JP2011091221A - Electronic component - Google Patents

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JP2011091221A JP2009244044A JP2009244044A JP2011091221A JP 2011091221 A JP2011091221 A JP 2011091221A JP 2009244044 A JP2009244044 A JP 2009244044A JP 2009244044 A JP2009244044 A JP 2009244044A JP 2011091221 A JP2011091221 A JP 2011091221A
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Toshio Kawabata
利夫 河端
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component suppressing interlayer separation of a laminate. <P>SOLUTION: The laminate 12 is formed by laminating an insulating layer 16 formed of a magnetic material and an insulating layer 17 formed of a non-magnetic material. A coil L is a helical coil formed by connecting coil conductor layers 18. The coil conductor layers 18a, 18b, 18d-18f form a rectangular annular track R as seen planarly from a z-axial direction. As seen planarly from the z-axial direction, the coil conductor layer 18c contacts the insulating layer 17 from the negative side of the z-axial direction, and circles inside the track R. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品の製造方法に関し、より特定的には、複数の絶縁体層が積層されてなる積層体を有する電子部品に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an electronic component, and more particularly, to an electronic component having a laminate in which a plurality of insulator layers are laminated.

従来の電子部品としては、特許文献1に記載の開磁路型積層コイル部品(以下、単に積層コイル部品と称す)が知られている。以下に、該積層コイル部品について説明する。   As a conventional electronic component, an open magnetic circuit type multilayer coil component (hereinafter simply referred to as a multilayer coil component) described in Patent Document 1 is known. The laminated coil component will be described below.

積層コイル部品は、複数のコイル用導体パターンを電気的に接続して構成した螺旋状コイルを内蔵したコイル部と、コイル部の外側に積層された外層部とを有している。そして、積層コイル部品の積層方向において、コイル部の略中央の位置に非磁性セラミック層が配置されている。以上の構成を有する積層コイル部品では、非磁性セラミック層が設けられているので、磁気飽和が発生しにくい。そのため、積層コイル部品では、優れた直流重畳特性を有している。   The laminated coil component has a coil part containing a spiral coil configured by electrically connecting a plurality of coil conductor patterns, and an outer layer part laminated on the outside of the coil part. And the nonmagnetic ceramic layer is arrange | positioned in the position of the approximate center of a coil part in the lamination direction of laminated coil components. In the laminated coil component having the above configuration, magnetic saturation is unlikely to occur because the nonmagnetic ceramic layer is provided. Therefore, the laminated coil component has excellent direct current superposition characteristics.

しかしながら、特許文献1に記載の積層コイル部品では、非磁性セラミック層において層間剥離が発生するおそれがある。以下に、図面を参照しながら説明する。図4は、特許文献1に記載の積層コイル部品の非磁性セラミック層近傍の断面構造図である。   However, in the multilayer coil component described in Patent Document 1, delamination may occur in the nonmagnetic ceramic layer. Hereinafter, description will be given with reference to the drawings. FIG. 4 is a cross-sectional structure diagram in the vicinity of the nonmagnetic ceramic layer of the multilayer coil component described in Patent Document 1.

積層コイル部品は、磁性セラミック層502(502a〜502d)及び非磁性セラミック層500が積層されることにより構成されている。そして、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500上には、コイル用導体パターン504(504a〜504e)が設けられている。   The laminated coil component is configured by laminating a magnetic ceramic layer 502 (502a to 502d) and a nonmagnetic ceramic layer 500. On the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500, coil conductor patterns 504 (504a to 504e) are provided.

以上の構成を有する積層コイル部品では、コイル用導体パターン504が設けられている領域における積層方向の厚みは、コイル用導体パターン504が設けられていない領域における積層方向の厚みよりも大きくなる。そのため、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500は、コイル用導体パターン504が設けられている領域において、積層方向の上側に突出した形状をなすようになる。よって、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500が積層方向の上側に突出している部分の両端では、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500の接合面の法線が積層方向に対して傾いてしまう。その結果、圧着時において、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500に対して、十分な圧力が加わらなくなる。更には、磁性セラミック層502の材料と非磁性セラミック層500の材料とは異なっている。以上より、磁性セラミック層502b,502cと非磁性セラミック層500との間において層間剥離が特に発生しやすい。   In the laminated coil component having the above configuration, the thickness in the lamination direction in the region where the coil conductor pattern 504 is provided is larger than the thickness in the lamination direction in the region where the coil conductor pattern 504 is not provided. Therefore, the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500 have a shape protruding upward in the stacking direction in the region where the coil conductor pattern 504 is provided. Therefore, the normal lines of the joining surfaces of the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500 are inclined with respect to the stacking direction at both ends of the portion where the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500 protrude upward in the stacking direction. End up. As a result, sufficient pressure is not applied to the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500 during the compression bonding. Furthermore, the material of the magnetic ceramic layer 502 and the material of the nonmagnetic ceramic layer 500 are different. As described above, delamination is particularly likely to occur between the magnetic ceramic layers 502 b and 502 c and the nonmagnetic ceramic layer 500.

特開2005−259774号公報JP 2005-259774 A

そこで、本発明の目的は、層間剥離が積層体に発生することを抑制できる電子部品を提供することである。   Then, the objective of this invention is providing the electronic component which can suppress that delamination generate | occur | produces in a laminated body.

本発明の一形態に係る電子部品は、第1の透磁率を有する複数の第1の絶縁体層と該第1の透磁率よりも小さな第2の透磁率を有する第2の絶縁体層とが積層されて構成されている積層体と、前記積層体に内蔵され、かつ、複数の導体層が接続されることにより構成されている螺旋状のコイルと、を備え、前記第2の絶縁体層に対して積層方向の上側から接触している前記導体層、及び、該導体層よりも積層方向の下側に設けられている前記導体層は、積層方向から平面視したときに、1つの環状の軌道上を周回していないこと、を特徴とする。   An electronic component according to an aspect of the present invention includes a plurality of first insulator layers having a first permeability, and a second insulator layer having a second permeability smaller than the first permeability. And a spiral coil that is built in the multilayer body and formed by connecting a plurality of conductor layers, and the second insulator. When the conductor layer that is in contact with the layer from above in the stacking direction and the conductor layer provided below the conductor layer in the stacking direction are viewed in plan from the stacking direction, It is characterized by not circling on an annular track.

本発明によれば、層間剥離が積層体に発生することを抑制できる。   According to this invention, it can suppress that delamination generate | occur | produces in a laminated body.

本発明の実施形態に係る電子部品の外観斜視図である。1 is an external perspective view of an electronic component according to an embodiment of the present invention. 一実施形態に係る電子部品の積層体の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the laminated body of the electronic component which concerns on one Embodiment. 図1の電子部品のA−Aにおける断面構造図である。FIG. 2 is a cross-sectional structural view taken along line AA of the electronic component in FIG. 特許文献1に記載の積層コイル部品の非磁性セラミック層近傍の断面構造図である。FIG. 6 is a cross-sectional structure diagram in the vicinity of a nonmagnetic ceramic layer of a multilayer coil component described in Patent Document 1.

以下に、本発明の実施形態に係る電子部品について説明する。   The electronic component according to the embodiment of the present invention will be described below.

(電子部品の構成)
本発明の一実施形態に係る電子部品の構成について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る電子部品10の外観斜視図である。図2は、一実施形態に係る電子部品10の積層体12の分解斜視図である。図3は、図1の電子部品10のA−Aにおける断面構造図である。以下、電子部品10の積層方向をz軸方向と定義し、電子部品10に短辺に沿った方向をx軸方向と定義し、電子部品10の長辺に沿った方向をy軸方向と定義する。なお、図3では、外部電極14を省略してある。
(Configuration of electronic parts)
A configuration of an electronic component according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is an external perspective view of an electronic component 10 according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is an exploded perspective view of the multilayer body 12 of the electronic component 10 according to the embodiment. FIG. 3 is a sectional structural view taken along line AA of the electronic component 10 of FIG. Hereinafter, the stacking direction of the electronic component 10 is defined as the z-axis direction, the direction along the short side of the electronic component 10 is defined as the x-axis direction, and the direction along the long side of the electronic component 10 is defined as the y-axis direction. To do. In FIG. 3, the external electrode 14 is omitted.

電子部品10は、図1及び図2に示すように、積層体12、外部電極14(14a,14b)、引き出し導体層19(19a,19b)及びコイル(電子素子)L(図1には図示せず)を備えている。積層体12は、直方体状をなしており、コイルLを内蔵している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the electronic component 10 includes a laminated body 12, external electrodes 14 (14a, 14b), lead conductor layers 19 (19a, 19b), and a coil (electronic element) L (see FIG. 1). Not shown). The laminated body 12 has a rectangular parallelepiped shape and incorporates a coil L.

外部電極14aは、y軸方向の負方向側に位置する積層体12の側面に設けられている。外部電極14bは、y軸方向の正方向側に位置する積層体12の側面に設けられている。すなわち、外部電極14a,14bは、積層体12の互いに対向する側面に設けられている。   The external electrode 14a is provided on the side surface of the multilayer body 12 located on the negative direction side in the y-axis direction. The external electrode 14b is provided on the side surface of the multilayer body 12 positioned on the positive direction side in the y-axis direction. That is, the external electrodes 14 a and 14 b are provided on the side surfaces of the stacked body 12 that face each other.

積層体12は、図2に示すように、絶縁体層16a,16b,17,16c〜16f)がz軸方向の正方向側から負方向側へとこの順に並ぶように積層されることにより構成されている。絶縁体層16(16a〜16f)は、磁性材料(例えば、Ni−Cu−Zn系フェライト)からなる長方形状の層である。絶縁体層17は、非磁性材料(例えば、Cu−Zn系フェライト)からなる長方形状の層であり、コイルLを横切っている。絶縁体層17の厚みは、図3に示すように、絶縁体層16の厚みよりも薄い。なお、磁性体材料又は非磁性体材料とはそれぞれ、−55℃以上+125℃以下の温度範囲において、磁性体材料又は非磁性体材料として機能する材料を意味する。以下では、絶縁体層16,17のz軸方向の正方向側の面を表面と称し、絶縁体層16,17のz軸方向の負方向側の面を裏面と称す。   As shown in FIG. 2, the laminated body 12 is configured by laminating the insulator layers 16a, 16b, 17, 16c to 16f) so that they are arranged in this order from the positive direction side to the negative direction side in the z-axis direction. Has been. The insulator layer 16 (16a to 16f) is a rectangular layer made of a magnetic material (for example, Ni—Cu—Zn-based ferrite). The insulator layer 17 is a rectangular layer made of a nonmagnetic material (for example, Cu—Zn-based ferrite) and crosses the coil L. The thickness of the insulator layer 17 is smaller than the thickness of the insulator layer 16 as shown in FIG. In addition, a magnetic material or a nonmagnetic material means a material that functions as a magnetic material or a nonmagnetic material in a temperature range of −55 ° C. or more and + 125 ° C. or less, respectively. Hereinafter, the surface on the positive direction side in the z-axis direction of the insulator layers 16 and 17 is referred to as a front surface, and the surface on the negative direction side in the z-axis direction of the insulator layers 16 and 17 is referred to as a back surface.

コイルLは、図2に示すように、コイル導体層18(18a〜18f)及びビアホール導体b1〜b5が接続されることにより構成されている。コイルLは、z軸方向と平行なコイル軸を有する螺旋状のコイルである。   As shown in FIG. 2, the coil L is configured by connecting a coil conductor layer 18 (18a to 18f) and via-hole conductors b1 to b5. The coil L is a spiral coil having a coil axis parallel to the z-axis direction.

コイル導体層18は、図2に示すように、絶縁体層16a,16b,17,16c〜16eの裏面上に設けられている。コイル導体層18a,18b,18d〜18fは、z軸方向から平面視したときに、互いに重なり合うことにより長方形状の環状の軌道Rを形成している線状導体である。コイル導体層18cは、z軸方向から平面視したときに、環状の軌道Rの内側を周回している。すなわち、絶縁体層17に対してz軸方向の上側から接触しているコイル導体層18b、及び、該コイル導体層18bよりもz軸方向の負方向側に設けられているコイル導体層18c〜18fの内の一部のコイル導体層18(本実施形態では、絶縁体層17にz軸方向の負方向側から接しているコイル導体層18c)は、z軸方向から平面視したときに、軌道Rの内側を周回している。更に、コイル導体層18c以外のコイル導体層18a,18b,18d〜18fは、z軸方向から平面視したときに、軌道R上を周回している。   As shown in FIG. 2, the coil conductor layer 18 is provided on the back surfaces of the insulator layers 16a, 16b, 17, 16c to 16e. The coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f are linear conductors that form a rectangular annular track R by overlapping each other when viewed in plan from the z-axis direction. The coil conductor layer 18 c circulates inside the annular track R when viewed in plan from the z-axis direction. That is, the coil conductor layer 18b in contact with the insulator layer 17 from the upper side in the z-axis direction, and the coil conductor layers 18c to 18c provided on the negative direction side in the z-axis direction from the coil conductor layer 18b. A part of the coil conductor layer 18 of 18f (in this embodiment, the coil conductor layer 18c in contact with the insulator layer 17 from the negative side in the z-axis direction) is viewed in plan view from the z-axis direction. It goes around the inside of the track R. Further, the coil conductor layers 18a, 18b, 18d to 18f other than the coil conductor layer 18c circulate on the track R when viewed in plan from the z-axis direction.

更に、コイル導体層18cは、z軸方向から平面視したときに、コイル導体層18a,18b,18d〜18fと部分的に重なっている。電子部品10では、コイル導体層18cは、外周側の部分において、線幅の1/2の大きさだけコイル導体層18a,18b,18d〜18fと重なっている。   Furthermore, the coil conductor layer 18c partially overlaps with the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f when viewed in plan from the z-axis direction. In the electronic component 10, the coil conductor layer 18 c overlaps the coil conductor layers 18 a, 18 b, 18 d to 18 f by a half of the line width at the outer peripheral portion.

また、コイル導体層18は、200μmの線幅及び50μmの厚みを有している。更に、コイル導体層18aは、5/8ターンのターン数を有している。コイル導体層18b〜18eは、7/8ターンのターン数を有している。コイル導体層18fは、1/8ターンのターン数を有している。以下では、コイル導体層18において、z軸方向の正方向側から平面視したときに、反時計回りの上流側の端部を上流端とし、反時計回りの下流側の端部を下流端とする。なお、コイル導体層18のターン数は、7/8ターンに限らない。よって、コイル導体層18のターン数は、例えば、1/2ターンであってもよいし、3/4ターンであってもよい。   The coil conductor layer 18 has a line width of 200 μm and a thickness of 50 μm. Furthermore, the coil conductor layer 18a has 5/8 turns. The coil conductor layers 18b to 18e have 7/8 turns. The coil conductor layer 18f has a 1/8 turn number. In the following, in the coil conductor layer 18, when viewed in plan from the positive side in the z-axis direction, the upstream end on the counterclockwise direction is the upstream end, and the downstream end on the counterclockwise direction is the downstream end. To do. The number of turns of the coil conductor layer 18 is not limited to 7/8 turns. Therefore, the number of turns of the coil conductor layer 18 may be, for example, 1/2 turn or 3/4 turn.

ビアホール導体b1〜b5はそれぞれ、図2に示すように、絶縁体層16b,17,16c〜16eをz軸方向に貫通するように設けられており、z軸方向に隣り合っているコイル導体層18同士を接続している。具体的には、ビアホール導体b1は、絶縁体層16bをz軸方向に貫通し、コイル導体層18aの下流端及びコイル導体層18bの上流端に接続されている。ビアホール導体b2は、絶縁体層17をz軸方向に貫通し、コイル導体層18bの下流端及びコイル導体層18cの上流端に接続されている。ビアホール導体b3は、絶縁体層16cをz軸方向に貫通し、コイル導体層18cの下流端及びコイル導体層18dの上流端に接続されている。ビアホール導体b4は、絶縁体層16dをz軸方向に貫通し、コイル導体層18dの下流端及びコイル導体層18eの上流端に接続されている。ビアホール導体b5は、絶縁体層16eをz軸方向に貫通し、コイル導体層18eの下流端及びコイル導体層18fの上流端に接続されている。   As shown in FIG. 2, each of the via-hole conductors b1 to b5 is provided so as to penetrate the insulator layers 16b, 17, and 16c to 16e in the z-axis direction, and is adjacent to the coil conductor layer in the z-axis direction. 18 are connected to each other. Specifically, the via-hole conductor b1 penetrates the insulator layer 16b in the z-axis direction, and is connected to the downstream end of the coil conductor layer 18a and the upstream end of the coil conductor layer 18b. The via-hole conductor b2 penetrates the insulator layer 17 in the z-axis direction, and is connected to the downstream end of the coil conductor layer 18b and the upstream end of the coil conductor layer 18c. The via-hole conductor b3 penetrates the insulator layer 16c in the z-axis direction, and is connected to the downstream end of the coil conductor layer 18c and the upstream end of the coil conductor layer 18d. The via-hole conductor b4 penetrates the insulator layer 16d in the z-axis direction, and is connected to the downstream end of the coil conductor layer 18d and the upstream end of the coil conductor layer 18e. The via-hole conductor b5 penetrates the insulator layer 16e in the z-axis direction, and is connected to the downstream end of the coil conductor layer 18e and the upstream end of the coil conductor layer 18f.

引き出し導体層19aは、図2に示すように、絶縁体層16aの裏面においてコイル導体層18aの上流端に接続されていると共に、絶縁体層16aのy軸方向の負方向側の短辺に引き出されることにより、外部電極14aに接続されている。引き出し導体層19bは、絶縁体層16eの裏面においてコイル導体層18fの下流端に接続されていると共に、絶縁体層16eのy軸方向の正方向側の短辺に引き出されることにより、外部電極14bに接続されている。   As shown in FIG. 2, the lead conductor layer 19a is connected to the upstream end of the coil conductor layer 18a on the back surface of the insulator layer 16a and on the short side of the insulator layer 16a on the negative side in the y-axis direction. By being pulled out, it is connected to the external electrode 14a. The lead conductor layer 19b is connected to the downstream end of the coil conductor layer 18f on the back surface of the insulator layer 16e, and is drawn out to the short side of the insulator layer 16e on the positive side in the y-axis direction. 14b.

(電子部品の製造方法)
以下に、電子部品10の製造方法について図1ないし図3を参照しながら説明する。以下では、1つの電子部品10の製造方法について説明する。ただし、実際には、大判のセラミックグリーンシートが積層されてマザー積層体が作製され、該マザー積層体がカットされることにより、複数の電子部品10が同時に作製される。
(Method for manufacturing electronic parts)
Below, the manufacturing method of the electronic component 10 is demonstrated, referring FIG. 1 thru | or FIG. Below, the manufacturing method of the one electronic component 10 is demonstrated. In practice, however, a large laminate of green ceramic sheets is laminated to produce a mother laminate, and the mother laminate is cut to produce a plurality of electronic components 10 simultaneously.

まず、絶縁体層16となるべきセラミックグリーンシートを準備する。具体的には、酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化ニッケル(NiO)及び酸化銅(CuO)を所定の比率で秤量したそれぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を800℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、フェライトセラミック粉末を得る。 First, a ceramic green sheet to be the insulator layer 16 is prepared. Specifically, ferric oxide (Fe 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO), nickel oxide (NiO), and copper oxide (CuO) were weighed at a predetermined ratio and each material was put into a ball mill as a raw material. Wet preparation. The obtained mixture is dried and pulverized, and the obtained powder is calcined at 800 ° C. for 1 hour. The obtained calcined powder is wet pulverized by a ball mill, dried and then crushed to obtain a ferrite ceramic powder.

このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材及び分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、キャリアシート上にシート状に形成して乾燥させ、絶縁体層16となるべきセラミックグリーンシートを作製する。   To this ferrite ceramic powder, a binder (vinyl acetate, water-soluble acrylic, etc.), a plasticizer, a wetting material and a dispersing agent are added and mixed with a ball mill, and then defoamed under reduced pressure. The obtained ceramic slurry is formed into a sheet shape on a carrier sheet by a doctor blade method and dried to produce a ceramic green sheet to be the insulator layer 16.

次に、絶縁体層17となるべきセラミックグリーンシートを準備する。具体的には、酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)及び酸化銅(CuO)を所定の比率で秤量したそれぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を800℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、フェライトセラミック粉末を得る。 Next, a ceramic green sheet to be the insulator layer 17 is prepared. Specifically, each material obtained by weighing ferric oxide (Fe 2 O 3 ), zinc oxide (ZnO) and copper oxide (CuO) at a predetermined ratio is put into a ball mill as a raw material, and wet blending is performed. The obtained mixture is dried and pulverized, and the obtained powder is calcined at 800 ° C. for 1 hour. The obtained calcined powder is wet pulverized by a ball mill, dried and then crushed to obtain a ferrite ceramic powder.

このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材及び分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、キャリアシート上にシート状に形成して乾燥させ、絶縁体層17となるべきセラミックグリーンシートを作製する。   A binder (vinyl acetate, water-soluble acrylic, etc.), a plasticizer, a wetting material, and a dispersing agent are added to the ferrite ceramic powder, and the mixture is mixed with a ball mill, and then defoamed under reduced pressure. The obtained ceramic slurry is formed into a sheet shape on a carrier sheet by a doctor blade method and dried to produce a ceramic green sheet to be the insulator layer 17.

次に、絶縁体層16b,17,16c〜16eとなるべきセラミックグリーンシートのそれぞれに、ビアホール導体b1〜b5を形成する。具体的には、絶縁体層16b,17,16c〜16eとなるべきセラミックグリーンシートにレーザビームを照射してビアホールを形成する。更に、ビアホールに対して、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などの導電性材料からなるペーストを印刷塗布などの方法により充填して、ビアホール導体b1〜b5を形成する。   Next, via-hole conductors b1 to b5 are formed in each of the ceramic green sheets to be the insulator layers 16b, 17, 16c to 16e. Specifically, a via hole is formed by irradiating a ceramic green sheet to be the insulator layers 16b, 17, 16c to 16e with a laser beam. Further, the via hole conductors b1 to b5 are formed by filling the via hole with a paste made of a conductive material such as Ag, Pd, Cu, Au, or an alloy thereof by a method such as printing.

次に、絶縁体層16a〜16e,17となるべきセラミックグリーンシートの裏面上に、導電性材料からなるペーストをスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法などの方法で塗布することにより、コイル導体層18(18a〜18f)及び引き出し導体層19(19a,19b)を形成する。導電性材料からなるペーストは、例えば、Agに、ワニス及び溶剤が加えられたものである。   Next, by applying a paste made of a conductive material on the back surface of the ceramic green sheet to be the insulator layers 16a to 16e, 17 by a method such as a screen printing method or a photolithography method, the coil conductor layer 18 ( 18a to 18f) and the lead conductor layer 19 (19a, 19b) are formed. The paste made of a conductive material is obtained by adding varnish and a solvent to Ag, for example.

なお、コイル導体層18(18a〜18f)及び引き出し導体層19(19a,19b)を形成する工程とビアホールに対して導電性材料からなるペーストを充填する工程とは、同じ工程において行われてもよい。   The step of forming the coil conductor layer 18 (18a to 18f) and the lead conductor layer 19 (19a, 19b) and the step of filling the via hole with the paste made of a conductive material may be performed in the same step. Good.

次に、絶縁体層16a,16b,17,16c〜16fとなるべきセラミックグリーンシートをz軸方向の正方向側から負方向側へとこの順に並ぶように積層及び圧着して未焼成の積層体12を得る。具体的には、絶縁体層16fとなるべきセラミックグリーンシートを配置し、該絶縁体層16fとなるべきセラミックグリーンシート上に絶縁体層16eとなるべきセラミックグリーンシートを積層し、仮圧着する。この後、絶縁体層16dとなるべきセラミックグリーンシート、絶縁体層16cとなるべきセラミックグリーンシート、絶縁体層17となるべきセラミックグリーンシート、絶縁体層16bとなるべきセラミックグリーンシート及び絶縁体層16aとなるべきセラミックグリーンシートもこの順に積層し、仮圧着していく。この後、未焼成の積層体12に対して、静水圧プレスにて本圧着を施す。以上の工程により、図3に示すような未焼成の積層体12の作製が完了する。   Next, the ceramic green sheets to be the insulator layers 16a, 16b, 17, 16c to 16f are laminated and pressure-bonded so as to be arranged in this order from the positive direction side in the z-axis direction to the negative direction side, and an unfired laminated body Get 12. Specifically, a ceramic green sheet to be the insulator layer 16f is disposed, and the ceramic green sheet to be the insulator layer 16e is laminated on the ceramic green sheet to be the insulator layer 16f, and is temporarily bonded. Thereafter, the ceramic green sheet to be the insulator layer 16d, the ceramic green sheet to be the insulator layer 16c, the ceramic green sheet to be the insulator layer 17, the ceramic green sheet to be the insulator layer 16b, and the insulator layer The ceramic green sheets to be 16a are also laminated in this order, and temporarily pressed. Then, this press-bonding is performed on the unfired laminate 12 by an isostatic press. The unfired laminate 12 as shown in FIG. 3 is completed through the above steps.

次に、未焼成の積層体12に、脱バインダー処理及び焼成を施す。脱バインダー処理は、例えば、低酸素雰囲気中において850℃で2時間の条件で行う。焼成は、例えば、870℃〜900℃で2.5時間の条件で行う。   Next, the unbaked laminate 12 is subjected to binder removal processing and baking. The binder removal treatment is performed, for example, in a low oxygen atmosphere at 850 ° C. for 2 hours. Firing is performed, for example, at 870 ° C. to 900 ° C. for 2.5 hours.

以上の工程により、焼成された積層体12が得られる。積層体12には、バレル加工を施して、面取りを行う。その後、Agを主成分とする導電性材料からなる電極ペーストを、積層体12の表面に塗布する。そして、塗布した電極ペーストを約800℃の温度で1時間の条件で焼き付ける。これにより、外部電極14a,14bとなるべき銀電極を形成する。   The fired laminated body 12 is obtained through the above steps. The laminated body 12 is chamfered by barrel processing. Thereafter, an electrode paste made of a conductive material containing Ag as a main component is applied to the surface of the laminate 12. Then, the applied electrode paste is baked at a temperature of about 800 ° C. for 1 hour. Thereby, the silver electrode which should become external electrode 14a, 14b is formed.

最後に、銀電極の表面に、Niめっき/Snめっきを施すことにより、外部電極14a,14bを形成する。以上の工程を経て、図1に示すような電子部品10が完成する。   Finally, the external electrodes 14a and 14b are formed by performing Ni plating / Sn plating on the surface of the silver electrode. Through the above steps, the electronic component 10 as shown in FIG. 1 is completed.

(効果)
以上のような電子部品10によれば、以下に説明するように、絶縁体層16b,16cと絶縁体層17との間で層間剥離が発生することを抑制できる。より詳細には、特許文献1に記載の積層コイル部品では、コイル用導体パターン504が設けられている領域における積層方向の厚みは、コイル用導体パターン504が設けられていない領域における積層方向の厚みよりも大きくなる。そのため、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500は、コイル用導体パターン504が設けられている領域において、積層方向の上側に突出した形状をなすようになる。よって、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500が積層方向の上側に突出している部分の両端では、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500の接合面の法線が積層方向に対して傾いてしまう。その結果、圧着時において、磁性セラミック層502及び非磁性セラミック層500に対して、十分な圧力が加わらなくなる。更には、磁性セラミック層502の材料と非磁性セラミック層500の材料とは異なっている。以上より、磁性セラミック層502b,502cと非磁性セラミック層500との間において層間剥離が特に発生しやすい。
(effect)
According to the electronic component 10 as described above, delamination between the insulator layers 16b and 16c and the insulator layer 17 can be suppressed as described below. More specifically, in the laminated coil component described in Patent Document 1, the thickness in the lamination direction in the region where the coil conductor pattern 504 is provided is the thickness in the lamination direction in the region where the coil conductor pattern 504 is not provided. Bigger than. Therefore, the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500 have a shape protruding upward in the stacking direction in the region where the coil conductor pattern 504 is provided. Therefore, the normal lines of the joining surfaces of the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500 are inclined with respect to the stacking direction at both ends of the portion where the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500 protrude upward in the stacking direction. End up. As a result, sufficient pressure is not applied to the magnetic ceramic layer 502 and the nonmagnetic ceramic layer 500 during the compression bonding. Furthermore, the material of the magnetic ceramic layer 502 and the material of the nonmagnetic ceramic layer 500 are different. As described above, delamination is particularly likely to occur between the magnetic ceramic layers 502b and 502c and the nonmagnetic ceramic layer 500.

そこで、電子部品10では、絶縁体層17に対してz軸方向の上側から接触しているコイル導体層18b、及び、該コイル導体層18bよりもz軸方向の負方向側に設けられているコイル導体層18c〜18fの内の一部のコイル導体層18cは、z軸方向から平面視したときに、軌道Rの内側を周回している。そのため、図3に示すように、コイル導体層18a〜18f(コイル導体層18fは図3では図示せず)はz軸方向に一列に並ばなくなる。よって、電子部品10では特許文献1に記載の積層コイル部品に比べて、コイル導体層18a〜18fが設けられている領域のz軸方向の厚みと、コイル導体層18a〜18fが設けられていない領域のz軸方向の厚みとの差が、小さくなる。そのため、コイル導体層18cよりもz軸方向の正方向側に位置している絶縁体層16a,16b,17がz軸方向の正方向側に突出する量が小さくなる。よって、絶縁体層16b,16cと絶縁体層17との境界がz軸方向に突出する量も小さくなる。したがって、圧着時において、絶縁体層16b,16c,17に対して、十分な圧力が加わるようになる。その結果、電子部品10では、絶縁体層16b,16cと絶縁体層17との間で層間剥離が発生することを抑制できる。   Therefore, in the electronic component 10, the coil conductor layer 18b that is in contact with the insulator layer 17 from the upper side in the z-axis direction, and the negative side in the z-axis direction from the coil conductor layer 18b are provided. A part of the coil conductor layers 18c to 18f of the coil conductor layers 18c to 18f circulates inside the track R when viewed in plan from the z-axis direction. Therefore, as shown in FIG. 3, the coil conductor layers 18a to 18f (the coil conductor layer 18f is not shown in FIG. 3) do not line up in the z-axis direction. Therefore, the electronic component 10 is not provided with the thickness in the z-axis direction of the region where the coil conductor layers 18a to 18f are provided and the coil conductor layers 18a to 18f as compared with the laminated coil component described in Patent Document 1. The difference from the thickness of the region in the z-axis direction is reduced. Therefore, the amount by which the insulator layers 16a, 16b, and 17 located on the positive side in the z-axis direction from the coil conductor layer 18c protrude toward the positive side in the z-axis direction is small. Therefore, the amount by which the boundary between the insulator layers 16b and 16c and the insulator layer 17 protrudes in the z-axis direction is also reduced. Therefore, a sufficient pressure is applied to the insulating layers 16b, 16c, and 17 at the time of pressure bonding. As a result, in the electronic component 10, it is possible to suppress delamination between the insulator layers 16 b and 16 c and the insulator layer 17.

また、コイル導体層18a,18b,18d〜18fは、軌道R上を周回しており、コイル導体層18cは、軌道Rの内側を周回している。これにより、コイルLのコイル径をできるだけ大きくすることができる。その結果、電子部品10において、コイルLのインダクタンス値を大きくすることが可能となる。   The coil conductor layers 18a, 18b, 18d to 18f go around the track R, and the coil conductor layer 18c goes inside the track R. Thereby, the coil diameter of the coil L can be enlarged as much as possible. As a result, in the electronic component 10, the inductance value of the coil L can be increased.

また、コイル導体層18cは、z軸方向から平面視したときに、コイル導体層18a,18b,18d〜18fと部分的に重なっている。これにより、以下に説明するように、電子部品10において、コイルLのインダクタンス値を大きくすることができる。より詳細には、コイル導体層18cとコイル導体層18a,18b,18d〜18fとが部分的に重なっていない場合には、z軸方向から平面視したときに、コイル導体層18cとコイル導体層18a,18b,18d〜18fとの間に隙間が発生する。よって、コイル導体層18cが発生した磁束及びコイル導体層18a,18b,18d〜18fが発生した磁束は、該隙間を通過しようとする。しかしながら、コイル導体層18cが発生した磁束の向きとコイル導体層18a,18b,18d〜18fが発生した磁束の向きとは逆向きである。よって、これらの磁束は打ち消しあってしまう。そのため、前記のような隙間の存在は、コイルLのインダクタンス値を大きくすることを妨げてしまう。   The coil conductor layer 18c partially overlaps with the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f when viewed in plan from the z-axis direction. Thereby, as will be described below, in the electronic component 10, the inductance value of the coil L can be increased. More specifically, when the coil conductor layer 18c and the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f do not partially overlap, the coil conductor layer 18c and the coil conductor layer are viewed in plan view from the z-axis direction. A gap is generated between 18a, 18b, and 18d to 18f. Therefore, the magnetic flux generated by the coil conductor layer 18c and the magnetic flux generated by the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f tend to pass through the gap. However, the direction of the magnetic flux generated by the coil conductor layer 18c is opposite to the direction of the magnetic flux generated by the coil conductor layers 18a, 18b, 18d to 18f. Therefore, these magnetic fluxes cancel each other. Therefore, the presence of such a gap prevents the inductance value of the coil L from being increased.

一方、コイル導体層18cとコイル導体層18a,18b,18d〜18fとが部分的に重なっていると、前記のような隙間が発生しない。そのため、コイル導体層18cが発生した磁束とコイル導体層18a,18b,18d〜18fが発生した磁束とが打ち消しあうことがない。その結果、電子部品10では、コイルLのインダクタンス値を大きくすることが可能となる。   On the other hand, when the coil conductor layer 18c and the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f partially overlap, the above-described gap does not occur. Therefore, the magnetic flux generated by the coil conductor layer 18c and the magnetic flux generated by the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f do not cancel each other. As a result, in the electronic component 10, the inductance value of the coil L can be increased.

なお、コイル導体層18cとコイル導体層18a,18b,18d〜18fとが重なっている部分の大きさが大きければ、コイルLの内径が大きくなるのでインダクタンス値が大きくなる。一方、コイル導体層18cとコイル導体層18a,18b,18d〜18fとが重なっている部分の大きさが小さければ、絶縁体層16b,17がz軸方向の正方向側に突出する量が小さくなるので層間剥離を効果的に抑制できる。よって、大きなインダクタンス値を得ることと層間剥離の抑制を両立させる観点から、コイル導体層18cは、外周側の部分において、線幅の1/2の大きさだけコイル導体層18a,18b,18d〜18fと重なっていることが望ましい。   In addition, if the size of the portion where the coil conductor layer 18c and the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f overlap with each other is large, the inner diameter of the coil L is increased, so that the inductance value is increased. On the other hand, if the size of the portion where the coil conductor layer 18c and the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f overlap is small, the amount by which the insulator layers 16b and 17 protrude to the positive side in the z-axis direction is small. Therefore, delamination can be effectively suppressed. Therefore, from the viewpoint of achieving both a large inductance value and suppression of delamination, the coil conductor layer 18c has a coil conductor layer 18a, 18b, 18d˜ It is desirable to overlap with 18f.

(その他の実施形態)
本願発明に係る電子部品は、前記実施形態に係る電子部品10に限らず、その要旨の範囲内において変更可能である。以下に、その他の実施形態に係る電子部品について説明する。
(Other embodiments)
The electronic component according to the present invention is not limited to the electronic component 10 according to the above embodiment, but can be changed within the scope of the gist thereof. Hereinafter, electronic components according to other embodiments will be described.

電子部品10では、コイル導体層18cが、z軸方向から平面視したときに、軌道Rの内側を周回していた。しかしながら、軌道Rの内側を周回するコイル導体層18は、コイル導体層18cに限らない。電子部品10では、絶縁体層16b,16cと絶縁体層17との間において層間剥離が発生することが抑制されればよい。したがって、コイル導体層18c〜18fのいずれかが、軌道Rの内側を周回していればよい。コイル導体層18c〜18fは、絶縁体層17に対してz軸方向の正方向側から接しているコイル導体層18bよりもz軸方向の負方向側に位置している導体層である。これにより、コイル導体層18c〜18fよりもz軸方向の正方向側に位置している絶縁体層16a,16b,17がz軸方向の正方向側に突出する量が小さくなる。よって、絶縁体層16b,16cと絶縁体層17との境界がz軸方向に突出する量も小さくなる。したがって、圧着時において、絶縁体層16b,16c,17に対して、十分な圧力が加わるようになる。その結果、絶縁体層16b,16cと絶縁体層17との間で層間剥離が発生することを抑制できる。   In the electronic component 10, the coil conductor layer 18 c circulates inside the track R when viewed in plan from the z-axis direction. However, the coil conductor layer 18 that circulates inside the track R is not limited to the coil conductor layer 18c. In the electronic component 10, it is only necessary to suppress delamination between the insulator layers 16 b and 16 c and the insulator layer 17. Therefore, any one of the coil conductor layers 18c to 18f only needs to go around the inside of the track R. The coil conductor layers 18c to 18f are conductor layers located on the negative side in the z-axis direction relative to the coil conductor layer 18b in contact with the insulator layer 17 from the positive side in the z-axis direction. As a result, the amount by which the insulator layers 16a, 16b, and 17 positioned on the positive side in the z-axis direction from the coil conductor layers 18c to 18f protrude toward the positive side in the z-axis direction is reduced. Therefore, the amount by which the boundary between the insulator layers 16b and 16c and the insulator layer 17 protrudes in the z-axis direction is also reduced. Therefore, a sufficient pressure is applied to the insulating layers 16b, 16c, and 17 at the time of pressure bonding. As a result, it is possible to suppress delamination between the insulator layers 16b and 16c and the insulator layer 17.

なお、コイル導体層18bが、z軸方向から平面視したときに、軌道Rの内側を周回していてもよい。コイル導体層18bは、図3に示すように、絶縁体層17にz軸方向の正方向側から接している。そのため、コイル導体層18bが軌道Rの内側を周回することにより、コイル導体層18bよりもz軸方向の正方向側に位置する絶縁体層16a,16bがz軸方向の正方向側に突出する量が小さくなる。その結果、絶縁体層16bと絶縁体層17との境界がz軸方向に突出する量も小さくなる。したがって、圧着時において、絶縁体層16b,17に対して、十分な圧力が加わるようになる。その結果、絶縁体層16bと絶縁体層17との間で層間剥離が発生することを抑制できる。   The coil conductor layer 18b may circulate inside the track R when viewed in plan from the z-axis direction. As shown in FIG. 3, the coil conductor layer 18 b is in contact with the insulator layer 17 from the positive side in the z-axis direction. Therefore, when the coil conductor layer 18b orbits the inside of the track R, the insulator layers 16a and 16b located on the positive side in the z-axis direction from the coil conductor layer 18b protrude toward the positive side in the z-axis direction. The amount becomes smaller. As a result, the amount by which the boundary between the insulator layer 16b and the insulator layer 17 protrudes in the z-axis direction is also reduced. Therefore, a sufficient pressure is applied to the insulating layers 16b and 17 during the pressure bonding. As a result, it is possible to suppress delamination between the insulator layer 16b and the insulator layer 17.

なお、電子部品10では、コイル導体層18a,18b,18d〜18fは、1つの軌道R上を周回している。しかしながら、コイル導体層18a,18b,18d〜18fは、1つの軌道R上を周回している必要はない。電子部品10において、絶縁体層16b,16cと絶縁体層17との間で層間剥離が発生する原因は、前記の通り、絶縁体層17に対してz軸方向の正方向側から接触しているコイル導体層18bよりもz軸方向の負方向側に位置しているコイル導体層18c〜18fがz軸方向に並ぶことである。そこで、電子部品10では、コイル導体層18c〜18fが、z軸方向の正方向側から平面視したときに、1つの軌道R上を周回していなければよい。よって、コイルLは、例えば、柱体ではなく錐体をなしていてもよい。   In the electronic component 10, the coil conductor layers 18 a, 18 b, 18 d to 18 f circulate on one track R. However, the coil conductor layers 18a, 18b, and 18d to 18f do not need to circulate on one track R. In the electronic component 10, the cause of delamination between the insulator layers 16b and 16c and the insulator layer 17 is that the insulator layer 17 is in contact with the insulator layer 17 from the positive side in the z-axis direction as described above. Coil conductor layers 18c to 18f located on the negative direction side in the z-axis direction with respect to the coil conductor layer 18b are aligned in the z-axis direction. Therefore, in the electronic component 10, the coil conductor layers 18 c to 18 f may not circulate on one track R when viewed from the positive side in the z-axis direction. Therefore, the coil L may be not a column but a cone, for example.

また、電子部品10では、コイル導体層18は、絶縁体層16,17の裏面上に設けられるものとしたが、絶縁体層16,17の表面上に設けられていてもよい。   In the electronic component 10, the coil conductor layer 18 is provided on the back surfaces of the insulator layers 16 and 17, but may be provided on the surfaces of the insulator layers 16 and 17.

また、絶縁体層16は、磁性材料により構成され、絶縁体層17は、非磁性材料により構成されている。しかしながら、絶縁体層16の材料と絶縁体層17の材料とはこれに限らない。絶縁体層16は、第1の透磁率を有し、絶縁体層17は、第1の透磁率よりも小さな第2の透磁率を有していればよい。   The insulator layer 16 is made of a magnetic material, and the insulator layer 17 is made of a nonmagnetic material. However, the material of the insulator layer 16 and the material of the insulator layer 17 are not limited to this. The insulator layer 16 has a first magnetic permeability, and the insulator layer 17 only needs to have a second magnetic permeability smaller than the first magnetic permeability.

以上のように、本発明は、電子部品に有用であり、特に、層間剥離が積層体に発生することを抑制できる点において優れている。   As described above, the present invention is useful for electronic components, and is particularly excellent in that delamination can be prevented from occurring in the laminate.

L コイル
R 軌道
b1〜b5 ビアホール導体
10 電子部品
12 積層体
14a,14b 外部電極
16a〜16f,17 絶縁体層
18a〜18f コイル導体層
19a,19b 引き出し導体層
L coil R track b1 to b5 via-hole conductor 10 electronic component 12 laminate 14a, 14b external electrode 16a-16f, 17 insulator layer 18a-18f coil conductor layer 19a, 19b lead conductor layer

Claims (6)

第1の透磁率を有する複数の第1の絶縁体層と該第1の透磁率よりも小さな第2の透磁率を有する第2の絶縁体層とが積層されて構成されている積層体と、
前記積層体に内蔵され、かつ、複数の導体層が接続されることにより構成されている螺旋状のコイルと、
を備え、
前記第2の絶縁体層に対して積層方向の上側から接触している前記導体層、及び、該導体層よりも積層方向の下側に設けられている前記導体層は、積層方向から平面視したときに、1つの環状の軌道上を周回していないこと、
を特徴とする電子部品。
A laminate in which a plurality of first insulator layers having a first permeability and a second insulator layer having a second permeability smaller than the first permeability are laminated; ,
A helical coil that is built in the laminate and configured by connecting a plurality of conductor layers;
With
The conductor layer in contact with the second insulator layer from the upper side in the stacking direction, and the conductor layer provided on the lower side in the stacking direction than the conductor layer are planarly viewed from the stacking direction Is not going around one circular orbit,
Electronic parts characterized by
前記第2の絶縁体層に対して積層方向の上側から接触している前記導体層、及び、該導体層よりも積層方向の下側に設けられている前記導体層の内の一部の前記導体層は、積層方向から平面視したときに、前記軌道の内側を周回しており、
前記一部の導体層以外の前記導体層は、積層方向から平面視したときに、前記軌道上を周回していること、
を特徴とする請求項1に記載の電子部品。
The conductor layer in contact with the second insulator layer from the upper side in the stacking direction, and a part of the conductor layer provided on the lower side in the stacking direction than the conductor layer The conductor layer, when viewed in plan from the stacking direction, circulates inside the track,
The conductor layers other than the part of the conductor layers circulate on the track when viewed in plan from the stacking direction;
The electronic component according to claim 1.
前記一部の導体層は、前記第2の絶縁体層に積層方向の上側から接している前記導体層よりも積層方向の下側に設けられている前記導体層のいずれかであること、
を特徴とする請求項2に記載の電子部品。
The part of the conductor layer is any one of the conductor layers provided on the lower side in the stacking direction than the conductor layer in contact with the second insulator layer from the upper side in the stacking direction;
The electronic component according to claim 2.
前記一部の導体層は、前記第2の絶縁体層に積層方向の下側から接している前記導体層であること、
を特徴とする請求項2又は請求項3のいずれかに記載の電子部品。
The part of the conductor layer is the conductor layer in contact with the second insulator layer from below in the stacking direction;
The electronic component according to claim 2, wherein:
前記第2の絶縁体層に対して積層方向の上側から接触している前記導体層、及び、該導体層よりも積層方向の下側に設けられている前記導体層の内の一部の前記導体層は、積層方向から平面視したときに、該一部の導体層以外の前記導体層と部分的に重なっていること、
を特徴とする請求項2ないし請求項4のいずれかに記載の電子部品。
The conductor layer in contact with the second insulator layer from the upper side in the stacking direction, and a part of the conductor layer provided on the lower side in the stacking direction than the conductor layer The conductor layer partially overlaps the conductor layer other than the part of the conductor layer when viewed in plan from the stacking direction;
The electronic component according to claim 2, wherein:
前記第2の絶縁体層の厚みは、前記第1の絶縁体層の厚みよりも薄いこと、
を特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の電子部品。
The thickness of the second insulator layer is thinner than the thickness of the first insulator layer;
The electronic component according to claim 1, wherein:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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