JP2011114256A - ノズル、エッチング液供給装置およびエッチング方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワーク10の被処理面101にエッチング液を供給するノズル4であって、エッチング液を送出する送出口412aおよび送出口412aから送出されたエッチング液を吸引する吸引口413aを有し、送出口412aおよび吸引口413aが被処理面101の下方に位置されたノズル本体41と、吸引口413aから吸引しきれなかったエッチング液を受ける液受け部42とを有する。
【選択図】図2
Description
[適用例1]
本発明のノズルは、被処理物の被処理面にエッチング液を供給するノズルであって、
前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出されたエッチング液を吸引する吸引口を有し、前記送出口および前記吸引口が前記被処理面の下方に位置されたノズル本体と、
前記吸引口から吸引しきれなかった前記エッチング液を受ける液受け部とを有することを特徴とする。
これにより、液受け部によって、吸引口から吸引しきれなかったエッチング液を受けることができ、エッチング液による装置の腐食を防止することのできるノズルを提供することができる。
本発明のノズルは、被処理物の被処理面にエッチング液を供給するノズルであって、
前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出されたエッチング液を吸引する吸引口を有し、
前記送出口および前記吸引口は、前記被処理面の下方に位置し、
前記吸引口は、前記送出口を囲むように設けられた第1の吸引口と、前記第1の吸引口を囲むように設けられた第2の吸引口とを有し、
前記第2の吸引口と前記被処理面との離間距離は、前記第1の吸引口と前記被処理面との離間距離よりも長いことを特徴とする。
これにより、液受け部によって、吸引口から吸引しきれなかったエッチング液を受けることができ、エッチング液による装置の腐食を防止することのできるノズルを提供することができる。
本発明のノズルでは、前記液受け部は、前記ノズル本体を囲むように設けられていることが好ましい。
これにより、液受け部によって、吸引口で吸引しきれなかったエッチング液(特にノズル本体の側面を伝って流下するエッチング液)をより確実に受けることができる。
本発明のノズルでは、前記液受け部は、前記ノズル本体と一体的に形成されていることが好ましい。
これにより、液受け部の形成が簡単となる。また、ノズル本体と液受け部との間に隙間や接合箇所が存在しないため、特に、ノズル本体の側面を伝って流下するエッチング液を確実に受けることができる。
本発明のエッチング液供給装置は、本発明のノズルを有することを特徴とする。
これにより、液受け部によって、吸引口から吸引しきれなかったエッチング液を受けることができ、エッチング液による装置の腐食を防止することのできるエッチング液供給装置を提供することができる。
本発明のエッチング液供給装置では、前記液受け部で受けた前記エッチング液を、前記送出口から送出させるエッチング液が貯留された貯留タンクに回収する回収手段を有していることが好ましい。
これにより、液受け部で受けたエッチング液を再び被処理物に供給されるエッチング液として利用することができる。
本発明のエッチング液供給装置では、前記回収手段は、前記ノズルに形成され、前記液受け部の内面に開放する吸引孔と、前記吸引孔内を減圧する吸引ポンプとを有することが好ましい。
これにより、回収手段の構成が比較的簡単となる。
本発明のエッチング液供給装置では、前記液受け部から前記貯留タンクに回収されるエッチング液の存在を検知する液存在検知部と、前記液存在検知部の検知結果に基づいて、前記吸引口から吸引する単位時間当たりの前記エッチング液の量を変化させる回収量制御部とを有することが好ましい。
これにより、エッチング液の送出量と吸引量のバランスを取ることができ(すなわち、被処理面に所望量のエッチング液を供給することができ)、被処理物に対して所望のエッチング処理を行うことができる。
本発明のエッチング液供給装置では、前記回収手段により回収しきれずに、前記液受け部に溜まった前記エッチング液の量を検知する貯留量検知部と、前記貯留量検知部の検知結果に基づいて、前記送出口からのエッチング液の送出量を変化させる送出量制御部とを有していることが好ましい。
これにより、被処理物に対して所望のエッチング処理を行うことができる。また、所望のプロファイルが得られないエッチン処理を途中で中止することができるため、歩留まりを向上させることができる。また、作業時間の短縮や、エッチング液の使用量削減等を図ることができる。
本発明のエッチング方法は、被処理物の被処理面にエッチング液を供給することにより前記被処理面に対してエッチングを行うエッチング方法であって、
被処理面の下方に位置する送出口および吸引口を有するノズル本体の前記送出口から前記エッチング液を送出し前記被処理面に前記エッチング液を供給するとともに、前記吸引口から前記被処理面に供給されたエッチング液を吸引し、また、前記吸引口から吸引しきれなかった前記エッチング液を液受け部で受けるとともに貯留タンクに回収するエッチング工程を有し、
前記エッチング工程では、前記貯留タンクに回収される前記エッチング液の存在の有無に基づいて前記吸引口からのエッチング液の単位時間当たりの吸引量を変化させるとともに、前記液受け部に溜まった前記エッチング液の量に基づいて前記送出口からの前記エッチング液の単位時間当たりの送出量を変化させることを特徴とする。
これにより、吸引口から吸引しきれなかったエッチング液を受けることにより、エッチング液による装置の腐食を防止することのできるエッチング方法を提供することができる。
まず、本発明のエッチング液供給装置を備える表面加工装置について説明する。
図1は、本発明のエッチング液供給装置を備える表面加工装置の第1実施形態を示す図、図2は、図1に示す表面加工装置が備えるノズルの斜視図、図3は、図2に示すノズルの断面図、図4は、図1に示す表面加工装置が有する制御部の構成を示すブロック図である。なお、以下の説明では、図1中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
ワーク10の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、石英ガラス、無アルカリガラス等の各種ガラス、水晶等の結晶性材料、アルミナ、シリカ、チタニア等の各種セラミックス、シリコン、ガリウム−ヒ素等の各種半導体材料、ダイヤモンド、黒鉛等の炭素系材料、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、液晶ポリマー、フェノール樹脂、アクリル樹脂等各種プラスチック(樹脂材料)のような誘電体材料で構成されたもの、その他、例えば、アルミニウム、銅、鉄系金属のような各種金属材料が挙げられる。
図1に示す表面加工装置1は、ワーク10を支持する支持装置2と、ワーク10の被処理面101にエッチング液を供給するエッチング液供給装置3とを有し、支持装置2に支持されたワーク10の被処理面101に、エッチング液供給装置3によってエッチング液を供給することにより、ワーク10に対して所望のエッチング処理を行うように構成されている。
まず、支持装置2について説明する。
図1に示すように、支持装置2は、チャッキングプレート21と、固定手段22とを有している。
チャッキングプレート21は、ワーク10を支持する機能を有する。このような機能を有するチャッキングプレート21は、本実施形態では、板状をなしている。ただし、チャッキングプレート21の形状は、ワーク10を支持することができれば、特に限定されず、板状でなくてもよい。
エッチング液供給装置3は、ワーク10の被処理面101にエッチング液を供給し、ワーク10に対して所望のエッチング処理を行う機能を有する。図1に示すように、エッチング液供給装置3は、ワーク10の被処理面101に沿って移動可能に設けられたノズル4と、ノズル4の移動を制御する制御部31と、エッチング液をノズル4から送出し、回収するエッチング液循環装置32とを有している。
ノズル4は、チャッキングプレート21に固定されたワーク10(被処理面101)の下方に設けられている。ノズル4は、ノズル本体41と、ノズル本体41の側方に設けられた液受け部42とを有する。
このような液受け部42は、ノズル本体41(外管411)と一体的に形成されている。これにより、液受け部42の形成が簡単となる。また、ノズル本体41と液受け部42との間に隙間や接合箇所が存在しないため、特に、ノズル本体41の側面を伝って流下するエッチング液を確実に受けることができる。
凹条422の開口422aは、送出口412aおよび吸引口413aよりも下方に位置するのが好ましい。これにより、より確実に、吸引口413aで吸引しきれなかったエッチング液を液受け部42で受けることができる。
以上、表面加工装置1について説明した。
[テスト工程]
まず、表面加工装置1を使用する前に、予備実験として、ワーク10と同じ材料から成る試料(テストピース)を用いて、ノズル4(送出口412a)から所定の一定流量のエッチング液を試料表面に送出した場合における単位時間当たりのエッチング深さ(エッチングされる深さ)を求めておく。また、このエッチング深さの測定をノズル4を一定の速度で移動させながら行う。そして、この測定を複数の速度で行うことにより、ノズル4の移動速度とエッチング深さの関係を求めることができる。ワーク10の被処理面101上の各点におけるエッチングすべき加工深さが決まれば、ここで求めたノズル4の移動速度と加工深さの関係から、ノズル4の移動速度を定めることができる。
次に、ワーク10の被処理面101の加工前のプロファイルを測定する。この測定は、既存の表面形状測定装置や表面粗さ測定装置等を用いて行うことができる。得られた測定結果を制御部31の記憶部312に記憶させる。次に、演算部313は、記憶部312に記憶されたワーク10の被処理面101の加工前および目標とする加工後のワーク10の被処理面101のプロファイルとの差から、ワーク10の被処理面101上の各位置において加工すべきエッチング深さを算出する。演算部313は更に、前述のノズル4の移動速度とエッチング深さの関係から、被処理面101上の各位置におけるノズル4の移動速度を算出する。
送液ポンプ324を作動させて流量調節バルブ325を調節することにより、貯留タンク323からノズル4を通して、所定の一定流量でエッチング液を送出する。次いで、移動制御部314により制御されたノズル移動装置311によって、ノズル4を上述のように定めた速度で、ワーク10の被処理面101の全域を通過するように、例えば蛇行させるようにして移動させる。それとともに、吸引ポンプ327を作動させてワーク10の被処理面101からエッチング液を貯留タンク323に吸引する。これにより、ワーク10の被処理面101の各点において、前述の算出された加工すべき深さにエッチングがなされ、所望のプロファイルが得られる。
次に、本発明のエッチング液供給装置を備える表面加工装置の第2実施形態について説明する。
図5は、第2実施形態にかかる表面加工装置を示す図、図6は、ワークに形成されるエッチング形状を示す図、図7は、図5に示す表面加工装置の作動を説明するフローチャートである。
本発明の第2実施形態にかかる表面加工装置では、エッチング液供給装置が、ノズルの液受け部で受けたエッチング液を貯留タンクに回収する回収手段を有する以外は、前述した第1実施形態と同様である。なお、図5および図6にて、前述した第1実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
このような吸引量制御部71による制御によれば、エッチング液の送出量と吸引量のバランスを取ることができ(すなわち、被処理面101に所望量のエッチング液を供給することができ)、ワーク10に対して所望のエッチング処理を行うことができる。
このような貯留量検知部61は、作動制御装置7が備える送出量制御部72に接続されている。送出量制御部72は、貯留量検知部61の検知結果に基づいて流量調節バルブ325の開度を制御し、ノズル4の送出口412aから送出されるエッチング液の送出量を調節する。
このような状態(以下、「異常状態」とも言う)では、エッチング液の送出量と吸引量とのバランスが取れた状態(以下、「通常状態」とも言う)に比べて、ワーク10の被処理面101とノズル4との間に留まるエッチング液の量が多くなるため、被処理面101の各点において所望のエッチング処理を行うことができない。そのため、このような場合には、送出量制御部72は、エッチング液の送出を停止すべく、流量調節バルブ325の開度が全閉となるように、流量調節バルブ325の開度を制御する。これにより、所望のプロファイルが得られないエッチン処理を途中で中止することができるため、歩留まりを向上させることができる。また、作業時間の短縮や、エッチング液の使用量削減等を図ることができる。
図6(a)に示すように、通常状態では、エッチング液の送出量と吸引量とのバランスが取れているため、ノズル4と被処理面101との間にエッチング処理に適した所定量のエッチング液が留まる。そのため、被処理面101の各点におけるエッチング処理後の形状が、エッチング領域が明確な角ばった形状となる。このような形状では、隣り合う点同士で、エッチング領域が重なり合わないため、ワーク10に対して所望のエッチング処理を行うことができる。
以上、表面加工装置1Aについて説明した。
[エッチング工程]
送液ポンプ324を作動させて流量調節バルブ325を調節することにより、貯留タンク323からノズル4を通して、所定の一定流量でエッチング液を送出する。それとともに、吸引ポンプ327を作動させ、ワーク10の被処理面101からエッチング液を貯留タンク323に吸引しつつ、吸引孔51から液受け部42で受けたエッチン液を貯留タンク323に回収する(S1)。このときの吸引口413aからのエッチング液の吸引量の目安としては、例えば、送出口412aからのエッチング液の送出量をAml/分としたとき、(A+200)ml/分程度であるのが好ましい。
以上のような第2実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
次に、本発明のエッチング液供給装置を備える表面加工装置の第3実施形態について説明する。
図8は、第3実施形態にかかる表面加工装置が備えるノズルの断面図である。なお、以下の説明では、図8中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
第3実施形態にかかる表面加工装置では、ノズルの形状が異なる以外は、前述した第2実施形態と同様である。なお、図8にて、前述した第1実施形態と同様の構成には、同一符号を付してある。
以上のような第3実施形態によっても、第2実施形態と同様の効果を発揮することができる。
Claims (10)
- 被処理物の被処理面にエッチング液を供給するノズルであって、
前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出されたエッチング液を吸引する吸引口を有し、前記送出口および前記吸引口が前記被処理面の下方に位置されたノズル本体と、
前記吸引口から吸引しきれなかった前記エッチング液を受ける液受け部とを有することを特徴とするノズル。 - 被処理物の被処理面にエッチング液を供給するノズルであって、
前記エッチング液を送出する送出口および前記送出口から送出されたエッチング液を吸引する吸引口を有し、
前記送出口および前記吸引口は、前記被処理面の下方に位置し、
前記吸引口は、前記送出口を囲むように設けられた第1の吸引口と、前記第1の吸引口を囲むように設けられた第2の吸引口とを有し、
前記第2の吸引口と前記被処理面との離間距離は、前記第1の吸引口と前記被処理面との離間距離よりも長いことを特徴とするノズル。 - 前記液受け部は、前記ノズル本体を囲むように設けられている請求項1に記載のノズル。
- 前記液受け部は、前記ノズル本体と一体的に形成されている請求項1または3に記載のノズル。
- 請求項1、3または4に記載のノズルを有することを特徴とするエッチング液供給装置。
- 前記液受け部で受けた前記エッチング液を、前記送出口から送出させるエッチング液が貯留された貯留タンクに回収する回収手段を有している請求項5に記載のエッチング液供給装置。
- 前記回収手段は、前記ノズルに形成され、前記液受け部の内面に開放する吸引孔と、前記吸引孔内を減圧する吸引ポンプとを有する請求項6に記載のエッチング液供給装置。
- 前記液受け部から前記貯留タンクに回収されるエッチング液の存在を検知する液存在検知部と、前記液存在検知部の検知結果に基づいて、前記吸引口から吸引する単位時間当たりの前記エッチング液の量を変化させる回収量制御部とを有する請求項5ないし7のいずれかに記載のエッチング液供給装置。
- 前記回収手段により回収しきれずに、前記液受け部に溜まった前記エッチング液の量を検知する貯留量検知部と、前記貯留量検知部の検知結果に基づいて、前記送出口からのエッチング液の送出量を変化させる送出量制御部とを有している請求項5ないし8のいずれかに記載のエッチング液供給装置。
- 被処理物の被処理面にエッチング液を供給することにより前記被処理面に対してエッチングを行うエッチング方法であって、
被処理面の下方に位置する送出口および吸引口を有するノズル本体の前記送出口から前記エッチング液を送出し前記被処理面に前記エッチング液を供給するとともに、前記吸引口から前記被処理面に供給されたエッチング液を吸引し、また、前記吸引口から吸引しきれなかった前記エッチング液を液受け部で受けるとともに貯留タンクに回収するエッチング工程を有し、
前記エッチング工程では、前記貯留タンクに回収される前記エッチング液の存在の有無に基づいて前記吸引口からのエッチング液の単位時間当たりの吸引量を変化させるとともに、前記液受け部に溜まった前記エッチング液の量に基づいて前記送出口からの前記エッチング液の単位時間当たりの送出量を変化させることを特徴とするエッチング方法。
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