JP2011086882A - Led発光装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】従来のLED発光装置は蛍光体発光の利用効率が悪く、また小形薄型化が困難という課題があった。
【解決手段】LED素子1を回路基板2にフリップチップ実装し、蛍光体8を含む透光性樹脂3で封止してなるLED発光装置100において、LED素子1のLED素子基板19の裏面19aに近紫外光を透過し可視光を反射する光学フィルタ4を設けた。
【選択図】図1

Description

本発明はLED素子を用いたLED発光装置に関するものである。
近年、発光ダイオード(以後LEDと略称する)は、従来の白熱電球や蛍光灯に代わって、環境負荷の少ない次世代照明器具の光源として実用化され始めている。
照明器具の光源として使用する上ではLEDの発光色は白色ないし昼光色であることが望ましいが、この白色光を得るための技術としては、近紫外LEDの周囲に蛍光体を配し、近紫外LEDが発する近紫外光によって蛍光体を励起し、励起された蛍光体から発せられる可視光から白色光を得る方式が実用化されている。
より詳細に述べると、この方法は近紫外LEDが発する近紫外光によって励起された蛍光体から、二次的に出射される赤色と青色と緑色の可視光の混合によって白色光を得るもので、光の三原色を用いていることから演色性の良い白色光を得る最良の手法といわれている。
しかし一般的に蛍光体から出射される可視光の出射方向がまちまちであるため、これらを混合して得られる白色光をLED発光装置から有効に取り出すことができず、充分な強度が得られていなかった。このため蛍光体から出射される可視光を効率よく混合し、強い白色光を得るための改良技術がいくつか開示されている。
その改良技術として、近紫外光によって励起された蛍光体から発せられる可視光の一部が、光として利用されるべき本来の方向に向かわず、LED素子自身やLED素子の支持構造体あるいは容器の方向に戻ってしまうものを、反射や光のフィルタリングを用いて改善する手法がある。
例えば無機LEDが発する近紫外光の波長を変換する発光板と、光散乱手段と、ダイクロイックミラーなどによって発光効率を改善する「無機発光ダイオードを有する発光装置」が開示されている。(特許文献1参照)
以下に図面を用いて上記の従来技術を詳述する。
図14は特許文献1に示された「無機発光ダイオードを有する発光装置」の側面図である。図14において、50は無機発光ダイオードを有する発光装置であり、無機発光ダイオード55から発せられた一次光Bは発光板54によって波長がより長い光に変換され、光子ランダム化層53によって散乱された後、変換された光Wとして出射する。
そしてダイクロイックミラー51および反射ミラー52は、発光板54によって変換された光Wの中で、光子ランダム化層53に向わず側面や下面に戻ってきた光を反射し、再び光子ランダム化層53に集結させ発光効率を向上させている。
この従来技術は、無機発光ダイオード55が発する一次光Bを効率的に利用する上で有効であるが、一方では装置全体が無機発光ダイオード55とダイクロイックミラー51と発光板54と光子ランダム化層53を積層したうえ側部に反射ミラー52を備える構造となるため、その構造が複雑かつ厚いものになってしまう。
例えば、ダイクロイックミラー51ひとつをとっても、異なる屈折率をもつ複数の誘電体の多層膜を形成するための、透明かつ一定の厚みを持った基材が必要となる。同様に光子ランダム化層53も一定の厚みないし大きさが必要である。
この様に特許文献1に示された従来技術は、いくつもの光学部品を組み合わせているため構造が複雑になり小さな形状を得ることも困難となるから、照明器具の光源とする上で様々な設計に対応させるための柔軟性に欠けるという課題があった。
特表2008−530793号公報(特許請求の範囲、第2図)
本発明はこのような技術的背景からなされたもので、その狙いとするところは、近紫外LEDが発する近紫外光によって蛍光体を励起し、この蛍光体から発せられる可視光を混合して白色光を得るLED発光装置において、この可視光を効率よく混合して白色光の強度を高めるとともに、小形薄型化によって照明器具の光源に柔軟に対応できるLED発光装置を提供することにある。
上記課題を解決するため本発明のLED発光装置は下記記載の構成を採用する。
本発明のLED発光装置は、LED素子基板表面に半導体層を備えるLED素子を回路基板にフリップチップ実装し、蛍光体を含む透光性樹脂で封止してなるLED発光装置において、前記LED素子基板の裏面に近紫外光を透過し可視光を反射する光学フィルタを形成したことを特徴とする。
すなわちLED素子からの近紫外光によって励起された蛍光体が発する可視光のうちLED素子側に戻って来た光は、LED素子基板の裏面に形成されている光学フィルタによって反射され、本来の出射方向に向かうのでLED発光装置の発光効率が高まる。またLED素子と光学フィルタが一体化しているので、LED素子のサイズがほとんど増加しないため様々な構造のLED発光装置に対応できる。
さらに光学フィルタは誘電体多層膜を用いたダイクロイックミラーであることが望ましい。
すなわちLED素子基板の裏面に形成されたダイクロイックミラーは近紫外と可視光を正確に選別するので、LED素子から出射した近紫外光は素子裏面において透光性樹脂側に向けてダイクロイックミラーを通過し、透光性樹脂側からLED素子側に戻ってきた可視光はダイクロイックミラーによって透光性樹脂側に反射され本来の出射方向に向かうのでLED発光装置の発光効率が高まる。
さらにLED素子の半導体層に、近紫外光を反射する反射層を形成することが望ましい。
すなわち半導体層から出射する近紫外光のうちLED素子基板とは反対側、すなわち本来の出射方向と逆の方向に向う近紫外光は、半導体層に設けられた反射層で反射され、LED素子の中を経由してLED素子基板の裏面から透光性樹脂側に出射するのでLED発光装置の発光効率が高まる。
さらに回路基板に近紫外光および可視光を反射する反射膜を設けることが望ましい。
すなわちLED素子の側面から出射してしまった近紫外光や、回路基板側に戻ってしまった可視光は、この回路基板に形成された反射層によって反射され、本来の出射方向に向かうのでLED発光装置の発光効率が高まる。
さらにLED素子は、回路基板とLED素子の半導体層側の面とを対向させてフリップチップ実装するためのメッキバンプを有していることが望ましい。
すなわちLED素子を回路基板にフリップチップ実装する際に電気的かつ機械的接続をとるバンプのうちメッキバンプは、平面形状を自由に選べるためLED素子の平面にほぼ匹敵する面積を占めることができるため放熱特性と電気特性が良くなりLED発光装置を小形薄型化することが出来る。
本発明によれば、LED素子基板と光学フィルタとの一体化によって、蛍光体から発せられる可視光線を効率よく出射し発光強度を高めることが可能となり、照明器具の光源として必須要件である小形薄型化をも実現することが出来る。
本発明によるLED発光装置の第1の実施形態の構造を示す断面図である。 図1に示したLED素子の断面図および平面図である。 図1に示した回路基板の断面図および平面図である。 図1に示した本発明によるLED発光装置の製造工程図である。 図1に示したLED発光装置の作用を示す断面図である。 本発明によるLED発光装置の第2の実施形態の構造を示す断面図である。 図6に示したLED素子の断面図および平面図である。 図6に示したLED発光装置の製造工程図である。 図6に示した本発明によるLED発光装置の作用を示す断面図である 本発明によるLED発光装置の第3の実施形態の構造を示す断面図である。 図10に示した回路基板の断面図および平面図である。 図10に示したLED発光装置の製造工程図である。 図10に示したLED発光装置の作用を示す断面図である。 LED発光装置の従来例の断面図である。
本発明のLED発光装置の概要は、LED素子からの近紫外光及びその近紫外光によって蛍光体が発する可視光を、LED素子基板の裏面に形成した光学フィルタや回路基板および半導体層に設けた反射膜によって効率よく反射し、所望の方向に出射させることで発光強度を高めるものである。
(第1の実施形態)
[第1の実施形態の全図面説明:図1〜図5]
以下、図1〜図5を用いて構造を中心に本発明のLED発光装置の第1の実施形態について説明する。
本発明のLED発光装置の第1の実施形態は、LED素子からの近紫外光によって蛍光体が発する可視光の方向を、LED素子基板の裏面に形成した光学フィルタによって効率よく集結し、LED発光装置の発光強度を高めるものである。
まず図1を用いて本発明のLED発光装置100の構造を詳述する。
図1において、LED素子1は、LED素子基板19の下面(表面)に、近紫外光を発光する窒化物半導体であり、順にGaN層11とInGaN層12とGaP層13とが積層した半導体層14が形成されている。なお図1に示す様にLED発光装置100は、方向Uに白色光Pwを出射するものである。
なお図2に示すように、詳細にはGaN層11はn−GaN層11aとn−AlGaN層11bとで構成され、またGaP層13はp−AlGaN層13aとp−GaN層13bとで構成されている。
図1に戻る。光学フィルタ4は、高屈折率誘電体層と低屈折率誘電体層とを1組として複数組を積み重ねた誘電体多層膜であり、LED素子1の光出射面であるLED素子基板の裏面19aに直接かつ一体的に形成されている。
回路基板2はアルミナ、窒化アルミニウムあるいはガラスエポキシ材等を回路基板基材22とし、LED素子1をバンプ17aと17bによって固着し支持する。
スルーホール21atを含む正極基板電極21aおよびスルーホール21btを含む負極基板電極21bは、回路基板2の上面においてバンプ17aおよび17bによってLED素子1と電気的かつ構造的に結合し、回路基板2の下面においてLED素子1と外部とを電気的に接続する電極部を備えている。なおスルーホール21at,21btは回路基板2にあけた貫通孔に銅を埋め込んだものである。
透光性樹脂3は、シリコーンあるいはエポキシ樹脂などからなり、内部には赤色蛍光体8rと緑色蛍光体8gと青色蛍光体8bとを含有し、白色発光しつつLED発光装置全体を保護する。
なお、図1において赤色蛍光体8rと緑色蛍光体8gと青色蛍光体8bは模式的に描かれており、実際は数十ミクロン程度の3種類の蛍光体の粒子が透光性樹脂3の中に多数含有されている。また近紫外光Ps1と赤色可視光Prと緑色可視光Pgと青色可視光Pbについては第1の実施形態の作用および第1の実施形態の効果の説明において詳述する。
次に図2を用いてLED素子1の構造を更に詳細に説明する。
図2(a)はLED素子1のLED素子基板19の裏面19a側の平面図であり、図2(b)は 図2(a)に示すLED素子1のA−A‘部の断面図であり、図2(c)はL ED素子1の半導体層14の表面19b側の平面図である。
図2(a)に示す様に、LED素子基板19の裏面19aのほぼ全面に光学フィルタ4が形成されている。また図2(b)において、LED素子基板19の下面側には、n−GaN層11aと、n−AlGaN層11bと、InGaN層12と、p−AlGaN層13aと、p−GaN層13bとからなる半導体層14が形成され、p−GaN層13bには正極バンプ17aが形成されている。
また図2(b)に示す様に、n−AlGaN層11bからp−GaN層13bまでの半導体層は、n−GaN層11aに負極バンプ17bを設けるためホトリソグラフィーで除去され、露出したn−GaN層11aには、負極バンプ17bが設けられている。
図2(c)にこの様子が平面的に示されている。すなわち図2(c)において、LED素子1の半導体層14の矩形部Eがホトリソグラフィーで除去され、露出したn−GaN層11aに負極バンプ17bが形成されている。なお正及び負極バンプ17a,17bは金メッキで形成されるため、形状を比較的自由に設定できる。このため正極バンプ17aと負極バンプ17bでLED素子1の表面をほぼ覆うような平面形状となっている。
次に図3を用いて回路基板2の構造を詳述する。
図3(a)は回路基板2の平面図であり、図3(b)は、図3(a)に示す回路基板2のB−B‘部の断面図である。回路基板2はアルミナ、窒化アルミニウムあるいはBTレジン(ビスマレイミドトリアジン樹脂等からなる熱硬化性樹脂 登録商標)を材料とする回路基板基材22の両面に配線用の銅箔を貼付したもので、図3(a)に示す様にホトリソグラフィーによって正極基板電極21aと負極基板電極21bの上面側の電極を形成する。さらに図3(b)に示す様に上正極基板電極21a及び負極基板電極21bの上面側の電極は、スルーホール21atおよび21btによってそれぞれ正極基板電極21aと負極基板電極21bの下面側の電極と結合している。
次に図4を中心に、図1から図3を併用して本発明のLED発光装置100の製造工程を説明する。
図4(a)においては、サファイヤを材料とするウエハーに有機金属気相成長法によって図2(b)に示すn−GaN層11aからp−GaN層13bまでの半導体層14を一括して多数形成する。
本実形態において、GaN層11は厚み2ミクロンのn−GaN層11aと厚み0.2ミクロンのn−Al0.2Ga0.8N層11bとで形成し、InGaN層12は厚み0.1ミクロンのIn0.2Ga0.8Nで形成し、GaP層13は厚み0.5ミクロンのp−Al0.2Ga0.8N層13aと厚み0.3ミクロンのp−GaN層13bとで構成している。
図4(b)においては、LED素子1のn−GaN層11aに図2(b)に示すLED素子1の負極を形成するため、図2(c)に示した矩形部Eをホトリソグラフィーにより除去し、n−GaN層11aを露出させる。
図4(c)においては、最終的に完成するLED素子1を薄くするため、ウエハー裏面すなわち半導体層14が形成されていないLED素子基板19の裏面19aを研磨する。本実施例においてはウエハーの厚みを200ミクロンとした。
同時にこの工程でLED素子1を回路基板2に固着するための金を材料とした正極バンプ17aと負極バンプ17bとを、ウエハーに一括して形成する。本実施形態では、金メッキ法により厚み8ミクロンの金バンプを形成した。
図4(d)においては、ウエハーに含まれるLED素子基板19の裏面19aに直接かつ一体的に光学フィルタを形成する。この光学フィルタは、近紫外光を通過させ可視光を反射させるため、高屈折率誘電体と低屈折率誘電体を積層した誘電体多層膜で、いわゆるダイクロイックミラーと呼ばれている。本実施形態では、酸化アルミニュウム約100nmと、酸化シリコン約50nmを蒸着させ1組の層とし、これを6組積層して誘電体多層膜を形成している。
図4(e)においては、ダイシングによりウエハーを個々のLED素子1に分割する。一方、以下に述べる様にLED素子1を搭載する回路基板2の加工も同時に行なわれる。
次に図4(A)および図4(B)を中心に、図1から図3を併用して回路基板の製造工程を説明する。
図4(A)においては、回路基板を多数集結した集合回路基板(図示せず)を作成することによって一括して個々の回路基板2を形成する。基板の材料にはアルミナ、窒化アルミニウムあるいはBTレジンなどが適しているが、本実施例ではBTレジンを用い、スルーホール21at,21btを形成した後、両面に約12ミクロンの銅箔を貼付し、ホトリソグラフィーで図3(b)に示す電極21aおよび21bを形成している。ここで回路基板2の表面側の電極21a,21bにおいてバンプ17a,17bと接する領域には金錫合金の薄膜を積層しておく
次に図4(B)においては、集合回路基板を個々の回路基板2に細断する。こののち、以下に述べる様に個々のLED素子1を個々の回路基板2に実装する。
次に図4(f)においては、LED素子1を回路基板2にフリップチップ実装する。すなわち、図3(b)に示す回路基板2の正極基板電極21aと負極基板電極21bに、図2(b)および図2(c)に示すLED素子1の正極バンプ17aと負極バンプ17bを対応して載置したのち、バンプ17a,17bと電極21a,21b接触させた状態で加熱し金錫共晶結合を起こさせLED素子1と回路基板2とを固着する。
次に図4(g)においては、図1に示す様にLED素子1と回路基板2の上面とをシリコーン、エポキシ樹脂などの透光性樹脂3で樹脂封止する。本実施形態では透明性に優れるシリコーン樹脂を用いた。
なお、透光性樹脂3には赤色蛍光体8rと緑色蛍光体8gと青色蛍光体8bとが添加されている。本実施形態では、赤色蛍光体8rとしてEuを添加したCaAlSiN3:Euと、緑色蛍光体8gとして(BaSr)2SiO4:Euと、青色蛍光体8bとしてSr10(PO4)6Cl2:Euを使用した。
以上の工程によって製造工程は終了しLED発光装置100が完成する。
なお、以上述べた様にLED素子1と回路基板2とを単個ずつ実装し、さらに透光性樹脂3によって封止する方法以外にも、多数のLED素子1を集合回路基板の各々の回路基板2に一括して実装し、さらに全体を透光性樹脂3によって封止したのち、縦横に細断して個々のLED発光装置100を得る製造方法があり、生産の効率化のため近年しばしば採用されている。またフリップチップ実装用のバンプとしては、放熱性が劣るものの金メッキバンプ以外に半田バンプ、スタッドバンプが使用出来る。
[第1の実施形態の作用説明]
次に図5を用いて本発明のLED発光装置の作用を説明する。
図5において、LED素子1のInGaN層12で発光した近紫外光Ps1は赤色蛍光体8rを励起し、この赤色蛍光体8rは赤色可視光Prを発光する。また近紫外光Ps2は緑色蛍光体8gを励起し、この緑色蛍光体8gは緑色可視光Pgを発光する。さらに近紫外光Ps3は青色蛍光体8bを励起し、この青色蛍光体8bは青色可視光Pbを発光する。
このとき赤色可視光Prの様に出射方向Uに向う光と、赤色可視光Pr1の様にLED素子1側に戻る光とが存在するが、赤色可視光Pr1は、LED素子基板19の裏面19aに設けられた光学フィルタ4によって反射され方向Uを向く。
すなわち光学フィルタ4が無ければLED素子1の中に戻って消滅する可能性のあった赤色可視光Pr1は、この光学フィルタ4によって再び有効的に利用されるのである。
なお、図5においては、近紫外光Ps1,Ps11,Ps2,Ps3と、可視光Pr,Pr1,Pg,Pbの光学的関係が模式的に表されており、実際には光路は多種多様な方向・経路をとることを申し添える。
[第1の実施形態の効果説明]
以上述べたように本発明によれば、光学フィルタ4の採用によって、赤青緑の3種の蛍光体が発する可視光は効率よく出射するためLED発光装置の発光強度を高めることが可能となる。さらに光学フィルタ4をLED素子1の素子裏面19aに直接かつ一体的に形成し素子レベルで発光効率の改善を図ったことで、照明器具の光源として必要とされる小形薄型化をも実現したLED発光装置を提供することが出来る。
(第2の実施形態)
[第2の実施形態の全図面説明:図6〜図9]
次に、図6〜図9を用いて構造を中心に本発明のLED発光装置の第2の実施形態について説明する。なお第2の実施形態は、第1の実施形態のLED素子1の上面にさらに反射層を追加したものである。なお以下の説明において第1の実施形態と同一の要素には同一番号を付して重複する説明は省略する。
まず図6を用いて本発明のLED発光装置200の構造を詳述する。
図6に示す様にLED素子10の素子上面19bには、近紫外光を反射する反射層6が、半導体層14の表面19bに直接かつ一体的に形成されている。
図6におけるその他の構造と要素は、第1の実施形態と同じなので重複する説明は省略する。
次に図7を用いてLED素子10の構造を詳述する。
図7(b)に示す様に、LED素子10の半導体層14のp−GaN層13bには、正極バンプ17aと、さらにアルミニウムまたは誘電体多層膜などによる反射層6とが形成されている。なお反射層6は、反射層としての機能を高めるため、図7(c)に示す様にバンプ17aの接続領域を除くp−GaN層13bの全面に直接かつ一体的に形成されている。放熱効率を良くするため接続領域を除いて正極バンプ17aをほぼ反射層6と積層させている。
図7におけるその他の構造と要素は、第1の実施形態と同じなので重複する説明は省略する。
次に図8を中心に図7を併用して本発明のLED発光装置200の製造工程を説明する。
図8(a)から図8(d)は第1の実施形態と同じなので重複する説明は省略する。
図8(d1)では、ウエハーの上面すなわち半導体層14が形成された素子上面19bに図7(c)の様に反射層6を形成する。この反射層6としては本実施形態では誘電多層膜を採用した。
図8(e)から図8(g)および図8(A),(B)は第1の実施形態と同じなので重複する説明は省略する。
以上の工程によって製造工程は終了しLED発光装置200が完成する。
[第2の実施形態の作用説明]
次に図9を用いて本発明のLED発光装置200の作用を説明する。
図9において、LED素子10のInGaN層12で発光し、半導体層14の表面19bの方向(図9では下向きに相当する)に向う近紫外光Ps4は、半導体層14の表面19bに形成された反射層6によって反射され、LED素子10の内部を経由しさらにLED素子基板19の裏面19aに形成された光学フィルタ4を通過して緑色蛍光体8gを励起する。この緑色蛍光体8gは緑色可視光Pg1を発光する。
すなわち本来の方向Uと反対の方向に出射した近紫外光Ps4は、半導体層14の表面19bに形成された反射層6によって反射され、緑色蛍光体8gを含む透光性樹脂側に向かい、緑色蛍光体8gを励起し緑色可視光Pg1の発生に寄与するのである。
[第2の実施形態の効果説明]
以上述べたように、本発明によればLED素子10から半導体層14の表面19bの方向に出射する近紫外光Ps4は反射層6で反射することで可視光の生成に寄与するため、LED発光装置の発光強度を高めることが可能となる。さらに反射層6を半導体層14の表面19bに直接かつ一体的に形成し素子レベルで発光効率の改善を図ったことで、照明器具の光源として必要とされる小形薄型化をも実現したLED発光装置を提供することが出来る。
(第3の実施形態)
[第3の実施形態の全図面説明:図10〜図13]
以下、図10〜図13を用いて構造を中心に本発明のLED発光装置の第3の実施形態について説明する。第3の実施形態は、回路基板2に反射膜を形成したものである。
なお以下の説明において、第1及び第2の実施形態と同一要素には同一番号を付して重複する説明は省略する。
まず図10を用いて本発明のLED発光装置300の構造を説明する。
図10に示す様に、回路基板20の基板上面20aには反射膜5aおよび5bが形成されている。
次に図11を用いて回路基板20の構造を説明する。
図11(b)に示す様に、基板上面20aすなわち回路基板20の正極基板電極21aの上および負極基板電極21bの上には、反射膜5aおよび5bが設けられている。
反射膜5aおよび5bはロジウム、アルミニュウム、プラチナ、銀など白色の金属で形成された反射膜で、図11(a),(b)に示す様に二分されている。
なお図11(b)に示す様に、正極バンプ17aおよび負極バンプ17bが位置する部分は、共晶結合となるように反射膜5aおよび5bは除去されている。
次に図12を中心に、図11を併用して本発明のLED発光装置300の製造工程を説明する。
図12(a)から図12(g)および図12(A)は、第2の実施形態と同じなので重複する説明は省略する。
図12(B)では回路基板20に反射膜6を形成する。すなわち図11(b)に示す様に、回路基板20の基板上面20aに反射膜を蒸着した後、ホトリソグラフィーにより図11(a),(b)に示す様に、バンプ17aおよび17bが接触する領域などを部分的に除去し、反射膜5aおよび5bを形成する。なお本実施例では反射膜5aおよび5bとして銀を用い、その厚みを約0.1ミクロンとした。
なお、一般的に回路基板20の正極基板電極21aや負極基板電極21bの様な配線用回路基板の電極には、信頼性や取扱い性確保のため、銅パターンの上にニッケルやロジウムなどのメッキを形成する場合が多く、一つの選択肢として正極基板電極21aや負極基板電極21bのメッキ面の光沢度を上げて、反射膜5aおよび5bの機能を代行させることも可能である。
以上の工程によって製造工程は終了しLED発光装置300が完成する。
[第3の実施形態の作用説明]
次に図13を用いて本発明のLED発光装置300の作用を説明する。
図13において、LED素子10のInGaN層12からLED素子基板19の裏面19aを通過した近紫外光Ps5は青色蛍光体8bを励起する。そして青色蛍光体8bが発する青色可視光の中で青色可視光Pb1の様に本来の方向Uとは逆、すなわち回路基板20側に向う光は回路基板20の基板上面20aに形成された反射膜5aによって反射され本来の方向Uを向く。
[第3の実施形態の効果説明]
すなわち上記の説明の様に、回路基板20の基板上面20aに形成された反射膜5aおよび5bは、赤青緑の3種の蛍光体から出射される様々な方向の可視光(同様にLED素子1の側面から出射する近紫外光)の有効利用に寄与するのでLED発光装置の発光強度を高めることが可能となる。さらに反射層5aおよび5bが回路基板22と一体的に形成されているので照明器具の光源として必要とされる小形薄型化をも実現したLED発光装置を提供することが出来る。
[発明の効果の全体説明]
以上述べた様に、本発明によれば、LED素子10に形成された光学フィルタ4ないし反射層6ないし回路基板20に形成された反射膜5aおよび5bによって、赤青緑の3種の蛍光体から出射される可視光線及び近紫外光を効率よく利用できるためLED発光装置の発光強度を高めることが可能となる。さらに光学フィルタ4ないし反射層6ないし反射層5aを、LED素子1ないし回路基板22と直接かつ一体的に形成し、素子レベルで発光効率の改善を図ったことで、照明器具の光源として必要とされる小形薄型化をも実現したLED発光装置を提供することが出来る。
なお、以上説明した実施形態は、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を満たすものであれば任意に変更することができることは言うまでもない。
本発明のLED発光装置は、近紫外光で蛍光体を励起することによって白色光を生成するLED全般に利用可能であり、とくにカラーフィルターを備える液晶表示装置のバックライトに有効である。
100 LED発光装置
1,10 LED素子
11 GaN層
11a n−GaN層
11b n−AlGaN層
12 InGaN層
13 GaP層
13a p−AlGaN層
13b p−GaN層
14 半導体層
17 バンプ
17a 正極バンプ
17b 負極バンプ
19 LED素子基板
19a LED素子基板の裏面
19b 半導体層の表面
2,20 回路基板
2a、20a 回路基板の上面
200 LED発光装置
21 基板電極
21a 正極基板電極
21at スルーホール
21b 負極基板電極
21bt スルーホール
22 回路基板素材
3 透光性樹脂
4 光学フィルタ
5 反射膜
5a 正極反射膜
5b 負極反射膜
6 反射層
8 蛍光体
8r 赤色蛍光体
8b 青色蛍光体
8g 緑色蛍光体
300 LED発光装置
50 無機発光ダイオードを有する発光装置
51 ダイクロイックミラー
52 反射ミラー
53 光子ランダム化層
54 発光板
55 無機発光ダイオード
B 一次光
W 変換された光
Ps LED素子1が出射する近紫外光
Ps1,Ps2,Ps(n) ある方向に発光される近紫外光
Pr (赤色蛍光体8rから出射された)赤色可視光
Pg (緑色蛍光体8gから出射された)緑色可視光
Pb (青色蛍光体8bから出射された)青色可視光
Pw 白色光
U 方向

Claims (5)

  1. LED素子基板の表面に半導体層を備えるLED素子を回路基板にフリップチップ実装し、蛍光体を含む透光性樹脂で封止してなるLED発光装置において、
    前記LED素子基板の裏面に近紫外光を透過し可視光を反射する光学フィルタを形成したことを特徴とするLED発光装置。
  2. 前記光学フィルタは誘電体多層膜を用いたダイクロイックミラーであることを特徴とする請求項1に記載のLED発光装置。
  3. 前記LED素子の前記半導体層に、近紫外光を反射する反射層を形成したことを特徴とする請求項1に記載のLED発光装置。
  4. 前記回路基板に、近紫外光および可視光を反射する反射膜を設けたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のLED発光装置。
  5. 前記LED素子は、前記回路基板と前記LED素子の前記半導体層側の面とを対向させてフリップチップ実装するためのメッキバンプを有していることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のLED発光装置。
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