JP2011123263A - Proximity exposure device and proximity exposure method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、近接露光装置および近接露光方法に関し、より詳細には、TFT(Thin Film Transistor)等の液晶ディスプレイやプラズマディスプレイのような大型のフラットパネルディスプレイのカラーフィルタ基板やアレイ基板等に所望のパターンを露光転写するのに好適な近接露光装置および近接露光方法に関する。 The present invention relates to a proximity exposure apparatus and a proximity exposure method. More specifically, the present invention relates to a color filter substrate or an array substrate of a large flat panel display such as a liquid crystal display such as a TFT (Thin Film Transistor) or a plasma display. The present invention relates to a proximity exposure apparatus and a proximity exposure method suitable for exposing and transferring a pattern.
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行う近接走査露光方式が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。 As an exposure method for large flat panel displays such as liquid crystal displays and plasma displays used in large thin TVs, etc., the mask is subdivided, and a plurality of mask holders for holding these masks are arranged in a staggered pattern to form a substrate. A proximity scanning exposure method is known in which exposure is performed while moving the image in one direction (see, for example, Patent Document 1). This exposure method utilizes the fact that a large pattern can be formed by joining together on the premise that there is a portion that is repeated to some extent in the pattern formed on the substrate. In this case, the mask does not need to be large in accordance with the panel, and a relatively inexpensive mask can be used.
また、特許文献1に記載の露光装置では、複数の遮光部材を用いて、基板の移動速度に合わせて遮光部材を移動させると共に、露光中に、移動した遮光部材を重ね合わせながら上流側に戻すようにして、遮光部材の移動に伴う露光への影響を抑えることが提案されている。 In the exposure apparatus described in Patent Document 1, a plurality of light shielding members are used to move the light shielding member in accordance with the moving speed of the substrate, and during the exposure, the moved light shielding member is returned to the upstream side while being overlapped. In this way, it has been proposed to suppress the influence on exposure due to the movement of the light shielding member.
ところで、上記近接露光装置では、さらなる露光精度の向上が求められており、露光中に、遮光部材を重ね合わせながら上流側に戻したとしても遮光部材の下方の基板の露光領域では露光量が低下してしまうため、該露光領域に遮光部材による露光不足箇所が発生し、製品に露光むらが生じる可能性があった。 By the way, in the above proximity exposure apparatus, further improvement in exposure accuracy is required, and even if the light shielding member is returned to the upstream side while being overlapped during exposure, the exposure amount is reduced in the exposure region of the substrate below the light shielding member. For this reason, there is a possibility that an underexposure portion due to the light shielding member is generated in the exposure region, resulting in uneven exposure of the product.
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and a purpose thereof is a proximity exposure apparatus and a proximity exposure that can suppress exposure unevenness caused by a reduction in exposure amount when returning a light shielding member to the upstream side. It is to provide a method.
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置であって、
前記各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、
該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、
前記各光通過部は、前記複数枚の遮光部材が重ね合わせられた際に、前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように形成されることを特徴とする近接露光装置。
(2) 前記複数枚の遮光部材は、前記所定の方向と直交する方向に所定の間隔で配置される複数の光通過部をそれぞれ有する第1及び第2の遮光部材と、を備え、
前記第1の遮光部材の複数の光通過部と、前記第2の遮光部材の複数の光通過部は、前記直交方向にそれぞれオフセットして配置されていることを特徴とする(1)に記載の近接露光装置。
(3) 前記各遮光ユニットは、前記複数枚の遮光部材を前記所定の方向及び上下方向にそれぞれ駆動可能な複数の駆動機構を有することを特徴とする(1)または(2)に記載の近接露光装置。
The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.
(1) a substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction;
A plurality of mask holding sections for holding a plurality of masks, respectively;
A plurality of irradiating units disposed above the plurality of mask holding units and irradiating exposure light; and
A plurality of light shielding units arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units, for shielding the exposure light emitted from the irradiation unit;
A proximity exposure apparatus that irradiates exposure light to the substrate conveyed in the predetermined direction through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Each of the light shielding units has at least one set of a plurality of light shielding members arranged to be movable in the predetermined direction,
The plurality of light shielding members each include a light passage portion that allows the exposure light to pass therethrough,
Each of the light passage portions is formed such that when the plurality of light shielding members are overlapped, the exposure light is shielded by any of the plurality of light shielding members facing each of the light passage portions. A proximity exposure apparatus.
(2) The plurality of light shielding members include first and second light shielding members each having a plurality of light passage portions arranged at predetermined intervals in a direction orthogonal to the predetermined direction,
(1) The plurality of light passing portions of the first light shielding member and the plurality of light passing portions of the second light shielding member are arranged offset in the orthogonal direction. Proximity exposure equipment.
(3) The proximity according to (1) or (2), wherein each of the light shielding units includes a plurality of driving mechanisms capable of driving the plurality of light shielding members in the predetermined direction and the vertical direction, respectively. Exposure device.
(4) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材を、前記露光用光が前記各光通過部を通過するように前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
(5) 前記上流側に戻す前の前記マスクに対して下流側に移動した前記複数枚の遮光部材を上昇させる工程を、さらに備えることを特徴とする(4)に記載の近接露光方法。
(6) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材を前記各光通過部の前記直交方向の位置が一致するように前記直交方向に相対的に移動させる工程と、
前記露光用光が前記各光通過部を通過するように前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
(7) 前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材は、前記直交方向に相対的に移動させると共に、上昇させることを特徴とする(6)に記載の近接露光方法。
(8) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、を備え、該各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一枚の遮光部材を有し、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置の近接露光方法であって、
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記遮光部材を前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した前記遮光部材を上昇させる工程と、
前記上昇後の前記遮光部材を、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。
(4) A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of mask holders, which are disposed above the plurality of mask holders, respectively. A plurality of irradiation units that irradiate, and a plurality of light shielding units that are arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units and shield the exposure light emitted from the irradiation unit. Each of the light shielding units has at least one set of a plurality of light shielding members arranged so as to be movable in the predetermined direction, and the plurality of light shielding members pass through the exposure light. A proximity exposure method of a proximity exposure apparatus that irradiates exposure light to the substrate conveyed in the predetermined direction through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Transporting the substrate below the mask;
The plurality of light shielding members are moved in the predetermined direction while being overlapped so that the exposure light is shielded by any of the plurality of light shielding members facing each of the light passing portions, and the mask Forming a light shielding region on the substrate by shielding the pattern;
The plurality of light-shielding members after moving downstream with respect to the mask are moved in a direction opposite to the predetermined direction so that the exposure light passes through the light passage portions, and Crossing the mask pattern and returning upstream to the mask;
A proximity exposure method characterized by comprising:
(5) The proximity exposure method according to (4), further comprising a step of raising the plurality of light shielding members moved to the downstream side with respect to the mask before returning to the upstream side.
(6) A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of mask holders, which are disposed above the plurality of mask holders, respectively, A plurality of irradiation units that irradiate, and a plurality of light shielding units that are arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units and shield the exposure light emitted from the irradiation unit. Each of the light shielding units has at least one set of a plurality of light shielding members arranged so as to be movable in the predetermined direction, and the plurality of light shielding members pass through the exposure light. A proximity exposure method of a proximity exposure apparatus that irradiates exposure light to the substrate conveyed in the predetermined direction through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Transporting the substrate below the mask;
The plurality of light shielding members are moved in the predetermined direction while being overlapped so that the exposure light is shielded by any of the plurality of light shielding members facing each of the light passing portions, and the mask Forming a light shielding region on the substrate by shielding the pattern;
Moving the plurality of light-shielding members after moving downstream with respect to the mask relative to each other in the orthogonal direction so that the positions of the respective light passing portions coincide with each other;
The plurality of light shielding members are moved in a direction opposite to the predetermined direction so that the exposure light passes through the light passing portions, and the mask is crossed across the pattern of the mask being exposed. Returning to the upstream side with respect to
A proximity exposure method characterized by comprising:
(7) The proximity exposure method according to (6), wherein the plurality of light-shielding members after moving downstream with respect to the mask are moved while being relatively moved in the orthogonal direction. .
(8) A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of mask holders, which are disposed above the plurality of mask holders, respectively, A plurality of irradiation units that irradiate, and a plurality of light shielding units that are arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units and shield the exposure light emitted from the irradiation unit. Each of the light shielding units has at least one light shielding member arranged so as to be movable in the predetermined direction, and emits exposure light to the substrate conveyed in the predetermined direction through the mask. A proximity exposure method of a proximity exposure apparatus that irradiates and exposes a pattern of the mask on the substrate,
Transporting the substrate below the mask;
Moving the light shielding member in the predetermined direction, shielding the mask pattern and forming a light shielding region on the substrate;
Raising the light blocking member moved downstream relative to the mask;
Returning the light-shielding member after the rising across the pattern of the mask being exposed to the upstream side with respect to the mask;
A proximity exposure method characterized by comprising:
本発明の近接露光装置によれば、各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、複数枚の遮光部材は、露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、各光通過部は、複数枚の遮光部材が重ね合わせられた際に、露光用光が各光通過部と対向する複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように形成される。これにより、複数枚の遮光部材を用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、露光用光が光通過部を通過し、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。 According to the proximity exposure apparatus of the present invention, each light shielding unit has at least one set of a plurality of light shielding members arranged to be movable in the predetermined direction, and the plurality of light shielding members are the exposure light. Each of the light passage portions is shielded by any of the plurality of light shielding members facing each light passage portion when the plurality of light shielding members are overlaid. Formed to be. As a result, a normal light shielding operation can be performed using a plurality of light shielding members, and when returning the light shielding member to the upstream side, the exposure light passes through the light passage portion and suppresses a rapid change in the exposure amount. It is possible to suppress exposure unevenness caused by a decrease in exposure amount.
また、近接露光方法によれば、上記複数枚の遮光部材を使用し、マスクの下方で基板を搬送する工程と、露光用光が各光通過部と対向する複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、複数枚の遮光部材を重ね合わせながら所定の方向へ移動させ、マスクのパターンを遮光して基板に遮光領域を形成する工程と、マスクに対して下流側に移動した後の複数枚の遮光部材を、露光用光が各光通過部を通過するように所定の方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクのパターンを横切って、マスクに対して上流側に戻す工程と、を有する。これにより、複数枚の遮光部材を用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、露光用光が光通過部を通過し、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。 Further, according to the proximity exposure method, the plurality of light shielding members are used, and the substrate is transported under the mask, and the exposure light is exposed to any one of the plurality of light shielding members facing each light passage portion. A plurality of light shielding members are moved in a predetermined direction so as to be shielded, and a mask pattern is shielded to form a light shielding region on the substrate. A step of moving a plurality of light shielding members in a direction opposite to a predetermined direction so that the exposure light passes through each light passage, and returning the light to the upstream side with respect to the mask across the pattern of the mask being exposed; Have. As a result, a normal light shielding operation can be performed using a plurality of light shielding members, and when returning the light shielding member to the upstream side, the exposure light passes through the light passage portion and suppresses a rapid change in the exposure amount. It is possible to suppress exposure unevenness caused by a decrease in exposure amount.
また、他の近接露光方法によれば、上記複数枚の遮光部材を用いて、基板がマスクの下方で搬送されている状態で、露光用光が各光通過部と対向する複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、複数枚の遮光部材を重ね合わせながらマスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、基板がマスクの下方で搬送されている状態で、マスクに対して下流側に移動した後の複数枚の遮光部材を各光通過部の直交方向の位置が一致するように直交方向に相対的に移動させる工程と、基板がマスクの下方で搬送されている状態で、露光用光が各光通過部を通過するように複数枚の遮光部材を重ね合わせながら所定の方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクのパターンを横切って、マスクに対して上流側に戻す工程と、を有する。これにより、複数枚の遮光部材を用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。また、複数枚の遮光部材を重ね合わせながら上流側に戻すことができるので、タクトタイムを短縮することができる。 Further, according to another proximity exposure method, a plurality of light shielding members whose exposure light faces each light passing portion in a state where the substrate is transported under the mask using the plurality of light shielding members. A process of forming a light-shielding region on the substrate by shielding a mask pattern while overlapping a plurality of light-shielding members, and a state where the substrate is transported under the mask, A step of relatively moving the plurality of light blocking members after moving downstream relative to the mask so that the positions of the light passing portions in the orthogonal direction coincide with each other, and the substrate is conveyed below the mask. In such a state, the plurality of light shielding members are moved in the direction opposite to the predetermined direction so that the exposure light passes through each light passing portion, and crosses the pattern of the mask being exposed to the mask. And returning to the upstream side Having. As a result, a normal light shielding operation can be performed using a plurality of light shielding members, and a rapid change in the exposure amount can be suppressed when returning the light shielding member to the upstream side, which occurs due to a decrease in the exposure amount. Exposure unevenness can be suppressed. In addition, since the plurality of light shielding members can be returned to the upstream side while being superimposed, the tact time can be shortened.
さらに他の近接露光方法によれば、少なくとも一枚の遮光部材を用いて、マスクの下方で基板を搬送する工程と、遮光部材を所定の方向へ移動させ、マスクのパターンを遮光して基板に遮光領域を形成する工程と、マスクに対して下流側に移動した遮光部材を上昇させる工程と、上昇後の遮光部材を、露光中のマスクのパターンを横切って、マスクに対して上流側に戻す工程と、を有する。これによっても、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。 According to still another proximity exposure method, the substrate is transported under the mask using at least one light shielding member, and the light shielding member is moved in a predetermined direction to shield the mask pattern on the substrate. The step of forming the light shielding region, the step of raising the light shielding member moved to the downstream side with respect to the mask, and the raised light shielding member across the pattern of the mask being exposed are returned to the upstream side with respect to the mask. And a process. Also by this, a normal light shielding operation can be performed, and when the light shielding member is returned to the upstream side, an abrupt change in the exposure amount can be suppressed, and uneven exposure caused by a decrease in the exposure amount can be suppressed. .
(第1実施形態)
以下、本発明の第1実施形態に係る近接露光装置及び近接露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、以下の説明では、下地パターン層であるブラックマトリクス層が形成された露光領域と、下地パターン層が形成されていない非露光領域を有した、複数のカラーフィルタ用パネルを形成するためのガラス基板に、赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層のいずれかを形成する近接露光装置及び近接露光方法について説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, embodiments of a proximity exposure apparatus and a proximity exposure method according to a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, a glass for forming a plurality of color filter panels having an exposed region in which a black matrix layer as a base pattern layer is formed and a non-exposed region in which a base pattern layer is not formed. A proximity exposure apparatus and a proximity exposure method for forming any of red (R), green (G), and blue (B) colored layers on a substrate will be described.
先ず、本実施形態の近接露光装置1の構成について概略説明する。図1及び図2に示すように、本実施形態の近接露光装置1は、基板(カラーフィルタ基板)Wを浮上させて支持すると共に、所定の方向(図1のX方向)に搬送する基板搬送機構10と、複数のマスクMをそれぞれ保持し、所定の方向と直交する方向(図1のY方向)に沿って千鳥状に二列配置された複数(図1に示す実施形態において、左右それぞれ6個)のマスク保持部11と、マスク保持部11を駆動するマスク駆動部12と、複数のマスク保持部11の上部にそれぞれ配置されて露光用光ELを照射する複数の照射部13と、各照射部13と各マスク保持部11との間にそれぞれ配置され、照射部13から出射された露光用光ELを遮光するための複数の遮光ユニット14と、近接露光装置1の各作動部分の動きを制御する制御部15と、を主に備える。
First, an outline of the configuration of the proximity exposure apparatus 1 of the present embodiment will be described. As shown in FIGS. 1 and 2, the proximity exposure apparatus 1 of the present embodiment floats and supports a substrate (color filter substrate) W, and transports the substrate in a predetermined direction (X direction in FIG. 1). The
基板搬送機構10は、浮上ユニット16と、基板WのY方向一側(図1において上辺)を保持してX方向に搬送する基板駆動ユニット17とを備える。浮上ユニット16は、複数のフレーム19上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド20及び吸排気エアパッド21を備え、ポンプ(図示せず)やソレノイドバルブ(図示せず)を介して排気エアパッド20や吸排気エアパッド21からエアを排気或いは、吸排気する。基板駆動ユニット17は、図1に示すように、浮上ユニット16によって浮上、支持された基板Wの一端を保持する吸着パッド22を備え、モータ23、ボールねじ24、及びナット(図示せず)からなるボールねじ機構25によって、ガイドレール26に沿って基板WをX方向に搬送する。なお、図2に示すように、複数のフレーム19は、地面にレベルブロック18を介して設置された装置ベース27上に他のレベルブロック28を介して配置されている。また、基板Wは、ボールねじ機構25の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。
The
マスク駆動部12は、フレーム(図示せず)に取り付けられ、マスク保持部11をX方向に沿って駆動するX方向駆動部31と、X方向駆動部31の先端に取り付けられ、マスク保持部11をY方向に沿って駆動するY方向駆動部32と、Y方向駆動部32の先端に取り付けられ、マスク保持部11をθ方向(X,Y方向からなる水平面の法線回り)に回
転駆動するθ方向駆動部33と、θ方向駆動部33の先端に取り付けられ、マスク保持部11をZ方向(X,Y方向からなる水平面の鉛直方向)に駆動するZ方向駆動部34と、を有する。これにより、Z方向駆動部34の先端に取り付けられたマスク保持部11は、マスク駆動部12によってX,Y,Z,θ方向に駆動可能である。なお、X,Y,θ,Z
方向駆動部31,32,33,34の配置の順序は、適宜変更可能である。
The
The order of arrangement of the
また、図1に示すように、千鳥状に二列配置された搬入側及び搬出側マスク保持部11a,11b間には、各マスク保持部11a,11bのマスクMを同時に交換可能なマスクチェンジャ2が配設されている。マスクチェンジャ2により搬送される使用済み或いは未使用のマスクMは、マスクストッカ3,4との間でローダー5により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ3,4とマスクチェンジャ2とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構(図示せず)によってマスクMのプリアライメントが行われる。
Further, as shown in FIG. 1, a mask changer 2 in which the masks M of the
図2に示すように、マスク保持部11の上部に配置される照射部13は、YAGレーザーや、エキシマレーザー等の光源41と、この光源41から照射された光を集光する凹面鏡42と、この凹面鏡42の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ43と、光路の向きを変えるための平面ミラー45及び球面ミラー46と、この平面ミラー45とオプチカルインテグレータ43との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター44と、を備える。なお、光源41としては、紫外線を含んだ連続光に放射する、超高圧水銀ランプであってもよく、フラッシュ光を放射するYAGレーザーやエキシマレーザーであってもよい。
As shown in FIG. 2, the
図3及び図4に示すように、各遮光ユニット14は、それぞれ異なる高さでX方向及びZ方向に移動可能に配置される少なくとも一組(本実施形態では、4組)の複数枚(本実施形態では、2枚)の遮光部材60,61,62,63(60a,60b,61a,61b,62a,62b,63a,63b)を有する。各遮光部材60,61,62,63は、Y方向に延在して略長方形形状を有しており、その一端部はリニアモータ70a,70b,71a,71b,72a,72b,73a,73b(遮光部材X方向駆動機構)に連結されている。リニアモータ70a〜73bは、不図示のドライバにより、ガイドレール75a,75b,76a,76b,77a,77b,78a,78bに沿ってX軸方向に移動自在となっている。
また、ガイドレール75a〜78bの両端部は、一対の遮光部材Z方向駆動機構80の各ナット部材81にそれぞれ取り付けられている。一対の遮光部材Z方向駆動機構80は、ボールねじ機構を備え、モータ82によってねじ軸83を回転駆動することで、ナット部材81をガイドレール84に沿って上下方向に移動させる。
As shown in FIGS. 3 and 4, each
Further, both end portions of the
これら遮光部材60,61,62,63のうち、第1及び第2組の遮光部材60a〜61bは、それぞれ等しい幅w1,w2を有しており、第1及び第2組の遮光部材60a,61bの上方に配置された第3及び第4組の遮光部材62a〜63bは、幅w1,w2より広い、それぞれ等しい幅w3,w4を有している。なお、各組の遮光部材60a〜63bの幅w1〜w4は、任意に設定することができ、w1、w2、w3、w4はそれぞれ異なる寸法であってもよい。
Among these
図5(a)に示すように、第1組の遮光部材60a,60bは、互いに等しい幅w1を有しており、各遮光部材60a,60bは、X方向に2つずつ、Y方向に所定の間隔で配置され、露光用光ELを通過させる複数の貫通孔(光通過部)90a,90bをそれぞれ備える。各遮光部材60a,60bの貫通孔90a,90bは、X方向中間部を通過してY方向に延びる線Lに対して対称に形成されており、また、一方の遮光部材60aの貫通孔90aと、他方の遮光部材90bの貫通孔90bは、Y方向にそれぞれオフセットして配置されている。具体的に、他方の遮光部材60bの貫通孔90bのY方向中心が、一方の遮光部材60aの隣り合う貫通孔90a間のY方向中間位置に配置されている。これにより、図5(b)に示すように、遮光部材60a,60bがX方向に移動して重ね合わせられた際に、貫通孔90aは、他方の遮光部材60bの遮光する部分と対向し、貫通孔90bは、一方の遮光部材60aの遮光する部分と対向するので、各遮光部材60a,60bは、露光用光ELを遮光することができる。また、第1組の遮光部材60a,60bが遮光する際のX方向における最大幅は、各遮光部材60a,60bのX方向長辺から貫通孔90a,90bまでのX方向距離をdとすると、w1+dに設定される。
As shown in FIG. 5A, the first set of
貫通孔90a,90bの内径は、遮光部材60a,60bを上昇させてマスク上方を移動させた際、遮光部材60a,60bの周囲、及び貫通孔90a,90bを通過した露光用光ELの回折光が、マスクMの遮光部材60a,60b下の領域全体を照射するように設定されることが好ましい。
The inner diameters of the through
また、一方の遮光部材60aのY方向固定端寄り側面と該側面寄りの貫通孔90aまでのY方向距離d1が他方の遮光部材60bのY方向自由端寄り側面と該側面寄りの貫通孔90bまでのY方向距離d1と等しく、加えて、一方の遮光部材60aのY方向自由端寄り側面と該側面寄りの貫通孔90aまでのY方向距離d2が他方の遮光部材60bのY方向固定端寄り側面と該側面寄りの貫通孔90bまでのY方向距離d2と等しい。従って、一対の遮光部材60a,60bは、Y方向に入れ替えて利用することで、同一部材によって構成することができる。
なお、第2〜第4組の遮光部材61a〜63bにも、第1組の遮光部材60a,60bの複数の貫通孔90a,90bと同様に構成された複数の貫通孔91a,91b,92a,92b,93a,93bを有する。なお、各貫通孔90a〜93bの内径や数は、遮光部材60a〜63bの寸法に応じて適宜設定される。
Further, the Y-direction distance d1 between the side surface near the Y-direction fixed end of one
The second to fourth
次に、このように構成された近接露光装置1の動作について説明する。ここで、使用される基板としては、例えば、図6に示すように、パネル間の非露光領域NRを有する基板Wを用い、赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層のいずれかのパターンを基板Wに塗布されたフォトレジストに転写する場合について説明する。 Next, the operation of the proximity exposure apparatus 1 configured as described above will be described. Here, as a substrate to be used, for example, as shown in FIG. 6, a substrate W having a non-exposed region NR between panels is used, and red (R), green (G), and blue (B) colored layers are used. A case where any one of the above patterns is transferred to a photoresist coated on the substrate W will be described.
近接露光装置1は、浮上ユニット16の排気エアパッド20及び吸排気エアパッド21の空気流によって基板Wを浮上させて保持し、基板Wの一端を基板駆動ユニット17で吸着してX方向に一定の速度で搬送する。そして、マスク保持部11の下方に位置する基板Wに対して、照射部13からの露光用光ELがマスクMを介して照射され、マスクMのパターンを基板Wに塗布されたフォトレジストに転写する。このとき、基板WとマスクMとの位置誤差は、図示しない撮像手段が検出する基板W及びマスクMの位置データに基づいて制御部15から出力される指令信号によって、θ方向駆動部33、及びY方向
駆動部32が作動してマスクMの位置を微調整することで補正(位置合わせ)される。
The proximity exposure apparatus 1 floats and holds the substrate W by the air flow of the
ここで、図7(a)に示すように、基板WがマスクMの下方で搬送され、基板Wにパターンの露光転写が行なわれている状態で、基板Wの非露光領域NRがマスクMのパターン領域の下方に入る。すると、マスクMに対して上流側に待機していた各組の遮光部材60a〜63bは、搬送方向に必要重ね代を持って並べられ、非露光領域NRを遮光するように配置される。また、各組の遮光部材60a〜63bは、露光用光ELが貫通孔90a〜93bと対向する各遮光部材60a〜63bによって遮光されるように、各遮光部材60a〜63bを重ね合わせながらマスクMのパターンを遮光する。例えば、第1組の遮光部材60a,60bでは、一方の遮光部材60aの貫通孔90aが、他方の遮光部材60bの遮光する部分と対向し、他方の遮光部材60bの貫通孔90bが、一方の遮光部材60aの遮光する部分と対向する。なお、第1組の遮光部材60a,60bは、X方向における幅をw1からw1+dの範囲で変更しながら露光用光ELを遮光することができる。そして、遮光部材60,61,62,63を基板Wの搬送と同速度でX方向に移動させ、マスクMのパターンを遮光して、非露光領域NR上に遮光領域を形成する。
Here, as shown in FIG. 7A, the non-exposed region NR of the substrate W is the mask M when the substrate W is transported under the mask M and the pattern is transferred to the substrate W. Enter below the pattern area. Then, each set of
このとき、下方に位置する第1組及び第2組の遮光部材60,61が、最も上流側と最も下流側に配置されることが好ましい。例えば、第2の遮光部材61がマスクMに対して下流側へ移動して、露光が開始された際、露光光が回折して遮光部材61の内側へ回り込む光の幅が小さくなり、露光領域ERと非露光領域NR(遮光領域)との境界をくっきりと露光転写することができる。
At this time, it is preferable that the first set and the second set of
一方、図7(b)に示すように、上記被露光領域NRを遮光して露光を開始した後は、すべての遮光部材60a〜63bがマスクMの下流側に移動している。その後、次の遮光領域を遮光するまでの露光動作中、マスクMに対して下流側に移動した後の遮光部材60,61,62,63をX方向と反対方向に高速で移動させ、露光中のマスクMのパターンを横切って、マスクMに対して上流側に戻す必要がある。
On the other hand, as shown in FIG. 7B, after the exposure is started by shielding the exposed area NR, all the
この戻し工程時には、まず、これら遮光部材60,61,62,63を遮光部材Z方向駆動機構80によって所定の戻し高さまで上昇させる。そして、図7(c)に示すように、各遮光部材60a〜63bをX方向においてそれぞれ離れた状態で、搬送方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクMのパターンを横切らせる。これにより、図8に示すように、露光用光ELはX方向両側面を通過した光と貫通孔90a,90bを通過した光がそれぞれ回折することで、マスクMにおいて遮光部材60a,60bに近い面積で照射され、急激な露光量の変化をなくし、露光むらを低減することができる。
In the returning step, first, the
そして、すべての遮光部材60a〜63bがマスクMに対して上流側へ戻された後、遮光部材Z方向駆動機構80によって所定の遮光高さまで下降させ、基板Wの次の非露光領域NRがマスクMのパターン領域の下方を通過する際に備えて待機する。
Then, after all the
以上説明したように、本実施形態の近接露光装置1によれば、各遮光ユニット14は、それぞれX方向に移動可能に配置される四組の一対の遮光部材60a〜63bを有し、一対の遮光部材60a〜63dは、露光用光ELを通過させる貫通孔90a〜93bをそれぞれ備え、各貫通孔90a〜93bは、一対の遮光部材60a〜63bが重ね合わせられた際に、露光用光ELが各貫通孔90a〜93bと対向する一対の遮光部材60a〜63bのいずれかによって遮光されるように形成される。この装置1により、各組の一対の遮光部材60a〜63bを用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材60a〜63bを上流側に戻す際に、露光用光ELを貫通孔90a〜93bを通過させ、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
As described above, according to the proximity exposure apparatus 1 of the present embodiment, each
また、近接露光方法によれば、一対の遮光部材60a〜63bを使用し、基板WをマスクMの下方で搬送する工程と、露光用光ELが各貫通孔90a〜93bと対向する一対の遮光部材60a〜63bのいずれかによって遮光されるように、一対の遮光部材60a〜63bを重ね合わせながらX方向に移動させ、マスクMのパターンを遮光して基板Wに遮光領域を形成する工程と、マスクMに対して下流側に移動した後の一対の遮光部材60a〜63bを、露光用光ELが各貫通孔90a〜93bを通過するように搬送方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクMのパターンを横切って、マスクMに対して上流側に戻す工程と、を有する。この方法により、複数枚の遮光部材60a〜63bを用いて、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材60a〜63bを上流側に戻す際に、露光用光ELが貫通孔90a〜93bを通過し、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
Further, according to the proximity exposure method, a pair of
さらに、上流側に戻す前のマスクMに対して下流側に移動した各組の一対の遮光部材60a〜63bを上昇させる工程を、さらに備えることで貫通孔90a〜93bを通過する露光用光ELの回折光がマスクMを照射する領域を広げることができ、貫通孔90a〜93bの内径を大きくしなくてもよい。これにより、一対の遮光部材60a〜63bによる遮光時のX方向幅を広く設定することができる。
Furthermore, the exposure light EL which passes through the through-
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る近接露光装置及び近接露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施形態では、遮光ユニットの遮光部材の構成において第1実施形態と異なる。そのため、第1実施形態と同一または同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。本実施形態においても、各組の遮光部材60a〜63bは、それぞれX方向の幅が異なるのみであるため、第1組の遮光部材60a,60bについてのみ説明する。
(Second Embodiment)
Next, a proximity exposure apparatus and a proximity exposure method according to a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the present embodiment, the configuration of the light shielding member of the light shielding unit is different from that of the first embodiment. For this reason, the same or equivalent parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted or simplified. Also in the present embodiment, the
本実施形態では、図9(a)に示すように、各遮光部材60a,60bは、それぞれ櫛歯形状に形成されており、Y方向に長方形形状に延びる基部100a,100bと、各基部100a,100bからそれぞれX方向に延びて、Y方向に所定の間隔で配置される複数の突出片101a,101bと、を備え、それぞれ隣り合う突出片101a,101bと基部102によって露光用光ELが通過する開口凹部102a,102b(光通過部)が形成される。
In the present embodiment, as shown in FIG. 9A, each of the
各遮光部材60a,60bの各突出片101a,101bは、X方向において互いに反対方向、即ち、一方が搬送方向、他方が搬送方向と反対方向に延出しており、Y方向にそれぞれオフセットして配置されている。従って、一方の遮光部材60aの開口凹部102aと、他方の遮光部材60bの開口凹部102bは、Y方向にそれぞれオフセットして配置されている。また、各突出片101a,101bのY方向幅と各開口凹部102a,102bのY方向幅とは、略同一寸法に設定されており、遮光部材60a,60bが重ね合わせられた際に、開口凹部102aは、他方の遮光部材60bの突出片101bと対向し、開口凹部102bは、一方の遮光部材60aの突出片101aと対向するので、各遮光部材60a,60bは、露光用光ELを遮光することができる。なお、突出片101a,101bのY方向幅は、露光用光ELの回折を考慮して、開口凹部102a,102bのY方向幅よりも若干大きく設定されてもよい。
The projecting
また、第1組の遮光部材60a,60bが遮光する際のX方向における最大幅は、各遮光部材60a,60bの基部100a,100bのX方向幅をd、突出片101a,101bのX方向長さをdとすると、w1+dに設定される。
さらに、本実施形態においても、一対の遮光部材60a,60bは、Y方向に入れ替えて利用することで、同一部材によって構成されている。
従って、本実施形態のように、櫛歯形状の一対の遮光部材60a,60bを用いた場合であっても、第1実施形態と同様に、通常の遮光動作を実行できると共に、遮光部材60a,60bを上流側に戻す際に、露光用光ELが開口凹部102a,102bを通過し、露光量の急激な変化を抑制することができ、露光量の減少によって発生する露光むらを抑えることができる。
なお、本実施形態においては、戻し工程において、一対の遮光部材60a,60bの基部100a,100bを重ね合わせた状態で、上流側へ一緒に戻すようにしても露光量の急激な変化を抑制することができる。
The maximum width in the X direction when the first set of
Furthermore, also in the present embodiment, the pair of
Therefore, as in the present embodiment, even when a pair of comb-shaped
In the present embodiment, in the returning step, even if the
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。 In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably.
(変形例1)
例えば、上記実施形態においては、各遮光部材を少なくとも光通過部において重ね合わせずに上流側に戻すことで、露光用光が光通過部を通過しているが、一対の遮光部材のうち少なくとも一方が遮光部材をY方向に駆動する遮光部材Y方向駆動機構を有することで、一対の遮光部材の光通過部を重ね合わせながら上流側に戻すことができる。
(Modification 1)
For example, in the above-described embodiment, the exposure light passes through the light passing portion by returning each light shielding member to the upstream side without overlapping at least in the light passing portion, but at least one of the pair of light shielding members. By having the light shielding member Y direction drive mechanism that drives the light shielding member in the Y direction, the light passing portions of the pair of light shielding members can be returned to the upstream side while being overlapped.
即ち、マスクに対して下流側に移動した後の一対の遮光部材を各光通過部のY方向の位置が一致するようにY方向に相対的に移動させ、露光用光が一対の遮光部材の各光通過部を通過するように一対の遮光部材を重ね合わせながら搬送方向と反対方向に移動させ、露光中のマスクのパターンを横切って、マスクに対して上流側に戻すようにしてもよい。これにより、一対の遮光部材を一緒に上流側に戻すことができ、戻し工程に必要な時間を短縮することができる。例えば、上記実施形態において、同一寸法の第1及び第2組の遮光部材60a〜61bを一緒に上流側に戻し、他の同一寸法の第3及び第4組の遮光部材62a〜63bを一緒に上流側に戻しても良い。
なお、一対の遮光部材は、上流側に戻す前、相対移動させた後に上昇しても良いし、上昇した後に相対移動させてもよい。
That is, the pair of light shielding members after moving to the downstream side with respect to the mask is moved relatively in the Y direction so that the positions in the Y direction of the respective light passing portions coincide with each other, and the exposure light is emitted from the pair of light shielding members. The pair of light shielding members may be moved in the direction opposite to the transport direction while overlapping each other so as to pass through each light passage portion, and may be returned to the upstream side with respect to the mask across the pattern of the mask being exposed. Thereby, a pair of light shielding members can be returned together upstream, and the time required for the return process can be shortened. For example, in the above embodiment, the first and second sets of
It should be noted that the pair of light shielding members may rise after being moved relative to each other before returning to the upstream side, or may be moved relatively after being raised.
(変形例2)
また、上記実施形態においては、光通過部を有する遮光部材が使用されているが、光通過部を有しない長方形状の少なくとも一枚の遮光部材を使用し、該遮光部材を上昇させてから上流側に戻すことでも、長手方向側面を通過して回折した露光用光によってマスクでの急激な露光量の変化を防止することができる。即ち、本発明は、前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、前記遮光部材を前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、前記マスクに対して下流側に移動した前記遮光部材を上昇させる工程と、前記上昇後の前記遮光部材を、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、を有する構成であってもよい。
(Modification 2)
In the above embodiment, a light shielding member having a light passage part is used. However, at least one rectangular light shielding member having no light passage part is used, and the light shielding member is raised and then upstream. Also by returning to the side, it is possible to prevent a rapid change in the exposure amount at the mask by the exposure light diffracted through the side surface in the longitudinal direction. That is, the present invention includes a step of transporting the substrate below the mask, a step of moving the light shielding member in the predetermined direction, shielding the mask pattern to form a light shielding region on the substrate, A step of raising the light shielding member moved to the downstream side with respect to the mask, and a step of returning the raised light shielding member to the upstream side with respect to the mask across the pattern of the mask being exposed. The structure which has these.
さらに、上記実施形態では、遮光部材Z方向駆動機構は、すべての遮光部材を一緒に駆動するように構成されているが、各遮光部材にZ方向駆動機構をそれぞれ設けるようにしてもよい。 Further, in the above embodiment, the light shielding member Z-direction drive mechanism is configured to drive all the light shielding members together, but each light shielding member may be provided with a Z-direction drive mechanism.
また、各組の遮光部材は、2枚に限定されず、3枚以上の遮光部材によって構成されてもよい。 Each set of light shielding members is not limited to two, and may be constituted by three or more light shielding members.
加えて、遮光部材は、所望の形状に加工することで形成された貫通孔や開口部によって光通過部を構成してもよいし、透明部材の表面に光を遮光する材料を所望の形状に付着させることで光通過部を構成してもよい。 In addition, the light shielding member may form a light passage portion by a through hole or an opening formed by processing into a desired shape, or a material that shields light on the surface of the transparent member may be formed in a desired shape. You may comprise a light passage part by making it adhere.
また、上記実施形態においては、基板搬送機構10は、浮上ユニット16と基板駆動ユニット17によって基板Wを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板Wを上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。
In the above-described embodiment, the
さらに、上記実施形態では、基板を連続的に搬送しながら露光する走査露光方式について説明したが、露光時に一時的に基板を停止させ、搬送と露光を繰り返す露光方式に適用されてもよい。 Furthermore, in the above-described embodiment, the scanning exposure method in which exposure is performed while continuously transporting the substrate has been described. However, the present invention may be applied to an exposure method in which the substrate is temporarily stopped during exposure and the transport and exposure are repeated.
1 近接露光装置
10 基板搬送機構
11 マスク保持部
13 照射部
14 遮光ユニット
60,61a,61b 第1組の遮光部材
61,61a,61b 第2組の遮光部材
62,62a,62b 第3組の遮光部材
63,63a,63b 第4組の遮光部材
90a,90b,91a,91b,92a,92b,93a,93b 貫通孔(光通過部)
102a,102b 開口凹部(光通過部)
EL 露光用光
M マスク
W ガラス基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
102a, 102b Opening recess (light passage part)
EL Exposure light M Mask W Glass substrate
Claims (8)
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光するための複数の遮光ユニットと、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光する近接露光装置であって、
前記各遮光ユニットは、それぞれ前記所定の方向に移動可能に配置される少なくとも一組の複数枚の遮光部材を有し、
該複数枚の遮光部材は、前記露光用光を通過させる光通過部をそれぞれ備え、
前記各光通過部は、前記複数枚の遮光部材が重ね合わせられた際に、前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように形成されることを特徴とする近接露光装置。 A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction;
A plurality of mask holding sections for holding a plurality of masks, respectively;
A plurality of irradiating units disposed above the plurality of mask holding units and irradiating exposure light; and
A plurality of light shielding units arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units, for shielding the exposure light emitted from the irradiation unit;
A proximity exposure apparatus that irradiates exposure light to the substrate conveyed in the predetermined direction through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Each of the light shielding units has at least one set of a plurality of light shielding members arranged to be movable in the predetermined direction,
The plurality of light shielding members each include a light passage portion that allows the exposure light to pass therethrough,
Each of the light passage portions is formed such that when the plurality of light shielding members are overlapped, the exposure light is shielded by any of the plurality of light shielding members facing each of the light passage portions. A proximity exposure apparatus.
前記第1の遮光部材の複数の光通過部と、前記第2の遮光部材の複数の光通過部は、前記直交方向にそれぞれオフセットして配置されていることを特徴とする請求項1に記載の近接露光装置。 The plurality of light shielding members include first and second light shielding members each having a plurality of light passage portions arranged at predetermined intervals in a direction orthogonal to the predetermined direction,
2. The plurality of light passage portions of the first light shielding member and the plurality of light passage portions of the second light shielding member are arranged offset in the orthogonal direction, respectively. Proximity exposure equipment.
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材を、前記露光用光が前記各光通過部を通過するように前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。 A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of masks that are arranged above the plurality of mask holders and irradiate exposure light. And a plurality of light shielding units arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units and configured to shield the exposure light emitted from the irradiation unit, Each of the light shielding units has at least one set of a plurality of light shielding members arranged to be movable in the predetermined direction, and each of the plurality of light shielding members includes a light passage portion that allows the exposure light to pass therethrough. A proximity exposure method of a proximity exposure apparatus that irradiates the substrate transported in the predetermined direction with exposure light through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Transporting the substrate below the mask;
The plurality of light shielding members are moved in the predetermined direction while being overlapped so that the exposure light is shielded by any of the plurality of light shielding members facing each of the light passing portions, and the mask Forming a light shielding region on the substrate by shielding the pattern;
The plurality of light-shielding members after moving downstream with respect to the mask are moved in a direction opposite to the predetermined direction so that the exposure light passes through the light passage portions, and Crossing the mask pattern and returning upstream to the mask;
A proximity exposure method characterized by comprising:
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記露光用光が前記各光通過部と対向する前記複数枚の遮光部材のいずれかによって遮光されるように、前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数枚の遮光部材を前記各光通過部の前記直交方向の位置が一致するように前記直交方向に相対的に移動させる工程と、
前記露光用光が前記各光通過部を通過するように前記複数枚の遮光部材を重ね合わせながら前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。 A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of masks that are arranged above the plurality of mask holders and irradiate exposure light. And a plurality of light shielding units arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units and configured to shield the exposure light emitted from the irradiation unit, Each of the light shielding units has at least one set of a plurality of light shielding members arranged to be movable in the predetermined direction, and each of the plurality of light shielding members includes a light passage portion that allows the exposure light to pass therethrough. A proximity exposure method of a proximity exposure apparatus that irradiates the substrate transported in the predetermined direction with exposure light through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Transporting the substrate below the mask;
The plurality of light shielding members are moved in the predetermined direction while being overlapped so that the exposure light is shielded by any of the plurality of light shielding members facing each of the light passing portions, and the mask Forming a light shielding region on the substrate by shielding the pattern;
Moving the plurality of light-shielding members after moving downstream with respect to the mask relative to each other in the orthogonal direction so that the positions of the respective light passing portions coincide with each other;
The plurality of light shielding members are moved in a direction opposite to the predetermined direction so that the exposure light passes through the light passing portions, and the mask is crossed across the pattern of the mask being exposed. Returning to the upstream side with respect to
A proximity exposure method characterized by comprising:
前記マスクの下方で前記基板を搬送する工程と、
前記遮光部材を前記所定の方向へ移動させ、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記マスクに対して下流側に移動した前記遮光部材を上昇させる工程と、
前記上昇後の前記遮光部材を、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有することを特徴とする近接露光方法。 A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of masks that are arranged above the plurality of mask holders and irradiate exposure light. And a plurality of light shielding units arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units and configured to shield the exposure light emitted from the irradiation unit, The light shielding unit has at least one light shielding member arranged to be movable in the predetermined direction, and irradiates exposure light through the mask to the substrate transported in the predetermined direction. A proximity exposure method of a proximity exposure apparatus that exposes a pattern of the mask on the substrate,
Transporting the substrate below the mask;
Moving the light shielding member in the predetermined direction, shielding the mask pattern and forming a light shielding region on the substrate;
Raising the light blocking member moved downstream relative to the mask;
Returning the light-shielding member after the rising across the pattern of the mask being exposed to the upstream side with respect to the mask;
A proximity exposure method characterized by comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009280420A JP2011123263A (en) | 2009-12-10 | 2009-12-10 | Proximity exposure device and proximity exposure method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009280420A JP2011123263A (en) | 2009-12-10 | 2009-12-10 | Proximity exposure device and proximity exposure method |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2011123263A true JP2011123263A (en) | 2011-06-23 |
Family
ID=44287209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009280420A Pending JP2011123263A (en) | 2009-12-10 | 2009-12-10 | Proximity exposure device and proximity exposure method |
Country Status (1)
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JP (1) | JP2011123263A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015200910A (en) * | 2010-09-13 | 2015-11-12 | 株式会社オーク製作所 | projection exposure apparatus |
-
2009
- 2009-12-10 JP JP2009280420A patent/JP2011123263A/en active Pending
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JP2015200910A (en) * | 2010-09-13 | 2015-11-12 | 株式会社オーク製作所 | projection exposure apparatus |
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