|
US20080318066A1
(en)
*
|
2007-05-11 |
2008-12-25 |
Asml Holding N.V. |
Optical Component Fabrication Using Coated Substrates
|
|
US20080280539A1
(en)
*
|
2007-05-11 |
2008-11-13 |
Asml Holding N.V. |
Optical component fabrication using amorphous oxide coated substrates
|
|
DE102009040785A1
(de)
*
|
2009-09-09 |
2011-03-10 |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. |
Substrat aus einer Aluminium-Silizium-Legierung oder kristallinem Silizium, Metallspiegel, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung
|
|
JP5093267B2
(ja)
*
|
2010-03-11 |
2012-12-12 |
ウシオ電機株式会社 |
集光鏡アッセンブリおよびこの集光鏡アッセンブリを用いた極端紫外光光源装置
|
|
US9513569B2
(en)
*
|
2010-03-18 |
2016-12-06 |
ETH Zürich |
Optical collector for collecting extreme ultraviolet radiation, method for operating such an optical collector, and EUV source with such a collector
|
|
DE102011002953A1
(de)
*
|
2011-01-21 |
2012-07-26 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Substrat für Spiegel für die EUV-Lithographie
|
|
DE102011004446A1
(de)
*
|
2011-02-21 |
2012-08-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Gekühltes optisches Element
|
|
DE102011015141A1
(de)
*
|
2011-03-16 |
2012-09-20 |
Carl Zeiss Laser Optics Gmbh |
Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Bauelements für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage und derartiges Bauelement
|
|
DE102011005778A1
(de)
*
|
2011-03-18 |
2012-09-20 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element
|
|
DE102011080052A1
(de)
*
|
2011-07-28 |
2013-01-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Spiegel, optisches System mit Spiegel und Verfahren zur Herstellung eines Spiegels
|
|
US9599756B2
(en)
|
2011-08-01 |
2017-03-21 |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. |
Method for manufacturing a mirror comprising at least one cavity and optical mirror
|
|
CN104081283A
(zh)
|
2012-01-30 |
2014-10-01 |
Asml荷兰有限公司 |
具有用于测量衬底台的位置的计量系统的光刻装置
|
|
JP6140191B2
(ja)
*
|
2012-01-30 |
2017-05-31 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. |
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
|
|
DE102012210712A1
(de)
*
|
2012-06-25 |
2014-01-02 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Kühlsystem zum Kühlen eines optischen Elements für EUV-Anwendungen
|
|
DE102012219540A1
(de)
*
|
2012-10-25 |
2013-10-17 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Anordnung für EUV-Anwendungen mit einer Verbindungsschnittstelle für eine Fluidleitung sowie Verfahren zum Herstellen derselben
|
|
DE102013204427A1
(de)
|
2013-03-14 |
2014-09-18 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Anordnung zur thermischen Aktuierung eines Spiegels, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
|
|
US20150083938A1
(en)
*
|
2013-09-24 |
2015-03-26 |
Carl Zeiss Laser Optics Gmbh |
Cooler for plasma generation chamber of euv radiation source
|
|
DE102014203461A1
(de)
*
|
2014-02-26 |
2015-03-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kühlbare spiegelanordnung
|
|
NL2015718A
(en)
*
|
2014-12-12 |
2016-09-20 |
Asml Netherlands Bv |
Reflector.
|
|
DE102015100918A1
(de)
|
2015-01-22 |
2016-07-28 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Elements, reflektives optisches Element und Verwendung eines reflektiven optischen Elements
|
|
DE102015206114A1
(de)
|
2015-04-07 |
2016-05-25 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Kühler zur Verwendung in einer Vorrichtung im Vakuum
|
|
DE102015210045A1
(de)
*
|
2015-06-01 |
2016-06-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Herstellen eines Kühlkörpers und Kühlkörper für eine Lithographieanlage
|
|
NL2018389A
(en)
|
2016-03-07 |
2017-09-12 |
Asml Netherlands Bv |
Multilayer Reflector, Method of Manufacturing a Multilayer Reflector and Lithographic Apparatus
|
|
DE102017201835A1
(de)
*
|
2017-02-06 |
2017-12-21 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optische Anordnung mit Durchgangskanal in einem Spiegelsubstrat
|
|
DE102017221388A1
(de)
|
2017-11-29 |
2018-10-11 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zum Herstellen eines mit einem Kühlfluid durchströmbaren Bauteils, optisches Element und EUV-Lithographiesystem
|
|
DE102018212224A1
(de)
|
2018-07-23 |
2020-01-23 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Vorrichtung zur Rückkopplung von emittierter Strahlung in eine Laserquelle
|
|
US11226438B2
(en)
|
2018-10-03 |
2022-01-18 |
Corning Incorporated |
Reflective optical element
|
|
DE102019219179A1
(de)
*
|
2019-12-09 |
2021-06-10 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element und Lithographiesystem
|
|
DE102020204669A1
(de)
*
|
2020-04-14 |
2021-10-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Baugruppe eines optischen Systems
|
|
WO2022073610A1
(de)
|
2020-10-08 |
2022-04-14 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Herstellungsverfahren und messverfahren
|
|
DE102020213639A1
(de)
*
|
2020-10-29 |
2022-05-05 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element, insbesondere zur Reflexion von EUV-Strahlung, optische Anordnung und Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements
|
|
DE102020214466A1
(de)
|
2020-11-18 |
2022-05-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines optischen Elementes für die Halbleiterlithographie und Grundkörper eines optischen Elementes für die Halbleiterlithographie
|
|
DE102020131383A1
(de)
*
|
2020-11-26 |
2022-06-02 |
Carl Zeiss Ag |
Verfahren und Vorrichtung zur Inspektion einer Schweißnaht in einer Baugruppe eines optischen Systems für die Mikrolithographie
|
|
JP2025501494A
(ja)
*
|
2021-12-14 |
2025-01-22 |
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー |
少なくとも1つの中空構造を作製する方法及び装置、ミラー、euvリソグラフィシステム、流体供給装置、及び流体を供給する方法
|
|
DE102022209397A1
(de)
|
2022-09-09 |
2023-08-31 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Lithographiesystem und optisches Element mit durchströmbaren Kanälen
|
|
DE102022209791B3
(de)
|
2022-09-19 |
2023-07-06 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
EUV-Kollektor für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage
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|
DE102023200970A1
(de)
*
|
2023-02-07 |
2024-08-08 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches element mit polierschicht
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|
DE102023205564A1
(de)
*
|
2023-06-14 |
2024-12-19 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren zur Erzeugung einer Temperierhohlstruktur in einem Substrat mit Hilfe eines Bearbeitungslichtstrahls
|
|
DE102023211553A1
(de)
*
|
2023-11-20 |
2025-05-22 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Elements, Element, insbesondere optisches Element, und Lithografiesystem
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