JP2011011424A - Laminated body with functional layer and molded body - Google Patents

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和彦 藤倉
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminated body with a functional layer which has high hardness, is excellent in abrasion resistance, followability to base material and has a laminated structure, and a molded body using the same.SOLUTION: In the laminated body 1 with the functional layer, a stress relaxation layer 3 and a surface layer 4 are laminated on at least one side surface of a resin base material 2 in this order. The surface layer 4 comprises at least silazane and an organic polymer, and the hardness H by the nanoindentation of the stress relaxation layer 3 contacting the surface layer 4 is the same as or lower than the hardness H of the surface layer 4 by the nanoindentation.

Description

本発明は、新規の構成からなる機能性層付積層体及びそれを用いた成形体に関するものである。   The present invention relates to a laminate with a functional layer having a novel structure and a molded body using the same.

近年、ディスプレイ、タッチパネル、住宅用窓、ショーウインドウ、車両用窓、車両用風防、遊戯機械、メガネレンズ等の分野で、加工性、軽量化の観点で、ガラス製品と置き換わりつつある。これらプラスチック製品の表面は、基本的には傷つきやすいため、耐擦傷性を付与する目的でハードコートフィルムを貼合せるなどして用いている。また、従来のガラス製品についても、飛散防止のためにプラスチックフィルムを貼合するケースが増えており、これらのフィルム表面の硬度強化のために、その表面にハードコート層を形成することが広く行われている。   In recent years, in the fields of displays, touch panels, residential windows, show windows, vehicle windows, vehicle windshields, amusement machines, eyeglass lenses, etc., glass products are being replaced from the viewpoint of processability and weight reduction. Since the surface of these plastic products is basically easily damaged, a hard coat film is used for the purpose of imparting scratch resistance. In addition, with regard to conventional glass products, there are an increasing number of cases where plastic films are bonded to prevent scattering, and in order to strengthen the hardness of these film surfaces, it is widely used to form a hard coat layer on the surface. It has been broken.

しかしながら、従来のハードコートフィルムは、そのハードコート層の硬度が不十分であったこと、また、その塗膜厚みが薄いことに起因して、下地のプラスチック基材フィルムが変形した場合に、それに応じてハードコート層も変形し、ハードコートフィルム全体としての硬度の低下がみられた。一方、硬度を上げるため、ハードコート層の膜厚を上げると、ハードコート層形成時にハードコート層の収縮が起きたり、基材を湾屈曲させたりすると、ハードコート層が追従せずに割れてしまうなどの現象があった。そのため、特に湾屈曲のある射出成形用途には適さなかったのが現状である。   However, the conventional hard coat film has insufficient hardness of the hard coat layer, and when the underlying plastic substrate film is deformed due to the thin coating film thickness, Accordingly, the hard coat layer was also deformed, and the hardness of the hard coat film as a whole was reduced. On the other hand, in order to increase the hardness, if the thickness of the hard coat layer is increased, shrinkage of the hard coat layer occurs when the hard coat layer is formed, or if the substrate is bent, the hard coat layer breaks without following. There was a phenomenon such as. Therefore, the present situation is not particularly suitable for injection molding applications with bay bending.

上記課題に対し、ハードコート層の硬度を上げるため、ハードコート層の樹脂形成成分を多官能性アクリル酸エステル系モノマーとし、これにアルミナ、シリカ、酸化チタン等の粉末状無機充填剤および重合開始剤を含有する被覆用組成物を用いる方法、あるいはアルコキシシラン等で表面処理したシリカもしくはアルミナからなる無機質の充填材料を含む光重合性組成物、さらに架橋有機微粒子を充填することなども近年検討されている。これらの方法では、ハードコートフィルムの表面硬度を上げる効果は備えてはいるものの、ヘイズの増加や脆性劣化の問題を有しており、上記方法のみでは近年要求されているハードコートフィルムの表面硬度性能に十分に応えうるものではなかった。   In order to increase the hardness of the hard coat layer, the resin-forming component of the hard coat layer is made of a polyfunctional acrylate ester monomer, and powdered inorganic fillers such as alumina, silica, and titanium oxide, and polymerization are started. In recent years, a method using a coating composition containing an agent, a photopolymerizable composition containing an inorganic filler composed of silica or alumina surface-treated with an alkoxysilane, and further filling with crosslinked organic fine particles have been studied. ing. Although these methods have the effect of increasing the surface hardness of the hard coat film, they have the problem of increased haze and brittle deterioration. It was not enough to meet the performance.

また、ハードコート層を2層構成とし、第1層目に微粒子のシリカを添加することで、カールと耐傷性を満足させる方法、ハードコート層を2層構成とし、下層をラジカル硬化性樹脂とカチオン硬化性樹脂のブレンドからなる硬化樹脂層を使用し、上層にラジカル硬化性樹脂のみからなる硬化樹脂層を使用したハードコートフィルムが知られているが、これらも十分満足できる硬度ではなかった。   Further, the hard coat layer has a two-layer structure, and fine particles of silica are added to the first layer to satisfy curling and scratch resistance. The hard coat layer has a two-layer structure, and the lower layer is a radical curable resin. A hard coat film is known in which a cured resin layer made of a blend of cationic curable resins is used and a cured resin layer made only of a radical curable resin is used as an upper layer, but these are also not sufficiently satisfactory in hardness.

一般に、ハードコート層の厚みを厚くすることが、硬度増加に有効であることが知られている。特に、ハードコート層に無機、有機の充填剤を含有した層を厚くすることで、ハードコートフィルムの硬度をさらに向上できるが、厚くすることでヘイズの増加が大きくなり、ハードコート層の割れや剥がれが生じやすくなったり、硬化収縮により基材への追従性が悪くなりハードコートフィルムのカールが大きくなったりするという問題などがある。   In general, it is known that increasing the thickness of the hard coat layer is effective in increasing the hardness. In particular, by increasing the thickness of the hard coat layer containing an inorganic or organic filler, the hardness of the hard coat film can be further improved, but increasing the thickness increases the haze, resulting in cracks in the hard coat layer. There are problems such that peeling easily occurs, followability to the base material is deteriorated due to curing shrinkage, and curling of the hard coat film is increased.

上記の様な課題に対し、例えば、特許文献1では、射出成形体表面に耐擦傷性を付与でき、延伸性のある射出成形用ハードコートフィルムが開示されている。特許文献1に記載の方法では、基材上のハードコート層膜厚を厚くすることが可能で、射出成形に必要な延伸性も付与することができるが、アクリレート系のハードコート層で構成されており、ハードコート層としての性能、特に、硬度に関しては十分とはいえない。また、特許文献2においては、支持体上に、特定配合量の金属酸化物微粒子、活性エネルギー線硬化型樹脂として1分子中に3個以上(メタ)アクリロイル基を含有し、かつ硬化後の収縮率が10%未満であるウレタン(メタ)アクリレート(A)、1分子中に3個以上(メタ)アクリロイル基を含有する多官能アクリレート(B)、有機溶剤、及び光重合開始剤から構成される塗料組成物を用いてハードコート層を形成したハードコートフィルムが開示されており、更には、特許文献3においては、ハードコート層が硬化後の体積収縮率が2〜10%である熱硬化性樹脂または活性エネルギー硬化性樹脂を主成分とし、かつ該ハードコート層の厚みが4〜10μmであるハードコートフィルムが開示されている。これら各特許文献に記載のハードコートフィルムでは、耐擦傷性、表面硬度、カール特性、脆弱性等が改良されるとされている。本発明者が検討を進めた結果、特許文献2、3で開示されている技術も、耐擦傷性や硬度の向上効果は得られるものの、特に、基材追従性が要求される射出成形用途のハードコートフィルムとしては、耐クラック性、基材追従性(延伸性)などは満足できるものではないことが判明した。   For example, Patent Document 1 discloses a hard coat film for injection molding that can impart scratch resistance to the surface of an injection-molded body and has stretchability. In the method described in Patent Document 1, it is possible to increase the thickness of the hard coat layer on the base material and provide the stretchability necessary for injection molding, but it is composed of an acrylate-based hard coat layer. Therefore, it cannot be said that the performance as a hard coat layer, particularly the hardness, is sufficient. In Patent Document 2, a metal oxide fine particle having a specific blending amount on a support, three or more (meth) acryloyl groups in one molecule as an active energy ray-curable resin, and shrinkage after curing. It is composed of urethane (meth) acrylate (A) having a rate of less than 10%, polyfunctional acrylate (B) containing 3 or more (meth) acryloyl groups in one molecule, an organic solvent, and a photopolymerization initiator. A hard coat film in which a hard coat layer is formed using a coating composition is disclosed. Further, in Patent Document 3, a thermosetting property in which the hard coat layer has a volume shrinkage after curing of 2 to 10%. A hard coat film having a resin or an active energy curable resin as a main component and a thickness of the hard coat layer of 4 to 10 μm is disclosed. The hard coat films described in these patent documents are said to have improved scratch resistance, surface hardness, curl characteristics, brittleness and the like. As a result of investigation by the present inventor, the techniques disclosed in Patent Documents 2 and 3 also provide an effect of improving scratch resistance and hardness, but particularly for injection molding applications that require base material followability. It was found that the hard coat film was not satisfactory in terms of crack resistance, substrate followability (stretchability) and the like.

特開2008−260231号公報JP 2008-260231 A 特開2005−288787号公報JP 2005-288787 A 特開2005−288921号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-288921

本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、硬度が高く、耐擦傷性、基材追従性に優れた、積層構造を有する機能性層付積層体及びそれを用いた成形体に関し、詳しくは、ブラウン管(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、電界放出ディスプレイ(FED)等のディスプレイの表面や家電製品等のタッチパネル、各種窓、例えば、住宅用窓、ショーウインドウ、車両用窓、車両用風防、遊戯機械等のガラス保護フィルム、メガネレンズなどの保護フィルムあるいはガラス代替樹脂製品などとして利用できる機能性層付積層体及びそれを用いた成形体を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to provide a laminate with a functional layer having a laminated structure, which has high hardness, excellent scratch resistance and substrate followability, and molding using the same. Regarding the body, in detail, the surface of a display such as a cathode ray tube (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a field emission display (FED), a touch panel such as home appliances, various windows, for example, residential windows , Laminates with functional layers that can be used as glass protective films for show windows, vehicle windows, vehicle windshields, amusement machines, etc., protective films such as eyeglass lenses, or glass substitute resin products, and molded articles using the same There is to do.

本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.樹脂基材の少なくとも一方の面に、応力緩和層と表層とをこの順で積層した機能性層付積層体において、該表層は少なくともシラザンと有機ポリマーとから構成され、該表層に接する該応力緩和層のナノインデンテーションによる硬度Hが、表層のナノインデンテーションによる硬度Hと同等または低いことを特徴とする機能性層付積層体。   1. In a laminate with a functional layer in which a stress relaxation layer and a surface layer are laminated in this order on at least one surface of a resin substrate, the surface layer is composed of at least a silazane and an organic polymer, and the stress relaxation layer in contact with the surface layer A layered product with a functional layer, wherein the hardness H by nanoindentation of the layer is equal to or lower than the hardness H by nanoindentation of the surface layer.

2.前記応力緩和層は2層以上の硬度Hの異なる層から構成され、前記表層に接する応力緩和層から樹脂基材に接する応力緩和層に向かって硬度Hが低くなることを特徴とする前記1に記載の機能性層付積層体。   2. The stress relaxation layer is composed of two or more layers having different hardness H, and the hardness H decreases from the stress relaxation layer in contact with the surface layer toward the stress relaxation layer in contact with the resin substrate. The laminated body with a functional layer as described.

3.前記応力緩和層は、表層に接する領域から樹脂基材に接する領域に向かって膜厚方向に連続的に硬度Hが低くなる構成であることを特徴とする前記1に記載の機能性層付積層体。   3. 2. The laminate with a functional layer according to 1 above, wherein the stress relaxation layer has a configuration in which the hardness H continuously decreases in a film thickness direction from a region in contact with the surface layer to a region in contact with the resin base material. body.

4.前記応力緩和層は2層以上の粒子濃度の異なる層からなり、表層に接する応力緩和層から樹脂基材に接する応力緩和層に向かって粒子濃度が低くなることを特徴とする前記1に記載の機能性層付積層体。   4). 2. The stress relaxation layer is composed of two or more layers having different particle concentrations, and the particle concentration decreases from the stress relaxation layer in contact with the surface layer toward the stress relaxation layer in contact with the resin substrate. Laminated body with functional layer.

5.前記応力緩和層は、表層に接する領域から樹脂基材に接する領域に向かって膜厚方向に連続的に粒子濃度が低くなることを特徴とする前記1に記載の機能性層付積層体。   5. 2. The laminate with a functional layer according to 1 above, wherein the stress relaxation layer has a particle concentration that continuously decreases in a film thickness direction from a region in contact with the surface layer to a region in contact with the resin base material.

6.前記応力緩和層は硬度Hの異なる二つの層が交互に積層された構造であり、硬度Hが高い層群をA層ユニット、硬度Hが低い層群をB層ユニットとしたとき、該A層ユニット及びB層ユニットの少なくとも1つの層ユニットは、乾燥膜厚が異なる少なくとも2層で構成され、該A層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該A層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、前記表層に向かって増加し、該B層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該B層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、前記表層に向かって減少し、該A層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣAhと該B層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であることを特徴とする前記1に記載の機能性層付積層体。   6). The stress relaxation layer has a structure in which two layers having different hardness H are alternately laminated. When the layer group having a high hardness H is an A layer unit and the layer group having a low hardness H is a B layer unit, the A layer At least one layer unit of the unit and the B layer unit is constituted by at least two layers having different dry film thicknesses, and when the A layer unit is constituted by layers having different dry film thicknesses, the A layer unit is constituted. When the dry film thickness of each layer increases toward the surface layer and the B layer unit is composed of layers having different dry film thicknesses, the dry film thickness of each layer constituting the B layer unit is 2. The laminate with a functional layer according to 1 above, wherein the total thickness ΣAh of the dry film thickness of the A layer unit decreases to the surface layer, and the total ΣBh of the dry film thickness of the B layer unit is equal. .

7.前記応力緩和層は、粒子濃度の異なる二つの層が交互に積層された構造であり、粒子濃度が高い層群をA層ユニット、粒子濃度が低い層群をB層ユニットとしたとき、該A層ユニット及びB層ユニットの少なくとも1つの層ユニットは、乾燥膜厚が異なる少なくとも2層で構成され、該A層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該A層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、前記表層に向かって増加し、該B層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該B層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、前記表層に向かって減少し、該A層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣAhと該B層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であることを特徴とする前記1に記載の機能性層付積層体。   7. The stress relaxation layer has a structure in which two layers having different particle concentrations are alternately laminated. When the layer group having a high particle concentration is an A layer unit and the layer group having a low particle concentration is a B layer unit, the A At least one layer unit of the layer unit and the B layer unit is composed of at least two layers having different dry film thicknesses, and when the A layer unit is composed of layers having different dry film thicknesses, When the dry film thickness of each layer constituting increases toward the surface layer and the B layer unit is composed of layers having different dry film thicknesses, the dry film thickness of each layer constituting the B layer unit is 2. The laminated layer with a functional layer according to 1 above, wherein the total thickness ΣAh of the dry film thickness of the A layer unit decreases to the surface layer and the total ΣBh of the dry film thickness of the B layer unit is equal. body.

8.前記表層におけるシラザン濃度が、50質量%以上、95質量%以下であることを特徴とする前記1に記載の機能性層付積層体。   8). 2. The laminate with a functional layer as described in 1 above, wherein the surface layer has a silazane concentration of 50% by mass or more and 95% by mass or less.

9.樹脂基材が樹脂フィルムである前記1から8のいずれか1項に記載の機能性層付積層体を、表層が金型側になるようにして、該金型の片面または両面に装填させた後、合成樹脂からなる成形材料を金型内の該機能性層付積層体上に射出注入し、該機能性層付積層体と成形材料とを積層一体化して形成したことを特徴とする成形体。   9. The laminate with a functional layer according to any one of 1 to 8 above, wherein the resin base material is a resin film, and loaded on one or both surfaces of the mold such that the surface layer is on the mold side. Thereafter, a molding material made of synthetic resin is injected and injected onto the laminate with a functional layer in a mold, and the laminate with the functional layer and the molding material are laminated and integrated to form. body.

本発明により、本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、硬度が高く、耐擦傷性、基材追従性に優れた、積層構造を有する機能性層付積層体及びそれを用いた成形体を提供することができた。   According to the present invention, the present invention has been made in view of the above problems, and the object thereof is a laminate with a functional layer having a laminated structure, which has high hardness, excellent scratch resistance and substrate followability, and the same. It was possible to provide a molded body using this.

本発明の機能性層付積層体の層構成の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the layer structure of the laminated body with a functional layer of this invention. 本発明の機能性層付積層体の層構成の他の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the layer structure of the laminated body with a functional layer of this invention. 本発明の機能性層付積層体の層構成の他の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows another example of the layer structure of the laminated body with a functional layer of this invention. 本発明に適用可能なレンズ型成形体Lの作製工程の一例を示すフロー図である。It is a flowchart which shows an example of the production process of the lens type molded object L applicable to this invention. 本発明の機能性層付積層体を用いた成形体の形成方法の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the formation method of the molded object using the laminated body with a functional layer of this invention.

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described in detail.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、樹脂基材の少なくとも一方の面に、応力緩和層と表層とをこの順で積層した機能性層付積層体において、該表層は少なくともシラザンと有機ポリマーとから構成され、該表層に接する該応力緩和層のナノインデンテーションによる硬度Hが、表層のナノインデンテーションによる硬度Hと同等または低いことを特徴とする機能性層付積層体により、硬度が高く、耐擦傷性、基材追従性に優れた、積層構造を有する機能性層付積層体を実現できることを見出し、本発明に至った次第である。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the inventor of the present invention has a functional layered laminate in which a stress relaxation layer and a surface layer are laminated in this order on at least one surface of a resin base material. A laminate with a functional layer comprising a silazane and an organic polymer, wherein the hardness H by nanoindentation of the stress relaxation layer in contact with the surface layer is equal to or lower than the hardness H by nanoindentation of the surface layer The inventors have found that a laminate with a functional layer having a laminated structure that has high hardness, excellent scratch resistance, and substrate followability can be realized, and as soon as the present invention has been achieved.

以下、本発明の機能性層付積層体とそれを用いた成形体の詳細について説明する。   Hereinafter, the laminated body with a functional layer of this invention and the detail of a molded object using the same are demonstrated.

《機能性層付積層体の構成》
本発明の機能性層付積層体は、樹脂基材の少なくとも一方の面に、応力緩和層、耐擦傷性を有する表層とをこの順で積層した機能性層付積層体であり、表層に接する該応力緩和層のナノインデンテーションによる硬度Hが、表層のナノインデンテーションによる硬度Hと同等または低いことを特徴とする。
<< Configuration of laminate with functional layer >>
The laminate with a functional layer of the present invention is a laminate with a functional layer in which a stress relaxation layer and a scratch-resistant surface layer are laminated in this order on at least one surface of a resin substrate, and is in contact with the surface layer. The hardness H by nanoindentation of the stress relaxation layer is equal to or lower than the hardness H by nanoindentation of the surface layer.

本発明の機能性層付積層体に係る構成例を、図を交えて説明する。   The structural example which concerns on the laminated body with a functional layer of this invention is demonstrated using a figure.

図1は、本発明の機能性層付積層体の層構成の一例を示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the layer structure of the laminate with a functional layer of the present invention.

図1のa)に示す層構成は、請求項1で規定する機能性層付積層体1の層構成の一例を示すものであり、樹脂基材2上に応力緩和層3とシラザンと有機ポリマーを含有する表層4を積層し、応力緩和層3のナノインデンテーションによる硬度Hが、表層4の硬度Hと同等以下となるように構成することを特徴とする。   The layer structure shown in a) of FIG. 1 shows an example of the layer structure of the laminate 1 with a functional layer defined in claim 1, and the stress relaxation layer 3, the silazane, and the organic polymer on the resin substrate 2. And a hardness H by nanoindentation of the stress relaxation layer 3 is equal to or less than the hardness H of the surface layer 4.

本発明に係る応力緩和層において、図1のa)に示す様な単層構成である場合には、乾燥膜厚としては1.0〜30μmであることが好ましく、また硬度Hとしては0.1〜1.0GPaであることが好ましい。   When the stress relaxation layer according to the present invention has a single layer structure as shown in FIG. 1 a, the dry film thickness is preferably 1.0 to 30 μm, and the hardness H is 0. It is preferably 1 to 1.0 GPa.

なお、本発明でいう硬度Hとは、ナノインデンテーションにより測定した硬度である。   In addition, the hardness H as used in the field of this invention is the hardness measured by nanoindentation.

ナノインデンテーション法とは、試料に対して超微小な荷重で圧子を連続的に負荷、除荷し、得られた荷重−変位曲線から硬さ(Hardness、以下、Hと略記)を測定する方法である。   In the nanoindentation method, a sample is continuously loaded and unloaded with a very small load, and the hardness (Hardness, hereinafter abbreviated as H) is measured from the obtained load-displacement curve. Is the method.

ナノインデンテーションの硬さ(H)は、試料の直接的な表面の硬さの値を表している。従って、ナノインデンテーションの硬さ(H)が表面硬度の指標として適している。   The hardness (H) of nanoindentation represents the value of the direct surface hardness of the sample. Therefore, the hardness (H) of nanoindentation is suitable as an index of surface hardness.

〈ナノインデンテーション法による硬度(H)の測定〉
本発明のナノインデンテーション法による硬度(H)の測定は、Hysitron社製TriboscopeをDigital Instruments社製NanoscopeIIIに試料を装着し測定した。測定には、圧子としてベルコビッチ型圧子(先端稜角142.3°)と呼ばれる三角錘型ダイヤモンド製圧子を用いる。
<Measurement of hardness (H) by nanoindentation method>
The measurement of hardness (H) by the nanoindentation method of the present invention was performed by attaching a sample to a Triscope from Hysitron and a Nanoscope III from Digital Instruments. For the measurement, a triangular pyramid diamond indenter called a Belkovic indenter (tip ridge angle 142.3 °) is used as an indenter.

三角錘型ダイヤモンド製圧子を試料表面に直角に当て、徐々に荷重を印加し、最大荷重到達後に荷重を0にまで徐々に戻した。この時の最大荷重Pを圧子接触部の投影面積Aで除した値P/Aを硬度(H)として算出した。この時の最大荷重の条件は100μNで行う。尚、ナノインデンテーション法による表面硬度測定の原理に関する詳細は、例えば、Handbook of Micro/Nano Tribology(Bharat Bhushan編 CRC)に記載されている。   A triangular pyramid-shaped diamond indenter was applied to the sample surface at a right angle, a load was gradually applied, and the load was gradually returned to 0 after reaching the maximum load. The value P / A obtained by dividing the maximum load P at this time by the projected area A of the indenter contact portion was calculated as the hardness (H). The maximum load condition at this time is 100 μN. Details regarding the principle of surface hardness measurement by the nanoindentation method are described in, for example, Handbook of Micro / Nano Tribology (CRC edited by Bharat Bhushan).

図1のb)に示す層構成は、請求項2で規定する機能性層付積層体1の層構成の一例を示すものであり、樹脂基材2上に硬度Hの異なる2層以上の応力緩和層(図1のb)では、一例として2層構成を示してある)と、シラザン及び有機ポリマーを含有する表層4を積層した構成で、2層以上で構成される応力緩和層は、表層4に接する応力緩和層(図1のb)における応力緩和層3−2)から樹脂基材2に接する応力緩和層(図1のb)における応力緩和層3−1)に向かって硬度Hが低くなる構成とすることが好ましい。   The layer configuration shown in FIG. 1 b shows an example of the layer configuration of the laminate 1 with a functional layer defined in claim 2, and the stress of two or more layers having different hardness H on the resin substrate 2. In the relaxation layer (b in FIG. 1, a two-layer structure is shown as an example) and a surface layer 4 containing silazane and an organic polymer is laminated, and the stress relaxation layer composed of two or more layers is a surface layer. 4 from the stress relaxation layer 3-2 in the stress relaxation layer in contact with 4 (b in FIG. 1) to the stress relaxation layer 3-1 in the stress relaxation layer in contact with the resin substrate 2 (b in FIG. 1). It is preferable to adopt a configuration that lowers.

図1のb)に示す層構成においては、硬度Hの異なる2層以上の応力緩和層としては、乾燥膜厚としては1.0〜30μmであることが好ましく、また硬度Hの高い応力緩和層の硬度としては0.3〜3.0GPaであることが好ましく、硬度Hの低い応力緩和層の硬度としては0.1〜1.0GPaであることが好ましく、また各応力緩和層間の硬度H差としては0.1〜0.5GPaであることが好ましい。   In the layer structure shown in FIG. 1 b), as the two or more stress relaxation layers having different hardness H, the dry film thickness is preferably 1.0 to 30 μm, and the stress relaxation layer having high hardness H. The hardness is preferably 0.3 to 3.0 GPa, the hardness of the stress relaxation layer having a low hardness H is preferably 0.1 to 1.0 GPa, and the hardness H difference between the stress relaxation layers Is preferably 0.1 to 0.5 GPa.

図1のc)に示す層構成は、請求項3で規定する機能性層付積層体1の層構成の一例を示すものであり、樹脂基材2上に応力緩和層3とシラザンと有機ポリマーとを含有する表層4を積層し、応力緩和層3は、表層4に接する領域Bから樹脂基材2に接する領域Aに向かって膜厚方向に連続的に硬度Hが低くなる構成であることを特徴とする。本発明でいう表層4に接する応力緩和層3の領域Bにおける硬度Hは、応力緩和層3の表層4に接する面について測定した硬度Hであり、領域Aにおける硬度も同様にして、樹脂基材と接する応力緩和層表面の硬度Hである。   The layer configuration shown in c) of FIG. 1 shows an example of the layer configuration of the laminate 1 with a functional layer defined in claim 3, and the stress relaxation layer 3, the silazane, and the organic polymer on the resin substrate 2. And the stress relaxation layer 3 has a configuration in which the hardness H continuously decreases in the film thickness direction from the region B in contact with the surface layer 4 toward the region A in contact with the resin base material 2. It is characterized by. The hardness H in the region B of the stress relaxation layer 3 in contact with the surface layer 4 referred to in the present invention is the hardness H measured on the surface of the stress relaxation layer 3 in contact with the surface layer 4. Hardness H of the surface of the stress relaxation layer in contact with.

図1のc)に示す層構成においては、領域Bにおける硬度Hとしては0.3〜3.0GPaであることが好ましく、また、領域Aにおける硬度Hとしては0.1〜1.0GPaであることが好ましい。   In the layer configuration shown in FIG. 1 c), the hardness H in the region B is preferably 0.3 to 3.0 GPa, and the hardness H in the region A is 0.1 to 1.0 GPa. It is preferable.

図1のd)に示す層構成は、請求項4で規定する機能性層付積層体1の層構成の一例を示すものであり、樹脂基材2上に、粒子濃度の異なる2層以上の応力緩和層3−イ、3−ロ(図1のd)では、一例として2層構成を示してある)と、シラザンと有機ポリマーとを含有する表層4を積層した構成で、2層以上で構成される応力緩和層は、表層4に接する応力緩和層(図1のd)における応力緩和層3−ロ)から樹脂基材2に接する応力緩和層(図1のd)における応力緩和層3−イ)に向かって粒子濃度が低くなる構成とすることが好ましい。   The layer structure shown in d) of FIG. 1 shows an example of the layer structure of the laminate 1 with a functional layer defined in claim 4, and two or more layers having different particle concentrations are formed on the resin substrate 2. In the stress relaxation layers 3-i and 3-b (shown in FIG. 1d), a two-layer structure is shown as an example, and a surface layer 4 containing silazane and an organic polymer is laminated to have two or more layers. The stress relaxation layer is composed of the stress relaxation layer 3 in the stress relaxation layer (d in FIG. 1) in contact with the resin substrate 2 from the stress relaxation layer 3-b in the stress relaxation layer in contact with the surface layer 4 (d in FIG. 1). -It is preferable to make it the structure which particle concentration becomes low toward (b).

図1のd)に示す層構成においては、粒子濃度の異なる2層以上の応力緩和層としては、乾燥膜厚としては1.0〜30μmであることが好ましく、また粒子濃度の高い応力緩和層の粒子濃度としては30〜70体積%であることが好ましく、粒子濃度の低い応力緩和層の粒子濃度としては0〜40体積%であることが好ましく、また各応力緩和層間の粒子濃度差としては5.0〜20体積%であることが好ましい。   In the layer structure shown in FIG. 1 d), the stress relaxation layer having two or more layers having different particle concentrations preferably has a dry film thickness of 1.0 to 30 μm, and has a high particle concentration. The particle concentration is preferably 30 to 70% by volume, the particle concentration of the stress relaxation layer having a low particle concentration is preferably 0 to 40% by volume, and the particle concentration difference between the stress relaxation layers is It is preferable that it is 5.0-20 volume%.

本発明でいう応力緩和層における粒子濃度は、粒子の充填率(体積%)として測定して求める。すなわち、通常は、応力緩和層を形成する応力緩和層用塗布液における固形分(溶媒以外の成分)に対する粒子の割合(固形分体積比率)として求めるが、応力緩和層の固形分として活性エネルギー線硬化樹脂を用いる場合には、活性エネルギー線硬化樹脂は、活性エネルギー線の照射による反応で硬化と同時に収縮するため、下記に示す充填率測定法で求めた。   The particle concentration in the stress relaxation layer referred to in the present invention is determined by measuring the particle filling rate (volume%). That is, it is usually determined as the ratio of particles (solid content volume ratio) to the solid content (components other than the solvent) in the stress relaxation layer coating solution for forming the stress relaxation layer. In the case of using a curable resin, the active energy ray curable resin contracts simultaneously with curing due to a reaction by irradiation with an active energy ray, and thus was determined by a filling rate measurement method shown below.

〈充填率測定法(体積分析法)〉
乾燥後の膜中の粒子の充填率は、次の方法で測定した。応力緩和層用塗布液を樹脂基材上に湿式塗布法にて塗布して応力緩和層を形成した後、樹脂基材より応力緩和層を剥離して全体積を測定し、次いで、樹脂成分を溶解して含有している粒子体積を測定し、それらの測定値より、粒子の充填率(体積%)を求めた。
<Filling rate measurement method (volume analysis method)>
The filling rate of particles in the film after drying was measured by the following method. After applying the stress relaxation layer coating solution onto the resin substrate by a wet coating method to form the stress relaxation layer, the stress relaxation layer is peeled off from the resin substrate, and the total volume is measured. The volume of the particles contained by dissolution was measured, and the particle filling rate (volume%) was determined from the measured values.

図1のe)に示す層構成は、請求項5で規定する機能性層付積層体1の層構成の一例を示すものであり、樹脂基材2上に応力緩和層3とシラザンと有機ポリマーとを含有する表層4を積層し、応力緩和層3は、表層4に接する領域Bから樹脂基材2に接する領域Aに向かって膜厚方向に連続的に粒子濃度が低くなる構成であることを特徴とする。本発明でいう連続的に粒子濃度の異なる構成であるか否かは、上記に示した充填率測定法により、任意の位置における充填率を測定法する方法や、簡易的な方法としては応力緩和層3の断面を電子顕微鏡等で観察し、粒子密度が連続的に変化しているか否かを判定することもできる。   The layer structure shown in e) of FIG. 1 shows an example of the layer structure of the laminate 1 with a functional layer defined in claim 5, and the stress relaxation layer 3, the silazane, and the organic polymer on the resin substrate 2. And the stress relaxation layer 3 has a structure in which the particle concentration continuously decreases in the film thickness direction from the region B in contact with the surface layer 4 toward the region A in contact with the resin base material 2. It is characterized by. According to the present invention, whether the particle concentration is continuously different or not is determined by a method for measuring the filling rate at an arbitrary position by the filling rate measuring method described above, or as a simple method, stress relaxation. The cross section of the layer 3 can be observed with an electron microscope or the like to determine whether or not the particle density is continuously changing.

図1のe)に示す層構成においては、領域Bにおける粒子濃度としては30〜70体積%であることが好ましく、また、領域Aにおける粒子濃度としては0〜40体積%であることが好ましい。   In the layer configuration shown in e) of FIG. 1, the particle concentration in the region B is preferably 30 to 70% by volume, and the particle concentration in the region A is preferably 0 to 40% by volume.

また、本発明の機能性層付積層体においては、応力緩和層が硬度Hの異なる二つの層が交互に積層された構造であり、硬度Hが高い層群をA層ユニット、硬度Hが低い層群をB層ユニットとしたとき、該A層ユニット及びB層ユニットの少なくとも1つの層ユニットは、乾燥膜厚が異なる少なくとも2層で構成され、該A層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該A層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、樹脂基材から前記表層に向かって増加し、該B層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該B層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、樹脂基材から前記表層に向かって減少し、該A層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣAhと該B層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等である構成とすることが好ましい。   Moreover, in the laminated body with a functional layer of the present invention, the stress relaxation layer has a structure in which two layers having different hardness H are alternately laminated. A layer group having a high hardness H is an A layer unit, and the hardness H is low. When the layer group is a B layer unit, at least one layer unit of the A layer unit and the B layer unit is composed of at least two layers having different dry film thicknesses, and the A layer unit is a layer having different dry film thicknesses. When configured, the dry film thickness of each layer constituting the A layer unit increases from the resin base toward the surface layer, and the B layer unit is composed of layers having different dry film thicknesses. The dry film thickness of each layer constituting the B layer unit decreases from the resin substrate toward the surface layer, and the total dry film thickness ΣAh of the A layer unit and the dry film thickness of the B layer unit A configuration in which ΣBh is equivalent is preferable.

すなわち、図2のa)にその一例を示すように、相対的に硬度Hが高い層群であるA層ユニットにおいては、表層4に向かって、3A−1、3A−2の順に乾燥膜厚が厚くなる構成をとり、逆に相対的に硬度Hが低い層群であるB層ユニットにおいては、表層4に向かって、3B−1、3B−2の順に乾燥膜厚が薄くなる構成をとる。加えて、A層ユニットを構成する3A−1及び3A−2の乾燥膜厚の総和ΣAhと、B層ユニットを構成する3B−1及び3B−2の乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であることが好ましい態様である。本発明でいうA層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣAhと、B層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であるとは、両者の乾燥膜厚の総和の差が10%以内であることを言い、好ましくは5%以内である。   That is, as shown in FIG. 2 a), in the A layer unit, which is a layer group having a relatively high hardness H, the dry film thicknesses in the order of 3A-1 and 3A-2 toward the surface layer 4. In the B layer unit, which is a layer group having a relatively low hardness H, the dry film thickness decreases in the order of 3B-1 and 3B-2 toward the surface layer 4. . In addition, the sum ΣAh of the dry film thicknesses of 3A-1 and 3A-2 constituting the A layer unit and the sum ΣBh of the dry film thicknesses of 3B-1 and 3B-2 constituting the B layer unit should be equal. Is a preferred embodiment. The sum ΣAh of the dry film thickness of the A layer unit in the present invention is equivalent to the sum ΣBh of the dry film thickness of the B layer unit. That is, the difference in the sum of the dry film thicknesses of both is within 10%. Said, preferably within 5%.

図2のa)に示す層構成においては、A層ユニットの硬度Hとしては、0.3〜3.0GPaであることが好ましく、また、B層ユニットにおける硬度Hとしては0.1〜1.0GPaであることが好ましい。また、A層ユニット、B層ユニットそれぞれの乾燥膜厚の総和としては、1.0〜20μmであることが好ましい。   In the layer configuration shown in FIG. 2 a), the hardness H of the A layer unit is preferably 0.3 to 3.0 GPa, and the hardness H of the B layer unit is 0.1 to 1. It is preferably 0 GPa. Moreover, it is preferable that it is 1.0-20 micrometers as the sum total of the dry film thickness of each of A layer unit and B layer unit.

また、本発明の機能性層付積層体においては、応力緩和層は、粒子濃度の異なる二つの層が交互に積層された構造であり、粒子濃度が高い層群をA層ユニット、粒子濃度が低い層群をB層ユニットとしたとき、該A層ユニット及びB層ユニットの少なくとも1つの層ユニットは、乾燥膜厚が異なる少なくとも2層で構成され、該A層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該A層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、樹脂基材から前記表層に向かって増加し、該B層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該B層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、樹脂基材から前記表層に向かって減少し、該A層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣAhと該B層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であることが好ましい。   In the laminate with a functional layer of the present invention, the stress relaxation layer has a structure in which two layers having different particle concentrations are alternately laminated. A layer group having a high particle concentration is represented by an A layer unit, and the particle concentration is When the lower layer group is a B layer unit, at least one layer unit of the A layer unit and the B layer unit is composed of at least two layers having different dry film thicknesses, and the A layer unit is a layer having different dry film thicknesses. When the dry layer thickness of each layer constituting the A layer unit increases from the resin base toward the surface layer, and the B layer unit is composed of layers having different dry thicknesses The dry film thickness of each layer constituting the B layer unit decreases from the resin base toward the surface layer, and the total dry film thickness ΣAh of the A layer unit and the dry film thickness of the B layer unit The total sum ΣBh is preferably equal.

すなわち、図2のb)にその一例を示すように、相対的に粒子濃度が高い層群であるA層ユニットにおいては、表層4に向かって、3A−イ、3A−ロの順に乾燥膜厚が厚くなる構成をとり、逆に相対的に粒子濃度が低い層群であるB層ユニットにおいては、表層4に向かって、3B−イ、3B−ロの順に乾燥膜厚が薄くなる構成をとる。加えて、A層ユニットを構成する3A−イ及び3A−ロの乾燥膜厚の総和ΣAhと、B層ユニットを構成する3B−イ及び3B−ロの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であることが好ましい態様である。本発明でいうA層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣAhと、B層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であるとは、両者の乾燥膜厚の総和の差が10%以内であることを言い、好ましくは5%以内である。   That is, as shown in FIG. 2 b), for example, in the A layer unit, which is a layer group having a relatively high particle concentration, the dry film thicknesses in the order of 3A-I, 3A-B toward the surface layer 4. In contrast, in the B layer unit, which is a group of layers having a relatively low particle concentration, the dry film thickness decreases in the order of 3B-I and 3B-B toward the surface layer 4. . In addition, the sum ΣAh of the dry film thicknesses of 3A-A and 3A-B constituting the A layer unit and the sum ΣBh of the dry film thicknesses of 3B-I and 3B-B constituting the B layer unit should be equal. Is a preferred embodiment. The sum ΣAh of the dry film thickness of the A layer unit in the present invention is equivalent to the sum ΣBh of the dry film thickness of the B layer unit. That is, the difference in the sum of the dry film thicknesses of both is within 10%. Said, preferably within 5%.

図2のb)に示す層構成においては、A層ユニットの粒子濃度としては、30〜70体積%であることが好ましく、また、B層ユニットの粒子濃度としては0〜40体積%であることが好ましい。また、A層ユニット、B層ユニットそれぞれの乾燥膜厚の総和としては、1.0〜20μmであることが好ましい。   In the layer configuration shown in FIG. 2 b), the particle concentration of the A layer unit is preferably 30 to 70% by volume, and the particle concentration of the B layer unit is 0 to 40% by volume. Is preferred. Moreover, it is preferable that it is 1.0-20 micrometers as the sum total of the dry film thickness of each of A layer unit and B layer unit.

次いで、本発明の機能性層付積層体の各構成要素の詳細について説明する。   Subsequently, the detail of each component of the laminated body with a functional layer of this invention is demonstrated.

《表層》
本発明に係る表層は、少なくともシラザンと有機ポリマーとから構成されていることを特徴とする。
<Surface>
The surface layer according to the present invention is composed of at least silazane and an organic polymer.

はじめに、本発明に適用可能なシラザンについて説明する。   First, silazane applicable to the present invention will be described.

本発明に適用可能なシラザンとしては、特に制限はないが、ポリシラザンであることが好ましく、更には、下記一般式(I)で表される単位からなる主骨格を有する数平均分子量が100〜5万のポリシラザンであることが好ましい。   The silazane applicable to the present invention is not particularly limited, but is preferably polysilazane, and further has a number average molecular weight of 100 to 5 having a main skeleton composed of units represented by the following general formula (I). The polysilazane is preferred.

一般式(I)
−(Si(R)(R)−N(R))
上記一般式(I)において、R、R、Rはそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、アルコキシ基を表す。ただし、R、R、Rのうち少なくとも1つは水素原子である。nは、分子量が100〜5万となる整数である。
Formula (I)
-(Si (R 1 ) (R 2 ) -N (R 3 )) n-
In the general formula (I), R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a group directly connected to silicon other than these groups is carbon. It represents a certain group, an alkylsilyl group, an alkylamino group, or an alkoxy group. However, at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is a hydrogen atom. n is an integer having a molecular weight of 100 to 50,000.

本発明においては、ポリシラザンとしては、分子内に少なくともSi−H結合あるいはN−H結合を有するポリシラザンであることが好ましく、特に、上記一般式(I)において、R、R、Rの全て、あるいはほとんどが水素原子である無機ポリシラザン(ペルヒドロポリシラザン)、例えば、特公昭63−16325号、特開平1−138108号、同1−138107号、同4−63833号等参照、あるいはそれに近いポリシラザン、例えば、特開平3−31326号記載のランダム共重合シラザン、特開昭62−195024号記載のポリシロキサザン、特開平2−77427号記載のポリメタロシラザンなどが好適であるが、ポリシラザン単独のほか、ポリシラザンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザンと他の化合物との混合物でも、ポリシラザン、特に無機ポリシラザンの特徴を失なわない限り利用できる。 In the present invention, the polysilazane is preferably a polysilazane having at least a Si—H bond or an N—H bond in the molecule. In particular, in the general formula (I), R 1 , R 2 , R 3 Inorganic polysilazane (perhydropolysilazane) in which all or most are hydrogen atoms, for example, see JP-B-63-16325, JP-A-1-138108, JP-A-1-138107, JP-A-4-63833, or the like Polysilazane, for example, random copolymer silazane described in JP-A-3-31326, polysiloxazan described in JP-A-62-195024, polymetallosilazane described in JP-A-2-77427, and the like, are preferred. In addition to polysilazane and other polymers, and polysilazane and other polymers It is a mixture of mono-, polysilazane, particularly the characteristics of the inorganic polysilazane available unless lost.

本発明に係る表層に適用可能なポリシラザンとしては、鎖状、環状、あるいは架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数の構造を同時に有するものがあり、これら単独でもあるいは混合物でも利用できる。用いるポリシラザンの代表例としては下記のようなものがあるが、これらに限定されるものではない。   Polysilazanes applicable to the surface layer according to the present invention include those having a chain, cyclic or cross-linked structure, or those having a plurality of these structures in the molecule, and these can be used alone or in a mixture. Typical examples of polysilazane used include the following, but are not limited thereto.

上記一般式(I)において、R、R及びRに水素原子を有するものは、ペルヒドロポリシラザンであり、その製造法は、例えば、特公昭63−16325号公報、D.SeyferthらCommunication of Am.Cer.Soc.,C−13,January 1983.に報告されている。 In the general formula (I), R 1 , R 2 and R 3 having a hydrogen atom is perhydropolysilazane, and the production method thereof is described in, for example, Japanese Patent Publication No. 63-16325, D.C. Seyferth et al. Communication of Am. Cer. Soc. , C-13, January 1983. Has been reported.

上記一般式(I)において、R及びRに水素原子、Rにメチル基を有するポリシラザンの製造方法は、D.SeyferthらPolym.Prepr.,Am.Chem.Soc.,Div.Polym.Chem.,25,10(1984)に報告されている。この方法により得られるポリシラザンは、繰り返し単位が−(SiHNCH)−の鎖状ポリマーと環状ポリマーであり、いずれも架橋構造をもたない。 In the above general formula (I), a method for producing a polysilazane having a hydrogen atom in R 1 and R 2 and a methyl group in R 3 is described in D.C. See Seyferth et al., Polym. Prepr. , Am. Chem. Soc. , Div. Polym. Chem. 25, 10 (1984). The polysilazane obtained by this method is a chain polymer having a repeating unit of — (SiH 2 NCH 3 ) — and a cyclic polymer, and neither has a crosslinked structure.

上記一般式(I)において、R及びRに水素原子、Rに有機基を有するポリオルガノ(ヒドロ)シラザンの製造方法は、D.SeyferthらPolym.Prepr.,Am.Chem.Soc.,Div.Polym.Chem.,25,10(1984)、特開昭61−89230号公報に報告されている。これらの方法により得られるポリシラザンには、−(RSiHNH)−を繰り返し単位として、主として重合度が3〜5の環状構造を有するものや(RSiHNH)X〔(RSiH)1.5N〕1−X(0.4<x<1)の化学式で示せる分子内に鎖状構造と環状構造を同時に有するものがある。 In the above general formula (I), a method for producing a polyorgano (hydro) silazane having a hydrogen atom in R 1 and R 3 and an organic group in R 2 is described in D.C. See Seyferth et al., Polym. Prepr. , Am. Chem. Soc. , Div. Polym. Chem. 25, 10 (1984) and JP-A-61-89230. The polysilazanes obtained by these methods include those having a cyclic structure with a polymerization degree of 3 to 5 mainly having — (R 2 SiHNH) — as the repeating unit, and (R 3 SiHNH) X [(R 2 SiH) 1. 5 N] 1-X (0.4 <x <1) Some molecules have a chain structure and a cyclic structure in the molecule.

一般式(I)において、Rに水素原子、R及びRに有機基を有するポリシラザン、またR及びRに有機基、Rに水素原子を有するものは−(RSiNR)−を繰り返し単位として、主に重合度が3〜5の環状構造を有している。用いるポリシラザンは、上記の如く一般式(I)で表わされる単位からなる主骨格を有するが、一般式(I)で表わされる単位は、上記にも明らかな如く環状化することがあり、その場合にはその環状部分が末端基となり、このような環状化がされない場合には、主骨格の末端はR、R、Rと同様の基又は水素であることができる。 In the general formula (I), a hydrogen atom in R 1, polysilazane having an organic group in R 2 and R 3, also organic radicals R 1 and R 2, those having a hydrogen atom in R 3 - (R 1 R 2 It has a cyclic structure mainly having a degree of polymerization of 3 to 5, using SiNR 3 )-as a repeating unit. The polysilazane used has a main skeleton composed of the units represented by the general formula (I) as described above, but the units represented by the general formula (I) may be cyclized as is apparent from the above. In the case where the cyclic portion is a terminal group, and when such a cyclization is not performed, the terminal of the main skeleton can be the same group as R 1 , R 2 , R 3 or hydrogen.

ポリオルガノ(ヒドロ)シラザンの中には、D.SeyferthらCommunication of Am.Cer.Soc.,C−132,July1984.が報告されている様な分子内に架橋構造を有するものもある。   Some polyorgano (hydro) silazanes include D.I. Seyferth et al. Communication of Am. Cer. Soc. , C-132, July 1984. Some have a cross-linked structure in the molecule as reported.

本発明に適用可能なポリシラザンとしては、その他に、特開昭62−195024号に報告されているような繰り返し単位が〔(SiH(NH)〕及び〔(SiHO〕(これらの式中、n、m、rはそれぞれ1,2または3である)で表わされるポリシロキサザン、特開平2−84437号に報告されているようなポリシラザンにボロン化合物を反応させて製造する耐熱性に優れたポリボロシラザン、特開昭63−81122号、同63−191832号、特開平2−77427号に報告されているようなポリシラザンとメタルアルコキシドとを反応させて製造するポリメタロシラザン、特開平1−138108号、同1−138107号、同1−203429号、同1−203430号、同4−63833号、同3−320167号に報告されているような分子量を増加させ(上記公報の前4者)、耐加水分解性を向上させた(後2者)、無機シラザン高重合体や改質ポリシラザン、特開平2−175726号、同5−86200号、同5−331293号、同3−31326号に報告されているようなポリシラザンに有機成分を導入した厚膜化に有利な共重合シラザン、特開平5−238827号、特開平4−272020号、同5−93275号、同5−214268号、同5−30750号、同5−338524号に報告されているようなポリシラザンにセラミック化を促進するための触媒的化合物を付加または添加したプラスチックスやアルミニウムなどの金属への施工が可能で、より低温でセラミックス化する低温硬化タイプポリシラザンなども同様に使用できる。 Other polysilazanes applicable to the present invention include repeating units [(SiH 2 ) n (NH) m ] and [(SiH 2 ) r O] as reported in JP-A-62-195024. (In these formulas, n, m and r are 1, 2 or 3, respectively) produced by reacting a boron compound with a polysiloxazan represented by polysilazane as reported in JP-A-2-84437. Polyborosilazane having excellent heat resistance, polymetallo produced by reacting polysilazane and metal alkoxide as reported in JP-A-63-81122, JP-A-63-191832 and JP-A-2-77427 Silazane, JP-A-1-138108, 1-138107, 1-203429, 1-203430, 4-63833, 3- The molecular weight as reported in 320167 was increased (the former four of the above publication), and the hydrolysis resistance was improved (the latter two), inorganic silazane high polymers and modified polysilazanes, No. 175726, No. 5-86200, No. 5-331293, No. 3-31326, a copolymer silazane advantageous for thickening by introducing an organic component into polysilazane, and JP-A-5-238827 Catalytic compounds for promoting ceramicization of polysilazane as reported in JP-A-4-272020, JP-A-5-93275, JP-A-5-214268, JP-A-5-30750 and JP-A-5-338524 It can be applied to metals such as plastics and aluminum with or without adding low temperature hardening polysilazane, etc. It can be used as.

ポリシラザンをアクリル系樹脂粒子と混合するとき、ポリシラザンは通常溶剤に溶解しておく。溶剤としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化メタン、ハロゲン化エタン、ハロゲン化ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等のエーテル類が使用できる。好ましい溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム、塩化エチレン、塩化エチリデン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ブチルエーテル、1,2−ジオキシエタン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、セロソルブアセテート、カルビトールアセテート等のエーテル類、ペンタンヘキサン、イソヘキサン、メチルペンタン、ヘプタン、イソヘプタン、オクタン、イソオクタン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の炭化水素等である。   When polysilazane is mixed with acrylic resin particles, polysilazane is usually dissolved in a solvent. Solvents include aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbon hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbons such as halogenated methane, halogenated ethane, and halogenated benzene, aliphatic ethers, and alicyclic ethers. Etc. can be used. Preferred solvents are halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, bromoform, ethylene chloride, ethylidene chloride, trichloroethane, tetrachloroethane, ethyl ether, isopropyl ether, ethyl butyl ether, butyl ether, 1,2-dioxyethane, dioxane. , Ethers such as dimethyldioxane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, cellosolve acetate, carbitol acetate, pentanehexane, isohexane, methylpentane, heptane, isoheptane, octane, isooctane, cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, And hydrocarbons such as toluene, xylene, and ethylbenzene.

本発明に係る表層においては、シラザンと共に有機ポリマーを含有することを特徴とするが、本発明に適用可能な有機ポリマーとしては、(メタ)アクリル系、(メタ)アクリル−スチレン系、スチレン系、スチレン−ブタジエン系有機ポリマーなどのポリマーが挙げることができるが、その中でも、特に、アクリル系ポリマーが好ましい。   The surface layer according to the present invention is characterized by containing an organic polymer together with silazane. Examples of the organic polymer applicable to the present invention include (meth) acrylic, (meth) acrylic-styrene, styrene, Polymers such as styrene-butadiene organic polymers can be mentioned, and among them, acrylic polymers are particularly preferable.

本発明に適用可能なアクリル系ポリマーとしては、各種のポリマーが使用できるが、例えばアクリル酸エステル(アルコール残基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、2−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェニルエチル基等を例示できる);メタクリル酸エステル(アルコール残基は上記と同じ);2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モノマー;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N,N−ジメチロールアクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−メトキシメチルメタクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド等の如きアミド基含有モノマー;N,N−ジエチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート等の如きアミノ基含有モノマー;グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等の如きエポキシ基含有モノマー;スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸、及びそれらの塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等)等の如きスルホン酸基又はその塩を含有するモノマー;クロトン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール酸、及びそれらの塩(例えばナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等)等の如きカルボキシル基又はその塩を含有するモノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の無水物を含有するモノマー;その他ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリスアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量体の組合せからつくられたものであるが、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体の如き(メタ)アクリル単量体の成分が50モル%以上含まれているものが好ましく、特にメタクリル酸メチルの成分を含有しているものが好ましい。また、フッ素を含むアクリル系ポリマー、例えば、ポリメタクリル酸パーフルオロ−t−ブチル、ポリパーフルオロイソプロピルメタクリレート、ポリメタクリル酸ヘキサフルオロ−2−プロピル、ポリメタクリル酸トリフルオロエチル、(メタ)アクリル酸のフッ素化エステル重合体などは摺動性、撥水性に優れる利点がある。本発明は、ポリシラザンとアクリル系ポリマーとが相溶すること、しかも適当なアクリル系ポリマーを選べばポリシラザンを変質することなく安定なコーティング溶液が得られること、またそれによって両者の透明性がそのまま生かされ、両者の短所を相補ったコーティングを得ることが可能となる。アクリル系ポリマーを溶解できる溶剤としては、酢酸エチル、酢酸n−ブチルなどのエステル類、セロソルブ、セロソルブアセテートなどのグリコールエーテル類、トルエン、キシレンなどの炎化水素類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類など挙げることができる。   As the acrylic polymer applicable to the present invention, various polymers can be used. For example, acrylic acid ester (as alcohol residue, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, Isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclohexyl group, phenyl group, benzyl group, phenylethyl group and the like); methacrylate ester (alcohol residue is the same as above); 2-hydroxyethyl acrylate, Hydroxy-containing monomers such as 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate; acrylamide, methacrylamide, N-methyl methacrylamide, N-methyl acrylamide, N-methylol acrylamide, N- Amide group-containing monomers such as tyrolmethacrylamide, N, N-dimethylolacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-methoxymethylmethacrylamide, N-phenylacrylamide, etc .; N, N-diethylaminoethyl acrylate, N, N-diethylamino Amino group-containing monomers such as ethyl methacrylate; Epoxy group-containing monomers such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and allyl glycidyl ether; styrene sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, and salts thereof (for example, sodium salt, potassium salt, ammonium salt, etc.) Monomers containing a sulfonic acid group or a salt thereof such as crotonic acid, itaconic acid, acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, and salts thereof (for example, sodium salt, potash) Monomers containing a carboxyl group such as a salt or ammonium salt) or a salt thereof; monomers containing an anhydride such as maleic anhydride or itaconic anhydride; other vinyl isocyanate, allyl isocyanate, styrene, vinyl methyl ether, vinyl ethyl Made from a combination of ethers, vinyltrisalkoxysilanes, alkylmaleic acid monoesters, alkyl fumaric acid monoesters, acrylonitrile, methacrylonitrile, alkylitaconic acid monoesters, vinylidene chloride, vinyl acetate, vinyl chloride, etc. However, those containing 50 mol% or more of a (meth) acrylic monomer component such as an acrylic acid derivative or a methacrylic acid derivative are preferred, and those containing a methyl methacrylate component are particularly preferred. . In addition, an acrylic polymer containing fluorine, such as poly (perfluoro-t-butyl methacrylate), poly (perfluoroisopropyl methacrylate), poly (hexafluoro-2-propyl methacrylate), poly (trifluoroethyl methacrylate), (meth) acrylic acid, Fluorinated ester polymers have the advantage of excellent sliding properties and water repellency. In the present invention, a polysilazane and an acrylic polymer are compatible with each other, and if an appropriate acrylic polymer is selected, a stable coating solution can be obtained without degrading the polysilazane. Thus, it is possible to obtain a coating that complements the disadvantages of both. Solvents that can dissolve acrylic polymers include esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate, glycol ethers such as cellosolve and cellosolve acetate, hydrogenated flames such as toluene and xylene, and ketones such as acetone and methyl ethyl ketone. Can be mentioned.

ポリシラザンとアクリル系ポリマーを含む表層形成用塗布液を調製する場合、一般的にはポリシラザンの溶液とアクリル系ポリマーの溶液とを混合すればよい。ポリシラザンとアクリル系ポリマーの配合量は、コーティングの用途に応じて広く選択でき、例えば、可撓性を重視する場合には、全固形分〔ポリシラザンとアクリル系ポリマーの合計量〕を100質量%として、ポリシラザンを3〜30質量%の範囲内とし、また硬度や耐熱性を重視する場合には30〜97質量%の範囲内がよいが、本発明に係る表層においては、特に、シラザン濃度が、50質量%以上、95質量%以下であることが好ましい。   When preparing a coating solution for forming a surface layer containing polysilazane and an acrylic polymer, generally a solution of polysilazane and an acrylic polymer solution may be mixed. The blending amount of the polysilazane and the acrylic polymer can be widely selected according to the application of the coating. For example, when flexibility is important, the total solid content [total amount of the polysilazane and the acrylic polymer] is 100% by mass. The polysilazane is in the range of 3 to 30% by mass, and in the case of emphasizing hardness and heat resistance, it is preferably in the range of 30 to 97% by mass. In the surface layer according to the present invention, in particular, the silazane concentration is It is preferable that they are 50 mass% or more and 95 mass% or less.

本発明に係る表層形成用塗布液の調製において、ポリシラザンとアクリル系樹脂を溶解する溶剤としては、ポリシラザンとアクリル系樹脂の両方を安定的に溶解するものが好ましく、例えば、キシレン、トルエン、ブチルカルビトールアセテート、酢酸n−ブチルなどが好ましい。溶剤を使用する場合、前記アクリル系樹脂添加ポリシラザンの溶解度や溶剤の蒸発速度を調節するために、2種類以上の溶剤を混合してもよい。   In the preparation of the coating solution for forming the surface layer according to the present invention, the solvent that dissolves polysilazane and acrylic resin is preferably a solvent that stably dissolves both polysilazane and acrylic resin. For example, xylene, toluene, butylcarbyl Tall acetate, n-butyl acetate and the like are preferable. When a solvent is used, two or more kinds of solvents may be mixed in order to adjust the solubility of the acrylic resin-added polysilazane and the evaporation rate of the solvent.

本発明においては、必要に応じて適当な充填剤を加えてもよい。充填剤の例としてはシリカ、アルミナ、ジルコニア、マイカを始めとする酸化物系無機物あるいは炭化珪素、窒化珪素等の非酸化物系無機物の微粉等が挙げられる。また用途によってはアルミニウム、亜鉛、銅等の金属粉末の添加も可能である。さらに充填剤の例を詳しく述べれば、ケイ砂、石英、ノバキュライト、ケイ藻土などのシリカ系:合成無定形シリカ:カオリナイト、雲母、滑石、ウオラストナイト、アスベスト、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ酸塩:ガラス粉末、ガラス球、中空ガラス球、ガラスフレーク、泡ガラス球等のガラス体:窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタン等の非酸化物系無機物:炭酸カルシウム:酸化亜鉛、アルミナ、マグネシア、酸化チタン、酸化ベリリウム等の金属酸化物:硫酸バリウム、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、弗化炭素その他無機物:アルミニウム、ブロンズ、鉛、ステンレススチール、亜鉛等の金属粉末:カーボンブラック、コークス、黒鉛、熱分解炭素、中空カーボン球等のカーボン体等があげられる。   In the present invention, an appropriate filler may be added as necessary. Examples of the filler include fine oxides of oxide inorganic substances such as silica, alumina, zirconia and mica, or non-oxide inorganic substances such as silicon carbide and silicon nitride. Depending on the application, metal powders such as aluminum, zinc and copper can be added. In more detail, examples of fillers include silica sand, quartz, novaculite, diatomaceous earth, etc .: synthetic amorphous silica: kaolinite, mica, talc, wollastonite, asbestos, calcium silicate, aluminum silicate Silicates such as: glass powder, glass spheres, hollow glass spheres, glass flakes, foam glass spheres and other glass bodies: boron nitride, boron carbide, aluminum nitride, aluminum carbide, silicon nitride, silicon carbide, titanium boride, nitriding Non-oxide inorganic materials such as titanium and titanium carbide: Calcium carbonate: Metal oxides such as zinc oxide, alumina, magnesia, titanium oxide, and beryllium oxide: Barium sulfate, molybdenum disulfide, tungsten disulfide, carbon fluoride and other inorganic materials: Metal powder such as aluminum, bronze, lead, stainless steel, zinc: carbon Black, coke, graphite, pyrolytic carbon, carbon and the like of the hollow carbon spheres and the like.

本発明に係る表層形成用塗布液組成物においては、必要に応じて各種顔料、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、pH調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促進剤、流れ止め剤を加えてもよい。   In the coating liquid composition for forming a surface layer according to the present invention, various pigments, leveling agents, antifoaming agents, antistatic agents, ultraviolet absorbers, pH adjusting agents, dispersing agents, surface modifiers, plasticizers are necessary. Drying accelerators and flow inhibitors may be added.

本発明に係る表層は、表層形成用塗布液を、例えば、スピンコート法、はけ塗り、スプレー法(吹き付け)、ディップコート法、ブレードコート法、ロールコート法、インクジェット印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷、バーコート法、ダイコート法などが挙げられる。中でも、自動車用途の場合には、エアスプレー、エアレススプレーなどのスプレー法、回転霧化塗装機、静電塗装機などを用いた方法;プラスチックフィルムに塗布する場合には、グラビア印刷、フレキソ印刷などの印刷、ディップコート法、ブレードコート法、ロールコート法、バーコート法などの方法が好ましい。なお、上記コーティング剤の塗布の際には、密着性などの観点から、被コート物に下塗り層を設けてもよい。また、本発明のコーティング剤が溶剤を用いる場合には、上記塗布後に前記の条件で乾燥を行うことが好ましい。   The surface layer according to the present invention is a surface layer forming coating solution, for example, spin coating, brush coating, spraying (spraying), dip coating, blade coating, roll coating, ink jet printing, gravure printing, screen printing. , Flexographic printing, bar coating method, die coating method and the like. Above all, in the case of automotive applications, spraying methods such as air spray and airless spray, methods using rotary atomizing coating machines, electrostatic coating machines, etc .; when applying to plastic films, gravure printing, flexographic printing, etc. The printing method, dip coating method, blade coating method, roll coating method, bar coating method and the like are preferable. In applying the coating agent, an undercoat layer may be provided on the article to be coated from the viewpoint of adhesion or the like. Moreover, when the coating agent of this invention uses a solvent, it is preferable to dry on the said conditions after the said application | coating.

表層の厚みは、用途によって異なり、特に限定されないが、例えば、3〜100μmが好ましく、より好ましくは5〜40μmである。中でも、自動車用途の場合には10〜100μmが好ましく、プラスチックフィルム用トップコートの場合には3〜50μmが好ましい。上記好ましい範囲よりも表層が薄い場合には耐擦傷性が低下する場合があり、厚いとコスト面で不利となり、また意匠性が低下する場合や、表層自体が剥離しやすくなる場合がある。   Although the thickness of a surface layer changes with uses and is not specifically limited, For example, 3-100 micrometers is preferable, More preferably, it is 5-40 micrometers. Among these, 10 to 100 μm is preferable for automobile applications, and 3 to 50 μm is preferable for top coats for plastic films. When the surface layer is thinner than the above preferred range, the scratch resistance may be reduced, and when it is thick, the cost may be disadvantageous, and the design property may be reduced, or the surface layer itself may be easily peeled off.

《応力緩和層》
(構成材料)
本発明に係る応力緩和層、あるいはA層ユニット、B層ユニットを構成する各層は、主に、活性光線硬化樹脂と、必要に応じて粒子、好ましくは無機粒子を含む構成で形成される。
《Stress relaxation layer》
(Constituent materials)
Each layer constituting the stress relaxation layer or the A layer unit and the B layer unit according to the present invention is mainly formed with a configuration containing an actinic ray curable resin and, if necessary, particles, preferably inorganic particles.

〈活性光線硬化樹脂〉
本発明に適用可能な活性光線硬化樹脂としては、活性エネルギー線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることが出来る。
<Actinic ray curable resin>
Typical examples of the actinic ray curable resin applicable to the present invention include an active energy ray curable resin and an electron beam curable resin, but even a resin that is cured by irradiation with actinic rays other than ultraviolet rays and electron beams. Good. Examples of the ultraviolet curable resin include an ultraviolet curable acrylic urethane resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, and an ultraviolet curable epoxy resin. I can do it.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートと記載した場合、メタクリレートを包含するものとする)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−151110号等を参照)。   In general, UV-curable acrylic urethane-based resins are obtained by further reacting 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylate, methacrylate) with a product obtained by reacting a polyester polyol with an isocyanate monomer or a prepolymer. Can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate (for example, see JP-A-59-151110).

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭59−151112号を参照)。   The UV curable polyester acrylate resin can be easily obtained by reacting polyester polyol with 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxy acrylate monomer (see, for example, JP-A-59-151112). .

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させたものを挙げることが出来る(例えば、特開平1−105738号)。この光反応開始剤としては、ベンゾイン誘導体、オキシムケトン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体等のうちから、1種もしくは2種以上を選択して使用することが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include those obtained by reacting epoxy acrylate with an oligomer, a reactive diluent and a photoinitiator added thereto (for example, JP-A-1- No. 105738). As the photoreaction initiator, one or more kinds selected from benzoin derivatives, oxime ketone derivatives, benzophenone derivatives, thioxanthone derivatives and the like can be selected and used.

また、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of ultraviolet curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate. Etc. can be mentioned.

これらの樹脂は通常公知の光増感剤と共に使用される。また上記光反応開始剤も光増感剤としても使用出来る。具体的には、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。塗布乾燥後に揮発する溶媒成分を除いた紫外線硬化性樹脂組成物に含まれる光反応開始剤また光増感剤は該組成物の通常1〜10質量%添加することが出来、2.5〜6質量%であることが好ましい。   These resins are usually used together with known photosensitizers. Moreover, the said photoinitiator can also be used as a photosensitizer. Specific examples include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and the like. Further, when using an epoxy acrylate photoreactant, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer contained in the ultraviolet curable resin composition excluding the solvent component that volatilizes after coating and drying can be added in an amount of usually 1 to 10% by mass of the composition, and 2.5 to 6 It is preferable that it is mass%.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、酢酸ビニル、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, vinyl acetate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. In addition, monomers having two or more unsaturated double bonds include ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyldimethyl adiacrylate, and the above trimethylolpropane. Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

例えば、紫外線硬化樹脂としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(以上、旭電化工業株式会社製)、あるいはコーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化学工業株式会社製)、あるいはセイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上、大日精化工業株式会社製)、あるいはKRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(以上、ダイセル・ユーシービー株式会社)、あるいはRC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(以上、大日本インキ化学工業株式会社製)、あるいはオーレックスNo.340クリヤ(中国塗料株式会社製)、あるいはサンラッドH−601(三洋化成工業株式会社製)、あるいはSP−1509、SP−1507(昭和高分子株式会社製)、あるいはRCC−15C(グレース・ジャパン株式会社製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(以上、東亞合成株式会社製)あるいはこの他の市販のものから適宜選択して利用出来る。   For example, as an ultraviolet curable resin, Adekaoptomer KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (above, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) Or Koei hard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS-101, FT -102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Industry Co., Ltd.), or Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP- 10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (above Manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.), or KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UCB Corporation), or RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC -5100, RC-5102, RC-5120, RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) or Aulex No. 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.), or Sun Rad H-601 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.), SP-1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.), or RCC-15C (Grace Japan Co., Ltd.) (Manufactured by company), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) or other commercially available ones.

〈無機粒子〉
本発明に係る応力緩和層においては、粒子を含有することが好ましく、更には無機粒子を含有することが好ましく、本発明に係る応力緩和層の構成層に適用できる無機粒子としては、例えば、Si、Ti、Mg、Ca、Zr、Sn、Sb、As、Zn、Nb、In、Alから選択される金属の酸化物微粒子が好ましく、具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。特に、本発明においては、無機粒子として、酸化珪素を用いることが好ましい。
<Inorganic particles>
In the stress relaxation layer according to the present invention, it is preferable to contain particles, more preferably to contain inorganic particles. Examples of inorganic particles applicable to the constituent layers of the stress relaxation layer according to the present invention include Si, Metal oxide fine particles selected from Ti, Mg, Ca, Zr, Sn, Sb, As, Zn, Nb, In, and Al are preferable. Specifically, silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide , Indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate be able to. In particular, in the present invention, it is preferable to use silicon oxide as the inorganic particles.

本発明に好ましく適用することができる酸化珪素としては、例えば、好ましく用いられる酸化珪素粒子は、富士シリシア化学(株)製のサイリシア、日本シリカ(株)製のNipsil E、日本アエロジル(株)製のアエロジルシリーズ、日産化学工業(株)製のコロイダルシリカ、オルガノシリカゾル等を適用することができる。   As silicon oxide that can be preferably applied to the present invention, for example, preferably used silicon oxide particles are: Silicia manufactured by Fuji Silysia Chemical Co., Ltd., Nippon Sil E manufactured by Nippon Silica Co., Ltd., manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. Aerosil series, colloidal silica manufactured by Nissan Chemical Industries, organosilica sol, etc. can be applied.

本発明に係る応力緩和層に適用できる無機粒子の平均粒子径としては、5nm以上、1.0μm以下であることが好ましく、更に好ましくは5nm以上、500nm以下である。無機粒子の平均粒子径は、無機粒子を電子顕微鏡で観察し、100個の任意の一次粒子の粒径を求め、その単純平均値(個数平均)として求められる。ここで個々の粒子径はその投影面積に等しい円を仮定した時の直径で表したものである。   The average particle diameter of the inorganic particles applicable to the stress relaxation layer according to the present invention is preferably 5 nm or more and 1.0 μm or less, and more preferably 5 nm or more and 500 nm or less. The average particle diameter of the inorganic particles is obtained as a simple average value (number average) by observing the inorganic particles with an electron microscope, determining the particle diameter of 100 arbitrary primary particles. Here, each particle diameter is expressed by a diameter assuming a circle equal to the projected area.

本発明に係る応力緩和層において、応力緩和層における無機粒子の含有量は、本発明で規定する条件を満たす範囲であれば特に制限はない。   In the stress relaxation layer according to the present invention, the content of the inorganic particles in the stress relaxation layer is not particularly limited as long as it satisfies the conditions defined in the present invention.

本発明に係る応力緩和層には、上記説明した各構成材料の他に、本発明の目的効果を損なわない範囲で各種添加剤を用いることができる。応力緩和層塗布液を調製する際には有機溶媒を用いることができ、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%含有することができる。   In addition to the constituent materials described above, various additives can be used in the stress relaxation layer according to the present invention as long as the object effects of the present invention are not impaired. When preparing the stress relaxation layer coating solution, an organic solvent can be used. For example, hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, and other organic solvents can be appropriately selected or used by mixing them. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It can be contained by mass%.

応力緩和層塗布液を調製する際には、シリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。   When preparing the stress relaxation layer coating liquid, it is preferable to add a silicon compound. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added.

応力緩和層の耐熱性を高めるために、光硬化反応を抑制しないような酸化防止剤を選んで用いることができる。例えば、ヒンダードフェノール誘導体、チオプロピオン酸誘導体、ホスファイト誘導体等を挙げることができる。具体的には、例えば、4,4′−チオビス(6−tert−3−メチルフェノール)、4,4′−ブチリデンビス(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)、1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)メシチレン、ジ−オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ブチルベンジルホスフェート等を挙げることができる。   In order to increase the heat resistance of the stress relaxation layer, an antioxidant that does not inhibit the photocuring reaction can be selected and used. Examples include hindered phenol derivatives, thiopropionic acid derivatives, phosphite derivatives, and the like. Specifically, for example, 4,4′-thiobis (6-tert-3-methylphenol), 4,4′-butylidenebis (6-tert-butyl-3-methylphenol), 1,3,5-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) isocyanurate, 2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) mesitylene, di-octadecyl-4- Examples thereof include hydroxy-3,5-di-tert-butylbenzyl phosphate.

更に応力緩和層には、シリコン系界面活性剤或いはポリオキシエーテル化合物を含有させることが好ましい。シリコン系界面活性剤としてはポリエーテル変性シリコンが好ましく、具体的には、BYK−UV3500,BYK−UV3510、BYK−333、BYK−331、BYK−337(ビックケミ−ジャパン社製)、TSF4440、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコン製)、KF−351、KF−351A、KF−352、KF−353、KF−354、KF−355、KF−615、KF−618、KF−945、KF−6004(ポリエーテル変性シリコーンオイル;信越化学工業社製)等が挙げられるがこれらに限定されない。   Further, the stress relaxation layer preferably contains a silicon surfactant or a polyoxyether compound. Polyether-modified silicon is preferable as the silicon-based surfactant, and specifically, BYK-UV3500, BYK-UV3510, BYK-333, BYK-331, BYK-337 (manufactured by BYK-Chemical Japan), TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicon), KF-351, KF-351A, KF-352, KF-353, KF-354, KF-355, KF-615, KF-618, KF-945, KF- 6004 (polyether-modified silicone oil; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like are exemplified, but not limited thereto.

また、応力緩和層にはフッ素−シロキサングラフトポリマーを含有することができる。フッ素−シロキサングラフトポリマーとは、少なくともフッ素系樹脂に、シロキサン及び/またはオルガノシロキサン単体を含むポリシロキサン及び/またはオルガノポリシロキサンをグラフト化させて得られる共重合体のポリマーをいう。   The stress relaxation layer may contain a fluorine-siloxane graft polymer. The fluorine-siloxane graft polymer refers to a copolymer polymer obtained by grafting polysiloxane containing siloxane and / or organosiloxane alone and / or organopolysiloxane to at least a fluorine-based resin.

〈応力緩和層の形成方法〉
本発明においては、樹脂基材上等に、本発明に係る応力緩和層に形成する方法としては、薄膜を形成する公知の方法を適用することができるが、特に、湿式塗布法により形成することが好ましい。
<Method for forming stress relaxation layer>
In the present invention, as a method for forming the stress relaxation layer according to the present invention on a resin substrate or the like, a known method for forming a thin film can be applied, and in particular, a wet coating method is used. Is preferred.

湿式塗布法とは、例えば、活性光線硬化樹脂を溶媒、例えば、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エステル類、グリコールエーテル類、その他の溶媒に溶解した後、無機粒子を添加して無機粒子を含有する層塗布液、あるいは活性光線硬化樹脂を溶媒に溶解した無機粒子を含有しない層塗布液を調製し、この塗布液を用いて、ウェット状態の薄膜を樹脂基材上等に形成する方法である。   The wet coating method is, for example, an actinic ray curable resin dissolved in a solvent, for example, hydrocarbons, alcohols, ketones, esters, glycol ethers, and other solvents, and then inorganic particles are added to the inorganic particles. For preparing a layer coating solution containing no or an inorganic particle obtained by dissolving an actinic radiation curable resin in a solvent, and forming a wet thin film on a resin substrate using the coating solution It is.

この様な湿式塗布法に用いられる塗布方式としては、例えば、スピンコート塗布、ディップ塗布、エクストルージョン塗布、ロールコート塗布スプレー塗布、グラビア塗布、ワイヤーバー塗布、エアナイフ塗布、スライドポッパー塗布、カーテン塗布等の公知の溶液を用いた塗布方法(塗布装置)を適用することができる。   Examples of coating methods used in such wet coating methods include spin coating, dip coating, extrusion coating, roll coating coating spray coating, gravure coating, wire bar coating, air knife coating, slide popper coating, and curtain coating. A coating method (coating apparatus) using a known solution can be applied.

上記の塗布方式により樹脂基材上に形成した応力緩和層(応力緩和層)は、膜を硬化する目的で、活性光線が照射される。活性光線硬化樹脂を光硬化反応により硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば何れでも使用することができ、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を挙げることができる。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、照射光量は20〜10000mJ/cm程度あればよく、好ましくは、50〜2000mJ/cmである。近紫外線領域〜可視光線領域にかけてはその領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用出来る。 The stress relieving layer (stress relieving layer) formed on the resin substrate by the above application method is irradiated with actinic rays for the purpose of curing the film. As a light source for forming a cured film layer by a photo-curing reaction of an actinic ray curable resin, any light source that generates ultraviolet rays can be used. For example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, A high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, etc. can be mentioned. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, but the amount of light irradiated may be any degree 20~10000mJ / cm 2, preferably from 50~2000mJ / cm 2. It can be used by using a sensitizer having an absorption maximum in the near ultraviolet region to the visible light region.

紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥された後、紫外線を光源より照射するが、照射時間は0.5秒〜5分がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率とから3秒〜2分がより好ましい。   The UV curable resin composition is applied and dried, and then irradiated with UV light from a light source. The irradiation time is preferably 0.5 seconds to 5 minutes, and 3 seconds to 2 from the curing efficiency and work efficiency of the UV curable resin. Minutes are more preferred.

本発明に係るA層ユニットを構成する層とB層ユニットを構成する層とを交互に積層した構成とする場合には、樹脂基材上に湿式塗布法により、第1の層を塗設し、次いで活性光線を照射した後、第1の層上に、第2の層を塗設した後、活性光線を照射する。   When the layer constituting the A layer unit and the layer constituting the B layer unit according to the present invention are alternately laminated, the first layer is coated on the resin substrate by a wet coating method. Then, after irradiating actinic rays, a second layer is applied on the first layer, and then actinic rays are irradiated.

また、単一の層中で硬度あるいは粒子濃度が連続的に変化する応力緩和層を形成する場合には、例えば、ウェット オン ウェットで多層同時重層塗布が可能なコーター、例えば、スライドホッパー型コーターあるいはカーテンコーターを用いて、粒子濃度の異なる複数の応力緩和層塗布液を用い、例えば、最下層が最も粒子濃度の低い応力緩和層塗布液を用い、順次上層になるに従って粒子濃度が上昇する塗布液構成として、樹脂基材上に同時重層塗布をし、一定の時間を経過させて、各界面間での層間で、多少の層間混合させた後、紫外線を光源より照射して硬化させることにより得ることができる。   When forming a stress relaxation layer in which hardness or particle concentration changes continuously in a single layer, for example, a coater capable of simultaneous multi-layer coating with wet on wet, such as a slide hopper type coater or Using a curtain coater, a plurality of stress relaxation layer coating liquids having different particle concentrations are used. For example, the lowermost layer uses a stress relaxation layer coating liquid having the lowest particle concentration, and the coating liquid increases in particle concentration as it becomes an upper layer sequentially. As a constitution, it is obtained by applying simultaneous multilayer coating on a resin substrate, allowing a certain amount of time to pass, mixing some layers between the interfaces, and then curing by irradiating with ultraviolet light from a light source. be able to.

多層同時塗布法に適用可能な塗布装置としては、複数の塗布液を供給できる供給口あるいは供給スリットを備え、所望の乾燥膜厚となるように各供給口あるいは供給スリットへの塗布液の供給量を制御する手段を備えた装置であり、例えば、エクストルージョン塗布、スライドホッパー塗布、カーテン塗布等の塗布装置を適用することができる。   As a coating apparatus applicable to the multilayer simultaneous coating method, a supply port or a supply slit capable of supplying a plurality of coating liquids is provided, and the supply amount of the coating liquid to each supply port or the supply slit so as to obtain a desired dry film thickness For example, a coating device such as extrusion coating, slide hopper coating, curtain coating, or the like can be applied.

《樹脂基材》
本発明の機能性層付積層体を構成する樹脂基材としては、特に制限はないが、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体等のポリオレフィン(PO)樹脂、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン樹脂(APO)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン2,6−ナフタレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、ナイロン6、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド系(PA)樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド(PI)樹脂、ポリエーテルイミド(PEI)樹脂、ポリサルホン(PS)樹脂、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂、ポリカーボネート(PC)樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリビニルブチラート(PVB)樹脂、ポリアリレート(PAR)樹脂、エチレン−四フッ化エチレン共重合体(ETFE)、三フッ化塩化エチレン(PFA)、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(FEP)、フッ化ビニリデン(PVDF)、フッ化ビニル(PVF)、パーフルオロエチレン−パーフロロプロピレン−パーフロロビニルエーテル−共重合体(EPA)等のフッ素系樹脂等を用いることができる。
<Resin substrate>
The resin base material constituting the laminate with a functional layer of the present invention is not particularly limited, but is a polyolefin (PO) resin such as a homopolymer or copolymer such as ethylene, propylene, or butene, or a cyclic polyolefin. Polyester resins such as amorphous polyolefin resin (APO), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene 2,6-naphthalate (PEN), polyamide (PA) resin such as nylon 6, nylon 12, copolymer nylon, polyvinyl alcohol (PVA) resin, polyvinyl alcohol resin such as ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyimide (PI) resin, polyetherimide (PEI) resin, polysulfone (PS) resin, polyethersulfone (PES) resin , Polyetheretherketone (PEEK) resin Polycarbonate (PC) resin, acrylic resin, polystyrene resin, vinyl chloride resin, polyvinyl butyrate (PVB) resin, polyarylate (PAR) resin, ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), ethylene trifluoride chloride ( PFA), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (FEP), vinylidene fluoride (PVDF), vinyl fluoride (PVF), perfluoroethylene-perfluoropropylene-perfluorovinyl ether copolymer (EPA) ) And the like can be used.

また、上記に挙げた樹脂以外にも、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物によりなる樹脂組成物や、上記アクリルレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶解せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂およびこれらの混合物等を用いることも可能である。   In addition to the resins listed above, a resin composition comprising an acrylate compound having a radical-reactive unsaturated compound, a resin composition comprising an acrylate compound and a mercapto compound having a thiol group, epoxy acrylate, urethane acrylate It is also possible to use a photocurable resin such as a resin composition in which an oligomer such as polyester acrylate or polyether acrylate is dissolved in a polyfunctional acrylate monomer, and a mixture thereof.

上記例示した樹脂基材は、市販品として入手することができ、例えば、ゼオネックスやゼオノア(日本ゼオン(株)製)、非晶質シクロポリオレフィン樹脂フィルムのARTON(ジェイエスアール(株)製)、ポリカーボネートフィルムのピュアエース(帝人(株)製)、セルローストリアセテートフィルムのコニカタックKC4UX、KC8UX(コニカミノルタオプト(株)製)などを挙げることができる。   The resin bases exemplified above can be obtained as commercial products, such as ZEONEX and ZEONOR (manufactured by ZEON Corporation), amorphous cyclopolyolefin resin film ARTON (manufactured by GS Corporation), polycarbonate, and the like. Examples include a pure ace film (manufactured by Teijin Ltd.) and a cellulose triacetate film Konica Katak KC4UX, KC8UX (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.).

さらに、これらの樹脂の1または2種以上をラミネート、コーティング等の手段によって積層させたものを樹脂フィルム基材として用いることも可能である。   Furthermore, it is also possible to use what laminated | stacked 1 or 2 or more types of these resin by means, such as a lamination and a coating, as a resin film base material.

また、本発明に係る樹脂基材は、シート状であってもフィルム状であっても、あるいはその他の形態であってもよく、特にその形態には制限はない。また、樹脂基材の膜厚は、使用する樹脂の種類や、目的用途等の各種条件に応じて広い範囲から適宜選択できるが、通常10μm〜10mm、好ましくは100μm〜5mmの範囲である。   The resin substrate according to the present invention may be in the form of a sheet, a film, or other forms, and the form is not particularly limited. The film thickness of the resin base material can be appropriately selected from a wide range according to various conditions such as the type of resin to be used and the intended use, but is usually in the range of 10 μm to 10 mm, preferably 100 μm to 5 mm.

《成形体の作製》
本発明の成形体は、樹脂基材が樹脂フィルムである本発明の機能性層付積層体を、表層が金型側になるようにして、該金型の片面または両面に装填させた後、合成樹脂からなる成形材料を金型内の該機能性層付積層体上に射出注入し、該機能性層付積層体と成形材料とを積層一体化して形成したことを特徴とする。
<Production of molded body>
The molded body of the present invention is a laminate with a functional layer of the present invention in which the resin base material is a resin film. After the surface layer is on the mold side, the laminate is loaded on one or both surfaces of the mold. A molding material made of a synthetic resin is injected and injected onto the laminate with a functional layer in a mold, and the laminate with a functional layer and the molding material are laminated and integrated.

図3は、本発明の機能性層付積層体を用いた成形体の形成方法の一例を示す模式図であり、具体的な方法としては、図3に示すように、樹脂基材2上に、応力緩和層3と表層4を積層した機能性層付積層体1を、表層4が表面になるように樹脂基体B上に接着させて、成形体7を形成する方法である。   FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a method for forming a molded body using the laminate with a functional layer of the present invention. As a specific method, as shown in FIG. This is a method of forming the molded body 7 by adhering the laminate 1 with a functional layer in which the stress relaxation layer 3 and the surface layer 4 are laminated on the resin substrate B so that the surface layer 4 becomes the surface.

次いで、本発明の成形体の形成方法のより具体的な方法を、図を交えて説明する。   Next, a more specific method of forming the molded body of the present invention will be described with reference to the drawings.

図4は、レンズ型成形体L1の作製工程を示すフロー図である。   FIG. 4 is a flowchart showing a manufacturing process of the lens mold body L1.

図4のa)に示すように、機能性層付積層体1を、表層が上になるようにしてクランプ201で固定する。次に、図4のb)で示すように、機能性層付積層体1の上下に配置したヒーター203を用いて、機能性層付積層体1をドローダウン(加熱時の自重による機能性層付積層体の「たれ」)させる。次に、図4のc)に示すように機能性層付積層体1の下方から機能性層付積層体1とレンズ型202を接触させる。次いで、図4のd)で示すように、レンズ型202の下部をX方向に減圧することにより、機能性層付積層体1とレンズ型202とを密着させる。次に、図4のe)に示すように、機能性層付積層体1を冷却固化してから、レンズ型202を離型し、クランプ201を外して、図4のf)に示すように、成形されていない余分な部分をトリミングして、凸面側に表層を備えた各レンズ型成形体L1(レンズ型の機能性層付積層体1)を得た。   As shown to a) of FIG. 4, the laminated body 1 with a functional layer is fixed with the clamp 201 so that a surface layer may become upper. Next, as shown in FIG. 4 b, the laminate with functional layer 1 is drawn down (the functional layer due to its own weight during heating) using the heaters 203 disposed above and below the laminate with functional layer 1. “Sag” of the laminate. Next, as shown in FIG. 4 c), the functional layer-equipped laminate 1 and the lens mold 202 are brought into contact from below the functional layer-equipped laminate 1. Next, as shown in FIG. 4 d), the lower layer of the lens mold 202 is depressurized in the X direction to bring the functional layered laminate 1 and the lens mold 202 into close contact with each other. Next, as shown in e) of FIG. 4, after cooling and solidifying the laminate 1 with a functional layer, the lens mold 202 is released, the clamp 201 is removed, and as shown in f) of FIG. Then, extra portions that were not molded were trimmed to obtain lens-shaped molded bodies L1 (lens-type laminate with functional layer 1) having a surface layer on the convex surface side.

図5は、レンズ型成形体の形成方法の一例を示す模式図である。   FIG. 5 is a schematic diagram showing an example of a method for forming a lens mold molded body.

図5において、第1射出成形型10内に、図4に示す方法で作製したレンズ型成形体L1(レンズ型の機能性層付積層体1)を表層4が第1射出成形型10と対向する様に配置した後、第2射出成形型9を重ね合わせ、射出口11よりキャビティ内にポリカーボネート樹脂12を、樹脂温度300℃、金型温度90℃、射出圧力10MPaで射出することにより、ポリカーボネート樹脂12表面に機能性層付積層体1を備えた凸レンズ様のレンズ型成形体Lを得る方法である。   In FIG. 5, a lens mold molded body L <b> 1 (laminated body 1 with a lens mold functional layer) produced by the method shown in FIG. 4 is placed in the first injection mold 10 and the surface layer 4 faces the first injection mold 10. After placing the second injection mold 9, the polycarbonate resin 12 is injected into the cavity from the injection port 11 at a resin temperature of 300 ° C., a mold temperature of 90 ° C., and an injection pressure of 10 MPa. This is a method for obtaining a convex lens-like lens mold molded body L provided with the functional layer laminated body 1 on the surface of the resin 12.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, "part by mass" or "mass%" is represented.

実施例1
《表層用塗布液の調製》
(表層用塗布液1の調製)
ポリシラザン:NAX120−20(AZエレクトロニックマテリアルズ社製)
3.48g
アクリル系樹脂:BR101−20DB(AZエレクトロニックマテリアルズ社製)
1.52g
ジブチルエーテル(AZエレクトロニックマテリアルズ社製) 5.00g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌し、ポリシラザンを固形分比率で70質量%含有する表層用塗布液1を得た。
Example 1
<< Preparation of coating solution for surface layer >>
(Preparation of surface layer coating solution 1)
Polysilazane: NAX120-20 (manufactured by AZ Electronic Materials)
3.48g
Acrylic resin: BR101-20DB (manufactured by AZ Electronic Materials)
1.52g
Dibutyl ether (manufactured by AZ Electronic Materials) 5.00g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes to obtain a surface layer coating solution 1 containing 70% by mass of polysilazane in a solid content ratio.

後述の方法により測定した表層用塗布液1により形成した乾燥膜厚1.0μmにおける表層1の表面硬度は、2.1GPaであった。   The surface hardness of the surface layer 1 at a dry film thickness of 1.0 μm formed by the surface layer coating solution 1 measured by the method described later was 2.1 GPa.

(表層用塗布液2の調製)
ポリシラザン:NAX120−20(AZエレクトロニックマテリアルズ社製)
4.00g
アクリル系樹脂:BR101−20DB(AZエレクトロニックマテリアルズ社製)
1.00g
ジブチルエーテル(AZエレクトロニックマテリアルズ社製) 5.00g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌し、ポリシラザンを固形分比率で80質量%含有する表層用塗布液2を得た。
(Preparation of surface layer coating solution 2)
Polysilazane: NAX120-20 (manufactured by AZ Electronic Materials)
4.00 g
Acrylic resin: BR101-20DB (manufactured by AZ Electronic Materials)
1.00g
Dibutyl ether (manufactured by AZ Electronic Materials) 5.00g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes to obtain a surface layer coating solution 2 containing 80% by mass of polysilazane in a solid content ratio.

後述の方法により測定した表層用塗布液2により形成した乾燥膜厚1.0μmにおける表層2の表面硬度は、2.4GPaであった。   The surface hardness of the surface layer 2 at a dry film thickness of 1.0 μm formed by the surface layer coating solution 2 measured by the method described later was 2.4 GPa.

(表層用塗布液3の調製)
ポリシラザン:NAX120−20(AZエレクトロニックマテリアルズ社製)
5.00g
ジブチルエーテル(AZエレクトロニックマテリアルズ社製) 5.00g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌し、ポリシラザンを固形分比率で100質量%含有する表層用塗布液3を得た。
(Preparation of surface layer coating solution 3)
Polysilazane: NAX120-20 (manufactured by AZ Electronic Materials)
5.00g
Dibutyl ether (manufactured by AZ Electronic Materials) 5.00g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes to obtain a surface layer coating solution 3 containing 100% by mass of polysilazane in a solid content ratio.

後述の方法により測定した表層用塗布液3により形成した乾燥膜厚1.0μmにおける表層3の表面硬度は、3.0GPaであった。   The surface hardness of the surface layer 3 at a dry film thickness of 1.0 μm formed by the surface layer coating solution 3 measured by the method described later was 3.0 GPa.

(表層用塗布液4の調製)
ポリシラザン:NAX120−20(AZエレクトロニックマテリアルズ社製)
1.25g
アクリル系樹脂:BR101−20DB(AZエレクトロニックマテリアルズ社製)
3.75g
ジブチルエーテル(AZエレクトロニックマテリアルズ社製) 5.00g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌し、ポリシラザンを固形分比率で25質量%含有する表層用塗布液4を得た。
(Preparation of surface layer coating solution 4)
Polysilazane: NAX120-20 (manufactured by AZ Electronic Materials)
1.25g
Acrylic resin: BR101-20DB (manufactured by AZ Electronic Materials)
3.75g
Dibutyl ether (manufactured by AZ Electronic Materials) 5.00g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes to obtain a surface layer coating solution 4 containing 25% by mass of polysilazane in a solid content ratio.

後述の方法により測定した表層用塗布液4により形成した乾燥膜厚1.0μmにおける表層4の表面硬度は、0.8GPaであった。   The surface hardness of the surface layer 4 at a dry film thickness of 1.0 μm formed by the surface layer coating solution 4 measured by the method described later was 0.8 GPa.

《応力緩和層用塗布液の調製》
(応力緩和層用塗布液1の調製)
紫外線硬化性樹脂:ビームセット575CB、ウレタンアクリレート系樹脂、荒川化学工業株式会社製 10.97g
光反応開始剤:イルガキュア184、チバ・ジャパン社製 0.55g
メチルエチルケトン 24.03g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌した後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して、応力緩和層用塗布液1を調製した。
<< Preparation of coating solution for stress relaxation layer >>
(Preparation of coating solution 1 for stress relaxation layer)
UV curable resin: Beam set 575CB, urethane acrylate resin, Arakawa Chemical Industries, Ltd. 10.97g
Photoinitiator: Irgacure 184, Ciba Japan Co., Ltd. 0.55 g
Methyl ethyl ketone 24.03g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to prepare a stress relaxation layer coating solution 1.

(応力緩和層用塗布液2の調製)
紫外線硬化性樹脂:B−1405、アクリレート系樹脂、新中村科学工業株式会社製
13.25g
光反応開始剤:イルガキュア184、チバ・ジャパン社製 0.66g
メチルエチルケトン 21.75g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌した後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して、応力緩和層用塗布液2を調製した。
(Preparation of coating solution 2 for stress relaxation layer)
UV curable resin: B-1405, acrylate resin, manufactured by Shin-Nakamura Scientific Co., Ltd.
13.25g
Photoinitiator: Irgacure 184, Ciba Japan 0.66g
Methyl ethyl ketone 21.75g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to prepare a stress relaxation layer coating solution 2.

(応力緩和層用塗布液3の調製)
紫外線硬化性樹脂:ビームセット575CB、ウレタンアクリレート系樹脂、荒川化学工業株式会社製 5.02g
光反応開始剤:イルガキュア184、チバ・ジャパン社製 0.25g
無機粒子分散液:30質量%酸化珪素含有、メチルエチルケトン分散シリカゾル(日産化学(株)製、商品名IPA−ST−ZL)、酸化珪素粒子の平均一次粒径=100nm
30.45g
メチルエチルケトン 0.52g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌した後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して、応力緩和層用塗布液3を調製した。
(Preparation of coating solution 3 for stress relaxation layer)
UV curable resin: Beamset 575CB, urethane acrylate resin, 5.02 g made by Arakawa Chemical Industries, Ltd.
Photoinitiator: Irgacure 184, Ciba Japan 0.25g
Inorganic particle dispersion: containing 30% by mass of silicon oxide, methyl ethyl ketone-dispersed silica sol (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., trade name IPA-ST-ZL), average primary particle size of silicon oxide particles = 100 nm
30.45g
Methyl ethyl ketone 0.52g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to prepare a stress relaxation layer coating solution 3.

(応力緩和層用塗布液4の調製)
紫外線硬化性樹脂:ビームセット575CB、ウレタンアクリレート系樹脂、荒川化学工業株式会社製 21.2g
光反応開始剤:イルガキュア184、チバ・ジャパン社製 1.06g
無機粒子分散液:30質量%酸化珪素含有、メチルエチルケトン分散シリカゾル(日産化学(株)製、商品名IPA−ST−ZL)、酸化珪素粒子の平均一次粒径=100nm
14.28g
メチルエチルケトン 0.52g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌した後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して、応力緩和層用塗布液4を調製した。
(Preparation of coating solution 4 for stress relaxation layer)
UV curable resin: Beam set 575CB, urethane acrylate resin, 21.2 g made by Arakawa Chemical Industries, Ltd.
Photoinitiator: Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd. 1.06 g
Inorganic particle dispersion: containing 30% by mass of silicon oxide, methyl ethyl ketone-dispersed silica sol (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., trade name IPA-ST-ZL), average primary particle size of silicon oxide particles = 100 nm
14.28g
Methyl ethyl ketone 0.52g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to prepare a stress relaxation layer coating solution 4.

(応力緩和層用塗布液5の調製)
紫外線硬化性樹脂:ビームセット575CB、ウレタンアクリレート系樹脂、荒川化学工業株式会社製 5.02g
光反応開始剤:イルガキュア184、チバ・ジャパン社製 0.25g
無機粒子分散液:30質量%酸化珪素含有、メチルエチルケトン分散シリカゾル(日産化学(株)製、商品名MEK−ST)、酸化珪素粒子の平均一次粒径=10nm
30.45g
メチルエチルケトン 0.52g
上記各添加剤を順次混合して30分間撹拌した後、孔径1.0μmのポリプロピレン製フィルタで濾過して、応力緩和層用塗布液5を調製した。
(Preparation of coating solution 5 for stress relaxation layer)
UV curable resin: Beamset 575CB, urethane acrylate resin, 5.02 g made by Arakawa Chemical Industries, Ltd.
Photoinitiator: Irgacure 184, Ciba Japan 0.25g
Inorganic particle dispersion: containing 30% by mass of silicon oxide, methyl ethyl ketone-dispersed silica sol (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., trade name MEK-ST), average primary particle diameter of silicon oxide particles = 10 nm
30.45g
Methyl ethyl ketone 0.52g
The above additives were sequentially mixed and stirred for 30 minutes, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1.0 μm to prepare a stress relaxation layer coating solution 5.

以上により調製した各応力緩和層塗布液の詳細と各特性値を表1に示す。   Table 1 shows details and characteristic values of each stress relaxation layer coating solution prepared as described above.

Figure 2011011424
Figure 2011011424

なお、表1に記載の各特性値は、下記の方法に従って測定して求めた。   In addition, each characteristic value described in Table 1 was obtained by measurement according to the following method.

〔表層および応力緩和層の表面硬度の測定〕
表層塗布液または各応力緩和層塗布液を用いて表層または応力緩和層を形成した時の表面硬度を、以下の方法に従って測定した。
[Measurement of surface hardness of surface layer and stress relaxation layer]
The surface hardness when the surface layer or the stress relaxation layer was formed using the surface layer coating solution or each stress relaxation layer coating solution was measured according to the following method.

(表層の表面硬度の測定)
樹脂基材上に、各表層用塗布液を用いて、乾燥膜厚が1.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で30秒乾燥した後、120℃で30分硬化反応させた。
(Measurement of surface hardness of surface layer)
Using a coating solution for each surface layer on a resin base material, coating with a wire bar under the condition that the dry film thickness is 1.0 μm, drying at 90 ° C. for 30 seconds, and curing reaction at 120 ° C. for 30 minutes. It was.

次に、形成した表層について、ナノインデンテーションによる表面硬度の測定を行った。硬度(H)の測定は、Hysitron社製TriboscopeをDigital Instruments社製のNanoscopeIIIに装着して測定した。測定には、圧子としてベルコビッチ型圧子(先端稜角142.3°)と呼ばれる三角錘型ダイヤモンド製圧子を用いた。三角錘型ダイヤモンド製圧子を試料表面に直角に当て、徐々に荷重を印加し、最大荷重到達後に荷重を0にまで徐々に戻した。この時の最大荷重Pを圧子接触部の投影面積Aで除した値P/Aをナノインデンテーション硬度(H)として算出した。この時の最大荷重の条件は100μNで行った。   Next, the surface hardness of the formed surface layer was measured by nanoindentation. The hardness (H) was measured by attaching a Triscope from Hystron to a Nanoscope III from Digital Instruments. For the measurement, a triangular pyramid type diamond indenter called a Belkovic indenter (tip ridge angle 142.3 °) was used as an indenter. A triangular pyramid-shaped diamond indenter was applied to the sample surface at a right angle, a load was gradually applied, and the load was gradually returned to 0 after reaching the maximum load. A value P / A obtained by dividing the maximum load P at this time by the projected area A of the indenter contact portion was calculated as nanoindentation hardness (H). The maximum load condition at this time was 100 μN.

(応力緩和層の表面硬度の測定)
樹脂基材上に、各応力緩和層用塗布液を用いて、乾燥膜厚が10.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させ、応力緩和層を形成させた。次いで、上記上層の表面高度測定と同様にして、ナノインデンテーションによる測定を行った。
(Measurement of surface hardness of stress relaxation layer)
On the resin substrate, using each stress relaxation layer coating solution, with a wire bar under the condition that the dry film thickness is 10.0 μm, after drying at 90 ° C., using an ultraviolet lamp, The stress relaxation layer was formed by curing with an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 . Next, measurement by nanoindentation was performed in the same manner as the surface height measurement of the upper layer.

〔無機粒子充填率の測定〕
各応力緩和層用塗布液において、固形分(溶媒以外の成分)に対する無機粒子の割合(固形分比率、粒子充填率)を測定した。なお、活性エネルギー線硬化樹脂は、活性エネルギー線の照射による反応で硬化と同時に収縮するため、下記に示す充填率測定法(体積分析法)で求めた。
(Measurement of inorganic particle filling rate)
In each stress relaxation layer coating solution, the ratio of the inorganic particles to the solid content (components other than the solvent) (solid content ratio, particle filling rate) was measured. In addition, since active energy ray hardening resin shrinks simultaneously with hardening by reaction by irradiation of active energy ray, it calculated | required with the filling rate measuring method (volume analysis method) shown below.

〈充填率測定法(体積分析法)〉
乾燥後の応力緩和層中の無機粒子の充填率は、次の方法で測定した。各塗布液を樹脂基材上に湿式塗布法にて塗布して応力緩和層を形成した後、樹脂基材より応力緩和層を剥離して全体積を測定し、次いで、樹脂成分を溶解して無機粒子の体積を測定し、それらの測定値より、無機粒子の充填率(体積%)を求めた。
<Filling rate measurement method (volume analysis method)>
The filling rate of the inorganic particles in the stress relaxation layer after drying was measured by the following method. After applying each coating solution on the resin base material by wet coating method to form a stress relaxation layer, the stress relaxation layer is peeled off from the resin base material to measure the total volume, and then the resin component is dissolved. The volume of the inorganic particles was measured, and the filling rate (volume%) of the inorganic particles was determined from the measured values.

《機能性層付積層体の作製》
〔樹脂基材〕
樹脂基材としては、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(帝人・デュポン社製フィルム、以下、PETと略記する)を用いた。
<< Production of laminate with functional layer >>
[Resin substrate]
As the resin substrate, a polyethylene terephthalate film (Teijin-DuPont film, hereinafter abbreviated as PET) having a thickness of 100 μm was used.

〔試料1の作製〕
下記の方法に従って、機能性層付積層体である試料1を作製した。
[Preparation of Sample 1]
Sample 1 which is a laminate with a functional layer was produced according to the following method.

上記樹脂基材上に、表層用塗布液3を用いて、乾燥膜厚が1.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で30秒乾燥した後、120℃で30分硬化反応させ、表層を形成し、試料1を作製した。   On the above resin substrate, using the surface layer coating solution 3, coating with a wire bar under the condition that the dry film thickness is 1.0 μm, drying at 90 ° C. for 30 seconds, and curing reaction at 120 ° C. for 30 minutes. Then, a surface layer was formed, and Sample 1 was produced.

〔試料2の作製〕
上記樹脂基材上に、応力緩和層用塗布液2を用いて、乾燥膜厚が4.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させ、応力緩和層の第1層目を形成した。次いで、その上に、応力緩和層用塗布液5を用いて、乾燥膜厚が4.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させ、応力緩和層の第2層目を形成した。次いで、その上に、応力緩和層用塗布液3を用いて、乾燥膜厚が4.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させ、応力緩和層の第3層目を形成し、3層から構成される応力緩和層を得た。
[Preparation of Sample 2]
On the resin base material, using the stress relaxation layer coating solution 2, coating with a wire bar under the condition that the dry film thickness is 4.0 μm, drying at 90 ° C., and then using an ultraviolet lamp to irradiate the irradiated part Was cured with an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 to form a first layer of a stress relaxation layer. Next, using the stress relaxation layer coating solution 5, on the condition that the dry film thickness is 4.0 μm, coating with a wire bar and drying at 90 ° C., using an ultraviolet lamp, The second layer of the stress relaxation layer was formed by curing with an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 . Next, using the stress relaxation layer coating solution 3 thereon, coating with a wire bar under the condition that the dry film thickness is 4.0 μm, drying at 90 ° C., and using an ultraviolet lamp, The irradiance was 100 mW / cm 2 , the irradiation amount was 80 mJ / cm 2 , and the third layer of the stress relaxation layer was formed to obtain a stress relaxation layer composed of three layers.

次に、表層用塗布液4を用いて、試料1と同様に塗布、乾燥、硬化反応を行い、試料2を作製した。   Next, using the surface layer coating solution 4, the coating, drying, and curing reactions were performed in the same manner as Sample 1 to prepare Sample 2.

〔試料3〜6、8、10の作製〕
上記試料2の作製において、応力緩和層の形成条件として、積層する層数と各乾燥膜厚(μm)、表層塗布液の種類を表2に記載の条件に変更した以外は同様にして、試料3〜6、8、10を作製した。
[Preparation of Samples 3-6, 8, 10]
In the preparation of Sample 2, the stress relaxation layer was formed in the same manner except that the number of layers to be laminated, each dry film thickness (μm), and the type of surface coating liquid were changed to the conditions described in Table 2. 3-6, 8, and 10 were produced.

〔試料7、9の作製〕
上記試料6、8の作製において、応力緩和層の各塗布液を、同時重層塗布可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用いて、樹脂基材上に同時重層塗布し、10秒間その状態を維持し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させた以外は同様にして、試料7、9を作製した。
[Preparation of Samples 7 and 9]
In the preparation of Samples 6 and 8 described above, each coating solution for the stress relaxation layer was applied simultaneously on the resin substrate using a slide hopper type coating apparatus capable of simultaneous application, and the state was maintained for 10 seconds. After drying at 90 ° C., Samples 7 and 9 were prepared in the same manner except that an ultraviolet lamp was used and the irradiation part was cured with an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 .

Figure 2011011424
Figure 2011011424

〔試料11の作製〕
上記試料2の作製において、応力緩和層の形成を下記の方法に変更した以外は同様にして、試料11を作製した。
[Preparation of Sample 11]
Sample 11 was prepared in the same manner as in preparation of Sample 2 except that the formation of the stress relaxation layer was changed to the following method.

(応力緩和層の形成)
上記樹脂基材上に、応力緩和層用塗布液5を用いて、乾燥膜厚が4.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させ、応力緩和層の第1層(B層ユニット)を形成した。次いで、その上に、応力緩和層用塗布液3を用いて、乾燥膜厚が2.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させ、応力緩和層の第2層(A層ユニット)を形成した。次いで、その上に、応力緩和層用塗布液5を用いて、乾燥膜厚が2.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させ、応力緩和層の第3層(B層ユニット)を形成した。次いで、その上に、応力緩和層用塗布液3を用いて、乾燥膜厚が4.0μmとなる条件で、ワイヤーバーで塗布し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させ、応力緩和層の第4層(A層ユニット)を形成し、A層及びB層が交互に積層した応力緩和層を作製した。
(Formation of stress relaxation layer)
On the resin base material, using a stress relaxation layer coating solution 5, coated with a wire bar under the condition that the dry film thickness is 4.0 μm, dried at 90 ° C., and then irradiated with an ultraviolet lamp. Was cured with an irradiance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 to form the first layer (B layer unit) of the stress relaxation layer. Next, using the stress relaxation layer coating liquid 3 thereon, coating with a wire bar under the condition that the dry film thickness is 2.0 μm, drying at 90 ° C., and then using an ultraviolet lamp, The second layer (A layer unit) of the stress relaxation layer was formed by curing with an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 . Next, using the stress relaxation layer coating solution 5, the coating was applied with a wire bar under the condition that the dry film thickness was 2.0 μm, and dried at 90 ° C. Then, using an ultraviolet lamp, The third layer (B layer unit) of the stress relaxation layer was formed by curing with an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 80 mJ / cm 2 . Next, using the stress relaxation layer coating solution 3 thereon, coating with a wire bar under the condition that the dry film thickness is 4.0 μm, drying at 90 ° C., and using an ultraviolet lamp, Curing with an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation dose of 80 mJ / cm 2 to form a fourth layer (A layer unit) of the stress relaxation layer, and producing a stress relaxation layer in which the A layer and the B layer are alternately laminated did.

次いで、表層用塗布液4を用いて、試料1と同様に塗布、乾燥、硬化反応を行い、試料11を作製した。   Next, using the surface layer coating solution 4, coating, drying, and curing reactions were performed in the same manner as in Sample 1 to prepare Sample 11.

〔試料12〜15、17、19の作製〕
上記試料11の作製において、応力緩和層の形成条件として、積層する層数と各乾燥膜厚(μm)、表層用塗布液の種類を表3に記載の条件に変更した以外は同様にして、試料12〜15、17、19を作製した。
[Preparation of Samples 12-15, 17, 19]
In the preparation of Sample 11, the stress relaxation layer was formed in the same manner except that the number of layers to be laminated, each dry film thickness (μm), and the type of surface layer coating solution were changed to the conditions described in Table 3. Samples 12 to 15, 17, and 19 were prepared.

〔試料16、18の作製〕
上記試料14、17の作製において、応力緩和層の第1層〜第4層の各塗布液を、同時重層塗布可能なスライドホッパー方式の塗布装置を用いて、樹脂基材上に同時重層塗布し、10秒間その状態を維持し、90℃で乾燥した後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cmで、照射量を80mJ/cmとして硬化させた以外は同様にして、試料16、18を作製した。
[Production of Samples 16 and 18]
In the preparation of the samples 14 and 17, the coating liquids of the first to fourth layers of the stress relaxation layer were simultaneously applied on the resin substrate using a slide hopper type coating apparatus capable of simultaneous application. The sample was maintained for 10 seconds, dried at 90 ° C., and then cured using an ultraviolet lamp, the irradiation portion was illuminated with an illuminance of 100 mW / cm 2 and an irradiation dose of 80 mJ / cm 2. 16 and 18 were produced.

Figure 2011011424
Figure 2011011424

《機能性層付積層体の評価》
上記作製した機能性層付積層体(試料1〜19)について、下記の各評価を行った。
<< Evaluation of laminate with functional layer >>
The following evaluation was performed about the produced laminated body with a functional layer (samples 1-19).

(密着性の評価)
上記作製した各機能性層付積層体を、JIS K 5400に準拠した碁盤目試験により、密着性の評価を行った。
(Evaluation of adhesion)
Each of the prepared laminates with functional layers was evaluated for adhesion by a cross-cut test based on JIS K 5400.

各機能性層付積層体の各層を形成した面に、片刃のカミソリの刃で表面に対して90度の切り込みを1mm間隔で縦横に11本ずつ入れ、1mm角の碁盤目を100個作成した。この碁盤目上に市販のセロファンテープを貼り付け、その一端を手でもって垂直にはがし、切り込み線からの貼られたテープ面積に対して剥がされた面積の割合を測定し、下記の評価基準に従って密着性を評価した。また、剥離を起こした試料については、剥離した層の確認も同時に行った。   On the surface on which each layer of each layer with functional layers was formed, 11 cuts of 90 ° with respect to the surface were made with a single-edged razor blade in vertical and horizontal directions at 1 mm intervals to create 100 1 mm square grids. . Paste commercially available cellophane tape on this grid, peel one end vertically by hand, measure the ratio of the peeled area to the tape area pasted from the score line, and according to the following evaluation criteria Adhesion was evaluated. Moreover, about the sample which raise | generated peeling, confirmation of the peeled layer was also performed simultaneously.

〈評価ランク〉
5:全く剥離が認められない
4:剥がれた層の面積が1%以上、5%未満であった
3:剥がれた層の面積が5%以上、10%未満であった
2:剥がれた層の面積が、10%以上、20%未満であった
1:剥がれた層の面積が、20%以上である
〈剥離位置〉
a:樹脂基材とその上層との間で剥離を生じた
b:応力緩和層の途中の層間で剥離を生じた
c:応力緩和層の最表層と表層間で剥離を生じた
−:剥離を全く起こさなかった
(耐擦傷性の評価)
上記作製した各機能性層付積層体表面(表層形成面側)を、摩擦試験機HEIDON−14DRで、スチールウール(ボンスター #0000、2cm×2cm)を用い、荷重:9.8N、移動速度:15mm/分の条件で、20回の擦過処理を行った後、擦過範囲をルーペで観察し、下記の基準に従って、耐擦傷性の評価を行った。
<Evaluation rank>
5: No peeling was observed 4: The area of the peeled layer was 1% or more and less than 5% 3: The area of the peeled layer was 5% or more and less than 10% 2: of the peeled layer The area was 10% or more and less than 20% 1: The area of the peeled layer was 20% or more <Peeling position>
a: Peeling occurred between the resin base material and the upper layer b: Peeling occurred between the middle layers of the stress relaxation layer c: Peeling occurred between the outermost surface layer and the surface layer of the stress relaxation layer −: Peeling Neither occurred (evaluation of scratch resistance)
Using the steel wool (Bonster # 0000, 2 cm × 2 cm) with a friction tester HEIDON-14DR, the load (9.8 N, 2 cm × 2 cm) was applied to the surface of each of the prepared laminates with functional layers (surface layer forming surface side). After carrying out the rubbing treatment 20 times under the condition of 15 mm / min, the rubbing range was observed with a loupe, and the scratch resistance was evaluated according to the following criteria.

◎:全く擦り傷の発生が認められない
○:擦り傷の発生が1本以上、5本以下である
△:擦り傷の発生が6本以上、15本以下である
×:擦り傷の発生が16本以上、25本以下である
××:擦り傷の発生が26本以上である
以上により得られた結果を、表4に示す。
A: No generation of scratches is observed. O: Generation of scratches is 1 or more and 5 or less. Δ: Generation of scratches is 6 or more and 15 or less. X: Generation of scratches is 16 or more. It is 25 or less. XX: Generation of scratches is 26 or more. Table 4 shows the results obtained as described above.

Figure 2011011424
Figure 2011011424

表4に記載の結果より明らかな様に、本発明で規定する層構成からなる機能性層付積層体は、比較例に対し、密着性及び耐擦傷性に優れていることが分かる。   As is clear from the results shown in Table 4, it can be seen that the laminate with a functional layer having a layer structure defined in the present invention is superior in adhesion and scratch resistance to the comparative example.

実施例2
《成形体の作製》
(レンズ型成型体Lの作製)
前記図4のa)に示すように、上記作製した機能性層付積層体である試料1〜19(図4では表層付積層体1)を、表層が上になるようにしてクランプ201で固定する。次に、図4のb)で示すように、表層付積層体1の上下に配置したヒーター203を用いて、表層付積層体1をドローダウン(加熱時の自重による表層付積層体の「たれ」)させる。次に、図4のc)に示すように表層付積層体1の下方から表層付積層体1とレンズ型202を接触させる。次いで、図4のd)で示すように、レンズ型202の下部をX方向に減圧することにより、表層付積層体1とレンズ型202とを密着させる。次に、図4のe)に示すように、表層付積層体1を冷却固化してから、レンズ型202を離型し、クランプ201を外して、図4のf)に示すように、成形されていない余分な部分をトリミングして、凸面側に表層を備えた各レンズ型成型体L1(レンズ型の表層付積層体1)を得た。
Example 2
<Production of molded body>
(Preparation of lens mold molded body L)
As shown in FIG. 4 a), samples 1 to 19 (stacked body 1 with a surface layer in FIG. 4), which are the above-mentioned stacked layers with a functional layer, are fixed with a clamp 201 with the surface layer facing up. To do. Next, as shown in FIG. 4 b), using the heaters 203 arranged above and below the surface layered laminate 1, the surfaced layered body 1 is drawn down (“sag of the surface layered layered body due to its own weight during heating”). )). Next, as shown in FIG. 4 c), the laminate with surface layer 1 and the lens mold 202 are brought into contact with each other from below the laminate with surface layer 1. Next, as shown in FIG. 4 d), the lower layer of the lens mold 202 is depressurized in the X direction so that the laminate with surface layer 1 and the lens mold 202 are adhered to each other. Next, as shown in e) of FIG. 4, the laminated body 1 with the surface layer is cooled and solidified, the lens mold 202 is released, the clamp 201 is removed, and the molding is performed as shown in f) of FIG. Unnecessary extra portions were trimmed to obtain lens-shaped molded bodies L1 (lens-type laminate with surface layer 1) having a surface layer on the convex surface side.

次に、図5に示すように、第1射出成形型10内に、上記作製したレンズ型成型体L1を配置した後、第2射出成形型9を重ね合わせ、射出口11よりキャビティ内にポリカーボネート樹脂12を、樹脂温度300℃、金型温度90℃、射出圧力10MPaで射出することにより、図5に示すようなポリカーボネート樹脂12の表面の凸面側に機能性積層体を備えた各レンズ型成型体Lを得た。   Next, as shown in FIG. 5, after the lens mold molded body L <b> 1 prepared above is placed in the first injection mold 10, the second injection mold 9 is overlaid, and polycarbonate is injected into the cavity from the injection port 11. Each lens mold molding provided with a functional laminate on the convex side of the surface of the polycarbonate resin 12 as shown in FIG. 5 by injecting the resin 12 at a resin temperature of 300 ° C., a mold temperature of 90 ° C., and an injection pressure of 10 MPa. Body L was obtained.

《各成型体Lの評価》
(耐擦傷性の評価)
上記作製した各機能性層付積層体表面(表層形成面側)を、摩擦試験機HEIDON−14DRで、スチールウール(ボンスター #0000、2cm×2cm)を用い、荷重:9.8N、移動速度:15mm/分の条件で、20回の擦傷処理を行った後、擦傷範囲をルーペで観察し、下記の基準に従って、耐擦傷性の評価1を行った。
<< Evaluation of each molded body L >>
(Evaluation of scratch resistance)
Using the steel wool (Bonster # 0000, 2 cm × 2 cm) with a friction tester HEIDON-14DR, the load (9.8 N, 2 cm × 2 cm) was applied to the surface of each of the prepared laminates with functional layers (surface layer forming surface side). After scratching 20 times under the condition of 15 mm / min, the scratch range was observed with a loupe, and scratch resistance evaluation 1 was performed according to the following criteria.

◎:全く擦り傷の発生が認められない
○:擦り傷の発生が1本以上、5本以下である
△:擦り傷の発生が6本以上、15本以下である
×:擦り傷の発生が16本以上、25本以下である
××:擦り傷の発生が26本以上である
(基材追従性の評価)
得られた成形体Lの表層の状態をルーペ及び目視で観察し、下記の基準に従って、基材追従性を評価した。
A: No generation of scratches is observed. O: Generation of scratches is 1 or more and 5 or less. Δ: Generation of scratches is 6 or more and 15 or less. X: Generation of scratches is 16 or more. It is 25 or less. XX: The number of scratches is 26 or more (Evaluation of substrate followability)
The state of the surface layer of the obtained molded body L was observed with a magnifying glass and visually, and the substrate followability was evaluated according to the following criteria.

◎:型再現が良好で、クラックやしわの発生が全く認められない
○:型再現は良好であるが、極弱いクラックまたはしわの発生が僅かに認められる
△:クラック、しわのいずれか一方の故障発生が認められる
×:クラック、しわの双方の故障発生が認められる
以上により得られた結果を、表5に示す。
◎: Good mold reproduction, no cracks or wrinkles observed ○: Mold reproduction is good, but very weak cracks or wrinkles are observed △: Either crack or wrinkle Failure occurrence is recognized. X: Failure occurrence of both cracks and wrinkles is recognized. Table 5 shows the results obtained as described above.

Figure 2011011424
Figure 2011011424

表5に示した結果より明らかな様に、本発明で規定する構成で得られた成形用の機能性層付積層体試料は、比較試料に対し、耐擦傷性及び基材追従性で優れていることが分かる。   As is clear from the results shown in Table 5, the laminate sample with a functional layer for molding obtained in the configuration defined in the present invention is superior in the scratch resistance and the substrate followability to the comparative sample. I understand that.

1 機能性層付積層体
2 樹脂基材
3、3−1、3−2、3A−1、3A−2、3B−1、3B−2、3−イ、3−ロ、3A−イ、3A−ロ、3B−イ、3B−ロ 応力緩和層
4 表層
5 剥離層
9 第2射出成形型
10 第1射出成形型
11 射出口
12 ポリカーボネート樹脂
201 クランプ
202 レンズ型
203 ヒーター
B 樹脂基体
L1 レンズ型成形体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminated body with a functional layer 2 Resin base material 3, 3-1, 3-2, 3A-1, 3A-2, 3B-1, 3B-2, 3-i, 3-ro, 3A-i, 3A -B, 3B-I, 3B-B Stress relaxation layer 4 Surface layer 5 Release layer 9 Second injection mold 10 First injection mold 11 Injection port 12 Polycarbonate resin 201 Clamp 202 Lens mold 203 Heater B Resin base L1 Lens mold molding body

Claims (9)

樹脂基材の少なくとも一方の面に、応力緩和層と表層とをこの順で積層した機能性層付積層体において、該表層は少なくともシラザンと有機ポリマーとから構成され、該表層に接する該応力緩和層のナノインデンテーションによる硬度Hが、表層のナノインデンテーションによる硬度Hと同等または低いことを特徴とする機能性層付積層体。 In a laminate with a functional layer in which a stress relaxation layer and a surface layer are laminated in this order on at least one surface of a resin substrate, the surface layer is composed of at least a silazane and an organic polymer, and the stress relaxation layer in contact with the surface layer A layered product with a functional layer, wherein the hardness H by nanoindentation of the layer is equal to or lower than the hardness H by nanoindentation of the surface layer. 前記応力緩和層は2層以上の硬度Hの異なる層から構成され、前記表層に接する応力緩和層から樹脂基材に接する応力緩和層に向かって硬度Hが低くなることを特徴とする請求項1に記載の機能性層付積層体。 The stress relaxation layer is composed of two or more layers having different hardness H, and the hardness H decreases from the stress relaxation layer in contact with the surface layer toward the stress relaxation layer in contact with the resin substrate. A laminate with a functional layer described in 1. 前記応力緩和層は、表層に接する領域から樹脂基材に接する領域に向かって膜厚方向に連続的に硬度Hが低くなる構成であることを特徴とする請求項1に記載の機能性層付積層体。 2. The functional layer according to claim 1, wherein the stress relaxation layer has a configuration in which the hardness H continuously decreases in a film thickness direction from a region in contact with the surface layer to a region in contact with the resin base material. Laminated body. 前記応力緩和層は2層以上の粒子濃度の異なる層からなり、表層に接する応力緩和層から樹脂基材に接する応力緩和層に向かって粒子濃度が低くなることを特徴とする請求項1に記載の機能性層付積層体。 2. The stress relaxation layer is composed of two or more layers having different particle concentrations, and the particle concentration decreases from the stress relaxation layer in contact with the surface layer toward the stress relaxation layer in contact with the resin substrate. Laminated body with functional layer. 前記応力緩和層は、表層に接する領域から樹脂基材に接する領域に向かって膜厚方向に連続的に粒子濃度が低くなることを特徴とする請求項1に記載の機能性層付積層体。 The layered product with a functional layer according to claim 1, wherein the stress relaxation layer has a particle concentration that continuously decreases in a film thickness direction from a region in contact with the surface layer to a region in contact with the resin base material. 前記応力緩和層は硬度Hの異なる二つの層が交互に積層された構造であり、硬度Hが高い層群をA層ユニット、硬度Hが低い層群をB層ユニットとしたとき、該A層ユニット及びB層ユニットの少なくとも1つの層ユニットは、乾燥膜厚が異なる少なくとも2層で構成され、該A層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該A層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、前記表層に向かって増加し、該B層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該B層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、前記表層に向かって減少し、該A層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣAhと該B層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であることを特徴とする請求項1に記載の機能性層付積層体。 The stress relaxation layer has a structure in which two layers having different hardness H are alternately laminated. When the layer group having a high hardness H is an A layer unit and the layer group having a low hardness H is a B layer unit, the A layer At least one layer unit of the unit and the B layer unit is constituted by at least two layers having different dry film thicknesses, and when the A layer unit is constituted by layers having different dry film thicknesses, the A layer unit is constituted. When the dry film thickness of each layer increases toward the surface layer and the B layer unit is composed of layers having different dry film thicknesses, the dry film thickness of each layer constituting the B layer unit is 2. The laminated layer with a functional layer according to claim 1, wherein the total thickness ΣAh of the dry layer thickness of the A layer unit is equal to the total sum of the dry thickness ΣBh of the B layer unit. body. 前記応力緩和層は、粒子濃度の異なる二つの層が交互に積層された構造であり、粒子濃度が高い層群をA層ユニット、粒子濃度が低い層群をB層ユニットとしたとき、該A層ユニット及びB層ユニットの少なくとも1つの層ユニットは、乾燥膜厚が異なる少なくとも2層で構成され、該A層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該A層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、前記表層に向かって増加し、該B層ユニットが乾燥膜厚の異なる層で構成される場合には、該B層ユニットを構成する各層の乾燥膜厚が、前記表層に向かって減少し、該A層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣAhと該B層ユニットの乾燥膜厚の総和ΣBhが同等であることを特徴とする請求項1に記載の機能性層付積層体。 The stress relaxation layer has a structure in which two layers having different particle concentrations are alternately laminated. When the layer group having a high particle concentration is an A layer unit and the layer group having a low particle concentration is a B layer unit, the A At least one layer unit of the layer unit and the B layer unit is composed of at least two layers having different dry film thicknesses, and when the A layer unit is composed of layers having different dry film thicknesses, When the dry film thickness of each layer constituting increases toward the surface layer and the B layer unit is composed of layers having different dry film thicknesses, the dry film thickness of each layer constituting the B layer unit is The functional layer according to claim 1, wherein the total thickness ΣAh of the dry layer thickness of the A layer unit is equal to the total thickness ΣBh of the dry layer thickness of the B layer unit. Laminated body. 前記表層におけるシラザン濃度が、50質量%以上、95質量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の機能性層付積層体。 The layered product with a functional layer according to claim 1, wherein the silazane concentration in the surface layer is 50% by mass or more and 95% by mass or less. 樹脂基材が樹脂フィルムである請求項1から8のいずれか1項に記載の機能性層付積層体を、表層が金型側になるようにして、該金型の片面または両面に装填させた後、合成樹脂からなる成形材料を金型内の該機能性層付積層体上に射出注入し、該機能性層付積層体と成形材料とを積層一体化して形成したことを特徴とする成形体。 The resin base material is a resin film, and the laminate with a functional layer according to any one of claims 1 to 8 is loaded on one or both surfaces of the mold so that the surface layer is on the mold side. After that, a molding material made of synthetic resin is injected and injected onto the laminate with a functional layer in a mold, and the laminate with a functional layer and the molding material are laminated and integrated. Molded body.
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