JP2011108914A - Semiconductor light-emitting device and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor light-emitting device capable of maintaining a structure with a substrate and a semiconductor light-emitting element being brought into contact without fail. <P>SOLUTION: The semiconductor light-emitting device, having a plurality of light-emitting elements sandwiched inbetween a pair of substrates at least one of which has transparency, has first insulating adhesives and second insulating adhesives between adjacent semiconductor light-emitting elements such that the first insulating adhesives are arranged covering side surfaces of the respective semiconductor light-emitting elements and the second insulating adhesives are arranged between the first insulating adhesives. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体発光素子を用いた半導体発光装置及びその製造方法に関するものであり、特に、半導体発光素子の上下を基板で挟持する半導体発光装置及び製造方法に関する。   The present invention relates to a semiconductor light emitting device using a semiconductor light emitting element and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a semiconductor light emitting device and a manufacturing method for sandwiching a semiconductor light emitting element between upper and lower sides.

薄型ディスプレイに用いるバックライトや壁面に配置される照明装置等に用いられる発光装置に対する薄型化及びコストダウンの要求は、これらディスプレイや照明装置等の薄型化、省スペース化の進展に伴い、益々増加している。   The demand for thinning and cost reduction of light-emitting devices used for backlights used in thin displays and lighting devices placed on wall surfaces, etc., has been increasing with the progress of thinning and space saving of these displays and lighting devices. is doing.

従来の半導体発光装置の代表的なものでは、実装基板等に各々の半導体発光素子を実装し、ワイヤボンディング等を施し配線を行う必要があった。ワイヤボンディングを行うと、少なくともワイヤの高さ分は発光装置が大きくなってしまうと共に、その製造工程も煩雑になるという問題があった。そこで、特許文献1乃至4のように、導電性の2枚の基板の間に複数の半導体発光素子を配置するような半導体発光装置が提案されている。このような半導体発光装置では、ワイヤボンディング等の方法で各々の半導体発光素子を正極及び負極と電気的に接続させる必要がないため、薄型化及びコストダウンを図ることができる。   In a typical conventional semiconductor light emitting device, it is necessary to mount each semiconductor light emitting element on a mounting substrate or the like and perform wiring by performing wire bonding or the like. When wire bonding is performed, there is a problem that the light emitting device becomes large at least as much as the height of the wire and the manufacturing process becomes complicated. Therefore, as in Patent Documents 1 to 4, a semiconductor light emitting device is proposed in which a plurality of semiconductor light emitting elements are arranged between two conductive substrates. In such a semiconductor light emitting device, since it is not necessary to electrically connect each semiconductor light emitting element to the positive electrode and the negative electrode by a method such as wire bonding, the thickness and cost can be reduced.

特開2009-010204号公報JP 2009-010204 実開平06-010982号公報Japanese Utility Model Publication No. 06-010982 特開2008-034473号公報JP 2008-034473 A 特開平11-177147号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-177147

特許文献1乃至4のような半導体発光装置では、半導体発光素子の保護及び基板同士の接触防止のため、基板と基板の間に絶縁性の接着剤が設けられる。しかし、接着剤が基板同士を引っ張り半導体発光素子を挟持する力(以下、「挟持力」と記載する)が強すぎると、基板もしくは、半導体発光素子に割れやクラックが発生し、半導体発光素子の駆動が困難となることがある。一方で、挟持力が小さすぎる場合には、導電性の基板と半導体発光素子の接触不良による発光素子の不灯、さらには、基板の剥がれが起こる可能性がある。   In the semiconductor light emitting devices as disclosed in Patent Documents 1 to 4, an insulating adhesive is provided between the substrates in order to protect the semiconductor light emitting elements and prevent the substrates from contacting each other. However, if the adhesive pulls the substrates together to hold the semiconductor light emitting element (hereinafter referred to as “holding force”) is too strong, the substrate or the semiconductor light emitting element is cracked or cracked. Driving may be difficult. On the other hand, when the clamping force is too small, there is a possibility that the light emitting element is not lighted due to poor contact between the conductive substrate and the semiconductor light emitting element, and further, the substrate is peeled off.

そこで、本発明は、発光素子の上下を基板で挟持するような発光装置において、基板と半導体発光素子を確実に接触させた構造を維持することのできる半導体発光装置を得ることを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to obtain a semiconductor light emitting device capable of maintaining a structure in which the substrate and the semiconductor light emitting element are reliably in contact with each other in a light emitting device in which the upper and lower sides of the light emitting element are sandwiched between the substrates.

本発明の半導体発光装置は、少なくとも一方が透光性を有する一対の基板の間に複数の半導体発光素子が挟持された半導体発光装置において、隣り合う半導体発光素子の間に、第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤を有し、それぞれの半導体発光素子の側面を被覆するように第1の絶縁性接着剤が配置され、第1の絶縁性接着剤の間に第2の絶縁性接着剤が配置されていることを特徴とする。
また、前記第2の絶縁性接着剤は、前記第1の絶縁性接着剤と接触するように配置され、弾性材料を含むことが好ましい。
また、前記弾性材料は、前記半導体発光素子の厚みよりも小さい直径を有する球体であることが好ましい。
また、前記第2の絶縁性接着剤の屈折率は、前記第1の絶縁性接着剤の屈折率よりも大きいことが好ましい。
前記第2の絶縁性接着剤の線膨張係数は、前記第1の絶縁性接着剤の線膨張係数よりも小さいことが好ましい。
前記第1の絶縁性接着剤はシリコーン樹脂であり、前記第2の絶縁性接着剤はエポキシ樹脂であることが好ましい。
前記基板は、少なくとも一方がガラス基板上に透光性導電膜を設けたものであることが好ましい。
The semiconductor light-emitting device of the present invention is a semiconductor light-emitting device in which a plurality of semiconductor light-emitting elements are sandwiched between a pair of light-transmitting substrates, at least one of which has a first insulating property between adjacent semiconductor light-emitting elements. An adhesive and a second insulating adhesive are provided, the first insulating adhesive is disposed so as to cover the side surface of each semiconductor light emitting element, and the second insulating adhesive is interposed between the second insulating adhesives. An insulating adhesive is arranged.
Further, it is preferable that the second insulating adhesive is disposed so as to contact the first insulating adhesive and includes an elastic material.
The elastic material is preferably a sphere having a diameter smaller than the thickness of the semiconductor light emitting element.
Moreover, it is preferable that the refractive index of a said 2nd insulating adhesive is larger than the refractive index of a said 1st insulating adhesive.
It is preferable that the linear expansion coefficient of the second insulating adhesive is smaller than the linear expansion coefficient of the first insulating adhesive.
Preferably, the first insulating adhesive is a silicone resin, and the second insulating adhesive is an epoxy resin.
It is preferable that at least one of the substrates is a glass substrate provided with a translucent conductive film.

また、本発明の半導体発光装置の製造方法は、基板上に第2の絶縁性接着剤を配置する工程と、前記第2の絶縁性接着剤を半硬化させる工程と、半導体発光素子を含む第1の絶縁性接着剤を前記基板上に配置する工程と、前記基板と前記基板とは別の基板とを用いて前記半導体発光素子を挟持し、前記第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤を硬化する接着剤硬化工程とを具備することを特徴とする。
また、前記接着剤硬化工程において、前記第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤が接触するように基板上に配置されることが好ましい。
また、前記第2の絶縁性接着剤を基板上に配置する前に、第2の絶縁性接着剤に弾性材料を混合する工程を含むことが好ましい。
According to another aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a semiconductor light emitting device, comprising: a step of disposing a second insulating adhesive on a substrate; a step of semi-curing the second insulating adhesive; and a semiconductor light emitting element. 1 is disposed on the substrate, and the semiconductor light-emitting element is sandwiched by using the substrate and a substrate different from the substrate, and the first insulating adhesive and the second And an adhesive curing step for curing the insulating adhesive.
In the adhesive curing step, it is preferable that the first insulating adhesive and the second insulating adhesive are arranged on the substrate so as to come into contact with each other.
Moreover, it is preferable to include a step of mixing an elastic material with the second insulating adhesive before disposing the second insulating adhesive on the substrate.

本発明の半導体発光装置では、隣り合う半導体発光素子の間に、第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤を有し、それぞれの半導体発光素子の側面を被覆するように第1の絶縁性接着剤が配置され、第1の絶縁性接着剤の間に第2の絶縁性接着剤が配置されていることにより、基板と半導体発光素子を確実に接触させた構造を維持することができる。   In the semiconductor light emitting device of the present invention, the first insulating adhesive and the second insulating adhesive are provided between adjacent semiconductor light emitting elements, and the first light emitting device covers the side surfaces of the respective semiconductor light emitting elements. Insulating adhesive is disposed, and the second insulating adhesive is disposed between the first insulating adhesives, thereby maintaining a structure in which the substrate and the semiconductor light emitting element are reliably brought into contact with each other. Can do.

本発明の半導体発光装置の構造を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the structure of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の構造を説明するための図1の部分的拡大図である。FIG. 2 is a partially enlarged view of FIG. 1 for explaining the structure of the semiconductor light emitting device of the present invention. 本発明の半導体発光素子の構造を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the structure of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の製造方法を説明するための上面図及び側面図である。It is the top view and side view for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の製造方法を説明するための上面図及び側面図である。It is the top view and side view for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の製造方法を説明するための上面図及び側面図である。It is the top view and side view for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の製造方法を説明するための上面図及び側面図である。It is the top view and side view for demonstrating the manufacturing method of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の別の形態の半導体発光装置の構造を説明するための上面図である。It is a top view for demonstrating the structure of the semiconductor light-emitting device of another form of this invention.

本発明を実施するための形態を図面を参照しながら説明する。ただし、以下に示す形態は一例であって、本発明を限定するものではなく、記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等についても本発明を限定するものではない。なお、各図面が示す部材の大きさや位置関係等は、説明を明確にするため誇張していることがある。また、説明を簡略化するために、同一の構成要件には同一の符号を付し、その説明を一部省略する。
なお、説明の便宜上、「基板10a」を「第1の基板」、「基板10b」を「第2の基板」と記載することがある。
A mode for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the form shown below is an example, does not limit the present invention, and the present invention is not limited to the dimensions, materials, shapes, relative arrangements, and the like of the components described. Note that the size, positional relationship, and the like of the members shown in each drawing may be exaggerated for clarity of explanation. In order to simplify the description, the same constituent elements are denoted by the same reference numerals, and a part of the description is omitted.
For convenience of explanation, the “substrate 10a” may be referred to as a “first substrate” and the “substrate 10b” may be referred to as a “second substrate”.

図1及び図2に本発明の半導体発光装置の一例を示す。図1は、本発明の半導体発光装置の断面図であり、図2は、図1中の丸囲み部分の拡大図を示したものである。また、図3は、本発明に用いられる半導体発光素子の断面図を示したものである。
本発明の半導体発光装置100は、図1に示すように、導電性の基板10a及び10bの間に挟持された複数の半導体発光素子20を有する。隣り合う半導体発光素子の間には、それぞれの半導体発光素子の側面を被覆するように配置された第1の絶縁性接着剤31と、第1の絶縁性接着剤の間に配置された第2の絶縁性接着剤32とを有する。また、導電性の基板10a及び10bの一部は露出されており、外部との接続部12a及び12bとなっている。また、図2に示すように、本実施形態における基板には表面に導電膜11a及び11bが設けられ、第2の絶縁性接着剤中には、弾性材料33を含んでいる。
1 and 2 show an example of the semiconductor light emitting device of the present invention. FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor light emitting device of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a circled portion in FIG. FIG. 3 shows a cross-sectional view of the semiconductor light emitting device used in the present invention.
As shown in FIG. 1, the semiconductor light emitting device 100 of the present invention has a plurality of semiconductor light emitting elements 20 sandwiched between conductive substrates 10a and 10b. Between the adjacent semiconductor light emitting elements, the first insulating adhesive 31 disposed so as to cover the side surfaces of the respective semiconductor light emitting elements and the second insulating adhesive disposed between the first insulating adhesives. Insulating adhesive 32. In addition, a part of the conductive substrates 10a and 10b is exposed and serves as connection portions 12a and 12b to the outside. As shown in FIG. 2, conductive films 11 a and 11 b are provided on the surface of the substrate in this embodiment, and the second insulating adhesive contains an elastic material 33.

本発明の各構成について説明する。
(半導体発光素子)
本発明で用いられる半導体発光素子は、対向して配置される一対の基板の間に挟持されている。例えば、その一方がp側電極、他方がn側電極となっており、電圧を印加することにより発光させることができる。半導体層の上下に電極を形成することにより、半導体発光素子自体の小型化が可能になる。さらに、導電性基板上に複数の半導体発光素子を分散して配置させることができるので、半導体発光装置の放熱性を向上させることができる。あるいは、同一面側にp側電極及びn側電極が設けられた構成であってもよい。
また、半導体発光素子20の発光色は、可視光や紫外光などを選択することができる。可視光の場合、発光色は限定されず、緑色半導体発光素子、赤色半導体発光素子、及び青色半導体発光素子のいずれも使用可能である。また、その半導体材料についても特には限定されず、III−V族、II−VI族等のいずれの化合物を用いてもよい。
Each configuration of the present invention will be described.
(Semiconductor light emitting device)
The semiconductor light-emitting element used in the present invention is sandwiched between a pair of substrates arranged to face each other. For example, one of them is a p-side electrode and the other is an n-side electrode, and light can be emitted by applying a voltage. By forming electrodes above and below the semiconductor layer, the semiconductor light emitting device itself can be miniaturized. Further, since a plurality of semiconductor light emitting elements can be dispersed and arranged on the conductive substrate, the heat dissipation of the semiconductor light emitting device can be improved. Or the structure by which the p side electrode and the n side electrode were provided in the same surface side may be sufficient.
Moreover, visible light, ultraviolet light, etc. can be selected as the luminescent color of the semiconductor light-emitting element 20. In the case of visible light, the emission color is not limited, and any of a green semiconductor light emitting element, a red semiconductor light emitting element, and a blue semiconductor light emitting element can be used. Further, the semiconductor material is not particularly limited, and any compound such as III-V group or II-VI group may be used.

半導体発光素子20は、例えば、図3に示すように、導電性の成長用基板21上にn型半導体層22、活性層23、p型半導体層24が設けられ、p型半導体層の上面にp側電極25、成長用基板の裏面にはn側電極26が設けられている。半導体発光素子20は、その上面及び下面に電極を有する上下電極型の半導体発光素子であることが好ましいが、導電性の基板10a又は10bから電流を供給することのできる構造であれば電極は省略してもよい。また、導電性又は絶縁性の成長用基板21を用いて半導体層を形成した後にこの成長用基板を除去し、半導体層のみで構成してもよいし、半導体層の表面側に別の支持基板等が設けられていてもよい。   For example, as shown in FIG. 3, the semiconductor light emitting device 20 includes an n-type semiconductor layer 22, an active layer 23, and a p-type semiconductor layer 24 provided on a conductive growth substrate 21, and an upper surface of the p-type semiconductor layer. A p-side electrode 25 and an n-side electrode 26 are provided on the back surface of the growth substrate. The semiconductor light emitting device 20 is preferably an upper and lower electrode type semiconductor light emitting device having electrodes on the upper and lower surfaces thereof, but the electrodes are omitted if the structure can supply current from the conductive substrate 10a or 10b. May be. Further, after forming the semiconductor layer using the conductive or insulating growth substrate 21, the growth substrate may be removed and only the semiconductor layer may be formed, or another support substrate may be provided on the surface side of the semiconductor layer. Etc. may be provided.

半導体発光素子20の大きさとしては、上面視における縦及び横(図1の紙面に垂直な方向および図1の紙面上で基板10に平行な方向)が350μm以下、半導体発光素子の厚さ(図1の紙面上で基板10に垂直な方向)が100μm以下であることが好ましい。より好ましくは、縦及び横が100μm以下、厚さが50μm以下のものである。   The size of the semiconductor light emitting element 20 is 350 μm or less in the vertical and horizontal directions (a direction perpendicular to the paper surface of FIG. 1 and a direction parallel to the substrate 10 on the paper surface of FIG. 1) when viewed from above. The direction perpendicular to the substrate 10 on the paper surface of FIG. 1 is preferably 100 μm or less. More preferably, the length and width are 100 μm or less and the thickness is 50 μm or less.

(基板)
本実施形態における基板は、図2に示すように、一対の基板10a及び10bの対向する面(内面)に導電膜11a及び11bが設けられている。基板は、複数の半導体発光素子を挟持するために用いられ、半導体発光装置の外形を規定するものである。また、少なくとも一方の面に導電性が付与されている場合には、その基板を導電性基板と記載することがある。また、半導体発光素子の同一面側にp側電極及びn側電極が設けられている場合には、両方の基板が導電性である必要はなく、少なくとも電極と接触する基板に導電性が付与されていればよい。
(substrate)
As shown in FIG. 2, the substrate in the present embodiment is provided with conductive films 11a and 11b on opposing surfaces (inner surfaces) of the pair of substrates 10a and 10b. The substrate is used to sandwich a plurality of semiconductor light emitting elements, and defines the outer shape of the semiconductor light emitting device. Further, when conductivity is imparted to at least one surface, the substrate may be referred to as a conductive substrate. In addition, when the p-side electrode and the n-side electrode are provided on the same surface side of the semiconductor light emitting element, both the substrates do not need to be conductive, and at least the substrate in contact with the electrode is imparted with conductivity. It only has to be.

基板としては、少なくとも一方が透光性であることが好ましい。これにより、透光性の基板を通過した光が出射され、面状の半導体発光装置とすることができる。一方の基板を透光性とする場合には、他方の基板には反射膜を設けることで光取り出し効率を向上させることができる。また、両方の基板を透光性とし、両面発光型の半導体発光装置としてもよい。なお、本明細書において透光性とは、半導体発光装置への適用状態の厚みにおいて半導体発光素子や蛍光体からの光の透過率が50%以上の材料を指すものとする。   At least one of the substrates is preferably translucent. Thereby, the light which passed the translucent board | substrate is radiate | emitted and it can be set as a planar semiconductor light-emitting device. In the case where one substrate is light-transmitting, the light extraction efficiency can be improved by providing a reflective film on the other substrate. Alternatively, both substrates may be light-transmitting so that a double-sided light emitting semiconductor light-emitting device is obtained. Note that in this specification, the light-transmitting property refers to a material having a light transmittance of 50% or more from a semiconductor light-emitting element or a phosphor in a thickness applied to a semiconductor light-emitting device.

基板の材料としては、その母材10として、ポリイミド等の非導電性(絶縁性)の透明樹脂、ガラス、圧延された金属等を用いることができる。導電性材料の基板を用いる場合には、導電膜は省略可能である。また、導電膜は、少なくとも半導体発光素子と基板が接続される領域に設けられればよく、基板上に部分的に設けられてもよいが、導電膜と半導体発光素子の接着時の位置調整や、外部との導通部分の確保の観点から全面に設けられることが好ましい。基板上に設けられる導電膜11としては、公知の材料を適宜用いることができる。特に、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズなどの酸化物透光性導電膜、金属材料をメッシュ状、格子状の金属膜を用いて光を透過させる構造とする、若しくは、Ag、Au,Cu、Niなどの金属を光透過性を保持する程度の薄膜で形成することが好ましい。例えば、透光性の基板とする場合には、ガラス基板上に、透光性導電膜としてITOを形成することが好ましい。また、基板に反射膜を設ける場合には、半導体発光素子と接触する面にAgからなる金属膜を設けることが好ましい。この場合、基板の母材が透光性を有する必要はないので、材料を任意に選択することが可能であり、放熱性の観点からCuからなる導電性基板を用いることが好ましい。   As the substrate material, non-conductive (insulating) transparent resin such as polyimide, glass, rolled metal, or the like can be used as the base material 10. In the case of using a substrate made of a conductive material, the conductive film can be omitted. The conductive film only needs to be provided at least in a region where the semiconductor light emitting element and the substrate are connected, and may be partially provided on the substrate. It is preferable to be provided on the entire surface from the viewpoint of securing a conductive portion with the outside. As the conductive film 11 provided over the substrate, a known material can be used as appropriate. In particular, an oxide light-transmitting conductive film such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, tin oxide, or the like, has a structure in which light is transmitted using a metal film in a mesh shape or a lattice shape, or It is preferable to form a metal such as Ag, Au, Cu, and Ni as a thin film that maintains light transmittance. For example, when a light-transmitting substrate is used, it is preferable to form ITO as a light-transmitting conductive film on a glass substrate. Further, when a reflective film is provided on the substrate, it is preferable to provide a metal film made of Ag on the surface in contact with the semiconductor light emitting element. In this case, since the base material of the substrate does not need to have translucency, the material can be arbitrarily selected, and it is preferable to use a conductive substrate made of Cu from the viewpoint of heat dissipation.

また、導電性基板は、延性、展性を有するフレキシブルな材料を用いることもできる。半導体発光素子は、通常ウエハ状態で作製されるため、それぞれの素子の厚みにばらつきが生じることがある。複数の半導体発光素子を用いる半導体発光装置では、厚みの薄い半導体発光素子が導電性基板との接触不良により電流が流れずに発光しないことがある。フレキシブル基板を用いることで、厚みの薄い半導体発光素子と導電性基板を接触させることができ、発光しない素子をなくすことで発光むらが生じるのを抑制することができる。フレキシブル基板としては、公知の材料のものを用いることができ、例えば、ポリイミド、エポキシ、Cuが順次積層されたものが挙げられる。   For the conductive substrate, a flexible material having ductility and malleability can be used. Since semiconductor light emitting elements are usually manufactured in a wafer state, the thickness of each element may vary. In a semiconductor light emitting device using a plurality of semiconductor light emitting elements, a thin semiconductor light emitting element may not emit light because no current flows due to poor contact with the conductive substrate. By using a flexible substrate, a thin semiconductor light emitting element and a conductive substrate can be brought into contact with each other, and light emission unevenness can be suppressed by eliminating elements that do not emit light. As the flexible substrate, a known material can be used, and examples thereof include a substrate in which polyimide, epoxy, and Cu are sequentially laminated.

また、基板の形状は、矩形、円形、楕円形等から任意に選択することができる。また、基板の大きさは、求める半導体発光装置の大きさに合わせて所望の大きさとすることができる。例えば、矩形の場合は、一辺の大きさが5〜30cm程度が挙げられる。また、基板の厚みとしては、ガラスを用いる場合には、30μm〜3mm程度、フレキシブル基板を用いる場合には10μm〜100μm程度が挙げられる。   Further, the shape of the substrate can be arbitrarily selected from a rectangle, a circle, an ellipse, and the like. Further, the size of the substrate can be set to a desired size according to the required size of the semiconductor light emitting device. For example, in the case of a rectangle, the size of one side is about 5 to 30 cm. Moreover, as thickness of a board | substrate, when using glass, about 30 micrometers-3 mm are used, and when using a flexible substrate, about 10 micrometers-100 micrometers are mentioned.

また、導電性基板は、多層からなる構造としてもよく、導電膜以外にも、種々の機能を付与するような膜を設けることができる。例えば、基板と導電膜の間に設けられる密着層やバリア層として、金属、酸化物又は樹脂を適宜設けることができる。例えば、Ni、SiO、エポキシ等が挙げられる。また、基板の外側を保護するための保護層としてエポキシ、ポリイミド等を設けることができる。
さらに、透光性の基板の内面又は外面に、蛍光体を混合させた膜を形成し、半導体発光素子から放出された光を波長変換させるような構造としてもよい。例えば、ガラス基板で青色を発光する窒化物系半導体発光素子を挟持する半導体発光装置では、YAGを混合させたシリコーンをガラス基板上に塗布することで白色光を得ることができる。あるいは、ガラス自体に蛍光体を含有させることも可能である。
Further, the conductive substrate may have a multilayer structure, and in addition to the conductive film, a film that imparts various functions can be provided. For example, a metal, an oxide, or a resin can be provided as appropriate as an adhesion layer or a barrier layer provided between the substrate and the conductive film. For example, Ni, SiO 2, epoxy, and the like. Further, epoxy, polyimide, or the like can be provided as a protective layer for protecting the outside of the substrate.
Further, a structure in which a phosphor mixed film is formed on the inner surface or the outer surface of a light-transmitting substrate, and the wavelength of light emitted from the semiconductor light emitting element may be converted. For example, in a semiconductor light emitting device that sandwiches a nitride semiconductor light emitting element that emits blue light on a glass substrate, white light can be obtained by applying silicone mixed with YAG onto the glass substrate. Alternatively, the glass itself can contain a phosphor.

導電性基板としてガラス基板を用いた場合には、導電性基板を通して光を取り出しやすいが、経時変化や長時間の駆動により導電性基板が撓むことがあり、導電性基板10a及び10bの導電性材料同士が接着しショートしてしまうことがある。しかし、本発明を適用することで、発光装置内において周期的に異なる種類の絶縁性接着剤が配置されているので、応力による基板の撓みを吸収し、特定の領域において基板同士の接着力が強くなったり、もしくは接着力が弱くなって剥離したりすることもなく、安定した構造の半導体発光装置とすることができる。   When a glass substrate is used as the conductive substrate, it is easy to extract light through the conductive substrate. The materials may adhere and cause a short circuit. However, by applying the present invention, since different types of insulating adhesives are periodically arranged in the light emitting device, the bending of the substrates due to stress is absorbed, and the adhesive force between the substrates in a specific region is increased. A semiconductor light-emitting device having a stable structure can be obtained without becoming strong or having a weak adhesive force and peeling off.

また、導電性基板の表面には、外部との接続部12が設けられることが好ましい。接続部とは、導電膜が絶縁性接着剤に被覆されない状態で、外部と接続可能なように露出されている基板の表面であり、例えば、半導体発光素子又は絶縁性接着剤が配置される発光領域と隣接して導電性基板を露出させて接続部を設けるものが挙げられる。また、図1に示すように、第1の導電導電膜と第2の導電膜が部分的に露出されるように配置することで接続部を設けることができる。また、導電性基板全体が導電性の材料で形成される場合には、半導体発光素子が接着される面(導電性基板の内面)に接続部を設ける必要はなく、半導体発光素子から離れた側の面(外面)に接続部を設けてもよい。   Moreover, it is preferable that the connection part 12 with the exterior is provided in the surface of a conductive substrate. The connection portion is the surface of the substrate that is exposed so that the conductive film is not covered with the insulating adhesive so as to be connected to the outside. For example, the light emitting element on which the semiconductor light emitting element or the insulating adhesive is disposed Examples include a conductive substrate exposed adjacent to the region to provide a connection portion. In addition, as illustrated in FIG. 1, the connection portion can be provided by disposing the first conductive film and the second conductive film so as to be partially exposed. When the entire conductive substrate is formed of a conductive material, it is not necessary to provide a connection portion on the surface to which the semiconductor light emitting element is bonded (the inner surface of the conductive substrate), and the side away from the semiconductor light emitting element You may provide a connection part in the surface (outer surface).

また、半導体発光装置内に配置される半導体発光素子20の個数及び分布密度は、発光による発熱及び放熱特性を考慮して決定され、例えば、半導体発光素子の縦、横のサイズが100μm程度の場合、半導体発光素子の個数は、基板10が10cm四方(面積100cm)あたり、100個以下が好ましい。また、半導体発光素子の縦、横のサイズが10μm程度の場合、半導体発光素子の個数は、基板10が10cm四方あたり、10000個以下が好ましい。 The number and distribution density of the semiconductor light emitting elements 20 arranged in the semiconductor light emitting device are determined in consideration of heat generation and heat dissipation characteristics due to light emission. For example, when the vertical and horizontal sizes of the semiconductor light emitting elements are about 100 μm. The number of the semiconductor light emitting elements is preferably 100 or less per 10 cm square (area 100 cm 2 ) of the substrate 10. Further, when the vertical and horizontal sizes of the semiconductor light emitting elements are about 10 μm, the number of semiconductor light emitting elements is preferably 10,000 or less per 10 cm square of the substrate 10.

(絶縁性接着剤)
本発明で用いられる絶縁性接着剤は、基板の間に設けられ、半導体発光素子が配置された部分を除いて充填されていることが好ましい。半導体発光素子の保護及び基板同士の接触防止のために設けられる。また、光取り出し効率の観点からは、透明性の高い材料で形成されることが好ましい。
具体的な材料としては、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂、アクリル樹脂、フッ素樹脂、ポリイミド樹脂、各種ホットメルトのような透光性を有する熱可塑性または熱硬化性の樹脂が用いられる。
(Insulating adhesive)
It is preferable that the insulating adhesive used in the present invention is provided between the substrates and is filled except for a portion where the semiconductor light emitting element is disposed. It is provided to protect the semiconductor light emitting element and prevent contact between the substrates. Further, from the viewpoint of light extraction efficiency, it is preferably formed of a highly transparent material.
Specific examples of the material include silicone resin, epoxy resin, acrylic resin, fluororesin, polyimide resin, and light-transmitting thermoplastic or thermosetting resin such as various hot melts.

本発明の絶縁性接着剤としては、第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤が設けられている。本発明のように、2種類の絶縁性接着剤を所定の配置で基板の間に充填することで、基板と半導体発光素子を確実に接触させた構造を維持することができる。接着剤は、硬化時に収縮若しくは膨張することにより、接着剤塗布時から挟持力が変化する。また、時間の経過や、長時間の駆動によっても変質が起こり、挟持力が変化してしまうことがある。具体的には、接着剤の挟持力が強すぎると、基板もしくは、半導体発光素子にクラック等が発生し、半導体発光素子の駆動が困難となることがある。一方で、挟持力が小さすぎる場合には、導電性基板と半導体発光素子の接触不良による発光素子の不灯、さらには、導電性基板の剥がれが起こる可能性がある。
また、接着剤によっては、基板の撓みを吸収することができずに導電性基板同士が接触することがある。このような変化により、電気的抵抗が高くなったり、発光しない素子が生じる結果、装置としての発色や配光性にむらが生じるため絶縁性接着剤の硬化後からの挟持力の変化を防止する必要がある。本発明では、少なくとも2種類の絶縁性接着剤を用いてそれらを分布して配置させるので、基板同士を確実に接着させると共にその構造を維持し、基板にクラックが発生するのを防止することができる。また、接着剤の接着力が弱くなって基板が剥離したりすることもなく、安定した構造の半導体発光装置とすることができる。
As the insulating adhesive of the present invention, a first insulating adhesive and a second insulating adhesive are provided. As in the present invention, by filling two kinds of insulating adhesives between the substrates in a predetermined arrangement, it is possible to maintain a structure in which the substrate and the semiconductor light emitting element are reliably brought into contact with each other. When the adhesive is cured, it contracts or expands, so that the pinching force changes from the time when the adhesive is applied. In addition, deterioration may occur due to the passage of time or driving for a long time, and the clamping force may change. Specifically, if the sandwiching force of the adhesive is too strong, cracks or the like may occur in the substrate or the semiconductor light emitting element, and it may be difficult to drive the semiconductor light emitting element. On the other hand, when the clamping force is too small, there is a possibility that the light emitting element is not lighted due to poor contact between the conductive substrate and the semiconductor light emitting element, and further, the conductive substrate is peeled off.
Further, depending on the adhesive, the conductive substrates may contact each other without being able to absorb the bending of the substrates. As a result of such a change, an electrical resistance is increased or an element that does not emit light is generated, resulting in uneven color development and light distribution as a device, thereby preventing a change in clamping force after the insulating adhesive is cured. There is a need. In the present invention, since they are distributed and arranged using at least two kinds of insulating adhesives, it is possible to securely bond the substrates to each other and maintain the structure, and to prevent the substrate from cracking. it can. In addition, the adhesive strength of the adhesive is weakened and the substrate is not peeled off, so that a semiconductor light emitting device having a stable structure can be obtained.

(第1の絶縁性接着剤)
第1の絶縁性接着剤31は、半導体発光素子の側面を保護する役割を持つものである。そのため、半導体発光素子と接触して配置されることが好ましい。半導体発光素子に近接して配置されるので、第1の絶縁性接着剤の挟持力が強すぎる場合には、半導体発光素子への負荷がかかるだけでなく、その近傍の導電膜や基板にクラックや割れが発生してしまうことがある。そのため、第1の絶縁性接着剤は、硬化後の収縮が少ないものが好ましい。また、第1の絶縁性接着剤が配置される領域では光密度が高くなっている。そのため、第1の絶縁性接着剤は、耐光性の高い、光による劣化の少ないものが好ましい。これにより、寿命特性を向上させることができる。第1の絶縁性接着剤の厚みとしては、少なくとも側面を被覆していればよく、半導体発光素子の側面から0.01〜0.5mm程度の厚みを有することが好ましい。また、半導体発光素子と混合された状態で基板に配置された場合に、第2の基板の押圧で半導体発光素子の上面及び下面に位置する絶縁性接着剤が移動するような粘性もしくは柔らかさを有することが好ましい。
第1の絶縁性接着剤の具体的な材料としては、例えば、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。そのなかでも、上記特性を好適に満たすものとして、ジメチルシリコーン、もしくは旭硝子株式会社製のサイトップを用いることが好ましい。
(First insulating adhesive)
The first insulating adhesive 31 has a role of protecting the side surface of the semiconductor light emitting element. Therefore, it is preferable to be disposed in contact with the semiconductor light emitting element. Since it is arranged close to the semiconductor light emitting element, if the clamping force of the first insulating adhesive is too strong, not only is the load applied to the semiconductor light emitting element, but also the conductive film or substrate in the vicinity thereof is cracked. And cracking may occur. Therefore, it is preferable that the first insulating adhesive has little shrinkage after curing. Further, the light density is high in the region where the first insulating adhesive is disposed. Therefore, it is preferable that the first insulating adhesive has high light resistance and little deterioration due to light. Thereby, a lifetime characteristic can be improved. The thickness of the first insulating adhesive only needs to cover at least the side surface, and preferably has a thickness of about 0.01 to 0.5 mm from the side surface of the semiconductor light emitting element. In addition, when arranged on the substrate in a state of being mixed with the semiconductor light emitting device, the viscosity or softness is such that the insulating adhesive located on the upper surface and the lower surface of the semiconductor light emitting device is moved by pressing the second substrate. It is preferable to have.
Specific examples of the first insulating adhesive include silicone resin and fluorine resin. Among them, it is preferable to use dimethyl silicone or CYTOP manufactured by Asahi Glass Co., Ltd. as a material that satisfies the above characteristics.

(第2の絶縁性接着剤)
第2の絶縁性接着剤は、第1の絶縁性接着剤の間に配置される。第2の絶縁性接着剤をこのように配置することで、面内において接着性の安定した構造とすることができ、駆動時にも特性変化の少ない半導体発光装置とすることができる。つまり、第1の基板と第2の基板を接着するので、挟持力の大きいもの、言い換えると硬化後の収縮の大きいものが好ましい。接着剤硬化後の収縮により、基板同士の距離が縮まったとしても、半導体発光素子から離れた位置に配置されているため、半導体発光素子への影響は少ない状態で装置としての強度を維持することができる。
また、第1の絶縁性接着剤と、第2の絶縁性接着剤の間には空隙が設けられてもよいが、両者は接触して設けられることが好ましい。基板の間が絶縁性接着剤で充填されることで、基板の接着性及び半導体発光装置の配光性を安定させることができる。
第2の絶縁性接着剤の線膨張係数は、第1の絶縁性接着剤の線膨張係数よりも小さいことが好ましい。基板同士が接着される第2の絶縁性接着剤に線膨張係数の小さいものを用いることで、基板同士の接着を安定させることができ、高温動作時にも特性変化の少ない半導体発光装置とすることができる。
具体的には、第2の絶縁性接着剤としては、エポキシ樹脂を用いることが好ましい。高温動作、長時間の駆動においても絶縁性接着剤の変性や膨張が少なく、導通不良を防ぐことができる。
また、第2の絶縁性接着剤の屈折率は、第1の絶縁性接着剤の屈折率よりも大きいことが好ましい。第1の絶縁性接着剤との界面における光拡散効果により、光取り出し効率を向上させることができるためである。
また、第2の絶縁性接着剤としては、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。詳細については後述するが、導通不良を大幅に軽減させることができる。
また、第1の絶縁性接着剤と第2の絶縁性接着剤の間に任意で別の絶縁性接着剤を設けてもよい。また、第1の絶縁性接着剤と第2の絶縁性接着剤の配置の比率としては、特には限定ざれず、任意に選択することが可能である。
(Second insulating adhesive)
The second insulating adhesive is disposed between the first insulating adhesives. By disposing the second insulating adhesive in this manner, a structure with stable adhesiveness in the surface can be obtained, and a semiconductor light emitting device with little characteristic change even during driving can be obtained. That is, since the first substrate and the second substrate are bonded, a substrate having a large clamping force, that is, a substrate having a large shrinkage after curing is preferable. Even if the distance between the substrates is reduced due to the shrinkage after curing the adhesive, it is placed at a position away from the semiconductor light emitting element, so that the strength as a device is maintained with little influence on the semiconductor light emitting element. Can do.
In addition, a gap may be provided between the first insulating adhesive and the second insulating adhesive, but it is preferable that both are provided in contact with each other. By filling the space between the substrates with an insulating adhesive, the adhesion of the substrates and the light distribution of the semiconductor light emitting device can be stabilized.
The linear expansion coefficient of the second insulating adhesive is preferably smaller than the linear expansion coefficient of the first insulating adhesive. By using a second insulating adhesive having a low linear expansion coefficient as the second insulating adhesive to which the substrates are bonded together, the bonding between the substrates can be stabilized, and a semiconductor light emitting device with little characteristic change even at high temperature operation Can do.
Specifically, an epoxy resin is preferably used as the second insulating adhesive. Even during high-temperature operation and long-time driving, the insulating adhesive is hardly denatured and expanded, and poor conduction can be prevented.
Moreover, it is preferable that the refractive index of a 2nd insulating adhesive is larger than the refractive index of a 1st insulating adhesive. This is because the light extraction efficiency can be improved by the light diffusion effect at the interface with the first insulating adhesive.
Moreover, it is preferable to use a thermosetting resin as the second insulating adhesive. Although details will be described later, the conduction failure can be greatly reduced.
Further, another insulating adhesive may be optionally provided between the first insulating adhesive and the second insulating adhesive. In addition, the ratio of the arrangement of the first insulating adhesive and the second insulating adhesive is not particularly limited and can be arbitrarily selected.

(弾性材料)
図2に示すように、絶縁性接着剤中に弾性材料33を含むことが好ましい。弾性材料は、導電性基板同士が接触するのを防ぐために設けられるものである。そのため、弾性材料は、絶縁性であることが求められる。また、基板に挟まれたときにその応力により割れ、欠けなどの発生しない弾性及び/又は強度を持つことが好ましい。弾性材料としては、プラスチック又はゴムからなる球体のビーズを用いることができる。具体的には、積水化学工業株式会社製のミクロパールEX、ナトコ株式会社製のナトコスペーサ、信越化学工業株式会社製のシリコーンゴムパウダー等を用いることができる。
弾性材料の大きさは、半導体発光素子の厚みよりも小さいことが好ましい。導電性基板を貼り合わせるときに確実に半導体発光素子と導電性基板を接触させるためである。また、少なくとも1μm程度以上の大きさであることが好ましい。
また、弾性材料は、第2の絶縁性接着剤に混合されていることが好ましい。詳細は後述するが、弾性材料が、半導体発光素子の表面に付着すると、半導体発光素子にクラックや割れが発生してしまうがこれを防ぐことができるためである。また、弾性材料は、透光性の材料で形成されることが好ましい。
(Elastic material)
As shown in FIG. 2, it is preferable to include an elastic material 33 in the insulating adhesive. The elastic material is provided to prevent the conductive substrates from contacting each other. Therefore, the elastic material is required to be insulating. Further, it is preferable to have elasticity and / or strength that does not cause cracking or chipping due to the stress when sandwiched between the substrates. As the elastic material, spherical beads made of plastic or rubber can be used. Specifically, Sekisui Chemical Co., Ltd. Micropearl EX, Natoko Co., Ltd. Natoko Spacer, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. silicone rubber powder, etc. can be used.
The size of the elastic material is preferably smaller than the thickness of the semiconductor light emitting element. This is because the semiconductor light emitting element and the conductive substrate are reliably brought into contact with each other when the conductive substrates are bonded together. Moreover, it is preferable that it is a magnitude | size of at least about 1 micrometer or more.
The elastic material is preferably mixed with the second insulating adhesive. Although details will be described later, if the elastic material adheres to the surface of the semiconductor light emitting element, cracks or cracks are generated in the semiconductor light emitting element, but this can be prevented. Moreover, it is preferable that an elastic material is formed with a translucent material.

(補助電極)
図8に示すように、少なくとも一方の導電性基板の表面に補助電極40を設けてもよい。補助電極は、基板と導電膜の間もしくは導電膜と絶縁性接着剤の間に設けられることが好ましい。本発明の発光装置では、接続部12において外部の電源と接続されるが、接続部12から遠い領域には電流が流れにくく、発光むらが生じてしまうことがある。補助電極を設けることで、面内において均一な強度の発光を得ることができる。また、透光性の基板を用いる場合、基板の表面に形成される導電膜は、透光性の確保のため薄膜で形成されることが多い。薄膜で形成されると、透光性が確保できる一方で、発光素子への電流供給が不十分となる傾向があり、このような場合に、補助電極を設けると効果的である。
補助電極としては、幅10〜500μm程度、長さは接続部側の端部から対向する辺までの長さと同程度のものが好ましい。補助電極の厚みとしては、少なくとも半導体発光素子の厚みよりは薄くすることが好ましく、具体的には、0.1〜30μm程度であることが好ましい。また、補助電極の配置としては、1〜10mm程度の間隔を空けて配置されることが好ましい。補助電極の配置される位置としては、発光素子から0.5〜5mmの位置となるように配置すると効果的である。また補助電極の形状は特に限定されない。基板上に部分的に設けられた複数の導電膜を接続するように設けてもよい。
補助電極の具体的な材料としては、Ag、Au,Cu等が挙げられる。
また、導電膜と同じ材料でも異なる材料で設けられてもよい。補助電極の形成方法としては、スパッタ、めっき、印刷、ディスペンサ等公知の方法を適宜用いることが可能である。
(Auxiliary electrode)
As shown in FIG. 8, the auxiliary electrode 40 may be provided on the surface of at least one of the conductive substrates. The auxiliary electrode is preferably provided between the substrate and the conductive film or between the conductive film and the insulating adhesive. In the light-emitting device of the present invention, the connection portion 12 is connected to an external power supply. However, current does not easily flow in a region far from the connection portion 12, and uneven light emission may occur. By providing the auxiliary electrode, light emission with uniform intensity can be obtained in the plane. In the case of using a light-transmitting substrate, the conductive film formed on the surface of the substrate is often formed using a thin film to ensure light-transmitting properties. When formed of a thin film, the light-transmitting property can be secured, but the current supply to the light emitting element tends to be insufficient. In such a case, it is effective to provide an auxiliary electrode.
The auxiliary electrode preferably has a width of about 10 to 500 μm and a length that is about the same as the length from the end on the connection side to the opposite side. The thickness of the auxiliary electrode is preferably at least thinner than the thickness of the semiconductor light emitting element, and specifically, it is preferably about 0.1 to 30 μm. The auxiliary electrodes are preferably arranged with an interval of about 1 to 10 mm. As a position where the auxiliary electrode is disposed, it is effective to dispose the auxiliary electrode so that the position is 0.5 to 5 mm from the light emitting element. The shape of the auxiliary electrode is not particularly limited. A plurality of conductive films partially provided over the substrate may be connected.
Specific materials for the auxiliary electrode include Ag, Au, Cu and the like.
Further, the conductive film may be provided using the same material or a different material. As a method for forming the auxiliary electrode, a known method such as sputtering, plating, printing, or dispenser can be appropriately used.

以下に、図4乃至7を参照しながら本発明の半導体発光装置の製造方法について説明する。図4乃至7において、(a)は上面図、(b)は側面図を示している。   Hereinafter, a method for manufacturing a semiconductor light emitting device of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 7, (a) shows a top view and (b) shows a side view.

まず、図4に示すように、導電性基板を準備し、第1の導電性基板10a上に第2の絶縁性接着剤32を配置する。第2の絶縁性接着剤は、所定の量を導電性基板上に分布させるように配置することが好ましい。具体的には、1箇所につき0.01〜10.0μl程度配置し、1〜10mm程度離間させて基板上に配置することが好ましい。具体的な塗布方法としては、ディスペンサもしくはスクリーン印刷等を用いることができる。
また、第2の絶縁性接着剤は、第1の導電性基板上にほぼ等間隔で配置されることが好ましい。これにより、後の工程で半導体発光素子を配置するための目印とすることができ、半導体発光素子を均等な間隔で配置することにより、均一な発光を得ることができるためである。
First, as shown in FIG. 4, a conductive substrate is prepared, and a second insulating adhesive 32 is disposed on the first conductive substrate 10a. The second insulating adhesive is preferably arranged so that a predetermined amount is distributed on the conductive substrate. Specifically, it is preferable to arrange about 0.01 to 10.0 μl per location and arrange them on the substrate with a spacing of about 1 to 10 mm. As a specific application method, a dispenser or screen printing can be used.
Moreover, it is preferable that the second insulating adhesive is disposed on the first conductive substrate at substantially equal intervals. Thereby, it can be used as a mark for arranging the semiconductor light emitting elements in a later step, and uniform light emission can be obtained by arranging the semiconductor light emitting elements at equal intervals.

また、第2の絶縁性接着剤を塗布した後に、粘度を高くして流れないようにした状態とすることが好ましい。例えば、加熱もしくは、紫外光などの照射により半硬化させることが好ましい。樹脂系接着剤を用いる場合は、例えば、Bステージ状態とすることが好ましい。加熱条件としては、50〜100℃程度、10〜60分程度が挙げられる。これによって、接着剤が流れたりせずこの後の取り扱いがしやすく好ましい。   Moreover, it is preferable that after the second insulating adhesive is applied, the viscosity is increased so as not to flow. For example, it is preferably semi-cured by heating or irradiation with ultraviolet light. When using a resin adhesive, it is preferable to be in a B-stage state, for example. As heating conditions, about 50-100 degreeC and about 10-60 minutes are mentioned. This is preferable because the adhesive does not flow and the subsequent handling is easy.

また、第2の絶縁性接着剤には、弾性材料が含まれることが好ましい。半導体発光素子が実装されるよりも先に、弾性材料を配置することにより、弾性材料が半導体発光素子の上面に付着することを防止することができる。また、弾性材料を含む第2の絶縁性接着剤を所定位置に分布させるように配置することで、半導体発光素子を配置する際に第2の絶縁性接着剤が塗布されている箇所とは異なる位置に半導体発光素子を配置するだけで、半導体発光素子と弾性材料の接触を防止し、発光素子へのクラックの発生を抑制することができる。
あるいは、第1の導電性基板上に、ディスペンサもしくはスクリーン印刷によって第2の絶縁性接着剤を配置し、その後、弾性材料をスプレー等を用いて第2の絶縁性接着剤中に含ませてもよい。このとき、半導体発光素子が配置される予定領域には、弾性材料が付着しないように、適宜マスク等を設け、半導体発光素子の配置前にマスクを除去することが好ましい。
The second insulating adhesive preferably includes an elastic material. By disposing the elastic material prior to mounting the semiconductor light emitting element, it is possible to prevent the elastic material from adhering to the upper surface of the semiconductor light emitting element. Further, by disposing the second insulating adhesive containing the elastic material so as to be distributed at a predetermined position, the second insulating adhesive is different from the portion where the second insulating adhesive is applied when the semiconductor light emitting element is disposed. By simply arranging the semiconductor light emitting element at the position, the contact between the semiconductor light emitting element and the elastic material can be prevented, and the occurrence of cracks in the light emitting element can be suppressed.
Alternatively, the second insulating adhesive may be disposed on the first conductive substrate by dispenser or screen printing, and then the elastic material may be included in the second insulating adhesive using a spray or the like. Good. At this time, it is preferable that a mask or the like is provided as appropriate in a region where the semiconductor light emitting element is arranged so that the elastic material does not adhere, and the mask is removed before the semiconductor light emitting element is arranged.

続いて、図5に示すように、半導体発光素子20を含む第1の絶縁性接着剤31を導電性基板上に配置する。予め第1の絶縁性接着剤に半導体発光素子を混合して導電性基板上に塗布することで、工程中のハンドリングを良好にすることができる。特に小型の半導体発光素子(例えば、100μm以下もの)を用いる場合に有利である。具体的には、半導体発光素子を実装基板等に実装する場合には、一般的にコレット等で吸着し、実装基板上へ搬送するが、コレットが吸着できる大きさには限界があるため、半導体発光素子が小型になればなるほど希望の位置に搬送することが困難となる。しかし、予め第1の絶縁性接着剤に半導体発光素子を混合し、絶縁性接着剤を含めた体積をスポイト等で吸引することで、小型の半導体発光素子であっても所望の位置へ搬送し、配置することができる。また、第2の接着剤を塗布した領域とは異なる箇所に配置することが好ましい。また、後の工程で絶縁性接着剤を硬化させるときに、第1の絶縁性接着剤と第2の絶縁性接着剤が接触するように配置することが好ましい。例えば、先に配置した第2の絶縁性接着剤から0.5〜5mm以内に配置することが挙げられる。また、1箇所につき0.001〜3μl程度配置することが好ましい。具体的な塗布方法としては、ディスペンサ等を用いることができる。あるいは、第1の導電性基板上に、ディスペンサもしくは印刷によって第1の絶縁性接着剤を配置し、その後、半導体発光素子をスプレー等を用いて第1の絶縁性接着剤中に含ませてもよい。これにより、後の工程で半導体発光素子と第2の導電性基板を接触させることが容易となる。また、半導体発光素子を別の工程で配置させることもできる。その場合、第1の絶縁性接着剤をスクリーン印刷により形成することもでき、半導体発光素子の配置としては、粘着シート等で転写する方法などが挙げられる。   Subsequently, as shown in FIG. 5, a first insulating adhesive 31 including the semiconductor light emitting element 20 is disposed on the conductive substrate. By mixing the semiconductor light emitting element with the first insulating adhesive in advance and applying it to the conductive substrate, handling during the process can be improved. This is particularly advantageous when a small semiconductor light emitting element (for example, 100 μm or less) is used. Specifically, when a semiconductor light emitting element is mounted on a mounting board or the like, it is generally adsorbed by a collet or the like and transported onto the mounting board, but the size that the collet can be adsorbed is limited. The smaller the light emitting element is, the more difficult it is to transport it to a desired position. However, by mixing the semiconductor light emitting element in advance with the first insulating adhesive and sucking the volume including the insulating adhesive with a dropper or the like, even a small semiconductor light emitting element can be conveyed to a desired position. Can be arranged. Moreover, it is preferable to arrange | position in the location different from the area | region which applied the 2nd adhesive agent. In addition, when the insulating adhesive is cured in a later step, it is preferable to arrange the first insulating adhesive and the second insulating adhesive so as to contact each other. For example, it may be arranged within 0.5 to 5 mm from the second insulating adhesive arranged previously. Moreover, it is preferable to arrange about 0.001 to 3 μl per one place. As a specific application method, a dispenser or the like can be used. Alternatively, the first insulating adhesive may be disposed on the first conductive substrate by dispenser or printing, and then the semiconductor light emitting element may be included in the first insulating adhesive using a spray or the like. Good. Thereby, it becomes easy to contact the semiconductor light emitting element and the second conductive substrate in a later step. In addition, the semiconductor light emitting device can be arranged in a separate process. In that case, the first insulating adhesive can also be formed by screen printing, and examples of the arrangement of the semiconductor light emitting element include a method of transferring with an adhesive sheet or the like.

また、絶縁性接着剤及び/又は半導体発光素子は、不規則に配置されてもよいし、規則的に配置されていてもよい。複数の半導体発光素子を近接して配置してもよいが、熱源を分散させるという点からは、半導体発光素子は、各々が離間して配置されることが好ましい。
また、それぞれの半導体発光素子20の電極の向きは、一方の電極が全て正極または負極となるように揃えてもよい。または、第1の導電性基板に接触する側が正極である半導体発光素子と上部電極が負極である半導体発光素子を混在して(電極の向きが不揃いで)配置してもよい。
また、同一面側に電極が形成されるような半導体発光素子を用いる場合には、第1の基板又は第2の基板を絶縁性のもので構成することができ、電極の向きが導電性基板側となるように配置することが好ましい。
Further, the insulating adhesive and / or the semiconductor light emitting element may be arranged irregularly or regularly. Although a plurality of semiconductor light emitting elements may be arranged close to each other, it is preferable that the semiconductor light emitting elements are arranged apart from each other from the viewpoint of dispersing the heat source.
Moreover, the direction of the electrodes of each semiconductor light emitting element 20 may be aligned so that one of the electrodes is all positive or negative. Alternatively, a semiconductor light-emitting element having a positive electrode on the side in contact with the first conductive substrate and a semiconductor light-emitting element having a negative electrode on the upper electrode may be mixed (with the electrodes not aligned).
Further, in the case of using a semiconductor light emitting element in which electrodes are formed on the same surface side, the first substrate or the second substrate can be made of an insulating material, and the direction of the electrodes is a conductive substrate. It is preferable to arrange so as to be on the side.

次に、図6に示すように、第2の導電性基板を導電膜が形成された面同士が対向するように配置する。図1に示すように、同じ大きさの一対の基板を端部がそれぞれ露出するよう全部が重ならないように配置し、接続部を設けることが好ましい。このように構成することで、発光装置の外面に接続部を設ける必要がなく、外側には絶縁フィルム等により保護層を設けることで半導体発光装置の強度を高めることができるためである。また、第2の導電性基板を配置して硬化させる前に、導電性基板の隙間を絶縁性接着剤によって充填するために、第1の絶縁性接着剤及び/又は第2の絶縁性接着剤を注入してもよい。   Next, as shown in FIG. 6, the second conductive substrate is arranged so that the surfaces on which the conductive film is formed face each other. As shown in FIG. 1, it is preferable to arrange a pair of substrates having the same size so as not to overlap each other so that the end portions are exposed, and to provide a connection portion. With this configuration, it is not necessary to provide a connection portion on the outer surface of the light-emitting device, and the strength of the semiconductor light-emitting device can be increased by providing a protective layer with an insulating film or the like on the outside. In addition, the first insulating adhesive and / or the second insulating adhesive is used to fill the gap between the conductive substrates with the insulating adhesive before the second conductive substrate is placed and cured. May be injected.

最後に、図7に示すように、第2の導電性基板に加圧して第1の導電性基板と第2の導電性基板を貼り合わせて半導体発光素子を挟持し、第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤を硬化させることで半導体発光装置を得ることができる。第2の導電性基板を加圧することで、第1の絶縁性接着剤は、半導体発光素子の側面へと回り込み、第1の絶縁性接着剤中に含まれる半導体発光素子は第1の導電性基板と接触し、電気的に導通させることが可能になる。弾性材料が半導体発光素子の上方もしくは下方に配置されてしまった場合、基板を加圧することで半導体発光素子にクラックや割れが発生するが、本発明の製造方法によれば、これを確実に防止することができる。絶縁性接着剤の硬化方法としては、加熱もしくは、紫外光などの照射による方法が挙げられる。
具体的な加圧方法としては、ローラー等公知の方法を用いることができる。また、このとき加熱することにより、第1の絶縁性接着剤を軟化させることが好ましい。加熱条件としては、120〜180℃程度、10〜60分程度で行うことが好ましい。また、第1の絶縁性接着剤と、第2の絶縁性接着剤が接触するように、導電性基板を貼り合わせることが好ましい。空隙が形成されないようにすることで光取出しを向上させることができる。
また、導電性基板を貼り合わせた後に、さらに圧着ローラー等を用いて両者を強固に貼り合わせてもよい。
Finally, as shown in FIG. 7, a pressure is applied to the second conductive substrate so that the first conductive substrate and the second conductive substrate are bonded together to sandwich the semiconductor light emitting element, and the first insulating adhesion is performed. The semiconductor light emitting device can be obtained by curing the agent and the second insulating adhesive. By pressurizing the second conductive substrate, the first insulating adhesive wraps around the side surface of the semiconductor light emitting element, and the semiconductor light emitting element contained in the first insulating adhesive has the first conductive property. It can be brought into electrical contact with the substrate. When the elastic material is disposed above or below the semiconductor light emitting device, the semiconductor light emitting device is cracked or cracked by pressurizing the substrate. However, according to the manufacturing method of the present invention, this is surely prevented. can do. Examples of the curing method for the insulating adhesive include heating and irradiation with ultraviolet light.
As a specific pressurizing method, a known method such as a roller can be used. In addition, it is preferable to soften the first insulating adhesive by heating at this time. As heating conditions, it is preferable to carry out in about 120-180 degreeC and about 10-60 minutes. In addition, it is preferable that the conductive substrate is bonded so that the first insulating adhesive and the second insulating adhesive are in contact with each other. The light extraction can be improved by preventing the voids from being formed.
Further, after the conductive substrates are bonded together, the both may be bonded firmly using a pressure roller or the like.

また、半導体発光素子の駆動方法は、その電極の向きが揃っている場合は、好ましくは、直流駆動または直流パルス駆動であり、一方、その電極の向きが揃っていない場合は、好ましくは、交流正弦波駆動、交流パルス駆動である。
投入する電流は、好ましくは、1個の半導体発光素子あたり、10mA以下とし、導電性基板10の10cm四方あたり、1W以上10W以下に設定することが好ましい。
また、このようにして得られた半導体発光装置を任意に分割し、発光装置として用いてもよい。
Further, the driving method of the semiconductor light emitting element is preferably direct current driving or direct current pulse driving when the direction of the electrode is uniform, while preferably the alternating current when the direction of the electrode is not uniform. Sine wave drive and AC pulse drive.
The supplied current is preferably 10 mA or less per semiconductor light emitting element, and is preferably set to 1 W or more and 10 W or less per 10 cm square of the conductive substrate 10.
In addition, the semiconductor light emitting device thus obtained may be arbitrarily divided and used as a light emitting device.

以下に本発明の半導体発光装置の実施例を示す。
<実施例1>
図1に示されるような本実施例の半導体発光装置100は、ガラス基板上にITOによる透明導電膜が形成された導電性基板10a及び10bの間に複数の窒化物半導体発光素子20が配置されている。この半導体発光素子は、図3に示すように、GaN基板上に、n型窒化物半導体層、活性層、p型窒化物半導体層が形成され、p型窒化物半導体層上にはITOでp側電極が、基板の裏面にはTi/Auでn側電極が形成されている。半導体発光素子の間には、半導体発光素子の側面を被覆する第1の絶縁性接着剤としてシリコーン樹脂が、第1の絶縁性接着剤の間に設けられた第2の絶縁性接着剤としてエポキシ樹脂が充填されている。また、導電性基板同士は、図1に示すように互いに端部を露出し合う様に対向しており、露出した端部の接続部12で外部と接続されている。
Examples of the semiconductor light emitting device of the present invention are shown below.
<Example 1>
In the semiconductor light emitting device 100 of the present embodiment as shown in FIG. 1, a plurality of nitride semiconductor light emitting elements 20 are disposed between conductive substrates 10a and 10b each having a transparent conductive film made of ITO on a glass substrate. ing. In this semiconductor light emitting device, as shown in FIG. 3, an n-type nitride semiconductor layer, an active layer, and a p-type nitride semiconductor layer are formed on a GaN substrate, and the p-type nitride semiconductor layer is made of ITO with p. The side electrode is formed of Ti / Au on the back surface of the substrate. Between the semiconductor light emitting elements, a silicone resin is used as a first insulating adhesive covering the side surface of the semiconductor light emitting element, and an epoxy is used as a second insulating adhesive provided between the first insulating adhesives. Filled with resin. Further, as shown in FIG. 1, the conductive substrates face each other so that the end portions are exposed to each other, and are connected to the outside through the connection portions 12 at the exposed end portions.

本実施例の半導体発光装置は、両面発光タイプの半導体発光装置であり、導電性基板10を通過した光が図1の上下方向側に出射される。発光した光のうち、半導体発光素子20より上方に向かった光は、上方の導電性基板10bを透過し、半導体発光装置100の外に取り出される。また、半導体発光素子20より下方に向かった光は、下方の導電性基板10aを透過し、半導体発光装置100の外に取り出される。また、半導体発光素子の側方へ放出された光は、第1の接着剤と、第2の接着剤の界面で散乱し、上方もしくは下方へ進み、外部へと放出される。   The semiconductor light-emitting device of this example is a double-sided light-emitting type semiconductor light-emitting device, and light that has passed through the conductive substrate 10 is emitted in the vertical direction side of FIG. Of the emitted light, the light directed upward from the semiconductor light emitting element 20 is transmitted through the upper conductive substrate 10 b and extracted outside the semiconductor light emitting device 100. Further, the light directed downward from the semiconductor light emitting element 20 passes through the lower conductive substrate 10 a and is extracted out of the semiconductor light emitting device 100. Further, the light emitted to the side of the semiconductor light emitting element is scattered at the interface between the first adhesive and the second adhesive, proceeds upward or downward, and is emitted to the outside.

このような半導体発光装置は、以下の方法により製造することができる。
まず、5cm四方の大きさで厚さが700μmのガラス基板の一方の面に、ITOを10nm形成したものを2枚準備する。図4に示すように、一方の導電性基板(第1の導電性基板)のITOが形成された面に、第2の絶縁性接着剤6μlずつディスペンサを用いて塗布する。このとき、所定量を10mmピッチの等間隔で基板上に塗布し、一辺の外周端部は5mm程度の幅で露出させておく。
このように、第1の導電性基板上に第2の絶縁性接着剤を塗布したものを、加熱装置により、80℃で60分保持することにより、第2の絶縁性接着剤をBステージ状態とする。
Such a semiconductor light emitting device can be manufactured by the following method.
First, two sheets of ITO with 10 nm formed on one surface of a glass substrate having a size of 5 cm square and a thickness of 700 μm are prepared. As shown in FIG. 4, 6 μl of the second insulating adhesive is applied to the surface of one conductive substrate (first conductive substrate) on which ITO is formed using a dispenser. At this time, a predetermined amount is applied on the substrate at equal intervals of 10 mm pitch, and the outer peripheral edge of one side is exposed with a width of about 5 mm.
Thus, what applied the 2nd insulating adhesive on the 1st conductive board | substrate is hold | maintained for 60 minutes at 80 degreeC with a heating apparatus, A 2nd insulating adhesive is a B stage state And

続いて、図5に示すように、この第1の絶縁性接着剤を第1の導電性基板の露出している領域に100μm角、厚さ75μmの半導体発光素子を含む第1の絶縁性接着剤を1.5μlずつ塗布し、半導体発光素子16個を配置する。   Subsequently, as shown in FIG. 5, the first insulating adhesive is applied to the exposed region of the first conductive substrate, and the first insulating adhesive including a semiconductor light emitting element having a thickness of 100 μm square and a thickness of 75 μm. The agent is applied 1.5 μl at a time, and 16 semiconductor light emitting elements are arranged.

続いて、図6に示すように、ITOが形成された面同士が対向するように他方の導電性基板(第2の導電性基板)を配置する。このとき、先に露出させた外周端部が露出するようにずらして第1の導電性基板と第2の導電性基板を配置する。   Subsequently, as shown in FIG. 6, the other conductive substrate (second conductive substrate) is disposed so that the surfaces on which the ITO is formed face each other. At this time, the first conductive substrate and the second conductive substrate are arranged so as to be shifted so that the outer peripheral end exposed first is exposed.

続いて、図7に示すように、一対の導電性基板で半導体発光素子、第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤を挟んだ状態で、真空引きして加圧する。またこのとき、加熱して、150℃程度で保持する。半導体発光素子の周囲の第1の絶縁性接着剤は、第2の導電性基板の押圧により、素子の側方へと移動し、発光素子の側面を被覆する。第2の絶縁性接着剤は、加熱により軟化し、第2の導電性基板と密着する。
以上のようにして半導体発光装置を得ることができる。
Subsequently, as shown in FIG. 7, the semiconductor light emitting element, the first insulating adhesive, and the second insulating adhesive are sandwiched between a pair of conductive substrates, and vacuuming is performed and pressure is applied. At this time, it is heated and held at about 150 ° C. The first insulating adhesive around the semiconductor light emitting element moves to the side of the element by the pressing of the second conductive substrate and covers the side surface of the light emitting element. The second insulating adhesive is softened by heating and is in close contact with the second conductive substrate.
A semiconductor light emitting device can be obtained as described above.

本実施例の半導体発光装置では、導電性基板同士の密着性が高く、時間の経過や長時間の駆動、高温動作時における基板の剥離やクラックの発生は見られない。また、基板同士が強固に接着されていることで、半導体発光素子と導電性基板との接着性も良好である。
また、本実施例の製造方法によると、第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤を第1の導電性基板上において確実に分布して配置することができる。
In the semiconductor light emitting device of this example, the adhesiveness between the conductive substrates is high, and no lapse of time, long time driving, and no peeling or cracking of the substrate during high temperature operation are observed. Further, since the substrates are firmly bonded to each other, the adhesion between the semiconductor light emitting element and the conductive substrate is also good.
In addition, according to the manufacturing method of this embodiment, the first insulating adhesive and the second insulating adhesive can be reliably distributed and arranged on the first conductive substrate.

<実施例2>
本実施例の実施例1と異なる点は、図2に示すように、第2の絶縁性接着剤中に弾性材料が含まれる点であり、具体的には、第2の絶縁性接着剤に積水化学工業株式会社製のミクロパールEXが含まれている。第2の絶縁性接着剤に弾性材料を0.3wt%程度混合した後に、第1の導電性基板に第2の絶縁性接着剤を塗布する。それ以外は、実施例1と同様にして作製する。
本実施例の半導体発光装置は、実施例1の半導体発光装置と比較して、導電性基板同士の接触による不良を低減することができる。さらに、弾性材料が、半導体発光素子の上面もしくは下面に入り込むことがないので半導体発光素子の導通不良やクラックが発生することがない。
<Example 2>
The difference of the present embodiment from the first embodiment is that, as shown in FIG. 2, the second insulating adhesive contains an elastic material. Specifically, the second insulating adhesive includes the second insulating adhesive. Micropearl EX manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. is included. After the elastic material is mixed with the second insulating adhesive by about 0.3 wt%, the second insulating adhesive is applied to the first conductive substrate. Other than that, it produces similarly to Example 1. FIG.
Compared with the semiconductor light-emitting device of Example 1, the semiconductor light-emitting device of this example can reduce defects due to contact between conductive substrates. Further, since the elastic material does not enter the upper surface or the lower surface of the semiconductor light emitting device, the semiconductor light emitting device does not have poor conduction or cracks.

<実施例3>
本実施例の実施例1と異なる点は、第2の導電性基板に反射性を有する金属基板を用いる点であり、具体的には、Cu(300μm)上に、Ni(5μm)を介してAgからなる導電膜(2μm)が形成されている。それ以外は、実施例1と同様にして作製する。本実施例の半導体発光装置では、第2の導電性基板側で光を反射し、第1の導電性基板側にのみ光を放出する点が、実施例1の発光装置とは異なっている。
本実施例の半導体発光装置では、実施例1と比較して、第2の導電性基板が導電性を有するとともに熱伝導率が高いので、放熱性に優れている。そのため、本実施例の半導体発光装置は、より多くの電流を流しても温度上昇が小さいという利点がある。
<Example 3>
The difference of the present embodiment from the first embodiment is that a reflective metal substrate is used for the second conductive substrate. Specifically, Ni (5 μm) is interposed on Cu (300 μm). A conductive film (2 μm) made of Ag is formed. Other than that, it produces similarly to Example 1. FIG. The semiconductor light emitting device of this embodiment is different from the light emitting device of Embodiment 1 in that light is reflected on the second conductive substrate side and light is emitted only on the first conductive substrate side.
In the semiconductor light emitting device of this example, compared with Example 1, the second conductive substrate has conductivity and high thermal conductivity, and therefore has excellent heat dissipation. Therefore, the semiconductor light emitting device of this embodiment has an advantage that the temperature rise is small even when more current is passed.

<実施例4>
本実施例の実施例1と異なる点は、第2の導電性基板にフレキシブル材料を用いる点であり、具体的には、第1の接着剤及び半導体発光素子を第1の導電性基板上に配置した後に、ポリイミド(12.5μm)/エポキシ(10μm)/Cu(18μm)/Ni(5μm)/Ag(2μm)からなる第2の導電性基板を用いてAg層側を半導体発光素子及び接着剤と貼り合わせる。それ以外は、実施例1と同様にして作製する。
本実施例の半導体発光装置は、実施例1の半導体発光装置と比較して、柔軟性に富み自在に湾曲させることができるフレキシブルな発光装置50を構成することもでき、例えば、曲面に沿って発光装置を配置することも可能である。
<Example 4>
The difference of the present embodiment from Embodiment 1 is that a flexible material is used for the second conductive substrate. Specifically, the first adhesive and the semiconductor light emitting element are placed on the first conductive substrate. After the arrangement, the Ag layer side is bonded to the semiconductor light emitting device and the second conductive substrate made of polyimide (12.5 μm) / epoxy (10 μm) / Cu (18 μm) / Ni (5 μm) / Ag (2 μm). Bond with the agent. Other than that, it produces similarly to Example 1. FIG.
The semiconductor light emitting device of the present embodiment can also be configured as a flexible light emitting device 50 that can be bent flexibly and freely as compared with the semiconductor light emitting device of the first embodiment, for example, along a curved surface. It is also possible to arrange a light emitting device.

<実施例5>
本実施例の実施例1と異なる点は、図8に示すように、第1の導電性基板の導電膜上に補助電極が設けられている点であり、具体的には、第1の導電性基板に厚み20μmのAgペーストからなる長さ5cm、幅500μmのパターンを半導体発光素子の実装予定位置の間に等間隔で形成し、続いて第2の絶縁性接着剤を配置する。それ以外は、実施例1と同様にして作製する。
本実施例の半導体発光装置は、実施例1の半導体発光装置と比較して、半導体発光装置の面内において均等に電流を供給することが可能となり、半導体発光装置からの光取り出しを均一にすることができる。
<Example 5>
The difference of the present embodiment from Embodiment 1 is that an auxiliary electrode is provided on the conductive film of the first conductive substrate, as shown in FIG. A pattern having a length of 5 cm and a width of 500 μm made of an Ag paste having a thickness of 20 μm is formed on the conductive substrate at equal intervals between the planned mounting positions of the semiconductor light emitting element, and then a second insulating adhesive is disposed. Other than that, it produces similarly to Example 1. FIG.
Compared with the semiconductor light emitting device of the first embodiment, the semiconductor light emitting device of this embodiment can supply a current evenly in the plane of the semiconductor light emitting device, and makes light extraction from the semiconductor light emitting device uniform. be able to.

本発明の半導体発光装置は、照明器具、車両搭載用照明、ディスプレイ、インジケータ等、広範囲に利用することができる。   The semiconductor light-emitting device of the present invention can be used in a wide range of lighting fixtures, vehicle-mounted lighting, displays, indicators, and the like.

100 半導体発光装置
10 導電性基板
11 導電膜
12 接続部
20 半導体発光素子
21 成長用基板
22 n型半導体層
23 活性層
24 p型半導体層
25 p側電極
26 n側電極
31 第1の絶縁性接着剤
32 第2の絶縁性接着剤
33 弾性材料
40 補助電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Semiconductor light-emitting device 10 Conductive substrate 11 Conductive film 12 Connection part 20 Semiconductor light-emitting element 21 Growth substrate 22 N-type semiconductor layer 23 Active layer 24 P-type semiconductor layer 25 P-side electrode 26 N-side electrode 31 First insulating adhesion Agent 32 Second Insulating Adhesive 33 Elastic Material 40 Auxiliary Electrode

Claims (10)

少なくとも一方が透光性を有する一対の基板の間に複数の半導体発光素子が挟持された半導体発光装置において、
隣り合う半導体発光素子の間に、第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤を有し、それぞれの半導体発光素子の側面を被覆するように第1の絶縁性接着剤が配置され、第1の絶縁性接着剤の間に第2の絶縁性接着剤が配置されている半導体発光装置。
In a semiconductor light emitting device in which a plurality of semiconductor light emitting elements are sandwiched between a pair of substrates at least one of which has translucency,
Between the adjacent semiconductor light emitting elements, the first insulating adhesive and the second insulating adhesive are provided, and the first insulating adhesive is disposed so as to cover the side surfaces of the respective semiconductor light emitting elements. A semiconductor light emitting device in which a second insulating adhesive is disposed between the first insulating adhesives.
前記第2の絶縁性接着剤は、前記第1の絶縁性接着剤と接触するように配置され、弾性材料を含む請求項1に記載の半導体発光装置。   The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the second insulating adhesive is disposed so as to contact the first insulating adhesive and includes an elastic material. 前記弾性材料は、前記半導体発光素子の厚みよりも小さい直径を有する球体である請求項2に記載の半導体発光装置。   The semiconductor light emitting device according to claim 2, wherein the elastic material is a sphere having a diameter smaller than a thickness of the semiconductor light emitting element. 前記第2の絶縁性接着剤の屈折率は、前記第1の絶縁性接着剤の屈折率よりも大きい請求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体発光装置。   4. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein a refractive index of the second insulating adhesive is larger than a refractive index of the first insulating adhesive. 5. 前記第2の絶縁性接着剤の線膨張係数は、前記第1の絶縁性接着剤の線膨張係数よりも小さい請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体発光装置。   5. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein a linear expansion coefficient of the second insulating adhesive is smaller than a linear expansion coefficient of the first insulating adhesive. 前記第1の絶縁性接着剤はシリコーン樹脂であり、前記第2の絶縁性接着剤はエポキシ樹脂である請求項1乃至4のいずれか1項に記載の半導体発光装置。   5. The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the first insulating adhesive is a silicone resin, and the second insulating adhesive is an epoxy resin. 6. 前記基板は、少なくとも一方がガラス基板上に透光性導電膜を設けたものである請求項1乃至5のいずれか1項に記載の半導体発光装置。   The semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein at least one of the substrates is a glass substrate provided with a translucent conductive film. 基板上に第2の絶縁性接着剤を配置する工程と、
前記第2の絶縁性接着剤を半硬化させる工程と、
半導体発光素子を含む第1の絶縁性接着剤を前記基板上に配置する工程と、
前記基板と前記基板とは別の基板とを用いて前記半導体発光素子を挟持し、前記第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤を硬化する接着剤硬化工程とを具備する半導体発光装置の製造方法。
Placing a second insulating adhesive on the substrate;
Semi-curing the second insulating adhesive;
Disposing a first insulating adhesive including a semiconductor light emitting element on the substrate;
A semiconductor comprising: an adhesive curing step of sandwiching the semiconductor light emitting element using the substrate and a substrate different from the substrate and curing the first insulating adhesive and the second insulating adhesive Manufacturing method of light-emitting device.
前記接着剤硬化工程において、前記第1の絶縁性接着剤及び第2の絶縁性接着剤が接触するように基板上に配置される請求項8に記載の半導体発光装置の製造方法。   The method for manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 8, wherein in the adhesive curing step, the first insulating adhesive and the second insulating adhesive are arranged on the substrate so as to contact each other. 前記第2の絶縁性接着剤を基板上に配置する前に、第2の絶縁性接着剤に弾性材料を混合する工程を含む請求項8又は9に記載の半導体発光装置の製造方法。   10. The method of manufacturing a semiconductor light emitting device according to claim 8, further comprising a step of mixing an elastic material with the second insulating adhesive before disposing the second insulating adhesive on the substrate. 11.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013254990A (en) * 2013-09-26 2013-12-19 Nichia Chem Ind Ltd Semiconductor light-emitting device and method of manufacturing the same
JP2015507370A (en) * 2012-02-02 2015-03-05 ザ プロクター アンド ギャンブルカンパニー Luminescent laminate and method for producing the same
JP2015513213A (en) * 2012-02-02 2015-04-30 ザ プロクター アンド ギャンブルカンパニー Bidirectional light sheet
JP2016510170A (en) * 2013-02-28 2016-04-04 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. Simple LED package suitable for capacitive drive
JP6055054B1 (en) * 2015-09-09 2016-12-27 奥本 健二 Light emitting device and manufacturing method thereof
JP2017011030A (en) * 2015-06-18 2017-01-12 豊田合成株式会社 Method for manufacturing light-emitting device

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59127253U (en) * 1983-02-17 1984-08-27 舶用電球株式会社 surface light emitter
JPH01227444A (en) * 1988-03-07 1989-09-11 Sharp Corp Connection structure
JPH0610982U (en) * 1992-07-14 1994-02-10 日本航空電子工業株式会社 Planar light emitting unit
JPH10274773A (en) * 1997-03-31 1998-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd Liquid crystal cell and manufacturing method thereof
JPH11177147A (en) * 1997-12-16 1999-07-02 Rohm Co Ltd Photo-semiconductor module and its manufacturing method
JP2008034473A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Toyoda Gosei Co Ltd Surface light source
JP2008199000A (en) * 2007-01-18 2008-08-28 Citizen Electronics Co Ltd Semiconductor light-emitting device
JP2009010204A (en) * 2007-06-28 2009-01-15 Nichia Corp Light emitting device
JP2009099784A (en) * 2007-10-17 2009-05-07 Nitto Denko Corp Method of manufacturing optical semiconductor device
JP2009246142A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Panasonic Corp Light emitting device, and method of manufacturing the same

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59127253U (en) * 1983-02-17 1984-08-27 舶用電球株式会社 surface light emitter
JPH01227444A (en) * 1988-03-07 1989-09-11 Sharp Corp Connection structure
JPH0610982U (en) * 1992-07-14 1994-02-10 日本航空電子工業株式会社 Planar light emitting unit
JPH10274773A (en) * 1997-03-31 1998-10-13 Fuji Photo Film Co Ltd Liquid crystal cell and manufacturing method thereof
JPH11177147A (en) * 1997-12-16 1999-07-02 Rohm Co Ltd Photo-semiconductor module and its manufacturing method
JP2008034473A (en) * 2006-07-26 2008-02-14 Toyoda Gosei Co Ltd Surface light source
JP2008199000A (en) * 2007-01-18 2008-08-28 Citizen Electronics Co Ltd Semiconductor light-emitting device
JP2009010204A (en) * 2007-06-28 2009-01-15 Nichia Corp Light emitting device
JP2009099784A (en) * 2007-10-17 2009-05-07 Nitto Denko Corp Method of manufacturing optical semiconductor device
JP2009246142A (en) * 2008-03-31 2009-10-22 Panasonic Corp Light emitting device, and method of manufacturing the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015507370A (en) * 2012-02-02 2015-03-05 ザ プロクター アンド ギャンブルカンパニー Luminescent laminate and method for producing the same
JP2015513213A (en) * 2012-02-02 2015-04-30 ザ プロクター アンド ギャンブルカンパニー Bidirectional light sheet
JP2016510170A (en) * 2013-02-28 2016-04-04 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. Simple LED package suitable for capacitive drive
JP2013254990A (en) * 2013-09-26 2013-12-19 Nichia Chem Ind Ltd Semiconductor light-emitting device and method of manufacturing the same
JP2017011030A (en) * 2015-06-18 2017-01-12 豊田合成株式会社 Method for manufacturing light-emitting device
JP6055054B1 (en) * 2015-09-09 2016-12-27 奥本 健二 Light emitting device and manufacturing method thereof

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