JP2011029551A - ペレットの位置認識装置、ペレットのマウント装置及び半導体装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】コレットにより保持されているペレットの位置認識の精度及び信頼性を向上させる。
【解決手段】位置認識装置１は、光を照射する光照射部２を有する。更に、ペレット３を保持する保持部４と、光照射部２から照射される光を保持部４により保持されているペレット３へ向けて反射させる反射面５と、を有するコレット６を有する。更に、反射面５からの反射光によるペレット３の投影画像を撮像する撮像部７と、投影画像に基づき、保持部４により保持されているペレット３の位置を認識する画像認識部と、を有する。光照射部２は、光源９と、光源９からの光を平行光又は集束光に変換する光変換部１０とを有し、変換後の光を一方向から反射面５に向けて照射する。反射面５は平面である。
【選択図】図４

Description

本発明は、ペレットの位置認識装置、ペレットのマウント装置及び半導体装置の製造方法に関する。

例えば、半導体パッケージの組立工程には、ペレットをリードフレームへダイボンディングする工程が含まれる。ペレットは、コレットと呼ばれる保持部材によって吸着保持されて、ダイボンディング位置へ移動される。この移動の過程で、画像認識によりペレットの位置を認識し、この認識結果に応じた補正を加えた移動量で、コレットにより吸着されているペレットをダイボンディング位置へ移動させる。

特にレーザーダイオードなどの光半導体においては、ペレットから発光されるレーザー光の発光点の位置及び発光角度が製品特性上重要である。このため、ペレットをリードフレームの所望の位置へ高精度にダイボンディングすることが要求される。従って、その要求を満たすためには、画像認識によるペレットの位置認識精度が高精度であることが要求される。

例えば、特許文献１には、ペレットの位置認識精度の向上を目的としたペレット外観視覚装置が記載されている。図１３は特許文献１に記載されているペレット外観視覚装置の構成を説明するための断面図である。図１３に示すように、このペレット外観視覚装置は、ペレットを真空吸着により保持するコレット１０１と、リング照明器１０２と、暗箱１０３と、鏡筒１０４と、図示しないカメラと、を有している。

リング照明器１０２は、多数本の光ファイバを、リングの中心に向くように放射状に配線し、それら光ファイバをリング形状に束ねることにより構成されている。これら光ファイバは、リングの中心に向けて光を照射する。この光は、コレット１０１に形成された円錐面１０５によりコレット１０１の軸心方向下向きに反射される。

ペレットの位置を認識する際には、コレット１０１によりペレット３を吸着保持し、このペレット３が挿入口１０６を介して暗箱１０３内に入り込むようにコレット１０１を動作させる。この状態で、リング照明器１０２からの照射光が円錐面１０５により下向きに反射され、ペレット３の投影像が鏡筒１０４を介してカメラにより撮像される。

カメラにより撮像された画像は、図示しない画像信号処理装置によって二値化処理される。ペレット３の領域は光が通過しないので黒色になり、逆に背景に相当するペレットの外側領域は光が通過するので白色となる。この黒色領域と白色領域の境界線がペレットの外形線に相当するため、ペレット３の外形線の位置は、その境界によって認識することができる。この認識結果に応じてコレット１０１の位置を補正することにより、コレット１０１により保持されているペレット３の位置も補正することができる。

特開平８−２３６５９４号公報

しかしながら、上述したようなリング照明器１０２からの照射光を用いてペレット３の位置を認識する技術には、以下のような課題がある。

第１に、リング照明器１０２の光ファイバから出射される光は、図１３に示すように、広がりを持つ（進路が分散している）。このため、円錐面１０５からの反射光はペレット３へ向かう成分だけでなく、様々な成分が含まれる。よって、コレット１０１の円錐面１０５で乱反射した光や、挿入口１０６の内周縁で回折した光などが、ペレット３の側面（ペレット３におけるコレット１０１側の面と直交する面）に照射される可能性がある。すると、ペレット３の側面からの反射光がカメラに入射してしまい、投影画像に本来の画像とは異なる位置に白色領域が生じることがあり、上述の二値化処理によりペレット３の位置を誤認識してしまう可能性が生じる。

この不具合は、例えば、図１４に示すように、ペレット３が、基台１５と、基台１５上に搭載されたペレット本体１６と、を含む段付きペレットである場合に、顕著に発生する。図１４は、このようなペレット３の投影画像の一例を示す図である。図１４に示すように、ペレット３の実際の外形線よりも内側に白色領域が生じてしまう結果、その白色領域と、それに隣接する黒色領域との境界線をペレット３の外形線として誤認識してしまうことがある。

第２に、上述のように広がりを持つ光が、コレット１０１の円錐面１０５に対し、その周囲全方向から照射されるため、乱反射による光がペレット３の側面に照射される可能性が高まり、上記と同様に、ペレット３の位置を誤認識してしまう可能性が高まる。この不具合も、ペレット３が図１４に示すような段付きペレットである場合に顕著に発生する。

このように、特許文献１の技術では、コレットにより保持されているペレットの位置認識の精度及び信頼性を十分に得ることが困難だった。

本発明は、光を照射する光照射部と、
ペレットを保持する保持部と、前記光照射部から照射される光を前記保持部により保持されている前記ペレットへ向けて反射させる反射面と、を有するコレットと、
前記反射面からの反射光による前記ペレットの投影画像を撮像する撮像部と、
前記投影画像に基づき、前記保持部により保持されているペレットの位置を認識する画像認識部と、
を有し、
前記光照射部は、光源と、前記光源からの光を平行光又は集束光に変換する光変換部と、を有し、該変換後の光を一方向から前記反射面に向けて照射し、
前記反射面は平面であることを特徴とするペレットの位置認識装置を提供する。

この位置認識装置によれば、光照射部は、光源と、光源からの光を平行光又は集束光に変換する光変換部と、を有し、該変換後の光を反射面に向けて照射するので、その平行光又は集束光を反射面にてペレット側に反射させることができる。従って、反射面からの反射光がペレットにおけるコレット側の面以外の面に照射されてしまうことを抑制することができる。よって、投影画像に本来の画像とは異なる位置に白色領域が生じることに起因してペレットの位置を誤認識してしまう可能性を低減することができる。また、平行光又は集束光を、平面である反射面に向けて一方向から照射するので、反射面からの反射光の干渉やハレーションの発生を抑制することができる。よって、反射光の光強度にムラが生じることに起因してペレットの位置を誤認識してしまう可能性を低減することができる。従って、コレットにより保持されているペレットの位置認識の精度及び信頼性を十分に向上させることが可能となる。

また、本発明は、本発明のペレットの位置認識装置と、
前記画像認識部により認識された位置に応じて補正された移動量となるよう、前記ペレットを保持したままの前記コレットを前記ペレットの搭載位置へ移動させる移動機構と、
を有することを特徴とするペレットのマウント装置を提供する。

また、本発明は、光源からの光を平行光又は集束光に変換し、該変換後の光を平面である反射面へ向けて一方向から照射し、前記反射面からの反射光を、コレットにより保持されているペレットへ向けて照射しながら、前記反射光による前記ペレットの投影画像を撮像する第１工程と、
前記投影画像に基づき、前記コレットにより保持されているペレットの位置を認識する第２工程と、
前記第２工程により認識した位置に応じて補正された移動量となるよう、前記ペレットを保持したままの前記コレットを前記ペレットの搭載位置へ移動させる第３工程と、
前記搭載位置にて前記ペレットを基板ないしはリードフレームに搭載する第４工程と、
をこの順に行うことを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。

本発明によれば、コレットにより保持されているペレットの位置認識の精度及び信頼性を十分に向上させることができる。

第１の実施形態に係るペレットのマウント装置の構成を示す模式的な正面図である。 第１の実施形態に係るペレットのマウント装置の構成を示すブロック図である。 第１の実施形態に係るペレットの位置認識装置の構成を示す模式的な斜視図である。 第１の実施形態に係るペレットの位置認識装置の要部の構成を示す模式的な正面図である。 コレット及び光照射部を撮像部の側から見た模式的な底面図である。 コレットを示す模式図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ａ方向から見た側面図である。 コレットの保持部の模式的な拡大図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ａ方向から見た側面図である。 コレットの保持部の模式的な底面図である。 ペレットの構造を示す模式図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は正面図である。 第１の実施形態の場合の投影画像の例を示す図である。 第２の実施形態に係るペレットの位置認識装置の要部の構成を示す模式的な正面図である。 第２の実施形態の場合の投影画像の例を示す図である。 特許文献１に記載されているペレット外観視覚装置の構成を説明するための断面図である。 図１３のペレット外観視覚装置による投影画像の例を示す図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様の構成要素には同一の符号を付し、適宜に説明を省略する。

〔第１の実施形態〕
図１は第１の実施形態に係るペレットのマウント装置５０の構成を示す模式的な正面図、図２はマウント装置５０の構成を示すブロック図である。図３は第１の実施形態に係るペレットの位置認識装置１の構成を示す模式的な斜視図、図４は第１の実施形態に係るペレットの位置認識装置１の要部の構成を示す模式的な正面図である。図５はコレット６及び光照射部２を撮像部７の側から見た模式的な底面図である。図６はコレット６を示す模式図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ａ方向から見た側面図である。図７はコレット６の保持部４の模式的な拡大図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は（ａ）の矢印Ａ方向から見た側面図である。図８はコレット６の保持部４の模式的な底面図である。図９はペレット３の構造を示す模式図であり、（ａ）は斜視図、（ｂ）は側面図、（ｃ）は正面図である。図１０は投影画像の例を示す図である。なお、各図において、同一の構成要素の形状が互いに異なる場合、何れの形状も採用しうるものとする。

本実施形態に係るペレットの位置認識装置１は、光を照射する光照射部２と、コレット６と、撮像部７と、画像認識部８と、を有する。コレット６は、ペレット３を保持する保持部４と、光照射部２から照射される光を保持部４により保持されているペレット３へ向けて反射させる反射面５と、を有する。撮像部７は、反射面５からの反射光によるペレット３の投影画像を撮像する。画像認識部８は、投影画像に基づき、保持部４により保持されているペレット３の位置を認識する。光照射部２は、光源９と、光源９からの光を平行光又は集束光に変換する光変換部１０と、を有し、該変換後の光を一方向から反射面５に向けて照射する。反射面５は平面である。
また、本実施形態に係るペレットのマウント装置５０は、本実施形態に係るペレットの位置認識装置１と、画像認識部８により認識された位置に応じて補正された移動量となるよう、ペレット３を保持したままのコレット６をペレット３の搭載位置へ移動させる移動機構６０と、を有する。
また、本実施形態に係る半導体装置の製造方法では、第１乃至第４工程をこの順に行う。第１工程では、光源９からの光を平行光又は集束光に変換し、該変換後の光を平面である反射面５へ向けて一方向から照射する。そして、反射面５からの反射光を、コレット６により保持されているペレット３へ向けて照射しながら、反射光によるペレット３の投影画像を撮像する。第２工程では、投影画像に基づき、コレット６により保持されているペレット３の位置を認識する。第３工程では、第２工程により認識した位置に応じて補正された移動量となるよう、ペレット３を保持したままのコレット６をペレット３の搭載位置へ移動させる。第４工程では、搭載位置にてペレット３を基板ないしはリードフレーム（例えば、リードフレーム５６）に搭載する。
以下、詳細に説明する。

先ず、本実施形態に係るペレットの位置認識装置（以下、単に位置認識装置）１の構成を説明する。

図１に示すように、本実施形態に係る位置認識装置１は、例えば、マウント装置５０（後述）に備えられる。

図３に示すように、この位置認識装置１は、光を照射する光照射部２と、ペレット３を保持するコレット６と、投影画像を撮像する撮像部７と、ペレット３の位置を投影画像に基づき認識する画像認識部８と、吸気装置としての真空ポンプ１４（図２）と、を有している。

図４に示すように、コレット６は、ペレット３を真空吸着により保持する保持部４と、光照射部２から照射される光を保持部４により保持されているペレット３へ向けて反射させる反射面５と、を有する。

コレット６は、例えば、柱状の本体部１２と、この本体部１２の下側に連続的に形成されている錐状部１３を有し、この錐状部１３の下側に保持部４が設けられている。保持部４は、その下端においてペレット３を保持する。

なお、保持部４は、ペレット３の一部分（例えば、後述するペレット本体１６の張出部１６ａ）が保持部４よりも水平方向に突出し、且つ、その突出部分（例えば張出部１６ａ）に反射面５からの反射光が照射されるように、ペレット３を保持する。

図４乃至図６に示すように、コレット６の錐状部１３は、例えば、下端に向けて縮径する四角錐状（正四角錐状）となっている。この錐状部１３の４つの側面のうちの１つの側面が、反射面５を構成している。

反射面５は、例えば、金属面である。この反射面５は、鏡面研磨処理が施されることによって反射率が高められている。この反射面５は、光照射部２に対して斜向かい（はす向かい）している。

具体的には、例えば、光照射部２から照射される光が平行光であるとすると、この照射光と反射面５とが鉛直面内においてなす角度α（図４）は約４５度となっている。このため、光照射部２からの照射光と反射面５からの反射光とが鉛直面内においてなす角度β（図４）は約９０度となっている。すなわち、光照射部２から反射面５までの照射光の経路と、反射面５からペレット３までの反射光の経路とが略直交するようになっている。

図４に示すように、光照射部２は、光源９と、光源９からの光を平行光又は集束光に変換する光変換部１０と、光源９からの光を光変換部１０へ導光するライトガイド１１と、を有している。光照射部２は、光変換部１０により平行光又は集束光に変換された光を、一方向から反射面５へ向けてスポット的に照射する。

光源９は、例えば、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）などの点光源であることが挙げられる。なお、光源９を構成する点光源は、単一の点光源であっても良いし、複数の点光源を平面上に配置することにより構成した点光源の集合体であっても良い。

光変換部１０は、例えば、光源９からライトガイド１１を介して入射される光を平行光又は集束光に変換して出射する集光レンズを有していることが挙げられる。

図３に示すように、撮像部７は、例えば、鏡筒レンズ部２１と、カメラ２２と、を有している。カメラ２２は、反射面５からの反射光によるペレット３の投影画像を、鏡筒レンズ部２１を介して撮像する。カメラ２２及び鏡筒レンズ部２１は、例えば、ペレット３を下側から撮像するよう、上向きに配置されている。カメラ２２は、撮像によって取得した投影画像のデータを画像認識部８へ出力する。

画像認識部８は、カメラ２２から入力される投影画像のデータに対し、所定の画像処理を実行することにより、コレット６により保持されているペレット３の位置を演算及び認識する。画像認識部８は、具体的には、例えば、投影画像の二値化処理を行い、投影画像において、所定の閾値よりも高輝度の領域（白色領域）と低輝度の領域（黒色領域）との境界の位置を、ペレット３の外形線の位置として認識する。画像認識部８は、このようにして認識したペレット３の外形線に基づいて、ペレット３の位置情報を演算し、この位置情報を後述する移動機構６０の移動制御部６５へ出力する。

なお、少なくともペレット３の位置認識のためにペレット３の投影画像を撮像する際には、光照射部２と撮像部７との相対位置は一定であるものとする。本実施形態の場合、例えば、光照射部２及び撮像部７は、位置が固定であるものとする。また、ペレット３の位置認識のためにペレット３の投影画像を撮像する際には、ペレット３を保持しているコレット６が移動機構６０により規定位置に移動されるものとする。以下、このときのコレット６の位置を撮像位置と称する。なお、鏡筒レンズ部２１のレンズ倍率は、コレット６が撮像位置に位置するときのペレット３の撮像に適した焦点位置となるように予め設定されている。

ここで、撮像位置はなるべく搭載対象物（例えば、後述するリードフレーム５６）の近くであることが好ましい。少なくとも、ペレット３のピックアップ位置（例えば、後述するトレイ載置部５１）よりも、搭載対象物に近いことが好ましい。好適には、例えば、後述するリードフレーム載置部５２に隣接する位置に撮像部７を配置することが挙げられる。或いは、撮像位置を搭載対象物の上方位置にすることも好ましい。例えば、ペレット３の撮像の際に、撮像部７及び光照射部２を搭載対象物の上方位置に移動できるようにすれば、撮像位置を搭載対象物の上方位置にすることができる。

ここで、ペレット３の構造の一例を説明する。

本実施形態の場合、ペレット３は、例えば、図９（ａ）〜図９（ｃ）に示すように、基台１５と、基台１５上に搭載されたペレット本体１６と、を含んで構成されている。基台１５は、ペレット本体１６よりも寸法が大きい。ペレット本体１６は、その一部分が基台１５の側面よりも水平に張り出した張出部１６ａを構成し、且つ、基台１５上面の一部分がペレット本体１６により覆われず露出した露出面１５ａとなるように基台１５上に配置されている。このようなペレット３は、段付きペレットと称される。

なお、基台１５は、底面と上面とが互いに平行な形状（例えば、直方体形状）であることが好ましい。同様に、ペレット本体１６も、底面と上面とが互いに平行な形状（例えば、直方体形状）であることが好ましい。

ペレット本体１６は、例えば、レーザーダイオードであることが挙げられる。この場合、レーザーダイオードの発光点１６ｂが張出部１６ａの先端に位置するように、ペレット本体１６が基台１５上に搭載されている。また、ペレット本体１６の上面には、回路パターン（図示略）が形成されている。このようなペレット３をリードフレーム５６（後述）に搭載して半導体装置を製造する場合、その発光点１６ｂの位置及び発光角度が製品特性上重要である。

また、基台１５は、例えば、ペレット本体１６において生じる熱を放熱するためのヒートシンクであることが好ましい一例であるが、単なる台であっても良い。

次に、このような構造のペレット３（段付きペレット）を保持するのに適した保持部４の構造を説明する。

保持部４は、例えば、図７及び図８に示すように、吸着保持部１７を有している。この吸着保持部１７は、ペレット３が上述の段付きペレットである場合に、その露出面１５ａを吸着することによりペレット３を保持する。

吸着保持部１７は、例えば、保持部４の下面に開口した１つ又は複数の吸気口１９を有している。吸気装置（例えば、真空ポンプ１４（図２））によって、この吸気口１９を介して吸気を行うことにより、ペレット３を露出面１５ａにて吸着保持できるようになっている。

更に、保持部４は、吸着保持部１７により露出面１５ａを吸着保持した際に、保持部４とペレット本体１６とが干渉しないよう該ペレット本体１６の一部分を収容する収容凹室１８を有している。

収容凹室１８は、保持部４の光照射部２側と、下面側と、に向けて開放した、内空断面が直方体形状の凹部である。収容凹室１８の内寸は、図７（ａ）、図７（ｂ）に示すようにペレット３を吸着保持した際に、ペレット本体１６と収容凹室１８の内周とが干渉しないようにペレット本体１６の一部分を収容できる程度の大きさに設定されている。

なお、図７（ａ）に示すように、保持部４によってペレット３を露出面１５ａにて吸着保持し、且つ、収容凹室１８によってペレット本体１６の一部分を収容した際に、ペレット本体１６の張出部１６ａが収容凹室１８、ひいては保持部４から水平方向に突出するようになっている。これにより、図４に示すように、張出部１６ａに反射面５からの反射光が照射されるようになっている。すなわち、保持部４は、ペレット３が段付きペレットである場合には、カメラ２２により撮像する投影画像に少なくとも張出部１６ａの投影像が含まれるようにペレット３を保持する（図５参照）。

このような構成の保持部４によって段付きペレットであるペレット３を保持することにより、ペレット本体１６の上面に回路パターンが形成されていても、その回路パターンを保持部４によって傷つけないようにすることができる。なぜなら、保持部４は、ペレット本体１６ではなく基台１５を吸着保持するからである。

また、保持部４は、ペレット本体１６よりも寸法が大きい基台１５の露出面１５ａを吸着するので、ペレット３と保持部４との接触面積を増やすことにより、ペレット３をより安定的に保持できるようになる。よって、搬送時の衝撃によりペレット３の位置がコレット６に対して相対的にずれてしまうことを抑制できる。

次に、本実施形態に係るマウント装置５０の構成を説明する。

図１に示すように、本実施形態に係るマウント装置５０は、上述の位置認識装置１と、トレイ載置部５１と、リードフレーム載置部５２と、ペレット初期位置認識用撮像部５３と、ダイボンディング位置認識用撮像部５４と、移動機構６０と、マウント装置５０の統括的な制御を行う制御部８０（図２）と、を有している。

トレイ載置部５１には、複数のペレット３が配列されたトレイ５５が載置される。トレイ載置部５１は、トレイ５５をペレット３の配列方向に移動させるトレイ移動機構７１（図２）を有している。

ペレット初期位置認識用撮像部５３は、鏡筒レンズ部５７と、カメラ５８と、を有している。カメラ５８は、鏡筒レンズ部５７を介してトレイ５５上のペレット３を撮像できるように、下向きに配置されている。なお、鏡筒レンズ部５７のレンズ倍率は、トレイ５５上のペレット３を撮像できるように、トレイ５５のサイズ（高さ）に応じた適切な倍率に設定されている。

リードフレーム載置部５２には、ペレット３の搭載対象物の一例としてのリードフレーム５６が載置される。リードフレーム載置部５２は、リードフレーム５６を水平に移動させるリードフレーム移動機構７２（図２）を有している。

ダイボンディング位置認識用撮像部５４は、鏡筒レンズ部５９と、カメラ７０と、を有している。カメラ７０は、鏡筒レンズ部５９を介してリードフレーム載置部５２上のリードフレーム５６を撮像できるように、下向きに配置されている。鏡筒レンズ部５９のレンズ倍率は、リードフレーム載置部５２上のリードフレーム５６を撮像できるように、適切な倍率に設定されている。

移動機構６０は、コレット６及びペレット３の搬送と、コレット６及びペレット３の位置補正と、を行うものであり、図１乃至図３に示すように、例えば、Ｘ移動機構６１、Ｙ移動機構６２、Ｚ移動機構６３、θ移動機構６４、移動制御部６５及びガイドレール６６を有している。

このうちガイドレール６６は、水平方向における一方向（Ｘ方向）に沿って延在する直線状の梁状部材である。ガイドレール６６の下方には、トレイ載置部５１、撮像部７及びリードフレーム載置部５２が、例えばこの順に、ガイドレール６６の長手方向に沿って配置されている。

Ｘ移動機構６１は、このガイドレール６６に沿って直線移動することにより、コレット６をＸ方向に直線移動させる。すなわち、Ｘ移動機構６１は、コレット６を、トレイ載置部５１上のトレイ５５の上方位置、撮像部７の上方位置（撮像位置）、及び、リードフレーム載置部５２上のリードフレーム５６の上方位置へ移動させることができる。

Ｙ移動機構６２は、Ｘ移動機構６１により支持されている。Ｙ移動機構６２は、水平方向であって、Ｘ方向に対して直交する方向（Ｙ方向）へと、Ｘ移動機構６１に対して相対的に直線移動する。Ｙ移動機構６２は、この移動により、コレット６をＹ方向に直線移動させる。すなわち、Ｙ移動機構６２は、ペレット３のピックアップ及びマウント（具体的には、例えば、ダイボンディング）のために、コレット６のＹ方向位置を補正することができる。

Ｚ移動機構６３は、Ｙ移動機構６２を介してＸ移動機構６１により支持されている。Ｚ移動機構６３は、Ｙ移動機構６２に対して相対的に上下方向（Ｚ方向）へ直線移動する。Ｚ移動機構６３は、この移動により、コレット６をＺ方向に直線移動させる。すなわち、Ｚ移動機構６３は、ペレット３のピックアップが可能な高さ（上下位置）及びペレット３のマウントが可能な高さ（上下位置）にコレット６を下降させることができる。

θ移動機構６４は、Ｚ移動機構６３及びＹ移動機構６２を介してＸ移動機構６１により支持されている。θ移動機構６４は、Ｚ方向を軸とする軸周り（θ方向）に、Ｚ移動機構６３に対して相対的に回転移動する。θ移動機構６４は、この回転移動により、コレット６をθ方向に回転移動させる。

また、移動制御部６５は、Ｘ移動機構６１、Ｙ移動機構６２、Ｚ移動機構６３及びθ移動機構６４の動作制御を行う。この移動制御部６５は、所定のプログラムに従って、コレット６を移動させる。この移動の際に、移動制御部６５は、画像認識部８により認識された位置データに応じて、コレット６の位置を補正し、この補正により、コレット６により保持されているペレット３の位置も補正する。

なお、画像認識部８は、撮像位置でのペレット３の位置データを生成する他に、トレイ載置部５１のトレイ５５上のペレット３の位置データ（ペレット初期位置データ）と、リードフレーム載置部５２上のリードフレーム５６におけるダイボンディング位置の位置データ（ダイボンディング位置データ）と、を生成する。移動制御部６５は、これら位置データに応じて、トレイ５５からペレット３をピックアップする際のコレット６の位置補正と、ペレット３とリードフレーム５６上にマウント（ダイボンディング）する際のコレット６及びペレット３の位置補正と、を移動機構６０に行わせる。

次に、動作を説明する。なお、この動作説明は、本実施形態に係る半導体装置の製造方法の説明を兼ねる。

先ず、トレイ載置部５１には、複数のペレット３が配列されたトレイ５５を載置する。一方、リードフレーム載置部５２には、リードフレーム５６を載置する。

次に、ペレット初期位置認識用撮像部５３のカメラ５８は、トレイ５５上のペレット３を撮像し、この撮像により得られた画像データを画像認識部８へ出力する。

ここで、トレイ５５上の複数のペレット３の配列は予め定まっており、これらペレット３をコレット６がピックアップする順番も予め定まっているものとする。カメラ５８は、コレット６により次にピックアップされるペレット３を撮像対象とする。トレイ移動機構７１は、トレイ５５上のペレット３のうち、撮像対象となるペレット３がカメラ５８による撮像範囲に入るように、トレイ５５をペレット３の配列方向（水平方向）に移動させる。そして、このようにトレイ５５を移動させた状態で、カメラ５８が撮像対象のペレット３を撮像し、その画像データを画像認識部８へ出力する。すなわち、ここでは、例えば、トレイ５５上のペレット３のうち１番目にピックアップされるペレット３を撮像し、その撮像データを画像認識部８へ出力する。このような一連の動作は、制御部８０がカメラ５８及びトレイ移動機構７１の動作制御を行うことによって実現することができる。

画像認識部８はカメラ５８から入力された画像データに基づいて、ペレット３の位置（座標）を演算する。ここで演算するペレット３の位置のデータには、ペレット３の水平位置データ（Ｘ方向及びＹ方向における位置データ）と、水平面内におけるペレット３の回転角度データと、が含まれる。このうち水平位置データについては、規定の水平位置データを予め画像認識部８が記憶しておき、その規定の水平位置に対するずれ量及び方向を演算することにより求めることができる。また、回転角度データについても、規定の角度データを予め画像認識部８が記憶しておき、その規定の角度に対するずれ量（角度）及び回転方向を演算することにより求めることができる。画像認識部８は、このような演算により得られたトレイ５５上のペレット３の位置データ（ペレット初期位置データ）を移動制御部６５へ出力する。

移動制御部６５は、画像認識部８から入力されたペレット初期位置データに応じて、ペレット３をピックアップする際のコレット６の位置（水平位置及び回転角度）を演算する。すなわち、この演算により求めるピックアップ時のコレット６の位置は、ペレット３の初期位置のずれと同じだけ、ピックアップ時のコレット６の規定位置からずれる（補正される）ようにする。このようにピックアップ時のコレット６の位置を規定位置からずらす（補正する）ことにより、コレット６に対するペレット３の位置合わせを行い、ペレット３の初期位置のずれを後工程に引き継がないようにできる。

次に、移動制御部６５は、Ｘ移動機構６１及びＹ移動機構６２を制御し、演算した位置にコレット６を水平移動させる。すなわち、補正された位置へコレット６を移動させる。なお、この段階では、コレット６は、コレット６以外の各構成要素と干渉せずに水平移動できるよう、トレイ５５、リードフレーム５６、光照射部２等よりも高く位置している（以下、この高さを搬送レベルという）。従って、この水平移動により、コレット６は、ペレット３をピックアップする位置の上方へ移動する。また、画像認識部８により認識されたペレット３の位置（ペレット初期位置データ）に、水平方向における回転角度のずれが含まれている場合、移動制御部６５は、ペレット３を正しい向きでピックアップできるように、θ移動機構６４を制御し、コレット６を水平面内において回転させて、水平面内におけるコレット６の角度を補正する。

例えば、ペレット初期位置データが示すペレット３の位置が、Ｘ方向に１μｍ、Ｙ方向に２μｍずれており、右回りに１度のずれを含んでいたとする。この場合、このようにＸ移動機構６１、Ｙ移動機構６２及びθ移動機構６４により移動された後のコレット６の位置は、規定のピックアップ位置からＸ方向に１μｍ、Ｙ方向に２μｍずれ、右回りに１度ずれた（補正された）状態となる。

次に、移動制御部６５は、Ｚ移動機構６３を制御し、ペレット３をピックアップできる高さ（上下位置）までコレット６を下降させる。また、この下降の過程で、真空ポンプ１４による吸気を開始する。その結果、コレット６の保持部４は、図７（ａ）、図７（ｂ）に示すようにペレット３を吸着保持する。

すなわち、保持部４の吸着保持部１７は、ペレット３の露出面１５ａを吸着することによって、ペレット３を保持する。また、保持部４の収容凹室１８は、保持部４とペレット本体１６とが干渉しないように、ペレット本体１６の一部分を収容する。以後、このペレット３がリードフレーム５６にダイボンディングされるまでは、コレット６（の保持部４）に対するペレット３の姿勢は維持される。

なお、ここでは、説明を簡単にするため、コレット６の位置（水平位置及び回転角度）を補正した後でコレット６を下降させてペレット３を吸着保持する動作を説明したが、コレット６を下降させながらコレット６の位置（水平位置及び回転角度）を補正してペレット３を吸着保持するようにしても良いのは勿論である。

次に、移動制御部６５は、Ｚ移動機構６３を制御し、コレット６を搬送レベルへと上昇させる。

なお、ペレット３の吸着時にコレット６を水平面内において回転させる補正を行った場合、移動制御部６５は、θ移動機構６４を制御し、その回転方向と逆方向に、その回転と同じ角度だけコレット６を回転させることにより、水平面内におけるコレット６の回転角度を元に戻す。また、ペレット３の吸着時にコレット６をＹ方向に移動させる補正を行った場合、移動制御部６５は、Ｙ移動機構６２を制御し、その移動方向と逆方向に、その移動と同じ移動量だけコレット６を移動させることにより、Ｙ方向におけるコレット６の位置を元に戻す。同様に、ペレット３の吸着時にコレット６をＸ方向に移動させる補正を行った場合、移動制御部６５は、Ｘ移動機構６１を制御し、その移動方向と逆方向に、その移動と同じ移動量だけコレット６を移動させることにより、Ｘ方向におけるコレット６の位置を元に戻す。なお、このようにコレット６の位置（水平位置及び回転角度）を元に戻す動作についても、コレット６を上昇させる過程で行うようにしても良い。

以上のようにペレット初期位置データに応じてコレット６の位置（水平位置及び回転角度）を補正してペレット３を吸着することにより、コレット６に対するペレット３の相対位置は、再現性良くほぼ同じ位置となるようにすることができる。

しかし、厳密には、コレット６に対するペレット３の相対位置の再現性は、吸着動作時にペレット３の位置がコレット６に対してブレてしまうことに起因して十分ではない。しかも、この吸着後、ペレット３をダイボンディング位置へ搬送するまでの過程では、移動機構６０（特にＸ移動機構６１）の動作誤差のために、コレット６の搬送距離にも誤差が生じることがある。従って、このままペレット３をダイボンディング位置へ搬送しリードフレーム５６へダイボンディングすると、そのボンディング位置（搭載位置）の精度が不十分となることがある。

このため、以下のように、撮像部７による撮像に基づいて、ペレット３の位置を演算し、この演算結果に応じて、ボンディング位置までのコレット６及びペレット３の移動量を補正する。

すなわち、移動制御部６５は、次に、移動機構６０のＸ移動機構６１を制御し、コレット６及びペレット３を、予め決められた上記撮像位置の上方へと水平移動させる。ここで、移動機構６０は、コレット６を規定の移動量だけＸ方向に移動させる。ただし、上述のように、移動機構６０の動作誤差に起因して、コレット６の搬送距離に誤差が生じることがあるため、この段階でのコレット６のＸ方向位置は誤差を含んでいる可能性がある。

次に、移動制御部６５は、移動機構６０のＺ移動機構６３を制御し、コレット６及びペレット３を撮像位置へと下降させる。

そして、図１、図３及び図４に示すように、コレット６及びペレット３が撮像位置に達して停止すると、制御部８０は、その旨を認識するとともに光源９を発光させる。すなわち、図３に示すように、光照射部２は、反射面５に向けて光を照射する。反射面５は、この照射光をペレット３側に反射する。この反射光は、ペレット３をその上面側から照明するので、カメラ２２から見ると、ペレット３の背面から照明することになる。

このように反射面５から反射光が照射される状態で、制御部８０は、カメラ２２に撮像を行わせる。カメラ２２は、この撮像により、投影画像のデータを生成する。

図１０は、カメラ２２により撮像された具体的な投影画像の例を示す図である。カメラ２２は、この投影画像のデータを画像認識部８へ出力する。画像認識部８では、この投影画像の二値化処理を行い、ペレット３の張出部１６ａとペレット３以外の領域との境界線７５をペレット３の張出部１６ａの外形線として認識し、所定の座標形におけるこの外形線の位置（座標）を認識する。

なお、図１０に示す投影画像は、ペレット本体１６における図１０の左端が基台１５における図１０の左端に対して傾斜するように、ペレット本体１６が基台１５に対して斜めに載置されている場合の投影画像である。従って、ペレット本体１６と基台１５との位置関係が図９とは若干異なっている。

次に、画像認識部８は、二値化処理により認識した実際の外形線の位置情報に基づいて、ペレット３の発光点１６ｂの位置を演算する。ここで、画像認識部８は、張出部１６ａの外形線と、発光点１６ｂとの位置関係を示すデータを予め記憶保持しており、このデータを用いることにより、認識した張出部１６ａの外形線の位置情報に基づいて発光点１６ｂの位置（座標）を演算することができる。例えば、外形線の両端間の中心位置が発光点１６ｂの位置である場合、画像認識部８は、外形線の両端の位置を求め、両端の中心位置を発光点１６ｂの位置として演算する。

また、画像認識部８は、発光点１６ｂの規定位置のデータを予め記憶している。そして、その規定位置に対し、演算された発光点１６ｂの位置がＸ方向及びＹ方向にどれだけずれているかを示す情報（以下、位置ずれ情報）を演算する。

更に、画像認識部８は、張出部１６ａの外形線の角度を演算する。画像認識部８は、張出部１６ａの外形線の規定の角度のデータを予め記憶している。そして、その規定角度に対し、演算された角度が、水平面内におけるどの方向にどれだけずれているかを示す情報（以下、角度ずれ情報）を演算する。

画像認識部８は、このようにして演算した位置ずれ情報及び角度ずれ情報を移動制御部６５へ出力する。

移動制御部６５は、画像認識部８から入力された位置ずれ情報及び角度ずれ情報に応じて、コレット６の位置補正情報及び角度補正情報を演算する。すなわち、この演算により求める位置補正情報は、位置ずれ情報が示すずれ量と同じ大きさの補正であって、位置ずれ情報が示すずれ方向とは反対側への補正が必要である旨を示す情報である。同様に、この演算により求める角度補正情報は、角度ずれ情報が示すずれ量と同じ大きさの角度の補正であって、角度ずれ情報が示すずれ方向とは反対側への補正が必要である旨を示す情報である。例えば、位置ずれ情報が示すずれが、Ｘ方向に２μｍ、Ｙ方向に１μｍのずれであり、角度ずれ情報が示すずれが、左回りに１度のずれであったとする。この場合、位置補正情報は、Ｘ方向の反対方向に２μｍ、Ｙ方向の反対方向に１μｍの補正が必要である旨を示す情報である。また、角度補正情報は、右回りに１度の補正が必要である旨を示す情報である。このような位置補正情報及び角度補正情報に従ってコレット６の水平位置及び水平面内での回転角度を補正した上で、ペレット３をダイボンディング位置へ搬送しリードフレーム５６へダイボンディングすることにより、そのボンディング位置（搭載位置）の精度を十分に高めることができる。

ただし、リードフレーム５６におけるダイボンディング位置にも、規定位置に対するずれがある場合もある。このため、以下に説明するように、ダイボンディング位置についても、ペレット初期位置と同様に、規定位置からのずれを演算し、このずれも考慮してダイボンディングを行う。

すなわち、ダイボンディング位置認識用撮像部５４のカメラ７０は、リードフレーム載置部５２上のリードフレーム５６を撮像し、この撮像により得られた画像データを画像認識部８へ出力する。

ここで、リードフレーム５６は、例えば、ペレット３の搭載位置（ダイボンディング位置）を複数有している。また、これらダイボンディング位置の配置は予め定まっており、これらダイボンディング位置にペレット３を搭載する順序も予め定まっているものとする。カメラ７０は、コレット６によって次にペレット３が搭載されるダイボンディング位置を撮像対象とする。リードフレーム移動機構７２は、リードフレーム５６のダイボンディング位置のうち、撮像対象となるダイボンディング位置がカメラ７０による撮像範囲に入るように、リードフレーム５６を移動させる。そして、このようにリードフレーム５６を移動させた状態で、カメラ７０が撮像対象のダイボンディング位置を撮像し、その画像データを画像認識部８へ出力する。すなわち、ここでは、例えば、リードフレーム５６が有する複数のダイボンディング位置のうち１番目にペレット３がダイボンディングされるダイボンディング位置を撮像し、その撮像データを画像認識部８へ出力する。このような一連の動作は、制御部８０がカメラ７０及びリードフレーム移動機構７２の動作制御を行うことによって実現することができる。

画像認識部８はカメラ７０から入力された画像データに基づいて、ダイボンディング位置の位置（座標）を演算する。ここで演算するダイボンディング位置の位置データには、ダイボンディング位置の水平位置データ（Ｘ方向及びＹ方向における位置データ）と、水平面内におけるダイボンディング位置の回転角度データと、が含まれる。これら水平位置データ及び回転角度データの演算は、ピックアップ時のペレット初期位置データの演算と同様に行う。すなわち、水平位置データについては、規定の水平位置データを予め画像認識部８が記憶しておき、その規定の水平位置に対するずれ量及び方向を演算することにより求めることができる。また、回転角度データについても、規定の角度データを予め画像認識部８が記憶しておき、その規定の角度に対するずれ量（角度）及び回転方向を演算することにより求めることができる。画像認識部８は、このような演算により得られたダイボンディング位置のデータ（ダイボンディング位置データ）を移動制御部６５へ出力する。

移動制御部６５は、画像認識部８から入力されたダイボンディング位置データに応じて、ペレット３をダイボンディングする際のコレット６の位置（水平位置及び回転角度）を演算する。すなわち、この演算により求めるダイボンディング時のコレット６の位置は、ダイボンディング位置の規定位置からのずれと同じだけ、ダイボンディング時におけるコレット６の位置がその規定位置からずれる（補正される）ようにする。このようにダイボンディング時のコレット６の位置を規定位置からずらす（補正する）ことにより、ダイボンディング位置に対するペレット３の位置合わせを行うことができる。

以下、上述のように投影画像を撮像して以降のコレット６及びペレット３の動作を説明する。移動制御部６５は、上述のように撮像位置での投影画像の撮像が行われた後、移動機構６０のＺ移動機構６３を制御し、ペレット３を吸着保持したままのコレット６を搬送レベルまで上昇させる。

次に、移動制御部６５は、Ｘ移動機構６１、Ｙ移動機構６２及びθ移動機構６４を制御し、ペレット３を吸着保持したままのコレット６をリードフレーム５６の上方位置へ移動させる。すなわち、上述のようにダイボンディング位置データに応じて演算したダイボンディング時の位置へとコレット６を移動させる。従って、この段階でのコレット６及びペレット３の位置（水平位置及び回転角度）は、ダイボンディング位置のずれに応じて補正された位置となっている。

次に、移動制御部６５は、Ｚ移動機構６３を制御し、コレット６をダイボンディング位置の上方からダイボンディング位置へと下降させるが、例えば、この下降の過程において、撮像位置での撮像により得られた位置ずれ情報及び角度ずれ情報に応じて、コレット６及びペレット３の水平位置及び角度の補正を行う。すなわち、上述した演算により求めたコレット６の位置補正情報及び角度補正情報に従って、コレット６及びペレット３の位置及び角度の補正を行う。

これにより、ペレット３をダイボンディング位置へと精度良く搬送することができるので、その位置でリードフレーム５６に対するペレット３のダイボンディングを行う。

以後は、同様に、２番目以降のペレット３を順次にトレイ５５からピックアップした後、撮像位置での投影画像の撮像を経て、リードフレーム５６上にダイボンディングする。これにより、複数のペレット３がリードフレーム５６の複数のダイボンディング位置にそれぞれ精度良くダイボンディングされた半導体装置を製造することができる。

以上のような第１の実施形態によれば、光照射部２は、光源９と、光源９からの光を平行光又は集束光に変換する光変換部１０と、を有し、該変換後の光を反射面５に向けて照射するので、その平行光又は集束光を反射面５にてペレット３側に反射させることができる。従って、反射面５からの反射光がペレット３におけるコレット６側の面以外の面に照射されてしまうことを抑制することができる。よって、投影画像に本来の画像とは異なる位置に白色領域が生じる可能性を抑制することができる。よって、投影画像に本来の画像とは異なる位置に白色領域が生じることに起因してペレット３の位置を誤認識してしまう可能性を低減することができる。また、平行光又は集束光を、平面である反射面５に向けて一方向から照射するので、反射面５からの反射光どうしの干渉やハレーションの発生を抑制することができる。よって、反射光の光強度にムラが生じることに起因してペレット３の位置を誤認識してしまう可能性を低減することができる。従って、コレット６により保持されているペレット３の位置認識の精度及び信頼性を十分に向上させることが可能となる。

よって、認識したペレット３の位置に応じて、ペレット３を保持しているコレット６の位置補正を精度良く行うことができる。従って、例えば、ペレット３を精度良く（例えば、発光点１６ｂの位置及び発光角度を精度良く）リードフレーム５６にダイボンディングすることが要求される半導体装置を好適に製造することができる。

また、光照射部２から反射面５までの照射光の経路と、反射面５からペレット３までの反射光の経路と、を略直交させることにより、反射面５からの反射光がペレット３におけるコレット６側の面以外の面に照射されてしまうことを一層好適に抑制することができる。よって、投影画像に本来の画像とは異なる位置に白色領域が生じる可能性を一層好適に抑制することができる。

また、光照射部２から反射面５へ平行光を照射することにより、反射面５からの反射光どうしの干渉やハレーションの発生を一層好適に抑制することができる。

また、保持部４は、段付きペレットであるペレット３を露出面１５ａにて吸着保持する吸着保持部１７と、吸着保持部１７により露出面１５ａを吸着保持した際に、保持部４とペレット本体１６とが干渉しないようペレット本体１６の一部分を収容する収容凹室１８と、を有している。よって、ペレット本体１６の表面に回路パターンが形成されている場合に、その回路パターンを保持部４が傷つけてしまう可能性を低減することができる。よって、例えば、ペレット本体１６がレーザーダイオードである場合に、発光不良の発生を抑制することができる。また、ペレット本体１６よりも寸法が大きい基台１５の露出面１５ａを吸着保持することにより、ペレット本体１６を吸着保持する場合と比べて、保持部４とペレット３との接触面積を増やすことができるので、より安定的にペレット３を保持することができる。よって、搬送時の衝撃によりペレット３がコレット６に対して位置ずれを起こしてしまう可能性を低減することができる。なお、このようにペレット本体１６よりも寸法が大きい基台１５の露出面１５ａを吸着保持することにより、吸気口１９の径も大きく設定することができるため、より大きな吸着力を確保することができる。よって、搬送時の衝撃によるペレット３の位置ずれをより好適に抑制できる。

また、コレット６の保持部４は、段付きペレットであるペレット３を基台１５の露出面１５ａにて吸着保持する。このため、図１３のコレット１０１により吸着保持する場合と比べて、広い面で保持することができるので、保持部４による吸着保持時におけるペレット３の姿勢の安定化が図れる。よって、搬送中にペレット３がコレット６に対して位置ずれを起こす可能性を低減できるので、そのような位置ずれに起因する搭載位置のずれの発生を抑制できる。

また、光照射部２は、例えば、光源９（ＬＥＤ）、ライトガイド１１及び光変換部１０により構成することができるので、図１３に示すリング照明器１０２を用いる場合と比べて、構成要素の数を低減できるとともに構成を簡易にでき、位置認識装置１の小型化及び低コスト化が図れる。

図１３の装置構成では、コレット１０１の円錐面１０５に対し、その周囲全方向から光を照射する構成であるため、ペレット３付近での光の干渉をなるべく抑制するために、暗箱１０３が必要となるのに対し、本実施形態では、光照射部２は、光を一方向から反射面５へ照射するので、ペレット３付近での光の干渉を抑制できる。よって、暗箱１０３（図１３）が不要となるので、その点でも、位置認識装置１の小型化及び低コスト化が図れる。

〔第２の実施形態〕
図１１は第２の実施形態に係るペレットの位置認識装置２００の要部の構成を示す模式的な正面図である。

上記の第１の実施形態では、光照射部２から反射面５までの照射光の経路と、反射面５からペレット３までの反射光の経路とが略直交する例を説明した。

これに対し、本実施形態の場合、図１１に示すように、光照射部２から反射面５までの照射光の経路と、反射面５からペレット３までの反射光の経路と、のなす角度が９０度よりも大きい。すなわち、例えば、図１１に示すように、光照射部２は斜め上方から反射面５へ光を照射する。その他の点については、本実施形態に係る位置認識装置２００は、上記の第１の実施形態に係る位置認識装置１と同様に構成されている。

また、本実施形態に係るペレットのマウント装置（図示略）は、第１の実施形態に係る位置認識装置１に代えて、本実施形態に係る位置認識装置１を有している点でのみ、第１の実施形態に係るマウント装置５０と相違し、その他の点では、第１の実施形態に係るマウント装置５０と同様に構成されている。また、本実施形態に係る半導体装置の製造方法は、第１の実施形態に係るマウント装置５０に代えて、本実施形態に係るマウント装置を用いて行う点でのみ、第１の実施形態に係る半導体装置の製造方法と相違する。

図１２は本実施形態の場合の投影画像の例を示す図である。

本実施形態の場合、上記の第１の実施形態と比べると、光照射部２からの照射光と、反射面５からの反射光との干渉が生じる可能性が高まる。このため、図１２に示すように、第１の実施形態（図１０）と比べると画像の輝度にムラが生じることがある。よって、第１の実施形態と比べると、二値化処理の際の閾値の自由度が低くなることがあり、該閾値を適切に設定する必要がある。

ただし、その他の点では、本実施形態によっても、上記の第１の実施形態と同様の効果が得られる。

上記の各実施形態では、ペレット３が段付きペレットである例を説明したが、ペレット３は、例えば、直方体形状等、その他の形状のものであっても良い。この場合、保持部４は、収容凹室１８を有していなくても良い。また、画像認識部８は、ペレット３の外周の何れか１つの辺である外形線を認識し、その位置を演算するか、又は、外形線に基づいて演算できるペレット３の特定箇所の位置を演算する。更に画像認識部８は、例えば、その外形線の角度を認識する。それら認識結果を用いることにより、上記の各実施形態と同様に、ペレット３の位置補正を行うことができる。

また、上記においては、ペレット３をリードフレーム５６へ搭載する例を説明したが、ペレット３は基板に搭載するのであっても良い。

１ ペレットの位置認識装置
２ 光照射部
３ ペレット
４ 保持部
５ 反射面
６ コレット
７ 撮像部
８ 画像認識部
９ 光源
１０ 光変換部
１１ ライトガイド
１２ 本体部
１３ 錐状部
１４ 真空ポンプ
１５ 基台
１５ａ 露出面
１６ ペレット本体
１６ａ 張出部
１６ｂ 発光点
１７ 吸着保持部
１８ 収容凹室
１９ 吸気口
２１ 鏡筒レンズ部
２２ カメラ
５０ マウント装置
５１ トレイ載置部
５２ リードフレーム載置部
５３ ペレット初期位置認識用撮像部
５４ ダイボンディング位置認識用撮像部
５５ トレイ
５６ リードフレーム
５７ 鏡筒レンズ部
５８ カメラ
５９ 鏡筒レンズ部
６０ 移動機構
６１ 移動機構
６２ 移動機構
６３ 移動機構
６４ 移動機構
６５ 移動制御部
６６ ガイドレール
７０ カメラ
７１ トレイ移動機構
７２ リードフレーム移動機構
７５ 境界線
８０ 制御部
２００ ペレットの位置認識装置
α 角度
β 角度

Claims (7)

1. 光を照射する光照射部と、
   ペレットを保持する保持部と、前記光照射部から照射される光を前記保持部により保持されている前記ペレットへ向けて反射させる反射面と、を有するコレットと、
   前記反射面からの反射光による前記ペレットの投影画像を撮像する撮像部と、
   前記投影画像に基づき、前記保持部により保持されているペレットの位置を認識する画像認識部と、
   を有し、
   前記光照射部は、光源と、前記光源からの光を平行光又は集束光に変換する光変換部と、を有し、該変換後の光を一方向から前記反射面に向けて照射し、
   前記反射面は平面であることを特徴とするペレットの位置認識装置。
2. 前記光照射部から前記反射面までの照射光の経路と、前記反射面から前記ペレットまでの反射光の経路と、が略直交していることを特徴とする請求項１に記載のペレットの位置認識装置。
3. 前記光照射部は平行光を照射することを特徴とする請求項１又は２に記載のペレットの位置認識装置。
4. 前記ペレットは、
   基台と、前記基台上に搭載されたペレット本体と、を含み、
   前記ペレット本体は、前記基台上面の一部分が当該ペレット本体により覆われず露出した露出面となるように前記基台上に配置され、
   前記保持部は、
   前記ペレットを前記露出面にて吸着保持する吸着保持部と、
   前記吸着保持部により前記露出面を吸着保持した際に、当該保持部と前記ペレット本体とが干渉しないよう該ペレット本体の一部分を収容する収容凹室と、
   を有していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載のペレットの位置認識装置。
5. 前記ペレット本体は、その一部分が前記基台の側面よりも張り出した張出部を構成し、
   前記保持部は、前記投影画像に少なくとも前記張出部の投影像が含まれるように、前記ペレットを保持することを特徴とする請求項４に記載のペレットの位置認識装置。
6. 請求項１乃至５の何れか一項に記載のペレットの位置認識装置と、
   前記画像認識部により認識された位置に応じて補正された移動量となるよう、前記ペレットを保持したままの前記コレットを前記ペレットの搭載位置へ移動させる移動機構と、
   を有することを特徴とするペレットのマウント装置。
7. 光源からの光を平行光又は集束光に変換し、該変換後の光を平面である反射面へ向けて一方向から照射し、前記反射面からの反射光を、コレットにより保持されているペレットへ向けて照射しながら、前記反射光による前記ペレットの投影画像を撮像する第１工程と、
   前記投影画像に基づき、前記コレットにより保持されているペレットの位置を認識する第２工程と、
   前記第２工程により認識した位置に応じて補正された移動量となるよう、前記ペレットを保持したままの前記コレットを前記ペレットの搭載位置へ移動させる第３工程と、
   前記搭載位置にて前記ペレットを基板ないしはリードフレームに搭載する第４工程と、
   をこの順に行うことを特徴とする半導体装置の製造方法。

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