JP2011075625A - 視差バリアの製造方法、及びフォトマスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】立体画像を良好に表示できる視差バリアの製造方法を提供する。
【解決手段】製造方法は、透光性基板上に遮光層を形成する遮光層形成工程と、第1及び第2の形成方向X,Yに沿って遮光部52及び開口部53が交互に配列するように、遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の開口部53を形成するパターン形成工程と、第1の形成方向Xに対して角度θだけ傾いた第1の切出方向X´、及び第2の形成方向Yに対して角度θだけ傾いた第2の切出方向Y´に沿って透光性基板を切り出す切出工程とを備える。パターン形成工程では、第1の形成方向Xに沿って並ぶ複数の開口部53を表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される視差バリア5の行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチBhで形成するとともに、第1の切出方向X´に倣うように第2の形成方向Yにずらして階段状に並ぶように形成する。
【選択図】図6
【解決手段】製造方法は、透光性基板上に遮光層を形成する遮光層形成工程と、第1及び第2の形成方向X,Yに沿って遮光部52及び開口部53が交互に配列するように、遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の開口部53を形成するパターン形成工程と、第1の形成方向Xに対して角度θだけ傾いた第1の切出方向X´、及び第2の形成方向Yに対して角度θだけ傾いた第2の切出方向Y´に沿って透光性基板を切り出す切出工程とを備える。パターン形成工程では、第1の形成方向Xに沿って並ぶ複数の開口部53を表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される視差バリア5の行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチBhで形成するとともに、第1の切出方向X´に倣うように第2の形成方向Yにずらして階段状に並ぶように形成する。
【選択図】図6
Description
本発明は、視差バリアの製造方法、及びフォトマスクの製造方法に関する。
従来、観察者に立体画像を観察させるために、複数の画素を有する液晶パネル等の表示手段と組み合わせて用いられ、表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離して、観察者の右目及び左目にそれぞれ入射させるパララックスバリア(視差バリア)が知られている。
このような視差バリアは、表示手段に対向して配置され、透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光部及び光を透過する開口部がパターン形成されることで、遮光部及び開口部が表示手段に各画素の配列に対応して少なくとも一方向に交互に配置された構成を有する。
このような視差バリアは、表示手段に対向して配置され、透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光部及び光を透過する開口部がパターン形成されることで、遮光部及び開口部が表示手段に各画素の配列に対応して少なくとも一方向に交互に配置された構成を有する。
そして、視差バリアの各開口部のピッチは、表示手段の画素ピッチ(各画素の間隔)や観察者の眼間距離(両目間の距離)に基づいて規定される理想値であることが好ましい。
しかしながら、透光性基板上に遮光部及び開口部をパターン形成する際、現状のパターン形成法では、1μm程度の単位でしか制御することができず、開口部のピッチを理想値にすることはできない。
そこで、従来では、開口部のピッチを、現状のパターン形成法で形成可能な複数種類のピッチが混在するように形成し、複数種類のピッチの平均値を理想値とする技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、透光性基板上に遮光部及び開口部をパターン形成する際、現状のパターン形成法では、1μm程度の単位でしか制御することができず、開口部のピッチを理想値にすることはできない。
そこで、従来では、開口部のピッチを、現状のパターン形成法で形成可能な複数種類のピッチが混在するように形成し、複数種類のピッチの平均値を理想値とする技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
しかしながら、複数種類のピッチで開口部を形成した場合には、開口部毎に観察者が開口部を介して視認可能な画素の範囲は、異なるものとなる。
すなわち、通常、表示手段を構成する複数の画素は、互いの画素同士を仕切るためにブラックマトリクスと呼ばれる遮光パターンが形成されているため、ブラックマトリクスが一部の開口部を介して観察者の目に観察されてしまう。
そして、複数種類のピッチで開口部を形成した場合には、ブラックマトリクスの占める割合が多い開口部と少ない開口部とで明暗の差が大きく発生するため、スジ状の干渉縞(モアレ)が観察者に視認されることとなる。
以上のように従来の技術では、立体画像にモアレが発生することとなり、立体画像の画質が劣化してしまう、という問題がある。
また、ブラックマトリクスを視認できないように、開口部の面積を小さく形成することも考えられるが、このように形成した場合には、光が通過する領域が小さくなることから、立体画像の明るさが小さくなってしまい、結果として、立体画像を良好に表示できない、という問題がある。
すなわち、通常、表示手段を構成する複数の画素は、互いの画素同士を仕切るためにブラックマトリクスと呼ばれる遮光パターンが形成されているため、ブラックマトリクスが一部の開口部を介して観察者の目に観察されてしまう。
そして、複数種類のピッチで開口部を形成した場合には、ブラックマトリクスの占める割合が多い開口部と少ない開口部とで明暗の差が大きく発生するため、スジ状の干渉縞(モアレ)が観察者に視認されることとなる。
以上のように従来の技術では、立体画像にモアレが発生することとなり、立体画像の画質が劣化してしまう、という問題がある。
また、ブラックマトリクスを視認できないように、開口部の面積を小さく形成することも考えられるが、このように形成した場合には、光が通過する領域が小さくなることから、立体画像の明るさが小さくなってしまい、結果として、立体画像を良好に表示できない、という問題がある。
本発明の目的は、立体画像を良好に表示できる視差バリアの製造方法を提供することにある。
本発明の視差バリアの製造方法は、光を遮断する遮光部、及び光を通過させる開口部を有し、マトリクス状に配列した複数の画素を有する表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を前記遮光部及び前記開口部にて分離する視差バリアの製造方法であって、透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光層を形成する遮光層形成工程と、第1の形成方向、及び前記第1の形成方向に直交する第2の形成方向に沿って前記遮光部及び前記開口部が交互に配列するように、前記遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の前記開口部を形成するパターン形成工程と、前記第1の形成方向に対して所定の角度だけ傾いた第1の切出方向、及び前記第2の形成方向に対して前記角度だけ傾いた第2の切出方向に沿って前記透光性基板を切り出す切出工程とを備え、前記パターン形成工程では、前記第1の形成方向に沿って並ぶ複数の前記開口部を前記表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される前記視差バリアの前記行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチで形成するとともに、前記第1の切出方向に倣うように前記第2の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成することを特徴とする。
本発明は、パターン形成工程において、遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の開口部を形成する際、第1の形成方向に沿って並ぶ複数の開口部を、理想開口ピッチよりも小さく、現状のパターン形成法でも形成可能な均等ピッチ(以下、開口ピッチと記載する)で形成する。そして、切出工程において、第1の形成方向に対して所定の角度(以下、切出角度と記載)だけ傾いた第1の切出方向、及び第2の形成方向に対して切出角度だけ傾いた第2の切出方向に沿って切り出すことで、視差バリアが製造される。
このことにより、製造された視差バリアを表示手段に組み合わせて用いる際、表示手段の各画素の行方向を第1の切出方向に合わせるように用いれば、パターン形成工程にて開口ピッチを理想開口ピッチよりも小さく形成した場合であっても、各開口部の第1の切出方向(行方向)に沿うピッチを擬似的に理想開口ピッチに近付けることができる。
より具体的に、各開口部の第1の切出方向に沿うピッチは、開口ピッチをBとし、切出角度をθとした場合、B/cosθで与えられる。したがって、例えば、理想開口ピッチをB´とした場合、切出角度θをarccos(B/B´)に近い値に設定しておけば、各開口部の第1の切出方向に沿うピッチを理想開口ピッチに略合致させることができる。
このことにより、製造された視差バリアを表示手段に組み合わせて用いる際、表示手段の各画素の行方向を第1の切出方向に合わせるように用いれば、パターン形成工程にて開口ピッチを理想開口ピッチよりも小さく形成した場合であっても、各開口部の第1の切出方向(行方向)に沿うピッチを擬似的に理想開口ピッチに近付けることができる。
より具体的に、各開口部の第1の切出方向に沿うピッチは、開口ピッチをBとし、切出角度をθとした場合、B/cosθで与えられる。したがって、例えば、理想開口ピッチをB´とした場合、切出角度θをarccos(B/B´)に近い値に設定しておけば、各開口部の第1の切出方向に沿うピッチを理想開口ピッチに略合致させることができる。
また、パターン形成工程では、第1の形成方向に沿って並ぶ複数の開口部を、第1の切出方向に倣うように第2の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成する。
このことにより、第1の形成方向に沿って並ぶ複数の開口部を、擬似的に第1の切出方向に沿って並ぶように形成できる。このため、上述したように透光性基板を切り出した場合であっても、表示手段の各画素に対する所望の位置に各開口部を配置させることができる。
このことにより、第1の形成方向に沿って並ぶ複数の開口部を、擬似的に第1の切出方向に沿って並ぶように形成できる。このため、上述したように透光性基板を切り出した場合であっても、表示手段の各画素に対する所望の位置に各開口部を配置させることができる。
以上のことから、表示手段の各画素に対する所望の位置に各開口部が配置し、かつ、各開口部の第1の切出方向(行方向)に沿うピッチが理想開口ピッチに近付くため、全ての開口部において、表示手段のブラックマトリクスを視認できる割合を略一致させることができる。すなわち、ブラックマトリクスによる各開口部の明暗の差を小さくでき、立体画像にモアレが発生することを抑制できる。
さらに、開口部の面積を必要以上に小さくすることなく、モアレの発生を抑制できるため、立体画像の明るさを十分に維持できる。
したがって、本発明の製造方法にて製造された視差バリアを用いれば、立体画像を良好に表示できる。
さらに、開口部の面積を必要以上に小さくすることなく、モアレの発生を抑制できるため、立体画像の明るさを十分に維持できる。
したがって、本発明の製造方法にて製造された視差バリアを用いれば、立体画像を良好に表示できる。
本発明の視差バリアの製造方法では、前記パターン形成工程では、前記第1の形成方向に沿う前記開口部の縁部分を前記第1の切出方向に倣うように前記第2の形成方向にずらして階段状に形成し、前記第2の形成方向に沿う前記開口部の縁部分を前記第2の切出方向に倣うように前記第1の形成方向にずらして階段状に形成することが好ましい。
本発明では、パターン形成工程において、開口部の縁部分を上述したように第1の切出方向及び第2の切出方向に倣うように階段状に形成する。
このことにより、上述したように透光性基板を切り出した場合であっても、各開口部の縁部分を、擬似的に第1の切出方向(表示手段の各画素の行方向)、及び第2の切出方向(表示手段の各画素の列方向)に沿うように形成できる。このため、視差バリアを表示手段に組み合わせた場合に、各画素に対して各開口部が傾いて配置されることがない。したがって、例えば、切出角度が比較的に大きい場合であっても、表示手段の各画素にて表示された右目用画像及び左目用画像を良好に分離でき、すなわち、立体画像を良好に表示できる。
本発明では、パターン形成工程において、開口部の縁部分を上述したように第1の切出方向及び第2の切出方向に倣うように階段状に形成する。
このことにより、上述したように透光性基板を切り出した場合であっても、各開口部の縁部分を、擬似的に第1の切出方向(表示手段の各画素の行方向)、及び第2の切出方向(表示手段の各画素の列方向)に沿うように形成できる。このため、視差バリアを表示手段に組み合わせた場合に、各画素に対して各開口部が傾いて配置されることがない。したがって、例えば、切出角度が比較的に大きい場合であっても、表示手段の各画素にて表示された右目用画像及び左目用画像を良好に分離でき、すなわち、立体画像を良好に表示できる。
本発明のフォトマスクの製造方法は、マトリクス状に配列した複数の画素を有する表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアの製造に用いられ、光を遮断する遮光部、及び光を通過させる開口部を有し、フォトリソグラフィーにより前記遮光部及び前記開口部の配列パターンを前記視差バリアに形成するためのフォトマスクの製造方法であって、透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光層を形成する遮光層形成工程と、第1の形成方向、及び前記第1の形成方向に直交する第2の形成方向に沿って前記遮光部及び前記開口部が交互に配列するように、前記遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の前記遮光部を形成するパターン形成工程と、前記第1の形成方向に対して所定の角度だけ傾いた第1の切出方向、及び前記第2の形成方向に対して前記角度だけ傾いた第2の切出方向に沿って前記透光性基板を切り出す切出工程とを備え、前記パターン形成工程では、前記第1の形成方向に沿って並ぶ複数の前記遮光部を前記表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される前記視差バリアにおける前記行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチで形成するとともに、前記第1の切出方向に倣うように前記第2の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成することを特徴とする。
本発明のフォトマスクの製造方法は、上述した視差バリアの製造方法と略同様の製造方法であり、視差バリアにおける遮光部及び開口部の形成位置を逆にして、フォトマスクに遮光部及び開口部を形成するものである。
そして、このフォトマスクを用いてフォトリソグラフィーにより視差バリアを製造することで、上述した視差バリアの製造方法と同様の視差バリアを製造することができる。したがって、上述した視差バリアの製造方法と同様の作用及び効果を享受できる。
そして、このフォトマスクを用いてフォトリソグラフィーにより視差バリアを製造することで、上述した視差バリアの製造方法と同様の視差バリアを製造することができる。したがって、上述した視差バリアの製造方法と同様の作用及び効果を享受できる。
[第1実施形態]
以下、本発明の第1実施形態を図面に基づいて説明する。
〔遊技機の概略構成〕
図1は、第1実施形態における遊技機1を示す斜視図である。
遊技機1は、図1に示すように、パチンコ機として構成され、ハンドル1Aの操作に応じて射出装置(図示略)により射出された遊技球が遊技盤1Bの盤面上を落下しつつ移動して、所定の入賞口に入賞した場合に所定数の遊技球を払い出すものである。
遊技盤1Bの表面には、略円形状の側壁1Cによって囲まれた遊技領域1Dが形成されている。そして、遊技領域1Dの略中央には、略横長長方形状の開口部1Eを介して、画像表示装置2が配置されている。
以下、本発明の第1実施形態を図面に基づいて説明する。
〔遊技機の概略構成〕
図1は、第1実施形態における遊技機1を示す斜視図である。
遊技機1は、図1に示すように、パチンコ機として構成され、ハンドル1Aの操作に応じて射出装置(図示略)により射出された遊技球が遊技盤1Bの盤面上を落下しつつ移動して、所定の入賞口に入賞した場合に所定数の遊技球を払い出すものである。
遊技盤1Bの表面には、略円形状の側壁1Cによって囲まれた遊技領域1Dが形成されている。そして、遊技領域1Dの略中央には、略横長長方形状の開口部1Eを介して、画像表示装置2が配置されている。
〔画像表示装置の構成〕
図2は、画像表示装置2の構成を模式的に示す断面図である。具体的に、図2は、液晶パネル4や視差バリア5の列方向(垂直方向:図3、図4中、上下方向)から見た断面図である。
画像表示装置2は、遊技球の入賞による抽選結果等に応じたコマンドの入力を受けて、該コマンドに応じた画像を表示する。具体的に、画像表示装置2は、観察者の右目により観察される画像(右目用画像)と、左目により観察される画像(左目用画像)とを含む立体画像を生成し、右目用画像及び左目用画像をそれぞれ右目及び左目に入射させて、視差により立体視可能な立体画像を表示する。本実施形態では、画像表示装置2は、視点数が2の2眼式立体表示装置として構成されている。
このような画像表示装置2は、図2に示すように、光源装置としてのバックライト3と、表示手段としての液晶パネル4と、視差バリア5とを備える。
図2は、画像表示装置2の構成を模式的に示す断面図である。具体的に、図2は、液晶パネル4や視差バリア5の列方向(垂直方向:図3、図4中、上下方向)から見た断面図である。
画像表示装置2は、遊技球の入賞による抽選結果等に応じたコマンドの入力を受けて、該コマンドに応じた画像を表示する。具体的に、画像表示装置2は、観察者の右目により観察される画像(右目用画像)と、左目により観察される画像(左目用画像)とを含む立体画像を生成し、右目用画像及び左目用画像をそれぞれ右目及び左目に入射させて、視差により立体視可能な立体画像を表示する。本実施形態では、画像表示装置2は、視点数が2の2眼式立体表示装置として構成されている。
このような画像表示装置2は、図2に示すように、光源装置としてのバックライト3と、表示手段としての液晶パネル4と、視差バリア5とを備える。
バックライト3は、略W字状に曲折された冷陰極管と、当該冷陰極管の背面側に設けられるリフレクターとを備え、冷陰極管に電圧印加して生じた放電光を、リフレクターで反射して液晶パネル4側に出射する。なお、バックライト3は、このような構成に限らず、L字状またはU字状のエッジタイプの冷陰極管と導光板との組み合わせや、冷陰極管及びリフレクターに代えて、LED(Light Emitting Diode)等の固体光源が複数配設された構成を有していてもよい。
図3は、液晶パネル4の画素4R,4Lの配列状態を平面的に見た模式図である。
なお、図2及び図3では、説明の便宜上、画素4R内に「R」の文字を付し、画素4L内に「L」の文字を付している。以下の図も同様である。
また、図2及び図3では、説明を簡略化するために、液晶パネル4として、各画素4R,4Lが4行×10列に配設された構成を示している。
液晶パネル4は、固定画素型の画像形成デバイスであり、図2または図3に示すように、右目用画像を表示する複数の右目用画素4Rと、左目用画像を表示する複数の左目用画素4Lとを備え、各画素4R,4LがブラックマトリクスBLにより仕切られている。
これら右目用画素4R及び左目用画素4Lは、図3に示すように、全ての行方向(水平方向:図3中、左右方向)及び全ての列方向(垂直方向:図3中、上下方向)において交互に配列されている。
そして、これら各画素4R,4Lは、具体的な図示は省略したが、それぞれR(赤)、G(緑)及びB(青)のカラーフィルターが光束出射側に配設されたサブピクセルにより構成されている。また、各画素4R,4Lは、一対の透明基板間に密閉封入された液晶に電圧を印加するTFT(Thin Filmed Transistor)をスイッチング素子として備え、TFTのスイッチングにより、各画素4R,4Lに画像信号として印加される電圧が変化して液晶の配向状態が変化されることで、入射光束が画像信号に応じて変調される。
なお、図2及び図3では、説明の便宜上、画素4R内に「R」の文字を付し、画素4L内に「L」の文字を付している。以下の図も同様である。
また、図2及び図3では、説明を簡略化するために、液晶パネル4として、各画素4R,4Lが4行×10列に配設された構成を示している。
液晶パネル4は、固定画素型の画像形成デバイスであり、図2または図3に示すように、右目用画像を表示する複数の右目用画素4Rと、左目用画像を表示する複数の左目用画素4Lとを備え、各画素4R,4LがブラックマトリクスBLにより仕切られている。
これら右目用画素4R及び左目用画素4Lは、図3に示すように、全ての行方向(水平方向:図3中、左右方向)及び全ての列方向(垂直方向:図3中、上下方向)において交互に配列されている。
そして、これら各画素4R,4Lは、具体的な図示は省略したが、それぞれR(赤)、G(緑)及びB(青)のカラーフィルターが光束出射側に配設されたサブピクセルにより構成されている。また、各画素4R,4Lは、一対の透明基板間に密閉封入された液晶に電圧を印加するTFT(Thin Filmed Transistor)をスイッチング素子として備え、TFTのスイッチングにより、各画素4R,4Lに画像信号として印加される電圧が変化して液晶の配向状態が変化されることで、入射光束が画像信号に応じて変調される。
図4は、視差バリア5の開口部53の配列状態を平面的に見た模式図である。
視差バリア5は、液晶パネル4の光束出射側(観察者側)に配設され(図2)、表示される立体画像のうち、右目用画像と左目用画像とを分離する機能を有し、観察者の両目に、それぞれの画像を個別に入射させる。
この視差バリア5は、図2に示すように、液晶パネル4を介した光を透過させる透光性基板51と、遮光部52とを備える。
遮光部52は、光を遮断する材料から構成され、透光性基板51上に形成されている。そして、遮光部52は、図4に示すように、液晶パネル4の各画素4R,4Lの配列に対応して、行方向(水平方向:図4中、左右方向)に1列おきに矩形状の開口部53が所定の均等なピッチで配置され、かつ、列方向(垂直方向:図4中、左右方向)に1行おきに開口部53が所定の均等なピッチで配置されるように形成されている。すなわち、各開口部53は、千鳥状に配置されている。
ここで、各開口部53は、全て同一の形状を有しているものである。
視差バリア5は、液晶パネル4の光束出射側(観察者側)に配設され(図2)、表示される立体画像のうち、右目用画像と左目用画像とを分離する機能を有し、観察者の両目に、それぞれの画像を個別に入射させる。
この視差バリア5は、図2に示すように、液晶パネル4を介した光を透過させる透光性基板51と、遮光部52とを備える。
遮光部52は、光を遮断する材料から構成され、透光性基板51上に形成されている。そして、遮光部52は、図4に示すように、液晶パネル4の各画素4R,4Lの配列に対応して、行方向(水平方向:図4中、左右方向)に1列おきに矩形状の開口部53が所定の均等なピッチで配置され、かつ、列方向(垂直方向:図4中、左右方向)に1行おきに開口部53が所定の均等なピッチで配置されるように形成されている。すなわち、各開口部53は、千鳥状に配置されている。
ここで、各開口部53は、全て同一の形状を有しているものである。
そして、観察者は、上述した視差バリア5により、以下に示すように、立体画像を認識する。
すなわち、左目用画素4Lから出射された光は、図2に示すように、遮光部52により観察者の右目ERに入射することが規制され、開口部53を介して観察者の左目ELのみに入射する。
また、右目用画素4Rから出射された光は、図2に示すように、遮光部52により観察者の左目ELに入射することが規制され、開口部53を介して観察者の右目ERのみに入射する。
そして、観察者は、右目用画像及び左目用画像の視差により、立体画像を認識する。
すなわち、左目用画素4Lから出射された光は、図2に示すように、遮光部52により観察者の右目ERに入射することが規制され、開口部53を介して観察者の左目ELのみに入射する。
また、右目用画素4Rから出射された光は、図2に示すように、遮光部52により観察者の左目ELに入射することが規制され、開口部53を介して観察者の右目ERのみに入射する。
そして、観察者は、右目用画像及び左目用画像の視差により、立体画像を認識する。
〔視差バリアの製造方法〕
図5は、視差バリア5の製造方法を説明するフローチャートである。
図6は、視差バリア5の製造方法を説明するための図である。なお、図6では、一部の開口部53のみが形成された状態を示している。
上述した視差バリア5は、例えば、以下に示すように製造される。
なお、以下では、説明の便宜上、以下の液晶パネルを採用した場合での視差バリア5の製造方法を例示する。
液晶パネル4:XGAパネル12型(対角約31cm)
行方向(水平方向)の画素ピッチPh(図3):0.08mm
行方向の画面幅(図3):画素ピッチPh×3(RGBサブピクセル)×1024=245.76mm
図5は、視差バリア5の製造方法を説明するフローチャートである。
図6は、視差バリア5の製造方法を説明するための図である。なお、図6では、一部の開口部53のみが形成された状態を示している。
上述した視差バリア5は、例えば、以下に示すように製造される。
なお、以下では、説明の便宜上、以下の液晶パネルを採用した場合での視差バリア5の製造方法を例示する。
液晶パネル4:XGAパネル12型(対角約31cm)
行方向(水平方向)の画素ピッチPh(図3):0.08mm
行方向の画面幅(図3):画素ピッチPh×3(RGBサブピクセル)×1024=245.76mm
一般的な視差バリアの製造方法としては、第1の形成方向X(図6)、及び第1の形成方向に直交する第2の形成方向Y(図6)に沿って遮光部及び開口部が交互に配列するように透光性基板上に遮光部及び開口部をパターン形成する。この後、液晶パネル4の各画素4R,4Lにて表示された左目用画像及び右目用画像を分離する上で視差バリアとして必要とされる大きさ(図6の一点鎖線で示す矩形領域Ar´)となるように第1の形成方向X及び第2の形成方向Yに沿って透光性基板を切り出す。
本願では、後述する切出工程S4において、第1の形成方向Xに対して所定の切出角度θ(図6)だけ傾いた第1の切出方向X´(図6)、及び第2の形成方向Yに対して切出角度θだけ傾いた第2の切出方向Y´(図6)に沿って透光性基板を切り出すものである。
そして、本願の製造方法では、先ず、以下に示すように、上述した切出角度θを算出する(ステップS1:角度算出工程)。
本願では、後述する切出工程S4において、第1の形成方向Xに対して所定の切出角度θ(図6)だけ傾いた第1の切出方向X´(図6)、及び第2の形成方向Yに対して切出角度θだけ傾いた第2の切出方向Y´(図6)に沿って透光性基板を切り出すものである。
そして、本願の製造方法では、先ず、以下に示すように、上述した切出角度θを算出する(ステップS1:角度算出工程)。
具体的には後述するが、後述するパターン形成工程S3では、開口部53及び遮光部52における第1の形成方向Xに沿う幅(以下、開口幅、遮光幅と記載)、開口部53における第1の形成方向Xの水平開口ピッチBh(図4,図6)が以下の数値となるように形成される。
開口幅:0.06mm
遮光幅:0.099mm
水平開口ピッチBh:0.159mm
開口幅:0.06mm
遮光幅:0.099mm
水平開口ピッチBh:0.159mm
なお、各開口部53における行方向の理論上の理想開口ピッチBh´は、眼間距離をEとした場合に、以下の式(1)で表される。
〔数1〕
例えば、理想開口ピッチBh´は、眼間距離Eが65mmとすると、式(1)により、0.159803・・・mmとなる。
ここで、現状のパターン形成法(レーザーエッチング、ドライエッチング、ウェットエッチング、あるいは、フォトリソグラフィー法等)では、遮光部52及び開口部53を形成する際に1μm程度の単位でしか制御することはできない。
すなわち、現状のパターン形成法では、0.159mmあるいは0.160mmで水平開口ピッチBhを形成することはできるが、上述した理想開口ピッチBh´で形成することはできない。
そして、本実施形態では、上述したように、水平開口ピッチBhが理想開口ピッチBh´よりも小さい0.159mmで形成されるため、現状のパターン形成法でも十分に形成できるものである。
ここで、現状のパターン形成法(レーザーエッチング、ドライエッチング、ウェットエッチング、あるいは、フォトリソグラフィー法等)では、遮光部52及び開口部53を形成する際に1μm程度の単位でしか制御することはできない。
すなわち、現状のパターン形成法では、0.159mmあるいは0.160mmで水平開口ピッチBhを形成することはできるが、上述した理想開口ピッチBh´で形成することはできない。
そして、本実施形態では、上述したように、水平開口ピッチBhが理想開口ピッチBh´よりも小さい0.159mmで形成されるため、現状のパターン形成法でも十分に形成できるものである。
ここで、液晶パネル4の各画素4R,4Lにて表示された左目用画像及び右目用画像を分離する上で視差バリア5に必要とされる行方向の所要総水平幅Bx´(図6)は、以下の値になる。
すなわち、所要総水平幅Bx´は、開口部53のピッチ数をnとした場合に、n×Bh´で与えられる。
また、ピッチ数nは、液晶パネル4の行方向の画面幅(245.76mm)をカバーする必要があるため、245.76/Bh´≒1538である。
このため、所要総水平幅Bx´は、1538×Bh´=245.77504・・・mmである。
すなわち、所要総水平幅Bx´は、開口部53のピッチ数をnとした場合に、n×Bh´で与えられる。
また、ピッチ数nは、液晶パネル4の行方向の画面幅(245.76mm)をカバーする必要があるため、245.76/Bh´≒1538である。
このため、所要総水平幅Bx´は、1538×Bh´=245.77504・・・mmである。
一方、現状のパターン形成法でも形成可能で実際に製造する水平開口ピッチBhは、上述したように0.159mmであるため、実現可能な行方向(第1の形成方向X)の総水平幅Bx(図6)は、1538×Bh=245.542mmであり、所要総水平幅Bx´よりも小さいものとなる。
そこで、図6に示すように、第1の形成方向Xに対して以下の式(2)で与えられる切出角度θだけ傾いた第1の切出方向X´、及び第2の形成方向Yに対して切出角度θだけ傾いた第2の切出方向Y´に沿って切り出すことで、水平開口ピッチBhで形成した場合であっても、視差バリア5を所要総水平幅Bx´で切り出すことができる。
そこで、図6に示すように、第1の形成方向Xに対して以下の式(2)で与えられる切出角度θだけ傾いた第1の切出方向X´、及び第2の形成方向Yに対して切出角度θだけ傾いた第2の切出方向Y´に沿って切り出すことで、水平開口ピッチBhで形成した場合であっても、視差バリア5を所要総水平幅Bx´で切り出すことができる。
〔数2〕
なお、切出角度θは、水平開口ピッチBh及び理想開口ピッチBh´に基づいて、以下の式(3)でも同等の角度を算出できるものである。
〔数3〕
そして、角度算出工程S1の後、透光性基板51全面に、遮光部52の基となる遮光材を塗布し、遮光層を形成する(ステップS2:遮光層形成工程)。
遮光層形成工程S2の後、第1の形成方向X及び第2の形成方向Yに沿って遮光部52及び開口部53が交互に配列するように、レーザーエッチングにより遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の開口部53を形成する(ステップS3:パターン形成工程)。
遮光層形成工程S2の後、第1の形成方向X及び第2の形成方向Yに沿って遮光部52及び開口部53が交互に配列するように、レーザーエッチングにより遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の開口部53を形成する(ステップS3:パターン形成工程)。
具体的に、パターン形成工程S3では、以下の式(4)に示す回転写像関数(X,Y)を用いて各開口部53の形成位置を特定する。そして、行方向(第1の形成方向X)に並ぶ複数の開口部53(以下、行パターンと記載)を形成するとともに、行パターンを第2の形成方向Yに沿って繰り返し形成することで全ての開口部53を形成する。
〔数4〕
なお、式(4)において、X,Yは回転写像後の座標値を示し、x,yは回転写像前の座標値を示し、θは角度算出工程S1にて算出した切出角度を示している。
例えば、以下に示すように、式(4)を用いて、各開口部53の形成位置を特定する。
すなわち、行パターンの最も左端に位置する開口部53A(図6)における左下角位置PA(図6)のX座標値については、式(4)において、xを0とし、yを回転写像していない理論上の行パターンの高さ位置として、左下角位置PAのX座標値を算出する。
また、各開口部53における左下角位置PA,PB(図6)のY座標値については、式(4)において、x及びyを回転写像していない理論上の各開口部53の左下角位置のx座標値、y座標値として、左下角位置PA,PBのY座標値を算出する。
そして、上記のように、行パターンの最も左端に位置する開口部53Aの左下角位置PAの座標値(X,Y)を特定した後、左下角位置PAを形成開始位置として、開口幅0.06mm及び開口部53における第2の形成方向Yに沿う高さ(以下、開口高さと記載)0.18mmで開口部53Aを形成する。
例えば、以下に示すように、式(4)を用いて、各開口部53の形成位置を特定する。
すなわち、行パターンの最も左端に位置する開口部53A(図6)における左下角位置PA(図6)のX座標値については、式(4)において、xを0とし、yを回転写像していない理論上の行パターンの高さ位置として、左下角位置PAのX座標値を算出する。
また、各開口部53における左下角位置PA,PB(図6)のY座標値については、式(4)において、x及びyを回転写像していない理論上の各開口部53の左下角位置のx座標値、y座標値として、左下角位置PA,PBのY座標値を算出する。
そして、上記のように、行パターンの最も左端に位置する開口部53Aの左下角位置PAの座標値(X,Y)を特定した後、左下角位置PAを形成開始位置として、開口幅0.06mm及び開口部53における第2の形成方向Yに沿う高さ(以下、開口高さと記載)0.18mmで開口部53Aを形成する。
また、開口部53Aを形成した後、第1の形成方向Xに沿って隣接する他の開口部53B(図6)を形成する。
具体的に、他の開口部53Bの左下角位置PBのX座標値は開口部53Aの左下角位置PAのX座標値に対して水平開口ピッチBhを加えた値であり、左下角位置PBのY座標値は上記のように算出した値を用いる。
そして、左下角位置PBを形成開始位置として、上記同様に、開口幅0.06mm及び開口高さ0.18mmで開口部53Bを形成する。
上記のように第1の形成方向Xに沿って、順次、開口部53を形成していくことで行パターンを形成する。また、行パターンの形成を第2の形成方向Yに沿って順次、実施することで、全ての開口部53を形成する。
そして、上記のような形成法では、図6に示すように、第1の形成方向Xに沿って並ぶ各開口部53は、第1の切出方向X´に倣うように階段状に並ぶこととなる。また、具体的な図示は省略したが、第2の形成方向Yに沿って並ぶ各開口部53も同様に、第2の切出方向Y´に倣うように階段状に並ぶこととなる。
具体的に、他の開口部53Bの左下角位置PBのX座標値は開口部53Aの左下角位置PAのX座標値に対して水平開口ピッチBhを加えた値であり、左下角位置PBのY座標値は上記のように算出した値を用いる。
そして、左下角位置PBを形成開始位置として、上記同様に、開口幅0.06mm及び開口高さ0.18mmで開口部53Bを形成する。
上記のように第1の形成方向Xに沿って、順次、開口部53を形成していくことで行パターンを形成する。また、行パターンの形成を第2の形成方向Yに沿って順次、実施することで、全ての開口部53を形成する。
そして、上記のような形成法では、図6に示すように、第1の形成方向Xに沿って並ぶ各開口部53は、第1の切出方向X´に倣うように階段状に並ぶこととなる。また、具体的な図示は省略したが、第2の形成方向Yに沿って並ぶ各開口部53も同様に、第2の切出方向Y´に倣うように階段状に並ぶこととなる。
パターン形成工程S3の後、第1の切出方向X´及び第2の切出方向Y´に沿って透光性基板51を切り出す(ステップS4:切出工程)。
切出工程S4において、透光性基板51を切り出すことで、視差バリア5は、液晶パネル4の各画素4R,4Lにて表示された左目用画像及び右目用画像を分離する上で必要とされる大きさ(図6の実線で示す矩形領域Ar(矩形領域Ar´と同等の大きさ))で視差バリア5が製造されることとなる。
切出工程S4において、透光性基板51を切り出すことで、視差バリア5は、液晶パネル4の各画素4R,4Lにて表示された左目用画像及び右目用画像を分離する上で必要とされる大きさ(図6の実線で示す矩形領域Ar(矩形領域Ar´と同等の大きさ))で視差バリア5が製造されることとなる。
上述した第1実施形態によれば、以下の効果がある。
本実施形態では、パターン形成工程S3において、遮光層の一部を除去して矩形状の複数の開口部53を形成する際、第1の形成方向Xに沿って並ぶ複数の開口部53を、理想開口ピッチBh´よりも小さく、現状のパターン形成法でも形成可能な水平開口ピッチBhで形成する。そして、切出工程S4において、第1の形成方向Xに対して切出角度θだけ傾いた第1の切出方向X´、及び第2の形成方向Yに対して切出角度θだけ傾いた第2の切出方向Y´に沿って矩形領域Arを切り出すことで、視差バリア5が製造される。
このことにより、製造された視差バリア5を液晶パネル4に組み合わせて用いる際、液晶パネル4の各画素4R,4Lの行方向を第1の切出方向X´に合わせるように用いれば、パターン形成工程S3にて水平開口ピッチBhを理想開口ピッチBh´よりも小さく形成した場合であっても、各開口部53の第1の切出方向X´(行方向)に沿うピッチBhA(図4)を擬似的に理想開口ピッチBh´に近付けることができる。
特に、本実施形態では、切出角度θが式(3)に示されているようにarccos(Bh/Bh´)で与えられているため、ピッチBhAを理想開口ピッチBh´に略合致させることができる。
本実施形態では、パターン形成工程S3において、遮光層の一部を除去して矩形状の複数の開口部53を形成する際、第1の形成方向Xに沿って並ぶ複数の開口部53を、理想開口ピッチBh´よりも小さく、現状のパターン形成法でも形成可能な水平開口ピッチBhで形成する。そして、切出工程S4において、第1の形成方向Xに対して切出角度θだけ傾いた第1の切出方向X´、及び第2の形成方向Yに対して切出角度θだけ傾いた第2の切出方向Y´に沿って矩形領域Arを切り出すことで、視差バリア5が製造される。
このことにより、製造された視差バリア5を液晶パネル4に組み合わせて用いる際、液晶パネル4の各画素4R,4Lの行方向を第1の切出方向X´に合わせるように用いれば、パターン形成工程S3にて水平開口ピッチBhを理想開口ピッチBh´よりも小さく形成した場合であっても、各開口部53の第1の切出方向X´(行方向)に沿うピッチBhA(図4)を擬似的に理想開口ピッチBh´に近付けることができる。
特に、本実施形態では、切出角度θが式(3)に示されているようにarccos(Bh/Bh´)で与えられているため、ピッチBhAを理想開口ピッチBh´に略合致させることができる。
また、パターン形成工程S3では、第1の形成方向Xに沿って並ぶ複数の開口部53を、第1の切出方向X´に倣うように第2の形成方向Yにずらして階段状に並ぶように形成する。
このことにより、第1の形成方向Xに沿って並ぶ複数の開口部53を、擬似的に第1の切出方向X´に沿って並ぶように形成できる。このため、上述したように透光性基板51を切り出した場合であっても、液晶パネル4の各画素4R,4Lに対する所望の位置に各開口部53を配置させることができる。
このことにより、第1の形成方向Xに沿って並ぶ複数の開口部53を、擬似的に第1の切出方向X´に沿って並ぶように形成できる。このため、上述したように透光性基板51を切り出した場合であっても、液晶パネル4の各画素4R,4Lに対する所望の位置に各開口部53を配置させることができる。
以上のことから、液晶パネル4の各画素4R,4Lに対する所望の位置に各開口部53が配置し、かつ、各開口部53の第1の切出方向X´(行方向)に沿うピッチBhAが理想開口ピッチBh´に近付くため、全ての開口部53において、液晶パネル4のブラックマトリクスBLを視認できる割合を略一致させることができる。すなわち、ブラックマトリクスBLによる各開口部53の明暗の差を小さくでき、立体画像にモアレが発生することを抑制できる。
さらに、開口部53の面積を必要以上に小さくすることなく、モアレの発生を抑制できるため、立体画像の明るさを十分に維持できる。
さらに、開口部53の面積を必要以上に小さくすることなく、モアレの発生を抑制できるため、立体画像の明るさを十分に維持できる。
[第2実施形態]
次に、本発明の第2実施形態を図面に基づいて説明する。
以下の説明では、前記第1実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。
図7は、第2実施形態における視差バリア5の製造方法を説明するための図である。
前記第1実施形態では、パターン形成工程S3において、各開口部53を形成する際、開口部53の縁部分が第1の形成方向X及び第2の形成方向Yにそれぞれ平行し、開口部53が矩形形状となるように形成していた。
これに対して第2実施形態では、図7に示すように、パターン形成工程S3において、各開口部53を形成する際、開口部53の縁部分が第1の切出方向X´及び第2の切出方向Y´にそれぞれ倣うように階段状に形成している点が異なるのみである。
次に、本発明の第2実施形態を図面に基づいて説明する。
以下の説明では、前記第1実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。
図7は、第2実施形態における視差バリア5の製造方法を説明するための図である。
前記第1実施形態では、パターン形成工程S3において、各開口部53を形成する際、開口部53の縁部分が第1の形成方向X及び第2の形成方向Yにそれぞれ平行し、開口部53が矩形形状となるように形成していた。
これに対して第2実施形態では、図7に示すように、パターン形成工程S3において、各開口部53を形成する際、開口部53の縁部分が第1の切出方向X´及び第2の切出方向Y´にそれぞれ倣うように階段状に形成している点が異なるのみである。
上述した第2実施形態によれば、前記第1実施形態と同様の効果の他、以下の効果がある。
本実施形態では、パターン形成工程S3において、開口部53の縁部分を上述したように第1の切出方向X´及び第2の切出方向Y´に倣うように階段状に形成する。
このことにより、切出工程S4において第1の切出方向X´及び第2の切出方向Y´に沿って透光性基板51を切り出した場合であっても、各開口部53の縁部分を、擬似的に第1の切出方向X´(液晶パネル4の各画素4R,4Lの行方向)、及び第2の切出方向Y´(液晶パネル4の各画素4R,4Lの列方向)に沿うように形成できる。このため、視差バリア5を液晶パネル4に組み合わせた場合に、各画素4R,4Lに対して各開口部53が傾いて配置されることがない。したがって、例えば、切出角度θが比較的に大きい場合であっても、液晶パネル4の各画素4R,4Lにて表示された右目用画像及び左目用画像を良好に分離でき、すなわち、立体画像を良好に表示できる。
本実施形態では、パターン形成工程S3において、開口部53の縁部分を上述したように第1の切出方向X´及び第2の切出方向Y´に倣うように階段状に形成する。
このことにより、切出工程S4において第1の切出方向X´及び第2の切出方向Y´に沿って透光性基板51を切り出した場合であっても、各開口部53の縁部分を、擬似的に第1の切出方向X´(液晶パネル4の各画素4R,4Lの行方向)、及び第2の切出方向Y´(液晶パネル4の各画素4R,4Lの列方向)に沿うように形成できる。このため、視差バリア5を液晶パネル4に組み合わせた場合に、各画素4R,4Lに対して各開口部53が傾いて配置されることがない。したがって、例えば、切出角度θが比較的に大きい場合であっても、液晶パネル4の各画素4R,4Lにて表示された右目用画像及び左目用画像を良好に分離でき、すなわち、立体画像を良好に表示できる。
[第3実施形態]
次に、本発明の第3実施形態を図面に基づいて説明する。
以下の説明では、前記第1実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。
図8は、第3実施形態における視差バリア5の製造方法を説明するための図である。
前記第1実施形態では、視差バリア5を製造する際に、遮光層形成工程S2において透光性基板51上に遮光層を塗布した後、パターン形成工程S3においてレーザーエッチングにより遮光層を直接、除去して複数の開口部53を形成していた。
これに対して第3実施形態では、視差バリア5を製造する際に、図8に示すように、透光性基板51上に遮光部52´及び開口部53´を有するフォトマスク100を用いてフォトリソグラフィーにより視差バリア5の遮光部52及び開口部53を形成する点が異なるのみである。
次に、本発明の第3実施形態を図面に基づいて説明する。
以下の説明では、前記第1実施形態と同様の構造及び同一部材には同一符号を付して、その詳細な説明は省略または簡略化する。
図8は、第3実施形態における視差バリア5の製造方法を説明するための図である。
前記第1実施形態では、視差バリア5を製造する際に、遮光層形成工程S2において透光性基板51上に遮光層を塗布した後、パターン形成工程S3においてレーザーエッチングにより遮光層を直接、除去して複数の開口部53を形成していた。
これに対して第3実施形態では、視差バリア5を製造する際に、図8に示すように、透光性基板51上に遮光部52´及び開口部53´を有するフォトマスク100を用いてフォトリソグラフィーにより視差バリア5の遮光部52及び開口部53を形成する点が異なるのみである。
すなわち、フォトマスク100としては、遮光部52´の形状が視差バリア5の開口部53と同様の形状で、かつ、開口部53´の形状が視差バリア5の遮光部52と同様の形状とすることが必要とされる。
このため、フォトマスク100の製造方法としては、前記第1実施形態で説明した視差バリア5の製造方法と略同様の方法を採用でき、パターン形成工程S3において、遮光部52及び開口部53の形成位置を逆にし、矩形状の複数の遮光部52を形成すればよい。すなわち、図4または図6において、遮光部52の形成位置に開口部53´を形成し、開口部53の形成位置に遮光部52´を形成する。
このため、フォトマスク100の製造方法としては、前記第1実施形態で説明した視差バリア5の製造方法と略同様の方法を採用でき、パターン形成工程S3において、遮光部52及び開口部53の形成位置を逆にし、矩形状の複数の遮光部52を形成すればよい。すなわち、図4または図6において、遮光部52の形成位置に開口部53´を形成し、開口部53の形成位置に遮光部52´を形成する。
そして、上述したように製造したフォトマスク100を用いて、以下に示すように、視差バリア5を製造する。
先ず、図8(A)に示すように、透光性基板51全面に遮光層S及びレジストRが塗布された基板に対して、フォトマスク100を介して露光し、フォトマスク100の開口部53´に相当する領域のレジストRを感光させる。
次に、図8(B)に示すように、現像及び洗浄により、感光した領域以外のレジストRを除去する。
次に、図8(C)に示すように、エッチングにより、遮光層Sにおいて、感光したレジストRにて覆われていない領域を除去する。
そして、図8(D)に示すように、感光したレジストRを除去することで、前記第1実施形態と同様の視差バリア5が製造される。
上述した第3実施形態のようにフォトマスク100を用いてフォトリソグラフィーにより視差バリア5を製造した場合であっても、前記第1実施形態と同様の作用及び効果を享受できる。
先ず、図8(A)に示すように、透光性基板51全面に遮光層S及びレジストRが塗布された基板に対して、フォトマスク100を介して露光し、フォトマスク100の開口部53´に相当する領域のレジストRを感光させる。
次に、図8(B)に示すように、現像及び洗浄により、感光した領域以外のレジストRを除去する。
次に、図8(C)に示すように、エッチングにより、遮光層Sにおいて、感光したレジストRにて覆われていない領域を除去する。
そして、図8(D)に示すように、感光したレジストRを除去することで、前記第1実施形態と同様の視差バリア5が製造される。
上述した第3実施形態のようにフォトマスク100を用いてフォトリソグラフィーにより視差バリア5を製造した場合であっても、前記第1実施形態と同様の作用及び効果を享受できる。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
前記各実施形態において、水平開口ピッチBh(前記第3実施形態の場合には各遮光部52´における第1の形成方向Xに沿うピッチ)は、前記各実施形態で説明した値に限らず、理想開口ピッチBh´よりも小さければ、その他の値としても構わない。
前記各実施形態において、水平開口ピッチBh(前記第3実施形態の場合には各遮光部52´における第1の形成方向Xに沿うピッチ)は、前記各実施形態で説明した値に限らず、理想開口ピッチBh´よりも小さければ、その他の値としても構わない。
前記各実施形態では、パターン形成工程S3において、各開口部53(前記第3実施形態の場合には各遮光部52´)の形成位置を特定する際、式(4)に示す回転写像関数を用いていたが、これに限らず、その他の方法で形成位置を特定しても構わない。
前記各実施形態では、視差バリア5を液晶パネル4の光出射側に配設していたが、これに限らず、バックライト3と液晶パネル4との間に配設しても構わない。この場合には、理想開口ピッチBh´が前記各実施形態で説明した値と異なる値となるため、パターン形成工程S3では、水平開口ピッチBhが前記各実施形態で説明した値とは異なる理想開口ピッチBh´よりも小さくなるように形成すればよい。
前記各実施形態では、視差バリア5を液晶パネル4の光出射側に配設していたが、これに限らず、バックライト3と液晶パネル4との間に配設しても構わない。この場合には、理想開口ピッチBh´が前記各実施形態で説明した値と異なる値となるため、パターン形成工程S3では、水平開口ピッチBhが前記各実施形態で説明した値とは異なる理想開口ピッチBh´よりも小さくなるように形成すればよい。
前記第3実施形態において、前記第2実施形態のように、各遮光部52´の縁部分を第1の切出方向X´及び第2の切出方向Y´にそれぞれ倣うように階段状に形成しても構わない。
前記各実施形態では、液晶パネル4を備える画像表示装置2を挙げたが、本発明はこれに限らない。すなわち、バックライト3及び液晶パネル4に代えて、有機EL(Electro-Luminescence)やプラズマ等の自己発光素子を有するパネルを採用してもよく、また、CRT(Cathode Ray Tube)を採用することも可能である
前記各実施形態では、画像表示装置2をパチンコ機として構成された遊技機1に採用した例を挙げたが、これに限らない。すなわち、画像表示装置2は、パチスロ機等の他の遊技機に採用することもできる。また、画像表示装置2は、単体で使用することも可能であるほか、自動車のコンソールパネルや、ビデオゲーム機等に採用することも可能である。
本発明は、複数の画素を有する表示手段と組み合わせて用いられ、表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアの製造方法に利用できる。
4・・・液晶パネル(表示手段)、4R,4L・・・画素、5・・・視差バリア、51・・・透光性基板、52,52´・・・遮光部、53,53´・・・開口部、100・・・フォトマスク、X・・・第1の形成方向、Y・・・第2の形成方向、X´・・・第1の切出方向、Y´・・・第2の切出方向、θ・・・切出角度、S2・・・遮光層形成工程、S3・・・パターン形成工程、S4・・・切出工程。
Claims (3)
- 光を遮断する遮光部、及び光を通過させる開口部を有し、マトリクス状に配列した複数の画素を有する表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を前記遮光部及び前記開口部にて分離する視差バリアの製造方法であって、
透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光層を形成する遮光層形成工程と、
第1の形成方向、及び前記第1の形成方向に直交する第2の形成方向に沿って前記遮光部及び前記開口部が交互に配列するように、前記遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の前記開口部を形成するパターン形成工程と、
前記第1の形成方向に対して所定の角度だけ傾いた第1の切出方向、及び前記第2の形成方向に対して前記角度だけ傾いた第2の切出方向に沿って前記透光性基板を切り出す切出工程とを備え、
前記パターン形成工程では、
前記第1の形成方向に沿って並ぶ複数の前記開口部を前記表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される前記視差バリアの前記行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチで形成するとともに、前記第1の切出方向に倣うように前記第2の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成する
ことを特徴とする視差バリアの製造方法。 - 請求項1に記載の視差バリアの製造方法において、
前記パターン形成工程では、
前記第1の形成方向に沿う前記開口部の縁部分を前記第1の切出方向に倣うように前記第2の形成方向にずらして階段状に形成し、
前記第2の形成方向に沿う前記開口部の縁部分を前記第2の切出方向に倣うように前記第1の形成方向にずらして階段状に形成する
ことを特徴とする視差バリアの製造方法。 - マトリクス状に配列した複数の画素を有する表示手段にて表示された右目用画像及び左目用画像を分離する視差バリアの製造に用いられ、光を遮断する遮光部、及び光を通過させる開口部を有し、フォトリソグラフィーにより前記遮光部及び前記開口部の配列パターンを前記視差バリアに形成するためのフォトマスクの製造方法であって、
透光性を有する透光性基板上に光を遮断する遮光層を形成する遮光層形成工程と、
第1の形成方向、及び前記第1の形成方向に直交する第2の形成方向に沿って前記遮光部及び前記開口部が交互に配列するように、前記遮光層の一部を除去して略矩形状の複数の前記遮光部を形成するパターン形成工程と、
前記第1の形成方向に対して所定の角度だけ傾いた第1の切出方向、及び前記第2の形成方向に対して前記角度だけ傾いた第2の切出方向に沿って前記透光性基板を切り出す切出工程とを備え、
前記パターン形成工程では、
前記第1の形成方向に沿って並ぶ複数の前記遮光部を前記表示手段における行方向の画素ピッチに基づいて規定される前記視差バリアにおける前記行方向の理想開口ピッチよりも小さい均等なピッチで形成するとともに、前記第1の切出方向に倣うように前記第2の形成方向にずらして階段状に並ぶように形成する
ことを特徴とするフォトマスクの製造方法。
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