JP2011071066A - 高周波加速空胴の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】赤道部28とアイリス部27とが設けられた複数の半セル20を製造し、複数の半セル20から超伝導高周波加速空胴1の空洞本体を組み立てるために電子ビーム溶接し、超伝導高周波加速空胴1の内側の溶接部W2をレーザ溶接して、電子ビーム溶接による裏波ビードを整形する超伝導高周波加速空胴1の製造方法。
【選択図】 図9
Description
図8に示す超伝導高周波加速空胴1が電子ビーム溶接により組み立てられるまでの工程について説明する。超伝導高周波加速空胴1は、シングルセルが9つ連接された9セル空胴である。超伝導高周波加速空胴1は、各セルの赤道部及びアイリス部を貫くように、荷電粒子ビームが流れる。
図10は、本発明の第2の実施形態に係る超伝導高周波加速空胴1の内周面にある溶接ビードを修整する工程を示す概略図である。
図11は、本発明の第2の実施形態に係る超伝導高周波加速空胴1Aの製造方法における複数のシングルセル22が成形された工程を示す概略図である。
図14は、本発明の第4の実施形態に係る超伝導高周波加速空胴1Aの内周面にある溶接ビードを修整する工程を示す概略図である。
Claims (13)
- 大径開口部と小径開口部とが設けられた複数の半セルから高周波加速空胴の空洞本体を組み立てるために、第1の方式で溶接するステップと、
前記高周波加速空胴の内側に形成された前記第1の方式による溶接の溶接ビードを整形するために、前記高周波加速空胴の内側を前記第1の方式と異なる第2の方式で溶接するステップと
を含むことを特徴とする高周波加速空胴の製造方法。 - 前記第1の方式の溶接は、電子ビーム溶接であること
を特徴とする請求項1に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記第2の方式の溶接は、アーク溶接であること
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記第2の方式の溶接は、レーザ溶接であること
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記レーザ溶接は、前記レーザ溶接に用いる光学ヘッドを回転させながら行うこと
を特徴とする請求項4に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記第2の方式の溶接は、前記高周波加速空胴を回転させながら行うこと
を特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記高周波加速空胴の空洞本体を組み立てるために、第1の方式で溶接するステップと、前記第2の方式で溶接するステップとを同時に行うこと
を特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 大径開口部と小径開口部とが設けられた複数の半セルから高周波加速空胴の空洞本体を組み立てるために、レーザ溶接と異なる第1の方式で溶接するステップと、
前記第1の方式による溶接後、レーザ溶接に用いるレンズを保護するためのガラス管を前記高周波加速空胴に挿入するステップと、
前記ガラス管を前記高周波加速空胴に挿入後、前記高周波加速空胴の内側に形成された前記第1の方式による溶接の溶接ビードを整形するために、前記高周波加速空胴の内側を前記第1の方式と異なる第2の方式の溶接であるレーザ溶接をするステップと
を含むことを特徴とする高周波加速空胴の製造方法。 - 前記レーザ溶接は、前記高周波加速空胴を回転させながら行うこと
を特徴とする請求項8に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記レーザ溶接は、前記高周波加速空胴を回転させると共に、前記ガラス管を回転させながら若しくは前記高周波加速空胴の荷電粒子ビーム軸方向にずらしながら行うこと
を特徴とする請求項8に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記レーザ溶接は、前記レーザ溶接に用いる光学ヘッドを回転させながら行うこと
を特徴とする請求項8に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記レーザ溶接は、前記ガラス管を回転させずに、前記レーザ溶接に用いる光学ヘッドを回転させながら行うこと
を特徴とする請求項8に記載の高周波加速空胴の製造方法。 - 前記レーザ溶接は、整形する前記溶接ビードに垂直の直下を0度として、所定の角度を設けてレーザビームを照射すること
を特徴とする請求項8に記載の高周波加速空胴の製造方法。
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2009
- 2009-09-28 JP JP2009223345A patent/JP2011071066A/ja active Pending
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