JP2011121101A5 - - Google Patents
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中央ドレンブロック２２には、図６および図１０に示すように、シール部材３２の外周面３２ａと中央ドレンブロック２２の内周面２２ａとの間隙Ｓ１に窒素ガスを注入するための窒素空間部Ｓ２が設けられている。窒素空間部Ｓ２は、間隙Ｓ１に窒素ガスを注入して間隙Ｓ１内部の圧力Ｐ２をリフロー本体４０側の圧力Ｐ１よりも高圧に設定するための空間であり、内側の導入口が間隙Ｓ１に連通され、外側の注入口が外部に連通している。窒素空間部Ｓの注入口にはハーフユニオン３０が取り付けられ、ハーフユニオン３０には窒素ガスを生成するための窒素発生部３００が接続されている。また、中央ドレンブロック２２には、窒素空間部Ｓ２とは別に、シール部材３２のグリスを注入するための図示しないグリス注入部が設けられている。
本例では、リフロー炉１００がオンされると、リフロー本体４０の内部には、図示しない窒素導入口から窒素ガスが導入され、炉内の圧力Ｐ１が５００Ｐａに設定される。また、リフロー炉１００がオンされると、窒素発生部３００からハーフユニオン３０を介して窒素空間部Ｓ２に窒素ガスが注入され、間隙Ｓ１の圧力Ｐ２が例えば０．３ＭＰａ以下に調整される。これにより、シール部材３２の外周面３２ａと中央ドレンブロック２２の内周面２２ａとの間隙Ｓ１の圧力Ｐ２がリフロー本体４０内の圧力Ｐ１よりも高圧となり、間隙Ｓ１からリフロー本体４０へ窒素のガスの流れができるので、間隙Ｓ１へのフラックスの浸入を防止することで回転軸１４とシール部材３２との隙間へのフラックスの浸入を確実に防止できる。その結果、フラックスによる回転軸１４の固着を回避することができる。
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