層体の製造方法によれば、前記条件を満たす硬化性組成物を基材に一度塗布して硬化させることで、基材と接触する面とは反対の面側に屈折率が1.40以下である粒子が高密度に存在する層を形成し、基材と接触する面側に1.40以下である粒子が実質的に存在しない層を形成することができる。これにより、耐擦傷性および低屈折率性の双方を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。以下、工程ごとに説明する。   According to such a method for producing an antireflection laminate, once the curable composition satisfying the above conditions is applied to a substrate and cured, the refractive index is on the side opposite to the surface in contact with the substrate. A layer in which particles of 1.40 or less are present at high density can be formed, and a layer in which particles of 1.40 or less are not substantially present can be formed on the side in contact with the substrate. As a result, an antireflection laminate having both scratch resistance and low refractive index can be produced. Hereinafter, it demonstrates for every process.

2.1.1.工程(a)
工程(a)は、前述した硬化性組成物を準備する工程である。かかる硬化性組成物の構成や製造方法等は前述したとおりであるため、詳細な説明は省略するものとする。
2.1.1. Step (a)
Step (a) is a step of preparing the curable composition described above. Since the structure and manufacturing method of such a curable composition are as described above, detailed description thereof will be omitted.

2.1.2.工程(b)
工程(b)は、工程(a)で準備された硬化性組成物を基材に塗布した後、硬化させる工程である。
2.1.2. Step (b)
Step (b) is a step in which the curable composition prepared in step (a) is applied to a substrate and then cured.

工程(a)で準備された硬化性組成物を基材に塗布する方法は特に限定されず、例えばバーコート塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の公知の方法を用いることができる。   The method for applying the curable composition prepared in step (a) to the substrate is not particularly limited. For example, bar coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating, lip Known methods such as coating, die coating, dip coating, offset printing, flexographic printing, and screen printing can be used.

硬化性組成物の硬化条件についても特に限定されるものではないが、前述した硬化性組成物を種々の基材、例えば、トリアセチルセルロース樹脂基材、ポリエチレンテレフタレート基材等に塗布して硬化させることができる。具体的には、前記硬化性組成物を塗布し、好ましくは0〜200℃で揮発成分を乾燥させた後、放射線および/または熱で硬化処理を行うことにより反射防止用積層体を形成することができる。熱で硬化させる場合の好ましい条件は、20〜150℃であり、10秒〜24時間の範囲で行われる。放射線で硬化させる場合、紫外線または電子線を用いることが好ましい。紫外線の照射光量は、好ましくは0.01〜10J/cmであり、より好ましくは0.1〜2J/cmである。また、電子線の照射条件は、加圧電圧が10〜300kV、電子密度が0.02〜0.30mA/cm、電子線照射量が1〜10Mradである。 The curing conditions of the curable composition are not particularly limited, but the curable composition described above is applied to various substrates, for example, a triacetyl cellulose resin substrate, a polyethylene terephthalate substrate, and the like, and cured. be able to. Specifically, after applying the curable composition and preferably drying the volatile component at 0 to 200 ° C., the antireflection laminate is formed by performing a curing treatment with radiation and / or heat. Can do. A preferable condition for curing with heat is 20 to 150 ° C., and is performed in a range of 10 seconds to 24 hours. When curing with radiation, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams. Irradiation light amount of the ultraviolet rays is preferably 0.01 to 10 J / cm 2, more preferably 0.1~2J / cm 2. Moreover, the irradiation conditions of an electron beam are a pressurization voltage of 10-300 kV, an electron density of 0.02-0.30 mA / cm < 2 >, and an electron beam irradiation amount of 1-10 Mrad.

2.2.反射防止用積層体
本実施の形態に係る反射防止用積層体は、前述した反射防止用積層体の製造方法によって製造されたものである。図1は、本実施の形態に係る反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。図1に示すように、本実施の形態に係る反射防止用積層体100は、基材10の上に前述した硬化性組成物を硬化させた硬化膜20が形成されており、前記硬化膜20のうち、基材10と接触した面側には粒子22が実質的に存在しないハードコート層24が形成され、基材10と接触した面とは反対の面側に粒子22が高密度に存在する低屈折率層26が形成されている。硬化膜20のうち、粒子以外の部分(以下、「マトリックス」ともいう)は、前記硬化性組成物の(B)成分以外が硬化することで得られ、マトリクス1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gであることが好ましい。以下、本実施の形態に係る反射防止用積層体の各層について説明する。
2.2. Anti-reflection laminate The anti-reflection laminate according to the present embodiment is produced by the above-described anti-reflection laminate production method. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the antireflection laminate according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, in the antireflection laminate 100 according to the present embodiment, a cured film 20 obtained by curing the curable composition described above is formed on a base material 10, and the cured film 20 Among them, a hard coat layer 24 substantially free of particles 22 is formed on the surface side in contact with the substrate 10, and the particles 22 exist in high density on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate 10. A low refractive index layer 26 is formed. Of the cured film 20, the part other than the particles (hereinafter also referred to as “matrix”) is obtained by curing other than the component (B) of the curable composition, and the hydroxyl group concentration, carboxyl group in the matrix 1g. The total of the concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration is preferably 2.0 mmol / g to 15 mmol / g. Hereinafter, each layer of the antireflection laminate according to the present embodiment will be described.

2.2.1.基材
本実施の形態に係る反射防止用積層体に用いられる基材10の種類は特に限定されるものではないが、例えば、トリアセチルセルロース樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、ガラス等が挙げられる。これらの中でも、トリアセチルセルロース樹脂またはポリエチレンテレフタレート樹脂からなる基材であることが好ましい。これらの基材を含む反射防止用積層体とすることにより、前述した硬化性組成物中に含まれる(A)成分が基材に引き寄せられやすくなる。特に基材がトリアセチルセルロース樹脂であり、かつ、(A)成分として2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含有している場合には、かかる作用効果が顕著に発現する。これにより、基材と接触した面とは反対の面側に粒子22が高密度に存在する低屈折率層26を形成することができる。
2.2.1. Although the kind of base material 10 used for the laminated body for antireflection which concerns on this Embodiment is not specifically limited, For example, triacetyl cellulose resin, polyethylene terephthalate resin, polycarbonate resin, polyester resin, acrylic type Resin, glass, etc. are mentioned. Among these, a substrate made of a triacetyl cellulose resin or a polyethylene terephthalate resin is preferable. By setting it as the laminated body for reflection prevention containing these base materials, it becomes easy to attract the (A) component contained in the curable composition mentioned above to a base material. In particular, when the base material is a triacetyl cellulose resin and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is contained as the component (A), such an effect is remarkably exhibited. Thereby, the low refractive index layer 26 in which the particles 22 are present at a high density can be formed on the surface opposite to the surface in contact with the substrate.

また、これらの基材を含む反射防止用積層体とすることにより、カメラのレンズ部、テレビ(CRT)の画面表示部、あるいは液晶表示装置におけるカラーフィルター等の広範なハードコートおよび/または反射防止膜の利用分野において、優れた耐擦傷性および反射防止効果を得ることができる。   In addition, by forming an antireflection laminate including these base materials, a wide range of hard coat and / or antireflection such as a color filter in a camera lens unit, a television (CRT) screen display unit, or a liquid crystal display device. In the field of use of the film, excellent scratch resistance and antireflection effect can be obtained.

2.2.2.ハードコート層
ハードコート層24は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる二層構造を有する硬化膜20のうち、粒子22が実質的に存在しない層から構成される。
2.2.2. Hard Coat Layer The hard coat layer 24 is composed of a layer in which the particles 22 are not substantially present in the cured film 20 having a two-layer structure obtained by curing the curable composition described above.

ハードコート層24の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1〜50μm、より好ましくは1〜10μmである。ハードコート層24の厚さが1μm未満であると、基材10に対する密着力を向上させることができない場合があり、一方、50μmを超えると、均質な膜を形成することが困難となる場合があるからである。   Although the thickness of the hard-coat layer 24 is not specifically limited, Preferably it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 1-10 micrometers. If the thickness of the hard coat layer 24 is less than 1 μm, the adhesion to the substrate 10 may not be improved. On the other hand, if it exceeds 50 μm, it may be difficult to form a homogeneous film. Because there is.

2.2.3.低屈折率層
低屈折率層26は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる二層構造を有する硬化膜20のうち、粒子22が高密度に存在する層から構成される。
2.2.3. Low Refractive Index Layer The low refractive index layer 26 is composed of a layer in which particles 22 are present at a high density in the cured film 20 having a two-layer structure obtained by curing the curable composition described above.

低屈折率層26の厚さは、特に限定されないが、好ましくは50〜200nm、より好ましくは60〜150nm、特に好ましくは80〜120nmである。低屈折率層26の厚さが50nm未満であると、十分な反射防止効果が得られない場合があり、一方、200nmを超えると、反射防止効果が低下する場合があるからである。   The thickness of the low refractive index layer 26 is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 nm, more preferably 60 to 150 nm, and particularly preferably 80 to 120 nm. This is because if the thickness of the low refractive index layer 26 is less than 50 nm, a sufficient antireflection effect may not be obtained, whereas if it exceeds 200 nm, the antireflection effect may be reduced.

本実施の形態に係る反射防止用積層体100におけるハードコート層24と低屈性率層26との屈折率差は、0.05以上の値とすることが好ましい。この理由は、ハードコート層24と低屈折率層26との屈折率差が0.05未満の値であると、これらの反射防止膜での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるからである。   The refractive index difference between the hard coat layer 24 and the low-refractive index layer 26 in the antireflection laminate 100 according to the present embodiment is preferably set to a value of 0.05 or more. This is because if the difference in refractive index between the hard coat layer 24 and the low refractive index layer 26 is less than 0.05, a synergistic effect in these antireflection films cannot be obtained, and the antireflection effect is lowered. Because there is a case to do.

3.実施例
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。
3. EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

3.1.実施例1
3.1.1.硬化性組成物の製造
紫外線を遮蔽した容器中において、中空シリカ粒子(商品名「JX−1009SIV」、20質量%メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製)5質量部(固形分として1質量部)、グリセリンエポキシアクリレート(商品名「デナコールDA314」、ナガセケムテックス株式会社製)96質量部、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モリホリノプロパン−1−オン(商品名「イルガキュア(登録商標)907」、チバジャパン株式会社製)3質量部、サイラプレーンFM0725(チッソ株式会社製)0.1質量部、さらにメチルイソブチルケトン(表中では、「MIBK」の略称を用いる)を適量加えて室温で2時間撹拌することにより均一な溶液を得た。この溶液をアルミ皿に2g秤量後、175℃のホットプレート上で30分間乾燥させ、秤量した後固形分含量を求めたところ、50質量%であった。
3.1. Example 1
3.1.1. Production of curable composition In a container shielded from ultraviolet rays, hollow silica particles (trade name “JX-1009SIV”, 20 mass% methyl isobutyl ketone sol, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 5 mass parts (1 mass as solid content) Part), glycerin epoxy acrylate (trade name “Denacol DA314”, manufactured by Nagase ChemteX Corporation), 96 parts by mass, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one ( Trade name “Irgacure (registered trademark) 907”, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. 3 parts by mass, Silaplane FM0725 (manufactured by Chisso Corporation) 0.1 part by mass, and methyl isobutyl ketone (abbreviation of “MIBK” in the table) A suitable solution was obtained by adding a suitable amount of the solution and stirring at room temperature for 2 hours. 2 g of this solution was weighed in an aluminum dish, dried on a hot plate at 175 ° C. for 30 minutes, weighed, and the solid content was determined to be 50% by mass.

3.1.2.硬化膜サンプルの作製
前記「3.1.1.硬化性組成物の製造」で得られた溶液をトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(商品名「TDY−80UL」、富士フイルム株式会社製)上にバーコーターを用いて全体の硬化膜厚が約7μmとなるように塗布し、80℃で2分間乾燥後、窒素フロー下で高圧水銀灯(300mJ/cm)を用いて硬化させた。なお、塗布は、ロール状に巻かれたフィルムの内側の面に塗膜を形成するように行った。
3.1.2. Preparation of Cured Film Sample The solution obtained in “3.1.1. Production of curable composition” was placed on a triacetyl cellulose (TAC) film (trade name “TDY-80UL”, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.). It applied so that the whole cured film thickness might be set to about 7 micrometers using the bar coater, and it hardened | cured using the high pressure mercury lamp (300mJ / cm < 2 >) under nitrogen flow after drying for 2 minutes at 80 degreeC. In addition, application | coating was performed so that a coating film might be formed in the inner surface of the film wound by roll shape.

3.2.実施例2〜13、比較例1〜4
表2〜表3に示す成分を、表2〜表3に示す組成で配合したこと以外は、実施例1と同様にして硬化性組成物を製造し、硬化膜サンプルを得た。なお、重合性化合物の種類、商品名、極性基の種類、極性基濃度を表1にまとめておいた。
3.2. Examples 2-13, Comparative Examples 1-4
A curable composition was produced in the same manner as in Example 1 except that the components shown in Tables 2 to 3 were blended in the compositions shown in Tables 2 to 3, and a cured film sample was obtained. Table 1 summarizes the types of polymerizable compounds, trade names, types of polar groups, and polar group concentrations.

Figure 2011133842
Figure 2011133842

なお、実施例13で使用した粒子「B−1」は、次のようにして合成した。中空シリカ粒子(商品名「JX−1009SIV」、メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製)90.9質量部(固形分濃度;20質量部)、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン株式会社製)1質量部、イソプロパノール0.1質量部およびイオン交換水0.05質量部の混合液を、80℃で3時間撹拌後、オルトギ酸メチルエステル0.7質量部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱撹拌することで無色透明の粒子分散液B−1を得た。B−1をアルミ皿に2g秤量後、120℃のホットプレート上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、22.5質量%であった。   The particle “B-1” used in Example 13 was synthesized as follows. Hollow silica particles (trade name “JX-1009SIV”, methyl isobutyl ketone sol, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 90.9 parts by mass (solid content concentration: 20 parts by mass), tridecafluorooctyltrimethoxysilane (GE Toshiba Silicone) Co., Ltd.) 1 part by mass, 0.1 part by mass of isopropanol and 0.05 part by mass of ion-exchanged water were stirred at 80 ° C. for 3 hours, and then 0.7 part by mass of methyl orthoformate was added. A colorless transparent particle dispersion B-1 was obtained by heating and stirring at the same temperature for 1 hour. After weighing 2 g of B-1 in an aluminum dish, it was dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour and weighed to determine the solid content, which was 22.5% by mass.

3.3.評価試験
実施例および比較例で得られた硬化性組成物および硬化膜の特性を下記項目について評価した。その結果を表2〜表3に併せて示す。
3.3. Evaluation test The characteristics of the curable compositions and cured films obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated for the following items. The results are also shown in Tables 2 to 3.

3.3.1.反射率
得られた硬化膜の裏面を黒色スプレーで塗装し、分光反射率測定装置(大型試料室積分球付属装置150−09090を組み込んだ自記分光光度計U−3410、日立製作所株式会社製)により波長340〜700nmの範囲における反射率を基材側から測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準(100%)として、各波長における反射防止用積層体(反射防止膜)の反射率を測定し、そのうち波長550nmにおける光の反射率を表2〜表3に併せて示した。反射率は、3.0%未満であれば低反射性を有すると判断することができる。
3.3.1. Reflectance The back surface of the obtained cured film was painted with black spray, and a spectral reflectance measuring device (a self-recording spectrophotometer U-3410 incorporating a large sample chamber integrating sphere attachment device 150-09090, manufactured by Hitachi, Ltd.) was used. The reflectance in the wavelength range of 340 to 700 nm was measured from the substrate side and evaluated. Specifically, the reflectance of the antireflection laminate (antireflection film) at each wavelength is measured using the reflectance of the aluminum deposited film as a reference (100%), and the reflectance of light at a wavelength of 550 nm is expressed. 2 to Table 3 together. If the reflectance is less than 3.0%, it can be determined that the reflectance is low.

3.3.2.耐擦傷性(スチールウール耐性テスト)
得られた硬化膜をスチールウール(ボンスターNo.0000、日本スチールウール株式会社製)を学振型摩擦堅牢度試験機(AB−301、テスター産業株式会社製)に取り付け、硬化膜の表面を荷重200gの条件で10回繰り返し擦過し、当該硬化膜の表面における傷の発生の有無を以下の基準により目視で確認した。評価基準は、以下のとおりである。
AA:硬化膜に傷が発生しない。
A :硬化膜の剥離や傷の発生がほとんど認められないか、あるいは硬化膜にわずかな
細い傷が認められる。
B :硬化膜全面に筋状の傷が認められる。
C :硬化膜の剥離が生じる。
3.3.2. Scratch resistance (steel wool resistance test)
The obtained cured film is attached with steel wool (Bonster No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) to a Gakushin type friction fastness tester (AB-301, manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.), and the surface of the cured film is loaded. Scratching was repeated 10 times under the condition of 200 g, and the presence or absence of scratches on the surface of the cured film was visually confirmed according to the following criteria. The evaluation criteria are as follows.
AA: No damage occurs on the cured film.
A: Peeling of the cured film and occurrence of scratches are hardly observed, or slight thin scratches are observed on the cured film.
B: A streak is recognized on the entire surface of the cured film.
C: Separation of the cured film occurs.

3.3.3.鉛筆硬度
得られた硬化膜を「JIS K5600−5−4」に準拠し、ガラス基板上に固定させて評価した。
3.3.3. Pencil hardness Based on "JIS K5600-5-4", the obtained cured film was fixed on a glass substrate and evaluated.

Figure 2011133842
Figure 2011133842

Figure 2011133842
Figure 2011133842

3.4.評価結果
表2の結果から、全重合性化合物中の極性基濃度が前記の条件を満たす実施例1〜13の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜においては、反射率が3%未満となり反射防止性を有していることが分かった。また、耐スチールウール性の結果から耐擦傷性にも優れていることが分かった。
3.4. Evaluation results From the results of Table 2, in the cured films obtained by curing the curable compositions of Examples 1 to 13 in which the polar group concentration in the total polymerizable compound satisfies the above conditions, the reflectance is less than 3%. It was found to have antireflection properties. Moreover, it turned out that it is excellent also in abrasion resistance from the result of steel wool resistance.

これに対し、表3の結果から、全重合性化合物中の極性基濃度が前記の条件を満たさない比較例1〜4の硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜においては、耐擦傷性には優れているが、反射率が3%を超えてしまい反射率が劣ることが分かった。   On the other hand, from the results of Table 3, in the cured film obtained by curing the curable compositions of Comparative Examples 1 to 4 in which the polar group concentration in the total polymerizable compound does not satisfy the above conditions, the scratch resistance is improved. Was excellent, but the reflectivity exceeded 3%, indicating that the reflectivity was inferior.

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the present invention includes substantially the same configuration (for example, a configuration having the same function, method, and result, or a configuration having the same purpose and effect) as the configuration described in the embodiment. In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that achieves the same effect as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. In addition, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

10…基材、20…硬化膜、22…粒子、24…ハードコート層、26…低屈折率層、100…反射防止用積層体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Base material, 20 ... Cured film, 22 ... Particle | grains, 24 ... Hard-coat layer, 26 ... Low refractive index layer, 100 ... Laminated body for reflection prevention

Claims (12)

基材上に、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有するマトリックスと、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、前記マトリックス1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gである硬化膜を有し、
前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在している、反射防止用積層体。
On the substrate
A matrix having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less, Having a cured film having a total of group concentration, carboxyl group concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g,
The laminate for antireflection, in which the particles are unevenly distributed on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate in the cured film.
請求項1において、
前記マトリックス1g中におけるヒドロキシル基濃度が2.0mmol/g〜15mmol/gである、反射防止用積層体。
In claim 1,
The laminated body for antireflection whose hydroxyl group density | concentration in the said matrix 1g is 2.0 mmol / g-15 mmol / g.
基材上に、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物の硬化膜を有し、
前記粒子が、前記硬化膜中の基材と接触する面とは反対の面側に偏在している、反射防止用積層体。
On the substrate
A polymerizable compound comprising a polymerizable compound having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less, and A cured film of a curable composition having a total of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration in 1 g;
The laminate for antireflection, in which the particles are unevenly distributed on the surface side opposite to the surface in contact with the substrate in the cured film.
請求項3において、
前記硬化性組成物は、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度が2.0mmol/g〜15mmol/gである、反射防止用積層体。
In claim 3,
The said curable composition is a laminated body for antireflection whose hydroxyl group density | concentration in 1 g of all the polymeric compounds is 2.0 mmol / g-15 mmol / g.
請求項1ないし請求項4のいずれか一項において、
前記粒子は、中空シリカ粒子である、反射防止用積層体。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
The laminate is an antireflection laminate, wherein the particles are hollow silica particles.
ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gである硬化性組成物を基材に塗布した後、硬化させる工程を含む、反射防止用積層体の製造方法。   A polymerizable compound comprising a polymerizable compound having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate ester group and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less, and The step of curing after applying a curable composition having a total of 2.0 mmol / g to 15 mmol / g of hydroxyl group concentration, carboxyl group concentration, phosphate group concentration and sulfo group concentration in 1 g to a substrate. A method for producing an antireflection laminate. 請求項6において、
前記硬化性組成物は、全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度が2.0mmol/g〜15mmol/gである、反射防止用積層体の製造方法。
In claim 6,
The said curable composition is a manufacturing method of the laminated body for antireflection whose hydroxyl group density | concentration in 1 g of all the polymeric compounds is 2.0 mmol / g-15 mmol / g.
請求項6または請求項7において、
前記粒子は、中空シリカ粒子である、反射防止用積層体の製造方法。
In claim 6 or claim 7,
The method for producing an antireflection laminate, wherein the particles are hollow silica particles.
ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸エステル基およびスルホ基から選択される1種以上の極性基を有する重合性化合物と、屈折率が1.40以下である粒子と、を含有し、
全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度、カルボキシル基濃度、リン酸エステル基濃度およびスルホ基濃度の合計が2.0mmol/g〜15mmol/gである、硬化性組成物。
A polymerizable compound having one or more polar groups selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, a phosphate group, and a sulfo group, and particles having a refractive index of 1.40 or less,
The curable composition whose sum total of the hydroxyl group density | concentration in 1 g of all polymeric compounds, a carboxyl group density | concentration, a phosphate ester group density | concentration, and a sulfo group density | concentration is 2.0 mmol / g-15 mmol / g.
請求項9において、
全重合性化合物1g中におけるヒドロキシル基濃度が2.0mmol/g〜15mmol/gである、硬化性組成物。
In claim 9,
The curable composition whose hydroxyl group density | concentration in 1 g of all the polymeric compounds is 2.0 mmol / g-15 mmol / g.
請求項9または請求項10において、
前記重合性化合物として、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートを含有する、硬化性組成物。
In claim 9 or claim 10,
A curable composition containing 2-hydroxyethyl (meth) acrylate as the polymerizable compound.
請求項9ないし請求項11のいずれか一項において、
前記粒子は、中空シリカ粒子である、硬化性組成物。
In any one of claims 9 to 11,
The curable composition, wherein the particles are hollow silica particles.
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