JP2011042508A - Glass roll - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the display characteristics, productivity and the like of a flexible device by originating a glass roll in which electrification by peeling is hardly caused when a glass film is pulled out sequentially although the surface quality of the glass film is superior. <P>SOLUTION: The glass roll prepared by winding the glass film having a film thickness of 200 μm or less into a roll form is characterized by having a dielectric constant of the glass film of 7 or less and an average surface roughness Ra of 10 Å or less. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、可撓性(フレキシブル性)を有するデバイス(以下、可撓性デバイス)の作製に好適なガラスロールに関し、具体的には液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ等のディスプレイ用基板、チップサイズパッケージ(CSP)、電荷結合素子(CCD)、等倍近接型固体撮像素子(CIS)等のイメージセンサー用基板、有機EL照明等の照明デバイス用基板、太陽電池用基板、太陽電池用カバーガラスおよび配線基板の作製に好適なガラスロールに関する。   The present invention relates to a glass roll suitable for manufacturing a flexible device (hereinafter referred to as a flexible device), specifically, a substrate for a display such as a liquid crystal display or an organic EL display, and a chip size package. (CSP), charge coupled device (CCD), substrate for image sensor such as close proximity type solid-state imaging device (CIS), substrate for lighting device such as organic EL lighting, substrate for solar cell, cover glass for solar cell and wiring The present invention relates to a glass roll suitable for producing a substrate.

近年、有機ELディスプレイ等のデバイスは、小型化、薄型化、軽量化が進んでいる。また、これらのデバイスは、携帯電話、ノートPC、TV等に搭載されており、今後、消費電力を更に低下させることが望まれている。しかもこれらのデバイスは、平面状態のみで使用する用途だけでなく、曲面状に湾曲させて使用する用途もあり、例えばフレキシブルな腕時計の表示部、湾曲した壁や柱の一部に設置する表示部、自動車の車体表面に設置する表示部に用いるケースも増えつつある。   In recent years, devices such as organic EL displays have been reduced in size, thickness, and weight. Moreover, these devices are mounted on mobile phones, notebook PCs, TVs, and the like, and it is desired to further reduce power consumption in the future. Moreover, these devices are not only used in a flat state but also used in a curved shape, for example, a display part of a flexible wristwatch, a display part installed on a curved wall or part of a pillar. The number of cases used for display units installed on the surface of automobile bodies is also increasing.

現在、有機ELディスプレイ等には、0.5〜0.7mm厚のガラス基板が用いられており、このガラス基板は、可撓性に乏しいため、可撓性デバイスに適用できない。しかし、ガラス基板の板厚を小さくすれば、具体的にはガラス基板の板厚を200μm以下にすれば、ガラス基板の可撓性が高まり、可撓性デバイスに適用可能になる。   At present, a glass substrate having a thickness of 0.5 to 0.7 mm is used for an organic EL display or the like, and since this glass substrate is poor in flexibility, it cannot be applied to a flexible device. However, if the plate thickness of the glass substrate is reduced, specifically, if the plate thickness of the glass substrate is 200 μm or less, the flexibility of the glass substrate is increased and the glass substrate can be applied to a flexible device.

また、肉厚の小さいガラスフィルム(或いはガラスフィルムとプラスチックフィルムの複合フィルム)をロール状に巻き取り、ガラスロールにすると、可撓性デバイスの作製に際し、ロール・ツー・ロールプロセスを採用することができ、結果として、可撓性デバイスの連続生産が可能になり、可撓性デバイスの生産性が飛躍的に高まる。また、ガラスフィルムをロール状に巻き取り、ガラスロールにすると、ガラスフィルムの梱包効率や搬送効率も向上する。   In addition, when a thin glass film (or a composite film of a glass film and a plastic film) is wound into a roll and made into a glass roll, a roll-to-roll process can be adopted when manufacturing a flexible device. As a result, the continuous production of the flexible device becomes possible, and the productivity of the flexible device is dramatically increased. Moreover, if a glass film is wound up in roll shape and made into a glass roll, the packing efficiency and conveyance efficiency of a glass film will also improve.

特開2008−305557号公報JP 2008-305557 A 特開2009−70759号公報JP 2009-70759 A

有機ELディスプレイ等は、基板上にITO等の透明電極が形成される。しかし、ガラスフィルムの平均表面粗さRaが大きいと、具体的にはガラスフィルムの平均表面粗さRaが10Åより大きいと、ガラスフィルム上に形成される電極膜の表面品位が低下し、結果として、電極膜の凹凸形状に起因して、電界分布にムラが発生し、表示不良を引き起こす場合がある。   In an organic EL display or the like, a transparent electrode such as ITO is formed on a substrate. However, when the average surface roughness Ra of the glass film is large, specifically, when the average surface roughness Ra of the glass film is larger than 10 mm, the surface quality of the electrode film formed on the glass film is lowered, and as a result The unevenness of the electrode film may cause unevenness in the electric field distribution and cause display defects.

一方、ガラスフィルムの平均表面粗さRaが小さいと、具体的にはガラスフィルムの平均表面粗さRaが10Å以下であると、ガラスロールからガラスフィルムを順次引き出す際、継続的にガラスフィルム−ガラスフィルム(或いはガラスフィルム−プラスチックフィルム)間で引き剥がし部分が発生するため、その部分で剥離による帯電が発生し、雰囲気中の異物がガラスフィルムに吸着したり、その後の工程でガラスフィルムが帯電破壊を起こすといった不具合が生じやすくなる。また、有機ELディスプレイの製造工程の場合、金属製のステージ上にガラスフィルムを載置し、ガラスフィルムの表面に成膜した後、次の工程へ搬送する際、ガラスフィルムをリフトピンで持ち上げると、ガラスフィルムが帯電し、ガラスフィルムが帯電破壊を起こすといった不具合も生じやすくなる。   On the other hand, when the average surface roughness Ra of the glass film is small, specifically, when the average surface roughness Ra of the glass film is 10 mm or less, when the glass film is successively drawn from the glass roll, the glass film-glass is continuously extracted. Since a peeled portion occurs between the films (or glass film-plastic film), charging occurs due to peeling at that portion, and foreign matter in the atmosphere is adsorbed to the glass film, and the glass film breaks down in subsequent steps. Inconveniences such as causing In the case of an organic EL display manufacturing process, when a glass film is placed on a metal stage and deposited on the surface of the glass film and then transported to the next process, the glass film is lifted with a lift pin. Problems such as the glass film being charged and the glass film being charged and broken are likely to occur.

このように帯電破壊は、ガラスフィルムの平均表面粗さRaと関係があり、ガラスフィルムの平均表面粗さRaがAFMによる測定で10Åより大きくなると、帯電破壊が起こり難くなる。このため、エッチング等により、ガラスフィルムの表面を粗面化すれば、帯電破壊が起こり難くなるが、上記電極膜の凹凸形状に起因した表示不良が生じやすくなるとともに、ガラスフィルムの製造コストが高騰してしまう。   Thus, the charge breakdown is related to the average surface roughness Ra of the glass film. When the average surface roughness Ra of the glass film is larger than 10 mm as measured by AFM, the charge breakdown is less likely to occur. For this reason, if the surface of the glass film is roughened by etching or the like, charging breakdown is less likely to occur, but display defects due to the uneven shape of the electrode film are likely to occur, and the manufacturing cost of the glass film increases. Resulting in.

そこで、本発明は、ガラスフィルムの表面品位が良好であるにもかかわらず、ガラスフィルムを順次引き出す際に、剥離による帯電が生じ難いガラスロールを創案することにより、可撓性デバイスの表示特性や生産性等を高めることを技術的課題とする。   Therefore, the present invention creates a glass roll that is less likely to be charged by peeling when the glass film is sequentially pulled out even though the surface quality of the glass film is good. Increasing productivity is a technical issue.

本発明者は、種々の実験を繰り返した結果、ガラスフィルムの表面品位を高めつつ、誘電率を低下させて、更にこのガラスフィルムをロール状に巻き取りガラスロールにすることにより、上記技術的課題を解決できることを見出し、本発明として、提案するものである。すなわち、本発明のガラスロールは、フィルム厚200μm以下のガラスフィルムをロール状に巻き取ったガラスロールであって、ガラスフィルムの誘電率が7以下であり、且つ平均表面粗さRaが10Å以下であることを特徴とする。ここで、「ガラスロール」には、ガラスフィルム単体をロール状に巻き取ったものだけでなく、ガラスフィルムとプラスチックフィルムの複合フィルムをロール状に巻き取ったものも含まれる。また、「誘電率」は、周波数1MHz、25℃においてASTM D150に記載の方法に基づいて測定した値を指す。さらに、「平均表面粗さRa」は、JIS B0601:2001に記載の方法に基づいて測定した値を指し、例えばAFM等で測定することができる。なお、本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの平均表面粗さRaは、少なくとも一方の表面(端面を除く)が上記範囲内であればよく、両表面(端面を除く)が上記範囲であると好ましい。   As a result of repeating various experiments, the present inventor reduced the dielectric constant while increasing the surface quality of the glass film, and further wound the glass film into a roll to obtain the above technical problem. It is found that the problem can be solved, and is proposed as the present invention. That is, the glass roll of the present invention is a glass roll obtained by winding a glass film having a film thickness of 200 μm or less into a roll shape, wherein the glass film has a dielectric constant of 7 or less and an average surface roughness Ra of 10 μm or less. It is characterized by being. Here, the “glass roll” includes not only a roll of a glass film alone but also a roll of a composite film of a glass film and a plastic film. The “dielectric constant” refers to a value measured based on the method described in ASTM D150 at a frequency of 1 MHz and 25 ° C. Furthermore, “average surface roughness Ra” refers to a value measured based on the method described in JIS B0601: 2001, and can be measured by, for example, AFM. In addition, in the glass roll of this invention, average surface roughness Ra of a glass film should just have at least one surface (except an end surface) in the said range, and both surfaces (except an end surface) are in the said range. preferable.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの誘電率を7以下にすれば、ガラスロールからガラスフィルムを順次引き出す際、ガラスフィルムの表面品位が高くても、ガラスフィルム−ガラスフィルム間の引き剥がし部分で剥離による帯電が発生し難くなるため、雰囲気中の異物がガラスフィルムに吸着したり、その後の工程でガラスフィルムが帯電破壊を起こすといった不具合が生じ難くなる。また、本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの誘電率を7以下にすれば、ガラスフィルムの表面品位が高くても、有機ELディスプレイの製造工程でガラスフィルムが帯電破壊し難くなる。   In the glass roll of the present invention, if the glass film has a dielectric constant of 7 or less, even when the surface quality of the glass film is high when the glass film is sequentially pulled out from the glass roll, the glass film is peeled off between the glass film. Since charging due to peeling is less likely to occur, foreign matter in the atmosphere is less likely to be adsorbed to the glass film, and the glass film is less likely to cause charge breakdown in subsequent steps. Moreover, in the glass roll of this invention, if the dielectric constant of a glass film shall be 7 or less, even if the surface quality of a glass film is high, a glass film will become difficult to carry out electrostatic breakdown in the manufacturing process of an organic EL display.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの平均表面粗さRaを10Å以下にすれば、ガラスフィルム上にITO等の透明電極を表面品位が向上するため、有機ELディスプレイ等において電界分布にムラが発生し難くなり、表示不良を引き起こし難くなる。   In the glass roll of the present invention, if the average surface roughness Ra of the glass film is 10 mm or less, the surface quality of the transparent electrode such as ITO is improved on the glass film, so that the electric field distribution is uneven in the organic EL display or the like. This makes it difficult to cause display defects.

第二に、本発明のガラスロールは、ガラスフィルムのフィルム厚が100μm以下であることを特徴とする。   2ndly, the glass roll of this invention is characterized by the film thickness of a glass film being 100 micrometers or less.

第三に、本発明のガラスロールは、ガラスフィルムの誘電正接が0.5以下であることを特徴とする。ここで、「誘電正接」は、周波数1MHz、25℃においてASTM D150に記載の方法に基づいて測定した値を指す。   Third, the glass roll of the present invention is characterized in that the dielectric loss tangent of the glass film is 0.5 or less. Here, “dielectric loss tangent” refers to a value measured based on the method described in ASTM D150 at a frequency of 1 MHz and 25 ° C.

第四に、本発明のガラスロールは、ガラスフィルムが、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜80%、Al 0〜20%、B 0〜30%、MgO 0〜15%、CaO 0〜15%、SrO 0〜15%、BaO 0〜15%、LiO+NaO+KO(LiO、NaO、KOの合量) 0〜10%未満含有することを特徴とする。 Fourth, the glass roll of the present invention, glass films, as a glass composition, in mass%, SiO 2 40~80%, Al 2 O 3 0~20%, B 2 O 3 0~30%, MgO 0 ~15%, CaO 0~15%, SrO 0~15%, BaO 0~15%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O (Li 2 O, Na 2 O, the total content of K 2 O) less than 0-10% It is characterized by containing.

第五に、本発明のガラスロールは、ガラスフィルムが、ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜78%、Al 10〜20%、B 10〜30%、MgO 0〜4%、CaO 1〜10%、SrO 0〜5%、BaO 0〜5%、LiO+NaO+KO 0〜6%含有することを特徴とする。 Fifth, glass roll of the present invention, glass films, as a glass composition, in mass%, SiO 2 55~78%, Al 2 O 3 10~20%, B 2 O 3 10~30%, MgO 0 ~4%, CaO 1~10%, SrO 0~5%, BaO 0~5%, wherein the Li 2 O + Na 2 O + K 2 O containing 6%.

第六に、本発明のガラスロールは、ガラスフィルムが、ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜70%、Al 10〜20%、B 13〜20%、MgO 0〜2%、CaO 6〜10%、SrO 0〜3%、BaO 0〜3%、MgO+CaO+SrO+BaO(MgO、CaO、SrO、BaOの合量) 6.5〜10%、LiO+NaO+KO 0〜0.1%含有することを特徴とする。 Sixth, in the glass roll of the present invention, the glass film has a glass composition of mass%, SiO 2 55 to 70%, Al 2 O 3 10 to 20%, B 2 O 3 13 to 20%, MgO 0. ~2%, CaO 6~10%, SrO 0~3%, BaO 0~3%, MgO + CaO + SrO + BaO (MgO, CaO, SrO, the total amount of BaO) 6.5~10%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 It is characterized by containing ~ 0.1%.

第七に、本発明のガラスロールは、ガラスフィルムの液相粘度が104.0dPa・s以上であることを特徴とする。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。また、「液相温度」は、標準篩30メッシュ(500μm)を通過し、50メッシュ(300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶が析出する温度を測定した値を指す。なお、液相粘度が高く、液相温度が低い程、耐失透性や成形性に優れている。 Seventh, the glass roll of the present invention is characterized in that the liquidus viscosity of the glass film is 10 4.0 dPa · s or more. Here, “liquid phase viscosity” refers to a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquid phase temperature by a platinum ball pulling method. In addition, the “liquid phase temperature” passes through a standard sieve 30 mesh (500 μm), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 μm) is put in a platinum boat and kept in a temperature gradient furnace for 24 hours to precipitate crystals. Refers to the value measured for temperature. In addition, the higher the liquidus viscosity and the lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance and the moldability.

第八に、本発明のガラスロールは、ガラスフィルムが、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、フュージョン法とも称されており、溶融ガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラスフィルムを製造する方法である。   Eighth, the glass roll of the present invention is characterized in that a glass film is formed by an overflow downdraw method. Here, the “overflow down draw method” is also referred to as a fusion method, in which molten glass overflows from both sides of a heat-resistant cage-like structure, and the overflowing molten glass joins at the lower end of the cage-like structure. However, this is a method for producing a glass film by stretching downward.

第九に、本発明のガラスロールは、最小曲率半径が500mm以下の状態で巻き取られていることを特徴とする。最小曲率半径が500mm以下の状態でガラスフィルムを巻き取ると、ガラスフィルムの梱包効率や搬送効率が向上する。なお、「最小曲率半径」は、通常、巻き取られたガラスフィルムの内、最も内側の部分の曲率半径に相当する。   Ninthly, the glass roll of the present invention is characterized by being wound in a state where the minimum curvature radius is 500 mm or less. When the glass film is wound in a state where the minimum curvature radius is 500 mm or less, the packing efficiency and the conveyance efficiency of the glass film are improved. The “minimum radius of curvature” usually corresponds to the radius of curvature of the innermost portion of the wound glass film.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムのフィルム厚は200μm以下であり、100μm以下、80μm以下、50μm以下、特に30μm以下が好ましい。フィルム厚が小さい程、ガラスフィルムの可撓性が向上するため、ガラスロールの最小曲率半径を小さくすることができ、結果として、ガラスフィルムの梱包効率や搬送効率を高めやすくなるとともに、デバイスの可撓性も高めやすくなる。また、フィルム厚が小さい程、ガラスロールを軽量化することができ、結果として、デバイスも軽量化することができる。   In the glass roll of the present invention, the glass film has a film thickness of 200 μm or less, preferably 100 μm or less, 80 μm or less, 50 μm or less, and particularly preferably 30 μm or less. The smaller the film thickness, the more flexible the glass film, so the minimum radius of curvature of the glass roll can be reduced. As a result, the packaging efficiency and transport efficiency of the glass film can be easily improved, and the device can be used. Flexibility is also easily improved. In addition, the smaller the film thickness, the lighter the glass roll and, as a result, the lighter the device.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの誘電率は7以下であり、6.5以下、6以下、5.3以下、5以下、4.9以下、特に4.8以下が好ましい。誘電率が高くなると、ガラスフィルムが帯電しやすくなり、帯電破壊を引き起こしやすくなる。また、誘電率が高くなると、有機EL等のデバイスにおいて、画素電極に電圧が印加された際に、誘起される電荷が高くなり、消費電力が高くなる傾向にある。また、誘電率×フィルム厚の値は1400μm以下、1200μm以下、1000μm以下、800μm以下、500μm以下、300μm以下、200μm以下が好ましい。誘電率×フィルム厚の値が小さくなる程、ガラスフィルムの可撓性が高まり、且つ帯電が生じ難いガラスロールを作製しやすくなり、更にはガラスロールの軽量化を図りやすくなる。   In the glass roll of the present invention, the dielectric constant of the glass film is 7 or less, preferably 6.5 or less, 6 or less, 5.3 or less, 5 or less, 4.9 or less, and particularly preferably 4.8 or less. When the dielectric constant is increased, the glass film is easily charged, and charging breakdown is easily caused. In addition, when the dielectric constant increases, in an organic EL device or the like, when a voltage is applied to the pixel electrode, the induced charge increases and the power consumption tends to increase. Further, the value of dielectric constant × film thickness is preferably 1400 μm or less, 1200 μm or less, 1000 μm or less, 800 μm or less, 500 μm or less, 300 μm or less, or 200 μm or less. As the value of dielectric constant × film thickness decreases, the flexibility of the glass film increases and it becomes easier to produce a glass roll that is less likely to be charged, and it is easier to reduce the weight of the glass roll.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの平均表面粗さRaは10Å以下であり、8Å以下、5Å以下、4Å以下、3Å以下、特に2Å以下が好ましい。平均表面粗さRaが大きくなると、有機EL等のデバイスにおいて、ガラスフィルム上に形成される膜の凹凸により、表示ムラが発生しやすくなる。   In the glass roll of the present invention, the average surface roughness Ra of the glass film is 10 mm or less, preferably 8 mm or less, 5 mm or less, 4 mm or less, 3 mm or less, particularly 2 mm or less. When the average surface roughness Ra is increased, display unevenness is likely to occur due to the unevenness of the film formed on the glass film in a device such as an organic EL.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの誘電正接は0.5以下、0.1以下、0.01以下、0.005以下、0.001以下、特に0.0005以下が好ましい。誘電正接が高くなると、デバイスの動作時に、ガラスフィルムが発熱しやすくなり、デバイスの動作特性に悪影響を及ぼすおそれが生じる。   In the glass roll of the present invention, the dielectric loss tangent of the glass film is preferably 0.5 or less, 0.1 or less, 0.01 or less, 0.005 or less, 0.001 or less, and particularly preferably 0.0005 or less. When the dielectric loss tangent becomes high, the glass film tends to generate heat during device operation, which may adversely affect the operation characteristics of the device.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの密度は2.6g/cm以下、2.5g/cm以下、2.45g/cm以下、2.42g/cm以下、2.40g/cm以下、2.38g/cm以下、2.35g/cm以下、特に2.34g/cm以下が好ましい。密度が2.6g/cmより大きいと、ガラスを軽量化し難くなる。ここで、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定した値を指す。 In the glass roll of the present invention, the density of the glass film is 2.6 g / cm 3 or less, 2.5 g / cm 3 or less, 2.45 g / cm 3 or less, 2.42 g / cm 3 or less, 2.40 g / cm 3 Hereinafter, it is preferably 2.38 g / cm 3 or less, 2.35 g / cm 3 or less, and particularly preferably 2.34 g / cm 3 or less. When the density is larger than 2.6 g / cm 3 , it is difficult to reduce the weight of the glass. Here, “density” refers to a value measured by the well-known Archimedes method.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの熱膨張係数は25〜50×10−7/℃、29〜45×10−7/℃、31〜39×10−7/℃、32〜38×10−7/℃、33〜37×10−7/℃、特に33〜35×10−7/℃が好ましい。熱膨張係数が上記範囲外となると、ガラスフィルムが、TFT等の膜との熱膨張係数差に起因して、反りやすくなる。なお、フィルム厚が小さい程、ガラスフィルムが反りやすくなる。このため、フィルム厚が小さい程、熱膨張係数を上記範囲内に規制する必要性が高くなる。 In the glass roll of the present invention, the thermal expansion coefficient of the glass film is 25-50 × 10 −7 / ° C., 29-45 × 10 −7 / ° C., 31-39 × 10 −7 / ° C., 32-38 × 10 − 7 / ° C., 33-37 × 10 −7 / ° C., particularly 33-35 × 10 −7 / ° C. is preferable. When the thermal expansion coefficient is outside the above range, the glass film tends to warp due to a difference in thermal expansion coefficient from a film such as a TFT. In addition, a glass film becomes easy to warp, so that film thickness is small. For this reason, the smaller the film thickness, the higher the necessity of regulating the thermal expansion coefficient within the above range.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの歪点は500℃以上、550℃以上、620℃以上、630℃以上、640℃以上、650℃以上、特に660℃以上が好ましい。歪点が低いと、有機ELディスプレイ用基板に使用する場合に、ガラスフィルムがp−Si・TFTの製造工程で熱収縮しやすくなる。   In the glass roll of the present invention, the strain point of the glass film is preferably 500 ° C. or higher, 550 ° C. or higher, 620 ° C. or higher, 630 ° C. or higher, 640 ° C. or higher, 650 ° C. or higher, particularly 660 ° C. or higher. When the strain point is low, the glass film is likely to be thermally contracted in the manufacturing process of the p-Si • TFT when used for an organic EL display substrate.

高温溶融は、ガラス溶融窯の負担を増加させる。ガラス溶融窯に使用されるアルミナやジルコニア等の耐火物は、高温になる程、溶融ガラスに激しく浸食される。耐火物の浸食量が多くなると、ガラス溶融窯のライフサイクルが短くなり、結果として、ガラスフィルムの製造コストが高騰する。また、高温溶融を行う場合、ガラス溶融窯の構成部材に高耐熱性の構成部材を使用する必要があるため、ガラス溶融窯の構成部材が割高になり、結果として、溶融コストが高騰する。さらに、高温溶融は、ガラス溶融窯の内部を高温に保持する必要があるため、低温溶融に比べて、ランニングコストが高騰する。したがって、本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの102.5dPa・sにおける温度は1590℃以下、1580℃以下、1570℃以下、1560℃以下、特に1550℃以下が好ましい。102.5dPa・sにおける温度が1590℃より高いと、低温溶融が困難になり、また泡品位が低下しやすくなり、結果として、ガラスフィルムの製造コストが高騰しやすくなる。ここで、「102.5dPa・sにおける温度」は、溶融温度に相当し、白金球引き上げ法で測定した値を指す。 High temperature melting increases the burden on the glass melting furnace. Refractories such as alumina and zirconia used in a glass melting furnace are eroded violently by molten glass as the temperature rises. When the erosion amount of the refractory is increased, the life cycle of the glass melting furnace is shortened, and as a result, the manufacturing cost of the glass film is increased. Moreover, when performing high temperature melting, since it is necessary to use a highly heat-resistant structural member for the structural member of a glass melting kiln, the structural member of a glass melting kiln becomes expensive, As a result, a melting cost rises. Furthermore, high-temperature melting requires that the inside of the glass melting furnace be kept at a high temperature, so that the running cost is higher than that at low-temperature melting. Therefore, in the glass roll of the present invention, the temperature at 10 2.5 dPa · s of the glass film is preferably 1590 ° C. or lower, 1580 ° C. or lower, 1570 ° C. or lower, 1560 ° C. or lower, particularly 1550 ° C. or lower. When the temperature at 10 2.5 dPa · s is higher than 1590 ° C., low-temperature melting becomes difficult and the bubble quality tends to be lowered, and as a result, the production cost of the glass film is likely to increase. Here, “temperature at 10 2.5 dPa · s” corresponds to the melting temperature and indicates a value measured by a platinum ball pulling method.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの液相温度は1180℃以下、1150℃以下、1110℃以下、1070℃以下が好ましい。このようにすれば、ガラスに失透結晶が発生し難くなるため、オーバーフローダウンドロー法等でガラスフィルムを成形しやすくなる。このため、ガラスフィルムの表面品位を向上しつつ、ガラスフィルムの製造コストを低廉化することができる。なお、液相温度は、耐失透性の指標であり、液相温度が低い程、耐失透性に優れる。   In the glass roll of the present invention, the liquidus temperature of the glass film is preferably 1180 ° C. or lower, 1150 ° C. or lower, 1110 ° C. or lower, 1070 ° C. or lower. If it does in this way, since it becomes difficult to generate | occur | produce a devitrification crystal | crystallization in glass, it will become easy to shape | mold a glass film by the overflow downdraw method etc. For this reason, the manufacturing cost of a glass film can be reduced, improving the surface quality of a glass film. The liquidus temperature is an index of devitrification resistance. The lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの液相粘度は104.5dPa・s以上、105.0dPa・s以上、105.5dPa・s以上、105.7dPa・s以上、特に105.8dPa・s以上が好ましい。このようにすれば、成形時に失透結晶が発生し難くなるため、オーバーフローダウンドロー法等でガラスフィルムを成形しやすくなり、ガラスフィルムの表面品位を向上しつつ、ガラスフィルムの製造コストを低廉化することができる。なお、液相粘度は、成形性の指標であり、液相粘度が高い程、成形性に優れる。 In the glass roll of the present invention, the liquidus viscosity of the glass film is 10 4.5 dPa · s or more, 10 5.0 dPa · s or more, 10 5.5 dPa · s or more, 10 5.7 dPa · s or more, In particular, 10 5.8 dPa · s or more is preferable. In this way, devitrification crystals are less likely to occur during molding, making it easier to mold glass films using the overflow downdraw method, etc., and improving the surface quality of glass films while reducing glass film manufacturing costs. can do. The liquid phase viscosity is an index of moldability. The higher the liquid phase viscosity, the better the moldability.

本発明のガラスロールは、最小曲率半径が500mm以下(望ましくは300mm以下、150mm以下、100mm以下、70mm以下、50mm以下、特に30mm以下)の状態で巻き取られていることが好ましい。最小曲率半径が小さい状態で巻き取れば、ガラスフィルムの梱包効率や搬送効率が向上する。   The glass roll of the present invention is preferably wound with a minimum curvature radius of 500 mm or less (desirably 300 mm or less, 150 mm or less, 100 mm or less, 70 mm or less, 50 mm or less, particularly 30 mm or less). If it winds in the state where the minimum curvature radius is small, the packing efficiency and conveyance efficiency of a glass film will improve.

本発明のガラスロールは、巻芯に巻き取られていることが好ましい。このようにすれば、ガラスフィルムを巻き取る際に、ガラスフィルムを巻芯に固定できるため、ガラスロールに外圧が加わったとしても、巻芯によりガラスフィルムの変形が抑制されて、ガラスフィルムの破損を防止することができる。また、巻芯は、外的要因によりガラスフィルムの端面から破損に至る事態を防止するため、ガラスフィルムの幅より長いことが好ましい。なお、巻芯の材質は、特に限定されず、熱可塑性樹脂、紙管等が使用可能である。   The glass roll of the present invention is preferably wound around a core. In this way, when winding the glass film, the glass film can be fixed to the core, so even if an external pressure is applied to the glass roll, the deformation of the glass film is suppressed by the core and the glass film is damaged. Can be prevented. Moreover, in order to prevent the winding core from being damaged from the end face of the glass film due to external factors, the winding core is preferably longer than the width of the glass film. In addition, the material of a core is not specifically limited, A thermoplastic resin, a paper tube, etc. can be used.

本発明のガラスロールは、耐衝撃性を高めるためにガラスフィルム−ガラスフィルム間に樹脂製または紙製の緩衝フィルム(合紙)を挿入してもよく、機械的強度を高めるためにガラスフィルムの端面に樹脂を被覆してもよい。   In the glass roll of the present invention, a buffer film made of resin or paper (interleaf) may be inserted between the glass film and the glass film in order to increase the impact resistance, and in order to increase the mechanical strength, The end face may be coated with resin.

本発明のガラスロールは、ガラスフィルムの幅方向の端部(耳部)をスクライブした後に巻き取る場合、スクライブラインが内側になるように巻き取られていることが好ましい。このようにすれば、ガラスフィルムの端面からクラックが発生し難くなる。逆に、スクライブラインが外側になるように巻き取ると、引っ張り応力により、スクライブラインの溝に生じている微細な傷をオリジンとして、ガラスフィルムが破損しやすくなる。なお、このような微細な傷は、ケミカルポリッシュやファイアポリッシュで低減することができる。   When the glass roll of the present invention is wound after scribing the end (ear part) in the width direction of the glass film, the glass roll is preferably wound so that the scribe line is on the inner side. If it does in this way, it will become difficult to generate | occur | produce a crack from the end surface of a glass film. On the other hand, when the scribe line is wound outward, the glass film tends to be damaged due to the fine scratches generated in the groove of the scribe line due to tensile stress. Such fine scratches can be reduced by chemical polishing or fire polishing.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムの端部がレーザーで切断分離されてなることが好ましい。このようにすれば、ガラスフィルムの成形後に、ガラスフィルムの端部を連続的に切断分離することができるため、ガラスロールの生産効率が向上するとともに、ガラスフィルムの端面からクラックが発生し難くなる。レーザーとして、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー等が使用可能である。レーザーの出力は、レーザーによって進行するクラックの進展速度と、ガラスフィルムの板引き速度が整合するように調整することが好ましい。この場合、速度比=(レーザーによって進展するクラックの速度−板引き速度)/(板引き速度)×100の値は、±10%以下、±5%以下、±1%以下、±0.5%以下、±0.1%以下が好ましい。   In the glass roll of the present invention, the end of the glass film is preferably cut and separated with a laser. If it does in this way, since the edge part of a glass film can be continuously cut-separated after shaping | molding of a glass film, while improving the production efficiency of a glass roll, it becomes difficult to generate | occur | produce a crack from the end surface of a glass film. . As the laser, a carbon dioxide laser, a YAG laser, or the like can be used. The output of the laser is preferably adjusted so that the progress rate of cracks progressed by the laser matches the drawing speed of the glass film. In this case, the ratio of speed ratio = (crack speed developed by laser−plate drawing speed) / (plate drawing speed) × 100 is ± 10% or less, ± 5% or less, ± 1% or less, ± 0.5 % Or less, preferably ± 0.1% or less.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムのガラス組成を上記範囲に限定した理由を下記に示す。   The reason why the glass composition of the glass film of the present invention is limited to the above range is shown below.

SiOの含有量は40〜80%、好ましくは50〜78%、より好ましくは50〜70%、更に好ましくは55〜65%、特に好ましくは57〜63%、最も好ましくは58〜62%である。SiOの含有量が40%より少ないと、密度を低下させ難くなる。一方、SiOの含有量が80%より多いと、高温粘度が高くなり、溶融性が低下することに加えて、ガラス中に失透結晶(クリストバライト)等の欠陥が生じやすくなる。 The content of SiO 2 is 40 to 80%, preferably 50 to 78%, more preferably 50 to 70%, still more preferably 55 to 65%, particularly preferably 57 to 63%, and most preferably 58 to 62%. is there. When the content of SiO 2 is less than 40%, it is difficult to reduce the density. On the other hand, when the content of SiO 2 is more than 80%, the high temperature viscosity becomes high and the meltability is lowered. In addition, defects such as devitrified crystals (cristobalite) are likely to occur in the glass.

Alの含有量は0〜20%である。Alの含有量が少ないと、耐熱性を高め難くなったり、高温粘性が高くなり、溶融性が低下しやすくなる。よって、Alの好適な下限範囲は0.1%以上、3%以上、5%以上、10%以上、12%以上、14%以上、14.5%以上、15%以上、特に15.5%以上である。一方、Alの含有量が多いと、液相温度が高くなり、耐失透性が低下しやすくなる。よって、Alの好適な上限範囲は19%以下、18%以下、特に17%以下である。 The content of Al 2 O 3 is 0 to 20%. When the content of Al 2 O 3 is less or hardly enhance the heat resistance, the higher the viscosity at high temperature, the melting property tends to decrease. Therefore, the preferred lower limit range of Al 2 O 3 is 0.1% or more, 3% or more, 5% or more, 10% or more, 12% or more, 14% or more, 14.5% or more, 15% or more, particularly 15 .5% or more. On the other hand, when the content of Al 2 O 3 is large, the liquidus temperature increases, devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the preferable upper limit range of Al 2 O 3 is 19% or less, 18% or less, and particularly 17% or less.

は、誘電率を低下させる成分である。また融剤として働き、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であり、その含有量は0〜30%である。Bの含有量が少ないと、誘電率を低下させることが困難になり、また融剤としての働きが不十分になるため、高温粘性が高くなり、泡品位が低下しやすくなる。更には、ガラスを低密度化し難くなる。よって、Bの好適な下限範囲は0.1%以上、3%以上、5%以上、11%以上、11.5%以上、12%以上、13%以上、14%以上、15%以上、特に15.5%以上である。一方、Bの含有量が多いと、耐熱性や耐候性が低下しやすくなる。よって、Bの好適な上限範囲は25%以下、20%以下、19%以下、18%以下、特に17%以下である。 B 2 O 3 is a component that lowers the dielectric constant. Moreover, it is a component which acts as a flux and lowers the high temperature viscosity to increase the meltability, and its content is 0 to 30%. When the content of B 2 O 3 is small, it becomes difficult to lower the dielectric constant, and the function as a flux becomes insufficient, so that the high-temperature viscosity becomes high and the bubble quality tends to be lowered. Furthermore, it is difficult to reduce the density of the glass. Therefore, the preferable lower limit range of B 2 O 3 is 0.1% or more, 3% or more, 5% or more, 11% or more, 11.5% or more, 12% or more, 13% or more, 14% or more, 15% Above, especially 15.5% or more. On the other hand, if the content of B 2 O 3 is large, heat resistance and weather resistance tends to lower. Therefore, the preferable upper limit range of B 2 O 3 is 25% or less, 20% or less, 19% or less, 18% or less, particularly 17% or less.

MgOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であり、またアルカリ土類金属酸化物の中では最も密度を下げる効果がある成分であり、その含有量は0〜15%、0〜10%、0〜6%、0〜2%、0〜1%、0〜0.5%、0〜0.1%が好ましい。しかし、MgOの含有量が多過ぎると、誘電率や誘電正接が高くなりやすい。また、MgOの含有量が多過ぎると、液相温度が上昇し、耐失透性が低下しやすくなり、更にはガラスが分相しやすくなり、透明性が損なわれるおそれがある。   MgO is a component that increases the meltability by lowering the high-temperature viscosity without lowering the strain point, and is the component that has the effect of reducing the density most among the alkaline earth metal oxides. 0-15%, 0-10%, 0-6%, 0-2%, 0-1%, 0-0.5%, 0-0.1% are preferable. However, when the content of MgO is too large, the dielectric constant and dielectric loss tangent tend to be high. Moreover, when there is too much content of MgO, liquidus temperature will rise, devitrification resistance will fall easily, and also it will become easy to phase-divide glass, and there exists a possibility that transparency may be impaired.

CaOの含有量は0〜15%である。CaOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高める成分であるとともに、本発明に係るガラス組成系において、失透を抑制する効果が大きい成分である。さらに、アルカリ土類金属酸化物の中で、その含有量を相対的に増加させると、ガラスを低密度化しやすくなる。よって、CaOの好適な下限範囲は0.1%以上、1%以上、2%以上、3%以上、6%以上、6.5%以上、特に7%以上である。一方、CaOの含有量が多いと、誘電率や誘電正接が高くなりやすく、また熱膨張係数や密度が高くなり過ぎたり、ガラス組成の成分バランスを損なわれて、耐失透性が低下しやすくなる。よって、CaOの好適な上限範囲は12%以下、9.5%以下、9%以下、特に8.5%以下である。   The content of CaO is 0 to 15%. CaO is a component that lowers the high-temperature viscosity without significantly lowering the strain point and significantly increases the meltability, and is a component that has a large effect of suppressing devitrification in the glass composition system according to the present invention. Furthermore, when the content is relatively increased in the alkaline earth metal oxide, the glass is easily reduced in density. Therefore, the preferable lower limit range of CaO is 0.1% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, 6% or more, 6.5% or more, particularly 7% or more. On the other hand, if the content of CaO is large, the dielectric constant and dielectric loss tangent are likely to be high, the thermal expansion coefficient and density are too high, the component balance of the glass composition is impaired, and devitrification resistance is likely to be reduced. Become. Therefore, the preferable upper limit range of CaO is 12% or less, 9.5% or less, 9% or less, and particularly 8.5% or less.

SrOの含有量は0〜15%である。SrOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であるが、SrOの含有量が多くなると、密度や熱膨張係数が上昇しやすくなり、誘電率や誘電正接も上昇しやすくなる。また、SrOの含有量が多くなると、TFT等の膜の熱膨張係数に整合させるために、相対的にCaOやMgOの含有量を低下しなければならず、その含有量の低下に起因して、耐失透性が低下したり、高温粘性が上昇する事態を招きやすくなる。よって、SrOの含有量は0〜10%、0〜8%、0〜5%、0〜2%、0〜1.5%、0〜1%、0〜0.5%、特に0〜0.1%が好ましい。   The content of SrO is 0 to 15%. SrO is a component that increases the meltability by lowering the high-temperature viscosity without lowering the strain point. However, as the SrO content increases, the density and thermal expansion coefficient tend to increase, and the dielectric constant and dielectric loss tangent. Will also rise. In addition, when the SrO content increases, the content of CaO or MgO must be relatively decreased in order to match the thermal expansion coefficient of a film such as a TFT, and this is due to the decrease in the content. , Devitrification resistance is reduced, and high temperature viscosity is likely to increase. Therefore, the content of SrO is 0-10%, 0-8%, 0-5%, 0-2%, 0-1.5%, 0-1%, 0-0.5%, especially 0-0. .1% is preferred.

BaOの含有量は0〜10%である。BaOは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であるが、BaOの含有量が多くなると、密度や熱膨張係数が上昇しやすくなり、誘電率や誘電正接も上昇しやすくなる。また、BaOの含有量が多くなると、TFT等の膜の熱膨張係数に整合させるためには、相対的にCaOやMgOの含有量を低下しなければならず、結果として、耐失透性が低下したり、高温粘性が上昇する事態を招きやすくなる。よって、BaOの含有量は0〜10%、0〜8%、0〜5%、0〜2%、0〜1.5%、0〜1%、0〜0.5%、特に0〜0.1%未満が好ましい。   The content of BaO is 0 to 10%. BaO is a component that increases the meltability by lowering the high-temperature viscosity without lowering the strain point. However, as the content of BaO increases, the density and thermal expansion coefficient tend to increase, and the dielectric constant and dielectric loss tangent. Will also rise. In addition, when the content of BaO increases, the content of CaO or MgO must be relatively reduced in order to match the thermal expansion coefficient of a film such as a TFT. As a result, the devitrification resistance is reduced. It becomes easy to invite the situation which falls or high temperature viscosity rises. Therefore, the content of BaO is 0-10%, 0-8%, 0-5%, 0-2%, 0-1.5%, 0-1%, 0-0.5%, especially 0-0. Less than 1% is preferable.

MgO+CaO+SrO+BaOは、液相温度を下げて、ガラス中に結晶異物を発生させ難くする成分であり、また溶融性や成形性を高める成分であり、その含有量は0〜25%、1〜20%、3〜15%、5〜10%、6.5〜9.5%、特に7〜9%が好ましい。MgO+CaO+SrO+BaOの含有量が少ないと、融剤としての働きを十分に発揮できず、溶融性が低下することに加えて、熱膨張係数が低くなり過ぎ、TFT等の膜の熱膨張係数に整合し難くなる。一方、MgO+CaO+SrO+BaOの含有量が多いと、密度が上昇し、ガラスを軽量化し難くなり、また比ヤング率が低下するとともに、熱膨張係数が高くなり過ぎる。   MgO + CaO + SrO + BaO is a component that lowers the liquidus temperature and makes it difficult to generate crystalline foreign matter in the glass, and is a component that improves meltability and formability, and its content is 0 to 25%, 1 to 20%, 3 to 15%, 5 to 10%, 6.5 to 9.5%, particularly 7 to 9% are preferable. If the content of MgO + CaO + SrO + BaO is low, the function as a flux cannot be fully exhibited, and in addition to the decrease in meltability, the thermal expansion coefficient becomes too low and it is difficult to match the thermal expansion coefficient of a film such as a TFT. Become. On the other hand, if the content of MgO + CaO + SrO + BaO is large, the density increases, it becomes difficult to reduce the weight of the glass, the specific Young's modulus decreases, and the thermal expansion coefficient becomes too high.

LiO+NaO+KOの含有量が多くなると、熱膨張係数が高くなったり、歪点が低下したり、TFTの特性が劣化する。よって、LiO+NaO+KOの含有量は0〜10%未満、0〜6%、0〜5%未満、0〜3%、0〜1%、特に0〜0.1%が好ましく、理想的には実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にLiO+NaO+KOを含有しない」とは、ガラス組成中のLiO+NaO+KOの含有量が0.1%未満の場合を指す。 When the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O increases, the thermal expansion coefficient increases, the strain point decreases, and the TFT characteristics deteriorate. Therefore, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably 0 to less than 10%, 0 to 6%, 0 to less than 5%, 0 to 3%, 0 to 1%, particularly preferably 0 to 0.1%. Ideally, it is desirable not to contain substantially. Here, "substantially free of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O ", the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O in the glass composition refers to a case of less than 0.1%.

上記成分以外にも、他の成分を例えば25%まで、好ましくは15%までガラス組成中に添加することができる。   Besides the above components, other components can be added to the glass composition, for example, up to 25%, preferably up to 15%.

清澄剤は、泡品位を高めるために用いる成分である。従来、清澄剤としては、As、Sbが使用されていた。しかし、As、Sbは、環境負荷物質であり、環境的観点から、これらの使用量を削減することが要求されている。そこで、清澄剤として、SnOを用いると、環境的要請に配慮しつつ、泡品位を高めることができる。 A fining agent is a component used to improve foam quality. Conventionally, As 2 O 3 and Sb 2 O 3 have been used as fining agents. However, As 2 O 3 and Sb 2 O 3 are environmentally hazardous substances, and it is required to reduce their usage from an environmental point of view. Therefore, when SnO 2 is used as a fining agent, the foam quality can be improved while considering environmental requirements.

SnOは、高温域で良好な清澄作用を発揮する成分であるとともに、高温粘性を低下させる成分であり、その含有量は0〜1%、0.001〜1%、0.01〜0.5%、特に0.05〜0.3%が好ましい。SnOの含有量が1%より多いと、SnOの失透結晶がガラス中に析出しやすくなる。なお、SnOの含有量が0.001%より少ないと、上記の効果を享受し難くなる。 SnO 2 is a component that exhibits a good clarification action in a high temperature range and a component that lowers the high temperature viscosity, and its content is 0 to 1%, 0.001 to 1%, 0.01 to 0.00. 5%, particularly 0.05 to 0.3% is preferable. When the content of SnO 2 is more than 1%, a devitrified crystal of SnO 2 is likely to be precipitated in the glass. Incidentally, when the content of SnO 2 is less than 0.001%, it becomes difficult to enjoy the effect of the above.

As、Sbも清澄剤として有効に作用し、本発明に係るガラスフィルムは、これらの成分の含有を完全に排除するものではないが、環境的観点から、これらの成分の含有量をそれぞれ0.1%未満、特に0.05%未満に規制することが好ましい。また、F、Cl等のハロゲンは、溶融温度を低温化するとともに、清澄剤の作用を促進させる効果があり、結果として、溶融コストを低廉化しつつ、ガラス製造窯の長寿命化を図ることができる。しかし、F、Clの含有量が多過ぎると、ガラスフィルム上に形成される金属の配線パターンを腐食させる場合がある。よって、F、Clの含有量はそれぞれ1%以下、0.5%以下、0.1%未満、0.05%以下、特に0.01%以下が好ましい。 As 2 O 3 and Sb 2 O 3 also act effectively as fining agents, and the glass film according to the present invention does not completely exclude the inclusion of these components, but from an environmental point of view, It is preferable to regulate the content to less than 0.1%, particularly less than 0.05%. In addition, halogens such as F and Cl lower the melting temperature and promote the action of the clarifying agent. As a result, it is possible to extend the life of the glass manufacturing kiln while reducing the melting cost. it can. However, if the content of F or Cl is too large, the metal wiring pattern formed on the glass film may be corroded. Therefore, the contents of F and Cl are preferably 1% or less, 0.5% or less, less than 0.1%, 0.05% or less, particularly 0.01% or less, respectively.

上記の通り、清澄剤として、SnOが好適であるが、ガラス特性を損なわない限り、CeO、SO、C、金属粉末(例えばAl、Si等)を5%まで添加することができる。 As described above, SnO 2 is suitable as a fining agent, but CeO 2 , SO 3 , C, and metal powder (eg, Al, Si, etc.) can be added up to 5% as long as the glass properties are not impaired.

ZnOは、溶融性を高める成分であるが、その含有量が多くなると、誘電率や誘電正接が高くなり、またガラスが失透しやすくなるとともに、歪点が低下する上、密度も上昇しやすくなる。よって、ZnOの含有量は0〜10%、0〜5%、0〜3%、0〜0.5%、特に0〜0.3%が好ましく、理想的には実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にZnOを含有しない」とは、ガラス組成中のZnOの含有量が0.1%以下の場合を指す。   ZnO is a component that enhances meltability, but as its content increases, the dielectric constant and dielectric loss tangent increase, the glass tends to devitrify, the strain point decreases, and the density also increases easily. Become. Therefore, the content of ZnO is preferably 0 to 10%, 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 0.5%, particularly preferably 0 to 0.3%, and ideally not substantially contained. desirable. Here, “substantially does not contain ZnO” refers to a case where the content of ZnO in the glass composition is 0.1% or less.

ZrOは、耐候性を高める成分であるが、その含有量が多くなると、誘電率や誘電正接が高くなる。よって、ZrOの含有量は0〜5%、0〜3%、0〜0.5%、特に0〜0.2%が好ましく、理想的には実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にZrOを含有しない」とは、ガラス組成中のZrOの含有量が0.01%以下の場合を指す。なお、耐候性を高めたい場合は、ZrOの含有量を0.01%以上にすることが好ましい。 ZrO 2 is a component that enhances the weather resistance, but as its content increases, the dielectric constant and dielectric loss tangent increase. Therefore, the content of ZrO 2 is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 0.5%, particularly preferably 0 to 0.2%, and ideally not substantially contained. Here, “substantially does not contain ZrO 2 ” refers to a case where the content of ZrO 2 in the glass composition is 0.01% or less. Incidentally, For greater weather resistance, it is preferable that a content of ZrO 2 in 0.01% or more.

TiOは、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であるとともに、ソラリゼーションを抑制する成分であるが、ガラス組成中に多く添加すると、誘電率や誘電正接が高くなり、またガラスが着色し、透過率が低下しやすくなる。よって、TiOの含有量は0〜5%、0〜3%、0〜1%、特に0〜0.02%が好ましい。 TiO 2 is a component that lowers the viscosity at high temperature and increases the meltability, and is a component that suppresses solarization, but when added in a large amount in the glass composition, the dielectric constant and dielectric loss tangent increase, and the glass is colored. , The transmittance tends to decrease. Therefore, the content of TiO 2 is preferably 0 to 5%, 0 to 3%, 0 to 1%, particularly preferably 0 to 0.02%.

は、耐失透性を高める成分であるが、ガラス組成中に多く添加すると、ガラス中に分相、乳白が生じることに加えて、耐水性が顕著に低下する。よって、Pの含有量は0〜5%、0〜1%、特に0〜0.5%が好ましい。 P 2 O 5 is a component that enhances devitrification resistance. However, when it is added in a large amount in the glass composition, in addition to the occurrence of phase separation and milk white in the glass, the water resistance is significantly reduced. Therefore, the content of P 2 O 5 is preferably 0 to 5%, 0 to 1%, particularly preferably 0 to 0.5%.

、Nb、Laは、歪点を高める働きがあるが、これらの含有量が多いと、誘電率、誘電正接、密度が上昇しやすくなる。よって、これらの成分の含有量は、それぞれ0〜3%、0〜1%、特に0〜0.1%が好ましい。 Y 2 O 3 , Nb 2 O 5 , and La 2 O 3 have a function of increasing the strain point. However, when the content thereof is large, the dielectric constant, dielectric loss tangent, and density are likely to increase. Therefore, the content of these components is preferably 0 to 3%, 0 to 1%, particularly preferably 0 to 0.1%, respectively.

本発明に係るガラスフィルムは、ガラス組成範囲を以下のように規定すれば、誘電率が低下し、またTFT等の膜の熱膨張係数に整合しやすくなるとともに、高温粘度が低下し、しかも液相粘度が高くなりやすい。(1)ガラス組成として、質量%で、SiO 50〜70%、Al 0.1〜20%、B 11〜25%、MgO+CaO+SrO+BaO 5〜13%、MgO 0〜10%、CaO 0〜9%、SrO 0〜7%、BaO 0〜7%含有し、Asの含有量が0.5%未満、Sbの含有量が0.5%未満、Fの含有量が0.1%未満、Clの含有量が0.1%未満、アルカリ金属酸化物の含有量が10%未満、
(2)ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜70%、Al 11〜18%、B 12〜22%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜11%、MgO 0〜9%、CaO 0.1〜9%、SrO 0〜6%、BaO 0〜6%含有し、Asの含有量が0.1%未満、Sbの含有量が0.1%未満、Fの含有量が0.1%未満、Clの含有量が0.1%未満、アルカリ金属酸化物の含有量が5%未満、
(3)ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜70%、Al 12〜17%、B 12〜19%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜11%、MgO 0〜5%、CaO 2〜9%、SrO 0〜3%、BaO 0〜3%含有し、Asの含有量が0.1%未満、Sbの含有量が0.1%未満、Fの含有量が0.1%未満、Clの含有量が0.1%未満、アルカリ金属酸化物の含有量が1%未満、
(4)ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜65%、Al 13〜18%、B 13〜19%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜10%、MgO 0〜1%、CaO 6.5〜9%、SrO 0〜1%、BaO 0〜1%含有し、Asの含有量が0.05%未満、Sbの含有量が0.05%未満、Fの含有量が0.1%未満、Clの含有量が0.1%未満、アルカリ金属酸化物の含有量が0.1%未満、
(5)ガラス組成として、質量%で、SiO 57〜63%、Al 15〜17%、B 15〜18%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜9%、MgO 0〜1%、CaO 7〜9%、SrO 0〜0.5%、BaO 0〜0.5%、SnO 0.01〜0.6%含有し、Asの含有量が0.05%未満、Sbの含有量が0.05%未満、Fの含有量が0.1%未満、Clの含有量が0.1%未満、アルカリ金属酸化物の含有量が0.1%未満。
If the glass composition according to the present invention defines the glass composition range as follows, the dielectric constant is lowered, and it is easy to match the thermal expansion coefficient of a film such as a TFT, and the high temperature viscosity is lowered. Phase viscosity tends to increase. (1) as a glass composition, in mass%, SiO 2 50~70%, Al 2 O 3 0.1~20%, B 2 O 3 11~25%, MgO + CaO + SrO + BaO 5~13%, 0~10% MgO, CaO 0-9%, SrO 0-7%, BaO 0-7%, As 2 O 3 content less than 0.5%, Sb 2 O 3 content less than 0.5%, F The content is less than 0.1%, the Cl content is less than 0.1%, the alkali metal oxide content is less than 10%,
(2) as a glass composition, in mass%, SiO 2 55~70%, Al 2 O 3 11~18%, B 2 O 3 12~22%, MgO + CaO + SrO + BaO 7~11%, MgO 0~9%, CaO 0 0.1 to 9%, SrO 0 to 6%, BaO 0 to 6%, As 2 O 3 content less than 0.1%, Sb 2 O 3 content less than 0.1%, F The content is less than 0.1%, the Cl content is less than 0.1%, the alkali metal oxide content is less than 5%,
(3) as a glass composition, in mass%, SiO 2 55~70%, Al 2 O 3 12~17%, B 2 O 3 12~19%, MgO + CaO + SrO + BaO 7~11%, 0~5% MgO, CaO 2 -9%, SrO 0-3%, BaO 0-3%, As 2 O 3 content less than 0.1%, Sb 2 O 3 content less than 0.1%, F content Is less than 0.1%, the Cl content is less than 0.1%, the alkali metal oxide content is less than 1%,
(4) as a glass composition, in mass%, SiO 2 55~65%, Al 2 O 3 13~18%, B 2 O 3 13~19%, MgO + CaO + SrO + BaO 7~10%, 0~1% MgO, CaO 6 0.5-9%, SrO 0-1%, BaO 0-1%, As 2 O 3 content less than 0.05%, Sb 2 O 3 content less than 0.05%, The content is less than 0.1%, the Cl content is less than 0.1%, the alkali metal oxide content is less than 0.1%,
(5) as a glass composition, in mass%, SiO 2 57~63%, Al 2 O 3 15~17%, B 2 O 3 15~18%, MgO + CaO + SrO + BaO 7~9%, 0~1% MgO, CaO 7 -9%, SrO 0-0.5%, BaO 0-0.5%, SnO 2 0.01-0.6%, As 2 O 3 content less than 0.05%, Sb 2 O 3 content is less than 0.05%, F content is less than 0.1%, Cl content is less than 0.1%, and alkali metal oxide content is less than 0.1%.

ガラスフィルムの誘電率を低下させるためには、一般的に、ガラス組成中のSiOの含有量を増加させることが有効である。しかし、無アルカリガラスまたは低アルカリガラスの場合、SiOの含有量を増加させると、溶融性が著しく低下する場合がある。しかし、ガラス組成範囲を上記(3)〜(5)のように規制すれば、誘電率を低下させつつ、溶融性の低下を抑制することができる。 In order to lower the dielectric constant of the glass film, it is generally effective to increase the content of SiO 2 in the glass composition. However, in the case of an alkali-free glass or a low alkali glass, increasing the SiO 2 content may significantly decrease the meltability. However, if the glass composition range is regulated as in the above (3) to (5), it is possible to suppress a decrease in meltability while reducing the dielectric constant.

本発明のガラスロールは、所定のガラス組成になるように調合したガラスバッチを連続式ガラス溶融窯に投入し、このガラスバッチを加熱溶融した後、得られた溶融ガラスを清澄し、成形装置に供給した上で薄板形状等に成形し、ロール状に巻き取ることにより作製することができる。   In the glass roll of the present invention, a glass batch prepared so as to have a predetermined glass composition is put into a continuous glass melting furnace, and after the glass batch is heated and melted, the obtained molten glass is clarified and put into a molding apparatus. After being supplied, it can be formed into a thin plate shape or the like and wound into a roll.

本発明のガラスロールにおいて、ガラスフィルムは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラスフィルムを作製することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、ガラスフィルムの表面となるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるからである。樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面品位を実現できるものであれば、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うために、ガラスフィルムに対して力を印加する方法は、所望の寸法や表面品位を実現できるものであれば、特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールをガラスフィルムに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールをガラスフィルムの端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。なお、液相温度が低く、液相粘度が高い程、オーバーフローダウンドロー法でガラスフィルムを成形しやすくなる。   In the glass roll of the present invention, the glass film is preferably formed by an overflow down draw method. In this way, a glass film that is unpolished and has good surface quality can be produced. The reason is that, in the case of the overflow downdraw method, the surface to be the surface of the glass film does not come into contact with the bowl-like refractory and is molded in a free surface state. The structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as desired dimensions and surface quality can be realized. Moreover, in order to perform the downward extending | stretching shaping | molding, the method of applying force with respect to a glass film will not be specifically limited if a desired dimension and surface quality are realizable. For example, a method may be adopted in which a heat-resistant roll having a sufficiently large width is rotated and stretched in contact with the glass film, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls are only near the end face of the glass film. You may employ | adopt the method of making it contact and extending | stretching. The lower the liquidus temperature and the higher the liquidus viscosity, the easier it is to mold the glass film by the overflow downdraw method.

オーバーフローダウンドロー法以外にも、種々の成形方法を適用することができる。例えば、スロットダウンドロー法、リドロー法等を適用することができる。   Various molding methods can be applied in addition to the overflow downdraw method. For example, a slot down draw method, a redraw method, or the like can be applied.

以下、実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, based on an Example, this invention is demonstrated in detail.

表1は、本発明に係るガラス試料(試料No.1〜10)を示している。   Table 1 shows glass samples (sample Nos. 1 to 10) according to the present invention.

Figure 2011042508
Figure 2011042508

次のようにして、試料No.1〜10を作製した。まず表中のガラス組成になるように調合したガラスバッチを白金坩堝に入れ、1600℃で24時間溶融した後、カーボン板上に流し出して平板形状に成形した。次に、得られた各試料について、誘電率、誘電正接、密度、熱膨張係数α、歪点、徐冷点、軟化点、104.0dPa・sにおける温度、103.0dPa・sにおける温度、102.5dPa・sにおける温度、液相温度TL、液相粘度logηTLを評価した。 Sample no. 1-10 were produced. First, a glass batch prepared so as to have the glass composition shown in the table was put in a platinum crucible, melted at 1600 ° C. for 24 hours, and then poured out onto a carbon plate to form a flat plate shape. Next, for each sample obtained, dielectric constant, dielectric loss tangent, the density, the thermal expansion coefficient alpha, strain point, annealing point, softening point, temperature at 10 4.0 dPa · s, 10 3.0 dPa · s at a temperature, temperature at 10 2.5 dPa · s, the liquid phase temperature TL, to evaluate the liquidus viscosity LogitaTL.

誘電率、誘電正接は、周波数1MHz、25℃においてASTM D150に記載の方法に基づいて測定した値である。   The dielectric constant and dielectric loss tangent are values measured based on the method described in ASTM D150 at a frequency of 1 MHz and 25 ° C.

密度は、周知のアルキメデス法で測定した値である。   The density is a value measured by a well-known Archimedes method.

熱膨張係数αは、ディラトメーターで測定した値であり、30〜380℃の温度範囲における平均値である。   The thermal expansion coefficient α is a value measured with a dilatometer, and is an average value in a temperature range of 30 to 380 ° C.

歪点、徐冷点および軟化点は、ASTM C336に記載の方法に基づいて測定した値である。   The strain point, annealing point, and softening point are values measured based on the method described in ASTM C336.

104.0dPa・sにおける温度、103.0dPa・sにおける温度、102.5dPa・sにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。 The temperature at 10 4.0 dPa · s, the temperature at 10 3.0 dPa · s, and the temperature at 10 2.5 dPa · s are values measured by the platinum ball pulling method.

液相温度TLは、標準篩30メッシュ(500μm)を通過し、50メッシュ(300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。   The liquid phase temperature TL passes through a standard sieve 30 mesh (500 μm), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 μm) is placed in a platinum boat and held in a temperature gradient furnace for 24 hours to measure the temperature at which crystals precipitate. It is the value.

液相粘度logηTLは、液相温度TLにおけるガラスの粘度を白金引き上げ法で測定した値である。   The liquid phase viscosity log ηTL is a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the liquid phase temperature TL by the platinum pulling method.

表1から明らかなように、試料No.1〜10は、ガラス組成が所定範囲に規制されているため、誘電率が4.93以下、誘電正接が0.0007以下、密度が2.39g/cm以下、熱膨張係数αが30〜35×10−7/℃、歪点が511℃以上、102.5dPa・sにおける温度が1548℃以下、液相温度TLが1190℃以下、液相粘度logηTLが4.0以上であった。なお、試料No.1〜10は、ガラス組成中にAs、Sbを含有していないが、泡品位が良好であった。 As is clear from Table 1, sample No. In Nos. 1 to 10, since the glass composition is regulated within a predetermined range, the dielectric constant is 4.93 or less, the dielectric loss tangent is 0.0007 or less, the density is 2.39 g / cm 3 or less, and the thermal expansion coefficient α is 30 to 30. 35 × 10 −7 / ° C., strain point was 511 ° C. or higher, temperature at 10 2.5 dPa · s was 1548 ° C. or lower, liquidus temperature TL was 1190 ° C. or lower, and liquidus viscosity logηTL was 4.0 or higher. . Sample No. 1-10, but it does not contain As 2 O 3, Sb 2 O 3 in the glass composition, the foam quality was good.

試験溶融炉で表1に記載の試料No.1〜10を溶融し、オーバーフローダウンドロー法またはリドロー法により、フィルム厚が50μm、平均表面粗さRaが2Åのガラスフィルムを成形した後、ロール状に巻き取り、ガラスロールとした。成形に際し、引っ張りローラーの速度、冷却ローラーの速度、加熱装置の温度分布、溶融ガラスの温度、溶融ガラスの流量、板引き速度、攪拌スターラーの回転数等を適宜調整することで、ガラスフィルムの表面品位を調節した。なお、平均表面粗さRaは、JIS B0601:2001に記載の方法に基づいて測定した値である。   In the test melting furnace, sample No. 1 to 10 were melted, and a glass film having a film thickness of 50 μm and an average surface roughness Ra of 2 mm was formed by an overflow downdraw method or a redraw method, and then wound into a roll to obtain a glass roll. During molding, the surface of the glass film is appropriately adjusted by adjusting the speed of the pulling roller, the speed of the cooling roller, the temperature distribution of the heating device, the temperature of the molten glass, the flow rate of the molten glass, the drawing speed, the rotational speed of the stirring stirrer, etc. The quality was adjusted. The average surface roughness Ra is a value measured based on the method described in JIS B0601: 2001.

さらに、[実施例2]で得られたガラスフィルム(試料No.1)を300mm角に切り出し、ガラスフィルムの両面をエタノールで洗浄した後、イオナイザーで除電した。次に、ガラスフィルムを持ち上げるためのリフトピンを4隅に内蔵するアルミ基板上に、ガラスフィルムを載置して30秒間エアーで真空吸着した後、ガラスフィルムとアルミ基板を剥離した。アルミ基板と接触していない側のガラスフィルムの中央部において、剥離直後の最大帯電量と3分経過後の帯電量を表面電位計で測定したところ、剥離直後の最大帯電量が−200V、3分経過後の帯電量は−80Vであった。   Furthermore, the glass film (sample No. 1) obtained in [Example 2] was cut into a 300 mm square, and both surfaces of the glass film were washed with ethanol and then neutralized with an ionizer. Next, the glass film was placed on an aluminum substrate incorporating lift pins for lifting the glass film at four corners and vacuum-adsorbed with air for 30 seconds, and then the glass film and the aluminum substrate were peeled off. In the central portion of the glass film on the side not in contact with the aluminum substrate, the maximum charge amount immediately after peeling and the charge amount after 3 minutes were measured with a surface potentiometer. The amount of charge after the lapse of minutes was −80V.

一方、[実施例2]の方法で得られたガラスフィルム(フィルム厚:50μm、誘電率:7.6、平均表面粗さRa:2Å、ガラス組成:SiO 55.8%、Al 7.0%、MgO 1.9%、CaO 2.0%、SrO 8.9%、BaO 8.5%、ZrO 4.6%、NaO 4.3%、KO 7.0%)について、同様の実験を行ったところ、剥離直後の最大帯電量は−350V、3分経過後の帯電量は−150Vであった。なお、測定時の温度は23℃、湿度は40%であった。 On the other hand, a glass film (film thickness: 50 μm, dielectric constant: 7.6, average surface roughness Ra: 2 mm, glass composition: SiO 2 55.8%, Al 2 O 3 obtained by the method of [Example 2] 7.0%, MgO 1.9%, CaO 2.0%, SrO 8.9%, BaO 8.5%, ZrO 2 4.6%, Na 2 O 4.3%, K 2 O 7.0 %), The maximum charge amount immediately after peeling was −350 V, and the charge amount after 3 minutes was −150 V. The temperature at the time of measurement was 23 ° C. and the humidity was 40%.

Claims (9)

フィルム厚200μm以下のガラスフィルムをロール状に巻き取ったガラスロールであって、
ガラスフィルムの誘電率が7以下であり、且つ平均表面粗さRaが10Å以下であることを特徴とするガラスロール。
A glass roll obtained by winding a glass film having a film thickness of 200 μm or less into a roll,
A glass roll, wherein the glass film has a dielectric constant of 7 or less and an average surface roughness Ra of 10 mm or less.
ガラスフィルムのフィルム厚が100μm以下であることを特徴とする請求項1に記載のガラスロール。   The glass roll according to claim 1, wherein the glass film has a film thickness of 100 μm or less. ガラスフィルムの誘電正接が0.5以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のガラスロール。   The glass roll according to claim 1 or 2, wherein the dielectric loss tangent of the glass film is 0.5 or less. ガラスフィルムが、ガラス組成として、質量%で、SiO 40〜80%、Al 0〜20%、B 0〜30%、MgO 0〜15%、CaO 0〜15%、SrO 0〜15%、BaO 0〜15%、LiO+NaO+KO 0〜10%未満含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガラスロール。 Glass film, as a glass composition, in mass%, SiO 2 40~80%, Al 2 O 3 0~20%, B 2 O 3 0~30%, 0~15% MgO, CaO 0~15%, SrO 0~15%, BaO 0~15%, glass roll according to claim 1, characterized by containing less than Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0~10%. ガラスフィルムが、ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜78%、Al 10〜20%、B 10〜30%、MgO 0〜4%、CaO 1〜10%、SrO 0〜5%、BaO 0〜5%、LiO+NaO+KO 0〜6%含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガラスロール。 Glass film, as a glass composition, in mass%, SiO 2 55~78%, Al 2 O 3 10~20%, B 2 O 3 10~30%, 0~4% MgO, CaO 1~10%, SrO 0~5%, BaO 0~5%, a glass roll according to any one of claims 1 to 4, characterized in that Li 2 O + Na 2 O + K 2 O containing 6%. ガラスフィルムが、ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜70%、Al 10〜20%、B 13〜20%、MgO 0〜2%、CaO 6〜10%、SrO 0〜3%、BaO 0〜3%、MgO+CaO+SrO+BaO 6.5〜10%、LiO+NaO+KO 0〜0.1%含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のガラスロール。 Glass film, as a glass composition, in mass%, SiO 2 55~70%, Al 2 O 3 10~20%, B 2 O 3 13~20%, 0~2% MgO, CaO 6~10%, SrO 0~3%, BaO 0~3%, MgO + CaO + SrO + BaO 6.5~10%, according to any one of claims 1 to 5, characterized in that Li 2 O + Na 2 O + K 2 O containing 0 to 0.1% Glass roll. ガラスフィルムの液相粘度が104.0dPa・s以上であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のガラスロール。 The glass roll according to claim 1, wherein the glass film has a liquidus viscosity of 10 4.0 dPa · s or more. ガラスフィルムが、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のガラスロール。   The glass roll according to any one of claims 1 to 7, wherein the glass film is formed by an overflow downdraw method. 最小曲率半径が500mm以下の状態で巻き取られていることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のガラスロール。   The glass roll according to any one of claims 1 to 8, wherein the glass roll is wound with a minimum curvature radius of 500 mm or less.
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