JP2011122225A - Device for transporting film substrate - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for transporting a film substrate, which can adjust a position of each of substrates that are transported in both a forward direction and a backward direction, with high precision. <P>SOLUTION: The device for transporting the film substrate is directed for transporting a belt-shaped film substrate 2 while placing the substrate in such a vertically standing state that the one end part of the film substrate in the width direction of the substrate becomes the upper part, and includes: at least one pair of first grip rollers 6 which are arranged so as to sandwich the upper end part of the film substrate 2; and the first angle-adjusting mechanism 11 which can adjust a tilting direction and a tilting angle of the first grip rollers so as to tilt a rotation angle of the first grip rollers 6 to make the rotation direction of the first grip rollers 6 be the upper side with respect to the transporting direction. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

フィルム基板（以下、「基板」と呼ぶ）が、その幅方向について片端部上側とした縦姿勢で配置されて搬送される、フィルム基板の搬送装置に関する。   The present invention relates to a film substrate transport apparatus in which a film substrate (hereinafter referred to as “substrate”) is disposed and transported in a vertical posture with one end on the upper side in the width direction.

薄膜積層体の製造装置（以下、「製造装置」という）は、基板の表面に薄膜光電変換素子から成る光電変換層などを成膜することに用いられている。この製造装置は、その成膜室内において基板が気密状態で成膜される構成となっており、さらに成膜室内に基板を搬送するため、巻出しコアに巻き取られた基板が、成膜室に向けて送り出されて、成膜室内を通過した後に、巻取りコアによって巻き取られる構成となっている。   2. Description of the Related Art A thin film laminate manufacturing apparatus (hereinafter referred to as “manufacturing apparatus”) is used to form a photoelectric conversion layer made of a thin film photoelectric conversion element on a surface of a substrate. This manufacturing apparatus is configured such that the substrate is formed in an airtight state in the film forming chamber, and the substrate wound around the unwinding core is further transferred to the film forming chamber in order to transport the substrate into the film forming chamber. After being sent out toward the substrate and passing through the film forming chamber, the film is wound up by the winding core.

このような製造装置に主に設けられるフィルム基板の搬送装置（以下、「搬送装置」という）の基板搬送方式に関して、基板をその幅方向について片端部上側とした縦姿勢で配置して搬送する縦置き搬送方式が採用されることがある。この縦置き搬送方式の搬送装置においては、パーティクルが基板表面に堆積し難いことによって基板の汚染が防止される点、基板を縦置きとしたことによって製造装置のスペースを低減できる点などで優れている。その一方で、基板は、主に巻出しコアと巻取りコアとの間で引っ張られて保持されるので、基板は、自重により下方側に垂れ下がる傾向にあり、幅方向に蛇行するおそれもある。このような場合、基板の幅方向の位置ズレが発生し、基板は幅方向に撓むこととなる。この撓みによって基板に偏った応力集中が発生して、シワが発生し、このシワによって基板に成膜された薄膜光電変換素子などの特性が低下するので、問題である。   With respect to a substrate transport system of a film substrate transport apparatus (hereinafter referred to as “transport apparatus”) mainly provided in such a manufacturing apparatus, the substrate is disposed in a vertical posture with one end portion in the width direction and transported vertically. A standing conveyance method may be employed. This vertical transfer type transfer device is superior in that it prevents particles from being deposited on the surface of the substrate and prevents the substrate from being contaminated, and by placing the substrate in a vertical position can reduce the space for the manufacturing apparatus. Yes. On the other hand, since the substrate is mainly pulled and held between the unwinding core and the winding core, the substrate tends to hang downward due to its own weight, and may snake in the width direction. In such a case, the substrate is displaced in the width direction, and the substrate is bent in the width direction. This deflection causes a stress concentration biased on the substrate, generating wrinkles, and this causes a problem because the characteristics of the thin film photoelectric conversion element formed on the substrate are deteriorated by the wrinkles.

そこで、特許文献１のように、基板を順送り方向に搬送する搬送装置において、基板を幅方向に位置調節するためのグリップローラを設けた構造が採用されている。このような製造装置においては、複数の対になったグリップローラが、基板の上端部および下端部をそれぞれ挟むように設けられ、上端部側のグリップローラは、基板の順送り方向に対して上方側に向けて傾けて配置され、下端部側のグリップローラは、基板の順送り方向に対して下方側に向けて傾けて配置されている。   Therefore, as in Patent Document 1, a transport apparatus that transports a substrate in the forward feed direction employs a structure provided with a grip roller for adjusting the position of the substrate in the width direction. In such a manufacturing apparatus, a plurality of pairs of grip rollers are provided so as to sandwich the upper end portion and the lower end portion of the substrate, respectively, and the grip roller on the upper end side is located on the upper side with respect to the forward feed direction of the substrate. The grip roller on the lower end side is disposed to be inclined downward with respect to the forward feed direction of the substrate.

また、グリップローラの外周表面には、基板の保護などのために弾性体が設けられている。しかしながら、この弾性体が摩耗などにより劣化すると、グリップローラと基板との間で作用するグリップ力が低下し、基板を持ち上げる力が十分に得られなくなる。そこで、特許文献１では、弾性体の劣化に対応して、対になったグリップローラが基板を挟む力（以下、「基板挟持力」と呼ぶ）を増加させて、グリップ力を増加させている。   An elastic body is provided on the outer peripheral surface of the grip roller for protecting the substrate. However, when this elastic body deteriorates due to wear or the like, the grip force acting between the grip roller and the substrate is reduced, and a sufficient force to lift the substrate cannot be obtained. Therefore, in Patent Document 1, in response to the deterioration of the elastic body, the grip force is increased by increasing the force with which the paired grip rollers sandwich the substrate (hereinafter referred to as “substrate clamping force”). .

特開２００９−３８２７６号公報JP 2009-38276 A

しかしながら、特許文献１においては、上端部側のグリップローラは、基板の順送り方向に対して上方側にのみ向けて傾けて配置され、下端部側のグリップローラは、基板の順送り方向に対して下方側にのみに向けて傾けて配置されている。そのため、順送り方向および逆送り方向の両方に基板が搬送される場合、これらのグリップローラは、順送り方向に搬送される基板を高い精度で位置調節できるが、逆送り方向に搬送される基板を高い精度で位置調節することが困難となっている。   However, in Patent Document 1, the grip roller on the upper end side is arranged to be inclined only upward with respect to the forward feed direction of the substrate, and the grip roller on the lower end side is disposed downward with respect to the forward feed direction of the substrate. Tilt to the side only. Therefore, when the substrate is transported in both the forward feed direction and the reverse feed direction, these grip rollers can adjust the position of the substrate transported in the forward feed direction with high accuracy, but the substrate transported in the reverse feed direction is high. It is difficult to adjust the position with accuracy.

また、特許文献１において、外周表面が弾性体となっているグリップローラの基板挟持力を増加させた場合、外周表面の弾性体が潰れ、外周表面の横断面形状が楕円状に変化して、グリップローラの径が変化するおそれがある。このような場合、所望のグリップ力が得られず、基板を持上げる力が十分に得られないので、基板を所望の位置に移動させることが困難となる。よって、基板の位置調節の精度が低下することとなる。   Further, in Patent Document 1, when the substrate clamping force of the grip roller whose outer peripheral surface is an elastic body is increased, the elastic body of the outer peripheral surface is crushed, and the cross-sectional shape of the outer peripheral surface is changed to an elliptical shape, The grip roller diameter may change. In such a case, it is difficult to move the substrate to a desired position because a desired grip force cannot be obtained and a sufficient force to lift the substrate cannot be obtained. Therefore, the accuracy of the substrate position adjustment is lowered.

本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、順送り方向および逆送り方向の両方に搬送される基板のそれぞれを、高い精度で位置調節可能とするフィルム基板の搬送装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to make it possible to adjust the position of each of the substrates conveyed in both the forward feed direction and the reverse feed direction with high accuracy. It is to provide a transport device.

課題を解決するために本発明のフィルム基板の搬送装置は、帯状のフィルム基板を、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置して搬送するフィルム基板の搬送装置であって、前記フィルム基板の上端部を挟むように配設される少なくとも一対の第１のグリップローラと、前記第１のグリップローラの回転軸角度が前記第１のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して上方側とするように傾け可能となるように、前記第１のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第１の角度調節機構とを備えている。   In order to solve the problem, the film substrate transport apparatus of the present invention is a film substrate transport apparatus that transports a belt-shaped film substrate in a vertical posture with one end portion on the upper side in the width direction, At least a pair of first grip rollers disposed so as to sandwich an upper end portion of the film substrate, and a rotation axis angle of the first grip roller is higher than a conveyance direction of the first grip roller. A first angle adjusting mechanism that enables adjustment of the inclination direction and the inclination angle of the first grip roller so as to be inclined to the side.

本発明のフィルム基板の搬送装置では、前記フィルム基板の下端部を挟むように配設される少なくとも一対の第２のグリップローラと、前記第２のグリップローラの回転軸角度が前記第２のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して下方側とするように傾け可能なるように、前記第２のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第２の角度調節機構とをさらに備えている。   In the film substrate transport apparatus according to the present invention, at least a pair of second grip rollers disposed so as to sandwich a lower end portion of the film substrate, and a rotation axis angle of the second grip roller is the second grip. And a second angle adjusting mechanism that can adjust the inclination direction and the inclination angle of the second grip roller so that the rotation direction of the roller can be inclined downward with respect to the conveyance direction. Yes.

本発明のフィルム基板の搬送装置では、前記フィルム基板の幅方向端部の高さ位置を検知する検知手段をさらに備え、前記検知手段が前記フィルム基板の位置ズレを検知すると、前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラが、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構によって、前記フィルム基板の搬送方向に対応した傾斜方向に傾けられるように制御される。   In the film substrate transport apparatus of the present invention, the film substrate transport apparatus further includes a detecting unit that detects a height position of an end portion in the width direction of the film substrate, and when the detecting unit detects a positional shift of the film substrate, The roller and / or the second grip roller is controlled to be tilted by the first angle adjusting mechanism and / or the second angle adjusting mechanism in an inclination direction corresponding to the transport direction of the film substrate. .

本発明のフィルム基板の搬送装置では、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構が、前記基板の位置ズレを修正するために前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラの傾斜角度を変化させるように制御される。   In the film substrate transport apparatus of the present invention, the first angle adjustment mechanism and / or the second angle adjustment mechanism may be configured such that the first grip roller and / or the first angle adjustment mechanism corrects a positional deviation of the substrate. The tilt angle of the second grip roller is controlled to change.

本発明のフィルム基板の搬送装置によれば、以下の効果を得ることができる。
本発明のフィルム基板の搬送装置は、帯状のフィルム基板を、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置して搬送するフィルム基板の搬送装置であって、前記フィルム基板の上端部を挟むように配設される少なくとも一対の第１のグリップローラと、前記第１のグリップローラの回転角度が前記第１のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して上方側とするように傾け可能となるように、前記第１のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第１の角度調節機構とを備えている。
また、前記フィルム基板の下端部を挟むように配設される少なくとも一対の第２のグリップローラと、前記第２のグリップローラの回転角度が前記第２のグリップローラの回転方向を下方側とするように傾け可能となるように、前記第２のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第２の角度調節機構とをさらに備えている。
さらに、前記フィルム基板の幅方向端部の高さ位置を検知する検知手段をさらに備え、前記検知手段が前記フィルム基板の位置ズレを検知すると、前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラが、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構によって、前記フィルム基板の搬送方向に対応した傾斜方向に傾けられるように制御される。
そのため、順送り方向および逆送り方向に搬送される前記フィルム基板の両方に対して、精度の高い位置調節が可能となる。 According to the film substrate transport apparatus of the present invention, the following effects can be obtained.
The transport device for a film substrate of the present invention is a transport device for a film substrate that transports a band-shaped film substrate in a vertical posture with one end portion on the upper side in the width direction, and the upper end portion of the film substrate is At least a pair of first grip rollers disposed so as to be sandwiched, and the rotation angle of the first grip roller can be tilted so that the rotation direction of the first grip roller is on the upper side with respect to the transport direction And a first angle adjusting mechanism capable of adjusting the inclination direction and the inclination angle of the first grip roller.
Further, at least a pair of second grip rollers disposed so as to sandwich a lower end portion of the film substrate, and a rotation angle of the second grip roller is set such that a rotation direction of the second grip roller is a lower side. And a second angle adjusting mechanism for adjusting the inclination direction and the inclination angle of the second grip roller so as to be able to be inclined.
Furthermore, it further comprises detection means for detecting the height position of the end portion in the width direction of the film substrate, and when the detection means detects a positional shift of the film substrate, the first grip roller and / or the second The grip roller is controlled by the first angle adjustment mechanism and / or the second angle adjustment mechanism so as to be inclined in an inclination direction corresponding to the transport direction of the film substrate.
Therefore, it is possible to adjust the position with high accuracy for both the film substrate conveyed in the forward feed direction and the reverse feed direction.

本発明のフィルム基板の搬送装置では、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構が、前記基板の位置ズレを修正するために前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラの傾斜角度を変化させるように制御されるので、例えば、前記第１のグリップローラの摩耗などによって前記第１のグリップローラのグリップ力が低下して、前記フィルム基板を持上げる力が十分に得られない場合に、前記第１のグリップローラの傾斜を大きくすれば、前記フィルム基板の幅方向の移動量を大きくして、前記フィルム基板の位置調節を修正できる。そのため、前記第１のグリップローラにより前記フィルム基板を挟む力を増加させずに、前記フィルム基板に余分な負荷がかかることを防止できる。一方で、前記第１のグリップローラのグリップ力がバラツキなどにより高くなりすぎ、前記フィルム基板を持上げる力が大きくなりすぎる場合に、前記第１のグリップローラの傾斜を小さくすれば、前記フィルム基板の幅方向の移動量を小さくして、前記フィルム基板の位置調節を修正できる。よって、前記フィルム基板の位置調節精度が低下することを防止できる。   In the film substrate transport apparatus of the present invention, the first angle adjustment mechanism and / or the second angle adjustment mechanism may be configured such that the first grip roller and / or the first angle adjustment mechanism corrects a positional deviation of the substrate. 2 is controlled so as to change the tilt angle of the second grip roller. For example, the grip force of the first grip roller decreases due to wear of the first grip roller, and the force that lifts the film substrate. If the inclination of the first grip roller is increased, the movement amount of the film substrate in the width direction can be increased to correct the position adjustment of the film substrate. Therefore, it is possible to prevent an excessive load from being applied to the film substrate without increasing the force for sandwiching the film substrate by the first grip roller. On the other hand, if the grip force of the first grip roller becomes too high due to variations or the like, and the force to lift the film substrate becomes too large, if the inclination of the first grip roller is reduced, the film substrate The position adjustment of the film substrate can be corrected by reducing the amount of movement in the width direction. Therefore, it can prevent that the position adjustment precision of the said film substrate falls.

本発明の第１実施形態における薄膜積層体の製造装置を模式的に示す断面平面図である。It is a cross-sectional top view which shows typically the manufacturing apparatus of the thin film laminated body in 1st Embodiment of this invention. （ａ）は、図１の成膜室を拡大して模式的に示す断面平面図であり、（ｂ）は、図２（ａ）のＣ−Ｃ断面図である。(A) is a cross-sectional plan view schematically showing the film forming chamber of FIG. 1 in an enlarged manner, and (b) is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. 2 (a). （ａ）は、本発明の第１実施形態において、グリップローラの回転軸がフィルム基板の幅方向に沿って配置される場合の角度調節機構を示す概略正面図であり、（ｂ）は、図３（ａ）の角度調節機構の概略側面図であり、（ｃ）は、図３（ａ）のＤ−Ｄ断面図である。(A) is a schematic front view which shows an angle adjustment mechanism in case the rotating shaft of a grip roller is arrange | positioned along the width direction of a film board | substrate in 1st Embodiment of this invention, (b) is a figure. It is a schematic side view of the angle adjustment mechanism of 3 (a), (c) is DD sectional drawing of Fig.3 (a). （ａ）は、本発明の第１実施形態において、順送り方向に搬送される基板の位置を調節するようにグリップローラを傾けている角度調節機構を示す概略正面図であり、（ｂ）は、図４（ａ）のＤ’−Ｄ’断面図である。(A) is a schematic front view which shows the angle adjustment mechanism which inclines the grip roller so that the position of the board | substrate conveyed in a forward feed direction may be adjusted in 1st Embodiment of this invention, (b), It is D'-D 'sectional drawing of Fig.4 (a). 図４（ａ）のグリップローラを示す概略拡大正面図である。It is a general | schematic enlarged front view which shows the grip roller of Fig.4 (a). （ａ）は、本発明の第１実施形態において、逆送り方向に搬送される基板の位置を調節するようにグリップローラを傾けている角度調節機構を示す概略正面図であり、（ｂ）は、図６（ａ）のＤ’’−Ｄ’’断面図である。(A) is a schematic front view which shows the angle adjustment mechanism which inclines the grip roller so that the position of the board | substrate conveyed in a reverse feed direction may be adjusted in 1st Embodiment of this invention, (b). FIG. 7 is a cross-sectional view along D ″ -D ″ in FIG. 図６（ａ）のグリップローラを示す概略拡大正面図である。It is a general | schematic enlarged front view which shows the grip roller of Fig.6 (a). 本発明の第２実施形態における図２（ａ）のＣ−Ｃ断面図である。It is CC sectional drawing of Fig.2 (a) in 2nd Embodiment of this invention. グリップローラの傾斜角度とグリップローラのフィルム基板を持ち上げる力との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the inclination angle of a grip roller, and the force which lifts the film substrate of a grip roller.

［第１実施形態］
本発明の第１実施形態におけるフィルム基板の搬送装置について以下に説明する。
図１を参照すると、フィルム基板の搬送装置（以下、「搬送装置」と呼ぶ）を含む薄膜積層体の製造装置（以下、「製造装置」と呼ぶ）１においては、帯状のフィルム基板（以下、「基板」と呼ぶ）２が、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置されて搬送されるとともに、基板２の表面に薄膜が成膜される構成となっている。なお、第１実施形態では、基板２の幅方向を鉛直方向に沿わせた状態で図示して説明するが、これに限定されない。
この基板２を搬送するため、製造装置１には、基板２を巻出すための巻出し室３と基板２を巻き取るための巻取り室４とが設けられており、巻出し室３と巻取り室４との間には一例として６つの成膜室５ａ〜５ｆが設けられている。また、基板２は、巻出し室３から巻取り室４に向かう順送り方向（以下、図面において矢印Ａで示す）と、巻取り室４から巻出し室３に向かう逆送り方向（以下、図面において矢印Ｂで示す）とに搬送可能に構成されている。さらに、巻出し室３および成膜室５ａの間の搬送区間と、５つの隣接する成膜室同士間の搬送区間と、巻取り室４および成膜室５ｆの間の搬送区間とには、一例として、第１のグリップローラ６がそれぞれ１対ずつ設けられている。 [First Embodiment]
The film substrate transfer apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described below.
Referring to FIG. 1, in a thin film laminate manufacturing apparatus (hereinafter referred to as “manufacturing apparatus”) 1 including a film substrate transport apparatus (hereinafter referred to as “transport apparatus”), a strip-shaped film substrate (hereinafter referred to as “production apparatus”). 2 is referred to as a “substrate”) 2 is arranged and conveyed in a vertical posture with one end on the upper side in the width direction, and a thin film is formed on the surface of the substrate 2. In addition, in 1st Embodiment, although illustrated and demonstrated in the state which set the width direction of the board | substrate 2 to the perpendicular direction, it is not limited to this.
In order to transport the substrate 2, the manufacturing apparatus 1 is provided with an unwinding chamber 3 for unwinding the substrate 2 and a winding chamber 4 for winding the substrate 2. As an example, six film forming chambers 5 a to 5 f are provided between the chamber 4 and the take-up chamber 4. Further, the substrate 2 is fed in a forward direction from the unwinding chamber 3 to the winding chamber 4 (hereinafter, indicated by an arrow A in the drawing) and a reverse feeding direction from the winding chamber 4 to the unwinding chamber 3 (hereinafter, in the drawing). (Indicated by an arrow B). Further, a transfer section between the unwinding chamber 3 and the film forming chamber 5a, a transfer section between five adjacent film forming chambers, and a transfer section between the winding chamber 4 and the film forming chamber 5f are: As an example, a pair of first grip rollers 6 is provided.

巻出し室３の内部には、巻き取った基板２を巻出し可能な巻出しコア３ａが、基板２の幅方向に沿った回転軸を中心に回転可能に設けられている。また、巻出し室３の内部には、基板２の搬送駆動、張力制御などのために、一例として５つのローラ３ｂ〜３ｆが、巻出しコア３ａより順送り方向下流側に、基板２の幅方向に沿った回転軸を中心に回転可能な状態で設けられている。巻出しコア３ａおよびローラ３ｂ〜３ｆは、基板２を順送り方向および逆送り方向に搬送可能に回転する構成となっている。なお、図１に示した基板２の搬送駆動、張力制御などのためのローラの数は、一例であってこれに限定されず、製造装置１の仕様に対応して変更可能である。基板２の搬送駆動、張力制御などのためのローラを設けない構成としてもよい。   An unwinding core 3 a capable of unwinding the wound substrate 2 is provided inside the unwinding chamber 3 so as to be rotatable about a rotation axis along the width direction of the substrate 2. Further, in the unwinding chamber 3, for example, five rollers 3b to 3f are disposed downstream of the unwinding core 3a in the forward direction with respect to the width direction of the substrate 2 in order to drive the substrate 2 and control tension. It is provided in the state which can be rotated centering on the rotating shaft along. The unwinding core 3a and the rollers 3b to 3f are configured to rotate so that the substrate 2 can be conveyed in the forward feed direction and the reverse feed direction. Note that the number of rollers for conveyance driving, tension control, and the like of the substrate 2 shown in FIG. 1 is an example, and is not limited thereto, and can be changed according to the specifications of the manufacturing apparatus 1. A configuration may be adopted in which a roller for driving the substrate 2 and controlling tension is not provided.

巻取り室４の内部には、基板２を巻取り可能に構成した巻取りコア４ａが、基板２の幅方向に沿った回転軸を中心に回転可能に設けられている。また、巻取り室４の内部には、基板２の搬送駆動、張力制御などのために、一例として、７つのローラ４ｂ〜４ｈが、巻取りコア４ａより順送り方向上流側に、基板２の幅方向に沿った回転軸を中心に回転可能な状態で設けられている。巻取りコア４ａおよびローラ４ｂ〜４ｈは、基板２を順送り方向および逆送り方向に搬送可能に回転する構成となっている。なお、図１に示した基板２の搬送駆動、張力制御などのためのローラの数は、一例であってこれに限定されず、製造装置１の仕様に対応して変更可能である。基板２の搬送駆動、張力制御などのためのローラを設けない構成としてもよい。   Inside the take-up chamber 4, a take-up core 4 a configured to take up the substrate 2 is provided so as to be rotatable about a rotation axis along the width direction of the substrate 2. In addition, in the winding chamber 4, for example, seven rollers 4 b to 4 h are provided on the upstream side in the forward feed direction from the winding core 4 a for the conveyance drive and tension control of the substrate 2. It is provided so as to be rotatable around a rotation axis along the direction. The winding core 4a and the rollers 4b to 4h are configured to rotate so that the substrate 2 can be conveyed in the forward feed direction and the reverse feed direction. Note that the number of rollers for carrying and transporting the substrate 2 and controlling tension shown in FIG. 1 is an example, and is not limited to this, and can be changed according to the specifications of the manufacturing apparatus 1. A configuration may be adopted in which a roller for driving the substrate 2 and controlling tension is not provided.

図２（ａ）および図２（ｂ）を参照して、成膜室５ａ〜５ｆの構造を説明する。なお、図２（ａ）および図２（ｂ）では、基板２が順送り方向（矢印Ａで示す）に送られている状態を示しており、第１のグリップローラ６は、順送り方向に送られる基板２に対応した状態となっている。成膜室５ａ〜５ｆの内部には、高電圧電極７ａ〜７ｆと接地電極８ａ〜８ｆとがそれぞれ対向して配置されており、基板２は高電圧電極７ａ〜７ｆと接地電極８ａ〜８ｆとの間を通過するように構成されている。高電圧電極７ａ〜７ｆおよび接地電極８ａ〜８ｆの基板２の幅方向に沿った長さは、それぞれ基板２の幅よりも短くなっており、基板２の幅方向の上端部および下端部には、薄膜積層体が成膜されない構成となっている。成膜室５ａ〜５ｆの内部には、成膜用のガスが供給される構成となっている。成膜室５ａ〜５ｆの内部は、気密状態を維持可能に構成されている。このような成膜室５ａ〜５ｆの内部において、基板２が高電圧電極７ａ〜７ｆと接地電極８ａ〜８ｆとの間のそれぞれに位置する際に、薄膜が基板２に成膜されることとなる。基板２の表面を成膜する方法については、例えば、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、化学蒸着）、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、物理蒸着）などの方法を用いることが考えられる。なお、図１に示した成膜室の数は、一例であってこれに限定されず、製造装置１の仕様に対応して変更可能である。また、成膜室以外にも、基板２を加熱するための加熱室などが設けられていてもよい。   With reference to FIG. 2A and FIG. 2B, the structure of the film forming chambers 5a to 5f will be described. 2A and 2B show a state in which the substrate 2 is fed in the forward feed direction (indicated by arrow A), and the first grip roller 6 is fed in the forward feed direction. The state corresponds to the substrate 2. In the film forming chambers 5a to 5f, high voltage electrodes 7a to 7f and ground electrodes 8a to 8f are arranged to face each other, and the substrate 2 has high voltage electrodes 7a to 7f and ground electrodes 8a to 8f. It is comprised so that it may pass between. The lengths of the high voltage electrodes 7a to 7f and the ground electrodes 8a to 8f along the width direction of the substrate 2 are shorter than the width of the substrate 2, respectively. The thin film stack is not formed. A film forming gas is supplied into the film forming chambers 5a to 5f. The insides of the film forming chambers 5a to 5f are configured to be able to maintain an airtight state. A thin film is formed on the substrate 2 when the substrate 2 is positioned between the high voltage electrodes 7a to 7f and the ground electrodes 8a to 8f in the film forming chambers 5a to 5f. Become. As a method for forming a film on the surface of the substrate 2, for example, a method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) or PVD (Physical Vapor Deposition) may be used. Note that the number of film forming chambers shown in FIG. 1 is an example and is not limited to this, and can be changed according to the specifications of the manufacturing apparatus 1. In addition to the film formation chamber, a heating chamber for heating the substrate 2 may be provided.

また、製造装置１には、基板２の幅方向の位置を検知する検知手段９が設けられている。この検知手段９は、例えば、基板２における幅方向の縁部分の位置を検出可能に構成されているとよい。さらに、検知手段９は、特に非接触式センサであると好ましく、一例として、透過型のレーザーセンサ、反射型のフォトセンサなどであるとよい。検知手段９は制御手段１０に接続されている。   In addition, the manufacturing apparatus 1 is provided with detection means 9 for detecting the position of the substrate 2 in the width direction. This detection means 9 is good to be comprised so that detection of the position of the edge part of the width direction in the board | substrate 2 is possible, for example. Furthermore, the detection means 9 is particularly preferably a non-contact type sensor, and as an example, it may be a transmissive laser sensor, a reflective photosensor, or the like. The detection means 9 is connected to the control means 10.

一対の第１のグリップローラ６は、回転軸６ａを中心に回転可能に構成されており、隣接する成膜室同士の間で基板２の上端部を挟むように配置されている。そのため、一対の第１のグリップローラ６は、基板２の薄膜積層体が成膜されていない部分を挟むこととなる。また、この第１のグリップローラ６の外周表面６ｂは、弾性体によって形成されるとよい。例えば、弾性体として、シリコンゴム、フッ素ゴムなどの耐熱性ゴムが用いられるとよい。他の例としては、第１のグリップローラ６の外周表面６ｂは、ＰＴＦＥ、ポリイミドなどの合成樹脂によって形成されてもよく、ステンレス、鉄、クロムメッキなどを施した素材によって形成されてもよい。さらには、第１のグリップローラ６の外周表面６ｂは、基板２の保護、グリップ力などの所定の性能が得られれば、他の素材によって形成されてもよい。   The pair of first grip rollers 6 is configured to be rotatable around a rotation shaft 6a, and is disposed so as to sandwich the upper end portion of the substrate 2 between adjacent film forming chambers. Therefore, the pair of first grip rollers 6 sandwich the portion of the substrate 2 where the thin film laminate is not formed. The outer peripheral surface 6b of the first grip roller 6 is preferably formed of an elastic body. For example, heat resistant rubber such as silicon rubber or fluoro rubber may be used as the elastic body. As another example, the outer peripheral surface 6b of the first grip roller 6 may be formed of a synthetic resin such as PTFE or polyimide, or may be formed of a material subjected to stainless steel, iron, chrome plating, or the like. Furthermore, the outer peripheral surface 6b of the first grip roller 6 may be formed of other materials as long as predetermined performance such as protection of the substrate 2 and grip force can be obtained.

このような第１のグリップローラ６は、その傾斜を調節可能に構成されている。第１のグリップローラ６の傾斜を調節する第１の角度調節機構１１について、図３（ａ）〜図３（ｃ）を参照して説明する。図３（ａ）〜図３（ｃ）では、第１の角度調節機構１１によって、第１のグリップローラ６の回転軸６ａが基板２の幅方向に沿って配置された中立状態に調節されている。第１のグリップローラ６には、その上端から基板２の幅方向に沿って上方側に延びるように、ローラシャフト６ｃが配設されている。ローラシャフト６ｃの上端は、ローラ取付部１２に回転可能に取り付けられている。また、ローラ取付部１２から基板２の幅方向に沿って上方側に延びるリンク１３が配設されている。リンク１３の上部には、係合ローラ１４が設けられている。リンク１３には、ローラ取付部１２と係合ローラ１４との間における基板２の幅方向中間にリンク取付部１３ａが設けられており、このリンク取付部１３ａは、リンク１３を、基板２の表面に対して幅方向に延びるリンク回転軸１３ｂを中心に回転可能とするように構成されており、かつ支持部１５に取付けられている。そのため、リンク１３は、支持部１５に対して回転可能となっている。また、リンク１３と支持部１５との間には、基板２の搬送方向に沿って付勢手段１６が配設されている。この付勢手段１６は、コイルバネ、板バネ、トーションバネ、ゴム部材などを用いて、リンク１３を中立位置に復帰可能とするように構成されているとよい。   Such a 1st grip roller 6 is comprised so that adjustment of the inclination is possible. The first angle adjusting mechanism 11 that adjusts the inclination of the first grip roller 6 will be described with reference to FIGS. 3 (a) to 3 (c). In FIG. 3A to FIG. 3C, the first angle adjusting mechanism 11 adjusts the rotation shaft 6 a of the first grip roller 6 to a neutral state arranged along the width direction of the substrate 2. Yes. A roller shaft 6 c is disposed on the first grip roller 6 so as to extend upward from the upper end along the width direction of the substrate 2. The upper end of the roller shaft 6 c is rotatably attached to the roller attachment portion 12. A link 13 extending from the roller mounting portion 12 to the upper side along the width direction of the substrate 2 is disposed. An engagement roller 14 is provided on the upper portion of the link 13. The link 13 is provided with a link attachment portion 13 a in the middle of the width direction of the substrate 2 between the roller attachment portion 12 and the engagement roller 14. The link attachment portion 13 a connects the link 13 to the surface of the substrate 2. In contrast, it is configured to be rotatable around a link rotation shaft 13b extending in the width direction, and is attached to the support portion 15. Therefore, the link 13 can rotate with respect to the support portion 15. Further, an urging means 16 is disposed between the link 13 and the support portion 15 along the transport direction of the substrate 2. The biasing means 16 may be configured to be able to return the link 13 to the neutral position using a coil spring, a leaf spring, a torsion spring, a rubber member, or the like.

リンク１３の上方にはアクチュエータ１７が配設されている。アクチュエータ１７は、基板２の表面に対して幅方向に沿って配置されるアーム１８を備えている。アーム１８の先端部１８ａは、リンク１３に取付けられた係合ローラ１４と係合している。一方で、アーム１８の基端部１８ｂには、基板２の幅方向に沿って延びる回転シャフト１９が取り付けられている。回転シャフト１９の下端はアーム１８の基端部１８ｂに取付けられ、回転シャフト１９の上端は駆動源２０に取付けられている。そのため、駆動源２０の回転駆動によってアーム１８が回転可能となっている。なお、この駆動源２０は支持部１５によって支持されており、アクチュエータ１７の駆動源２０は、制御手段１０に接続されている。   An actuator 17 is disposed above the link 13. The actuator 17 includes an arm 18 arranged along the width direction with respect to the surface of the substrate 2. A distal end portion 18 a of the arm 18 is engaged with an engagement roller 14 attached to the link 13. On the other hand, a rotation shaft 19 extending along the width direction of the substrate 2 is attached to the base end portion 18 b of the arm 18. The lower end of the rotating shaft 19 is attached to the proximal end portion 18 b of the arm 18, and the upper end of the rotating shaft 19 is attached to the drive source 20. Therefore, the arm 18 can be rotated by the rotational drive of the drive source 20. The drive source 20 is supported by the support portion 15, and the drive source 20 of the actuator 17 is connected to the control means 10.

本発明の第１実施形態における製造装置１の動作を説明する。
製造装置１における基板２の搬送および成膜について、再び図１を参照しながら説明する。巻出し室３内において、巻出しコア３ａに巻き取られた基板２が、ローラ３ｂ〜３ｆによって駆動かつガイドされながら巻き出される。この基板２が、巻出し室３を出て、順送り方向に沿って成膜室５ａ〜５ｆ内に順次搬送されて、成膜室５ａ〜５ｆ内のそれぞれでは、基板２の表面に各種の薄膜が成膜される。成膜された基板２は、巻取り室４内に搬送され、ローラ４ｂ〜４ｈによって駆動かつガイドされながら、巻取りコア４ａに巻き取られる。また、必要に応じて、基板２が逆送り方向に沿って搬送される。 Operation | movement of the manufacturing apparatus 1 in 1st Embodiment of this invention is demonstrated.
The conveyance and film formation of the substrate 2 in the manufacturing apparatus 1 will be described with reference to FIG. 1 again. In the unwinding chamber 3, the substrate 2 wound around the unwinding core 3a is unwound while being driven and guided by the rollers 3b to 3f. The substrate 2 exits the unwind chamber 3 and is sequentially transferred into the film forming chambers 5a to 5f along the forward feeding direction. Various thin films are formed on the surface of the substrate 2 in the film forming chambers 5a to 5f. Is deposited. The film-formed substrate 2 is transported into the winding chamber 4 and wound around the winding core 4a while being driven and guided by the rollers 4b to 4h. Moreover, the board | substrate 2 is conveyed along a reverse feed direction as needed.

順送り方向に搬送される基板２の位置調節について、図４（ａ）、図４（ｂ）および図５を参照しながら説明する。検知手段９（図２（ｂ）を参照）が、順送り方向に搬送される基板２の下方側への位置ズレを検知した場合、検知手段９は制御手段１０（図２（ｂ）を参照）に信号を送る。次に、制御手段１０がアクチュエータ１７の駆動源２０に信号を送り、この駆動源２０が、アーム１８の先端部１８ａを逆送り方向側に移動させるように、回転制御されることとなる。このとき、アーム１８の先端部１８ａと係合する係合ローラ１４も逆送り方向側に移動し、リンク１３はリンク回転軸１３ｂを中心に回転する。その結果、第１のグリップローラ６が、基板２の表面に沿って、第１のグリップローラ６の下側を順送り方向側に向けるように、基板２の幅方向に対して傾斜角度θ１傾けられることとなる。すなわち、第１のグリップローラ６は、基板２の順送り方向に対して上方側に傾けたられた状態となる。なお、第１のグリップローラ６が傾斜角度θ１傾いた状態では、リンク１３は、付勢手段１６によって第１のグリップローラ６を中立状態に復帰させるように付勢される。 The position adjustment of the substrate 2 transported in the forward feed direction will be described with reference to FIGS. 4 (a), 4 (b), and 5. FIG. When the detection means 9 (see FIG. 2B) detects a positional shift of the substrate 2 conveyed in the forward feed direction to the lower side, the detection means 9 controls the control means 10 (see FIG. 2B). Send a signal to. Next, the control means 10 sends a signal to the drive source 20 of the actuator 17, and the drive source 20 is rotationally controlled so as to move the tip 18a of the arm 18 in the reverse feed direction. At this time, the engaging roller 14 that engages with the tip 18a of the arm 18 also moves in the reverse feed direction, and the link 13 rotates about the link rotation shaft 13b. As a result, the first grip roller 6 is inclined at an inclination angle θ 1 with respect to the width direction of the substrate 2 so that the lower side of the first grip roller 6 faces the forward feed direction side along the surface of the substrate 2. Will be. That is, the first grip roller 6 is tilted upward with respect to the forward feed direction of the substrate 2. In a state where the first grip roller 6 is tilted inclination angle theta 1, link 13 is biased to the first gripping roller 6 by the biasing means 16 so as to return to the neutral state.

逆送り方向に搬送される基板２の位置調節について、図６（ａ）、図６（ｂ）および図７を参照しながら説明する。検知手段９（図２（ｂ）を参照）が、逆送り方向に搬送される基板２の下方側への位置ズレを検知した場合、検知手段９は制御手段１０（図２（ｂ）を参照）に信号を送る。次に、制御手段１０はアクチュエータ１７の駆動源２０に信号を送り、駆動源２０がアーム１８の先端部１８ａを順送り方向側に移動させるように回転制御される。このとき、アーム１８の先端部１８ａと係合する係合ローラ１４も順送り方向側に移動し、リンク１３はリンク回転軸１３ｂを中心に回転する。その結果、第１のグリップローラ６が、基板２の表面に沿って、第１のグリップローラ６の下側を逆送り方向側に向けるように、基板２の幅方向に対して傾斜角度θ２傾けられることとなる。すなわち、第１のグリップローラ６は、基板２の逆送り方向に対して上方側に傾けたられた状態となる。なお、第１のグリップローラ６が傾斜角度θ２傾いた状態で、リンク１３は、付勢手段１６によって第１のグリップローラ６を中立状態に復帰させるように付勢される。 The position adjustment of the substrate 2 transported in the reverse feed direction will be described with reference to FIGS. 6 (a), 6 (b), and 7. FIG. When the detection unit 9 (see FIG. 2B) detects a positional shift of the substrate 2 conveyed in the reverse feed direction to the lower side, the detection unit 9 refers to the control unit 10 (see FIG. 2B). ). Next, the control means 10 sends a signal to the drive source 20 of the actuator 17, and the rotation is controlled so that the drive source 20 moves the tip 18 a of the arm 18 to the forward feed direction side. At this time, the engaging roller 14 that engages with the tip 18a of the arm 18 also moves in the forward feed direction, and the link 13 rotates about the link rotation shaft 13b. As a result, the first grip roller 6 has an inclination angle θ 2 with respect to the width direction of the substrate 2 so that the lower side of the first grip roller 6 faces the reverse feed direction along the surface of the substrate 2. It will be tilted. That is, the first grip roller 6 is tilted upward with respect to the reverse feed direction of the substrate 2. Incidentally, in a state where the first grip roller 6 is tilted inclination angle theta 2, the link 13 is biased to the first gripping roller 6 by the biasing means 16 so as to return to the neutral state.

ここで、第１のグリップローラ６のグリップ力が低下したことによって、十分な持ち上げ力が得られずに、位置修正した後の基板２が依然として下方側にずれていることを、検知手段９が検知した場合、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２を大きくするように、制御手段１０がアクチュエータ１７の駆動源２０を制御し、基板２の位置調節が修正される。一方で、第１のグリップローラ６のグリップ力が高すぎることによって、持ち上げ力が高くなり、位置修正した後の基板２が上方側にずれていることを、検知手段９が検知した場合、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２を小さくするように、制御手段１０がアクチュエータ１７の駆動源２０を制御し、基板２の位置調節が修正される。 Here, when the gripping force of the first gripping roller 6 is reduced, the detection means 9 indicates that the substrate 2 after the position correction is still displaced downward without obtaining a sufficient lifting force. If detected, the control means 10 controls the drive source 20 of the actuator 17 so that the inclination angle θ 1 or θ 2 of the first grip roller 6 is increased, and the position adjustment of the substrate 2 is corrected. On the other hand, when the detection means 9 detects that the lifting force is increased due to the grip force of the first grip roller 6 being too high and the substrate 2 after position correction is shifted upward, The control means 10 controls the drive source 20 of the actuator 17 so that the inclination angle θ 1 or θ 2 of the one grip roller 6 is reduced, and the position adjustment of the substrate 2 is corrected.

［第２実施形態］
本発明の第２実施形態における薄膜積層体の製造装置について以下に説明する。第２実施形態における薄膜積層体の製造装置の基本的な構成は、第１実施形態における薄膜積層体の製造装置と同様になっている。第１実施形態と同様な要素は、第１実施形態と同様の符号および名称を用いて説明する。ここでは、第１実施形態と異なる構成について説明する。 [Second Embodiment]
The manufacturing apparatus of the thin film laminated body in 2nd Embodiment of this invention is demonstrated below. The basic configuration of the thin-film stack manufacturing apparatus in the second embodiment is the same as that of the thin-film stack manufacturing apparatus in the first embodiment. Elements similar to those in the first embodiment will be described using the same symbols and names as those in the first embodiment. Here, a configuration different from the first embodiment will be described.

図８に示すように、さらに基板２の下端部を挟むように構成された一対の第２のグリップローラ６’が設けられている。第２のグリップローラ６’は、第１のグリップローラ６と同様に、回転軸６ａ’と外周表面６ｂ’とを有する。また、図示はしないが、第２のグリップローラ６’を、その外周表面６ｂを基板２の表面に沿わせて、かつ第２のグリップローラ６’を、搬送方向に対して下方側に傾け可能とするとともに、搬送方向に対して順送り方向および逆送り方向の両方に向けて傾けるように傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第２の角度調節機構が設けられている。この第２の角度調節機構の基本的な構成は、第２のグリップローラ６’に対応するとともに、第１の角度調節機構１１と同様になっている。なお、図８では、基板２が順送り方向（矢印Ａで示す）に送られている状態を示しており、第２のグリップローラ６’は、順送り方向に送られる基板２に対応して第２のグリップローラ６’の上側を順送り方向に向けて傾けた状態となっている。   As shown in FIG. 8, a pair of second grip rollers 6 ′ configured to sandwich the lower end portion of the substrate 2 are further provided. Similar to the first grip roller 6, the second grip roller 6 ′ has a rotating shaft 6 a ′ and an outer peripheral surface 6 b ′. Although not shown, the second grip roller 6 'can be inclined with its outer peripheral surface 6b along the surface of the substrate 2 and the second grip roller 6' downward with respect to the transport direction. In addition, a second angle adjustment mechanism is provided that makes it possible to adjust the inclination direction and the inclination angle so as to incline toward both the forward feed direction and the reverse feed direction with respect to the transport direction. The basic configuration of the second angle adjustment mechanism corresponds to the second grip roller 6 ′ and is the same as that of the first angle adjustment mechanism 11. FIG. 8 shows a state in which the substrate 2 is fed in the forward feed direction (indicated by an arrow A), and the second grip roller 6 ′ corresponds to the substrate 2 fed in the forward feed direction. In this state, the upper side of the grip roller 6 'is inclined toward the forward feed direction.

以上のように本発明の第１実施形態および第２実施形態によれば、第１および／または第２のグリップローラ６，６’が、第１の角度調節機構１１および／または第２の角度調節機構によって、基板２の搬送方向における順送り方向および逆送り方向の両方に向けて傾けるように傾斜方向および傾斜角度を調節可能となっているので、順送り方向および逆送り方向に搬送される基板２の両方に対して、高い精度で位置調節できる。   As described above, according to the first embodiment and the second embodiment of the present invention, the first and / or second grip rollers 6 and 6 ′ are provided with the first angle adjusting mechanism 11 and / or the second angle. Since the adjustment mechanism can adjust the inclination direction and the inclination angle so as to incline toward both the forward feed direction and the reverse feed direction in the conveyance direction of the substrate 2, the substrate 2 conveyed in the forward feed direction and the reverse feed direction. Both can be adjusted with high accuracy.

本発明の第１実施形態および第２実施形態によれば、例えば、第１のグリップローラ６の摩耗などによって、第１のグリップローラ６のグリップ力が低下して、基板２を持上げる力が十分に得られない場合に、第１のグリップローラ６の傾斜を大きくすれば、基板２の幅方向の移動量を大きくして、基板２の位置調節を修正できる。そのため、第１のグリップローラ６により基板２を挟む力を増加させず、基板２に余分な負荷がかかることを防止できる。一方で、第１のグリップローラ６のグリップ力がバラツキなどにより高くなりすぎて、基板２を持上げる力が大きすぎる場合に、第１のグリップローラ６の傾斜を小さくすれば、基板２の幅方向の移動量を小さくして、基板２の位置調節を修正できる。よって、基板２の位置調節精度が低下することを防止できる。   According to the first embodiment and the second embodiment of the present invention, for example, due to wear of the first grip roller 6, the grip force of the first grip roller 6 is reduced and the force to lift the substrate 2 is increased. If the inclination of the first grip roller 6 is increased when the first grip roller 6 is not sufficiently obtained, the movement amount in the width direction of the substrate 2 can be increased and the position adjustment of the substrate 2 can be corrected. Therefore, it is possible to prevent an excessive load from being applied to the substrate 2 without increasing the force for sandwiching the substrate 2 by the first grip roller 6. On the other hand, if the gripping force of the first gripping roller 6 becomes too high due to variations and the force to lift the substrate 2 is too large, the inclination of the first gripping roller 6 can be reduced to reduce the width of the substrate 2. The positional adjustment of the substrate 2 can be corrected by reducing the amount of movement in the direction. Therefore, it can prevent that the position adjustment precision of the board | substrate 2 falls.

ここまで本発明の実施形態について述べたが、本発明は既述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形および変更が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described so far, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and changes can be made based on the technical idea of the present invention.

本発明の実施形態の第１変形例として、第１および／または第２のグリップローラ６，６’は、その基板２を挟む力（以下、「基板挟持力」と呼ぶ）を調節可能に構成されてもよい。例えば、第１のグリップローラ６のグリップ力が低下したことによって、基板２を持ち上げる力が十分に得られずに、位置修正した後の基板２が依然として下方側にずれていることを、検知手段９が検知した場合、一対の第１のグリップローラ６における基板挟持力を大きくするように、制御手段１０が一対の第１のグリップローラ６を制御して、基板２の位置調節が修正されてもよい。一方で、第１のグリップローラ６のグリップ力が高すぎることによって、基板２を持ち上げる力が高くなり、位置修正した後の基板２が上方側にずれていることを、検知手段９が検知した場合、一対の第１のグリップローラ６における基板挟持力を小さくするように、制御手段１０が一対の第１のグリップローラ６を制御して、基板２の位置調節が修正されてもよい。本発明の実施形態と同様の効果が得られる。   As a first modification of the embodiment of the present invention, the first and / or second grip rollers 6, 6 ′ are configured to be able to adjust the force for sandwiching the substrate 2 (hereinafter referred to as “substrate clamping force”). May be. For example, it is detected that the gripping force of the first gripping roller 6 is reduced, so that a sufficient force to lift the substrate 2 is not obtained and the substrate 2 after position correction is still shifted downward. 9 is detected, the control means 10 controls the pair of first grip rollers 6 so as to increase the substrate clamping force between the pair of first grip rollers 6, and the position adjustment of the substrate 2 is corrected. Also good. On the other hand, when the grip force of the first grip roller 6 is too high, the force for lifting the substrate 2 is increased, and the detection means 9 detects that the substrate 2 after the position correction is shifted upward. In this case, the position adjustment of the substrate 2 may be corrected by the control means 10 controlling the pair of first grip rollers 6 so as to reduce the substrate clamping force between the pair of first grip rollers 6. The same effect as the embodiment of the present invention can be obtained.

本発明の実施形態の第２変形例として、巻出し室３および成膜室５ａの間の搬送区間と、５つの隣接する成膜室同士間の搬送区間と、巻取り室４および成膜室５ｆの間の搬送区間との少なくとも１つに、第１および／または第２のグリップローラ６，６’が設けられる構成であってもよく、第１および／または第２のグリップローラ６，６’を設けた搬送区間の数は基板２を最適に位置調節するように変更可能である。加えて、各搬送区間に設けられる第１および／または第２のグリップローラ６，６’の数が２つ以上であってもよい。本発明の実施形態と同様の効果が得られる。   As a second modification of the embodiment of the present invention, a transfer section between the unwinding chamber 3 and the film forming chamber 5a, a transfer section between five adjacent film forming chambers, a winding chamber 4 and a film forming chamber. The first and / or second grip rollers 6, 6 ′ may be provided in at least one of the conveyance sections between 5f, and the first and / or second grip rollers 6, 6 may be provided. The number of transfer sections provided with 'can be changed to optimally adjust the position of the substrate 2. In addition, the number of the first and / or second grip rollers 6, 6 'provided in each conveyance section may be two or more. The same effect as the embodiment of the present invention can be obtained.

本発明の実施形態の第３変形例として、ローラ取付部１２の代わりに第１および／または第２のグリップローラ６，６’を回転させるための駆動源が設けられて、第１および／または第２のグリップローラ６，６’が駆動源によって自ら回転可能に構成されていてもよい。また、この駆動源が制御手段１０に接続されて、第１および／または第２のグリップローラ６，６’の回転が制御されてもよい。本発明の実施形態と同様の効果が得られる。   As a third modification of the embodiment of the present invention, a drive source for rotating the first and / or second grip rollers 6 and 6 ′ is provided instead of the roller mounting portion 12, and the first and / or The second grip rollers 6, 6 ′ may be configured to be rotatable by a drive source. Further, this drive source may be connected to the control means 10 to control the rotation of the first and / or second grip rollers 6, 6 '. The same effect as the embodiment of the present invention can be obtained.

［実施例］
本発明の第１実施形態の製造装置１を用いた実施例を説明する。本発明の実施例では、一対の第１のグリップローラ６における基板挟持力を４．４Ｎ、８．９Ｎまたは１６．３Ｎとした場合において、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２を０°〜８°の間で変化させたとき、一対の第１のグリップローラ６における基板２を持上げる力（以下、「持上げ力」という）Ｆの変化を測定した。 [Example]
The Example using the manufacturing apparatus 1 of 1st Embodiment of this invention is demonstrated. In the embodiment of the present invention, when the substrate clamping force of the pair of first grip rollers 6 is 4.4 N, 8.9 N, or 16.3 N, the inclination angle θ 1 or θ 2 of the first grip roller 6 is set. Was changed between 0 ° and 8 °, a change in force F (hereinafter referred to as “lifting force”) F for lifting the substrate 2 in the pair of first grip rollers 6 was measured.

図９では、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２と、第１のグリップローラ６の基板２の持上げ力Ｆとの関係について、基板挟持力が４．４Ｎである場合を実線Ｐで示し、基板挟持力が８．９Ｎである場合を破線Ｑで示し、基板挟持力が１６．３Ｎである場合を一点鎖線Ｒで示す。 In FIG. 9, as for the relationship between the inclination angle θ 1 or θ 2 of the first grip roller 6 and the lifting force F of the substrate 2 of the first grip roller 6, the case where the substrate clamping force is 4.4 N is a solid line. A case where the substrate clamping force is 8.9N is indicated by a broken line Q, and a case where the substrate clamping force is 16.3N is indicated by a one-dot chain line R.

図９を参照すると、傾斜角度θ１またはθ２を増加させたときに、持上げ力Ｆも比例して増加していることが確認できる。例えば、基板２を持上げる力Ｆを約２Ｎ得ようとするならば、基板挟持力が４．４Ｎである場合、傾斜角度θ１またはθ２を約３．５°とするとよい。基板挟持力が８．９Ｎである場合には、傾斜角度θ１またはθ２を約２°とするとよい。基板挟持力が１６．３Ｎである場合には、傾斜角度θ１またはθ２を約１°とするとよい。以上より、本発明の実施例においては、一対の第１のグリップローラ６における基板挟持力を増加させる代わりに、第１のグリップローラ６の傾斜角度θ１またはθ２を増加させることによって、持上げ力Ｆが増加する関係について確認できた。 Referring to FIG. 9, it can be confirmed that when the inclination angle θ 1 or θ 2 is increased, the lifting force F is also proportionally increased. For example, if the force F for lifting the substrate 2 is about 2N, the tilt angle θ 1 or θ 2 may be about 3.5 ° when the substrate clamping force is 4.4 N. When the substrate clamping force is 8.9 N, the tilt angle θ 1 or θ 2 is preferably about 2 °. When the substrate clamping force is 16.3 N, the tilt angle θ 1 or θ 2 is preferably about 1 °. From the above, in the embodiment of the present invention, instead of increasing the substrate holding force in the first gripping roller 6 of the pair, by increasing the inclination angle theta 1 or theta 2 of the first gripping roller 6, lifting It was confirmed that the force F increased.

１ 薄膜積層体の製造装置（製造装置）
２ フィルム基板（基板）
６ 第１のグリップローラ
６’ 第２のグリップローラ
６ａ，６ａ’ 回転軸
６ｂ，６ｂ’ 外周表面
９ 検知手段
１１ 角度調節機構
Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｄ’，Ｄ’’ 矢印
Ｆ 持上げ力
θ１，θ２ 傾斜角度
Ｐ 実線
Ｑ 破線
Ｒ 一点鎖線
1 Thin film laminate manufacturing equipment (manufacturing equipment)
2 Film substrate (substrate)
6 1st grip roller 6 '2nd grip roller 6a, 6a' Rotating shaft 6b, 6b 'Outer peripheral surface 9 Detection means 11 Angle adjustment mechanism A, B, C, D, D', D '' Arrow F Lifting force θ 1 , θ 2 inclination angle P solid line Q broken line R alternate long and short dash line

Claims (4)

帯状のフィルム基板を、その幅方向について片端部を上側とした縦姿勢で配置して搬送するフィルム基板の搬送装置であって、
前記フィルム基板の上端部を挟むように配設される少なくとも一対の第１のグリップローラと、
前記第１のグリップローラの回転軸角度が前記第１のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して上方側とするように傾け可能となるように、前記第１のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第１の角度調節機構と
を備えているフィルム基板の搬送装置。 A film substrate transport apparatus for transporting a belt-shaped film substrate in a vertical posture with one end on the upper side in the width direction,
At least a pair of first grip rollers disposed so as to sandwich an upper end portion of the film substrate;
The inclination direction and inclination of the first grip roller so that the rotation axis angle of the first grip roller can be inclined so that the rotation direction of the first grip roller is on the upper side with respect to the transport direction. A film substrate transport apparatus, comprising: a first angle adjustment mechanism capable of adjusting an angle. 前記フィルム基板の下端部を挟むように配設される少なくとも一対の第２のグリップローラと、
前記第２のグリップローラの回転軸角度が前記第２のグリップローラの回転方向を搬送方向に対して下方側とするように傾け可能となるように、前記第２のグリップローラの傾斜方向および傾斜角度を調節可能とする第２の角度調節機構と
をさらに備えている請求項１に記載のフィルム基板の搬送装置。 At least a pair of second grip rollers arranged to sandwich the lower end of the film substrate;
The inclination direction and inclination of the second grip roller so that the rotation axis angle of the second grip roller can be inclined so that the rotation direction of the second grip roller is the lower side with respect to the transport direction. The film substrate transport apparatus according to claim 1, further comprising: a second angle adjustment mechanism that allows the angle to be adjusted. 前記フィルム基板の幅方向端部の高さ位置を検知する検知手段をさらに備え、
前記検知手段が前記フィルム基板の位置ズレを検知すると、前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラが、前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構によって、前記フィルム基板の搬送方向に対応した傾斜方向に傾けられるように制御される、請求項１または２に記載のフィルム基板の搬送装置。 Further comprising a detecting means for detecting the height position of the width direction end of the film substrate,
When the detection means detects the positional deviation of the film substrate, the first grip roller and / or the second grip roller are moved by the first angle adjustment mechanism and / or the second angle adjustment mechanism, The film substrate transport apparatus according to claim 1, wherein the film substrate transport device is controlled to be tilted in an inclination direction corresponding to a transport direction of the film substrate. 前記第１の角度調節機構および／または前記第２の角度調節機構が、前記基板の位置ズレを修正するために前記第１のグリップローラおよび／または前記第２のグリップローラの傾斜角度を変化させるように制御される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィルム基板の搬送装置。
The first angle adjustment mechanism and / or the second angle adjustment mechanism changes an inclination angle of the first grip roller and / or the second grip roller in order to correct a positional deviation of the substrate. The film substrate transport apparatus according to claim 1, which is controlled as described above.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108666612A (en) * 2018-07-27 2018-10-16 江苏云天高胜机器人科技有限公司 Dyestripping and device for cleaning and air-drying for accumulator

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102090712B1 (en) * 2013-07-25 2020-03-19 삼성디스플레이 주식회사 Thin film deposition device, the deposition method using the same, and the fabrication method of organic light emitting display device using the same
CN105506553B (en) * 2014-09-26 2019-03-12 蒯一希 The location regulation method of vacuum coater, vacuum double-sided coating device and band
CN104805400B (en) * 2015-04-10 2017-09-29 宁波华甬新材料科技有限公司 Sample transmission and mask device for film deposition equipment system
CN106115336A (en) * 2016-08-23 2016-11-16 温州瑞驰机械有限公司 Stretched film deviation correcting device
EP3694799B1 (en) 2017-10-10 2023-04-26 Bobst Grenchen Ag Sheet orientation device, machine for processing a sheet, and method for orienting a sheet
CN112125007A (en) * 2020-09-29 2020-12-25 山东新北洋信息技术股份有限公司 Deviation correcting device, sheet medium processing equipment and control method of deviation correcting device
CN115971140B (en) * 2023-03-20 2023-07-21 山东金冠网具有限公司 Fishery aquaculture net cleaning machine

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009057632A (en) * 2007-08-03 2009-03-19 Fuji Electric Holdings Co Ltd Apparatus for manufacturing thin-film laminated member

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5653929A (en) * 1995-08-25 1997-08-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing a photopolymerizable printing element
JPH09130023A (en) * 1995-10-27 1997-05-16 Fujitsu Ltd Dry film laminator
DE10154884C5 (en) * 2001-11-05 2009-11-19 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Device for transporting flexible flat material, in particular printed circuit boards
JP4060734B2 (en) * 2003-03-06 2008-03-12 Ｔｄｋ株式会社 Conveying method, conveying device, coating method, and coated material manufacturing method
JP2009038276A (en) 2007-08-03 2009-02-19 Fuji Electric Systems Co Ltd Apparatus for manufacturing thin-film laminated member
EP2020392B1 (en) * 2007-08-03 2013-10-23 Fuji Electric Co., Ltd. Apparatus for manufacturing thin-film laminated member
JP2009038277A (en) * 2007-08-03 2009-02-19 Fuji Electric Systems Co Ltd Apparatus for manufacturing thin-film laminated member
JP5018523B2 (en) * 2008-02-07 2012-09-05 富士電機株式会社 Thin film laminate manufacturing equipment
US8431439B2 (en) * 2008-03-31 2013-04-30 Fuji Electric Co., Ltd. Thin film laminated body manufacturing apparatus and method
JP5423808B2 (en) * 2009-12-11 2014-02-19 富士電機株式会社 Flexible substrate transfer device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009057632A (en) * 2007-08-03 2009-03-19 Fuji Electric Holdings Co Ltd Apparatus for manufacturing thin-film laminated member

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108666612A (en) * 2018-07-27 2018-10-16 江苏云天高胜机器人科技有限公司 Dyestripping and device for cleaning and air-drying for accumulator
CN108666612B (en) * 2018-07-27 2024-03-01 重庆能源职业学院 A tear film and wash air-dry device for battery

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