JP2011011123A - 描画方法及び描画装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】角度方向の異なる複数の直線パターン群をそれぞれ描画する工程毎に、基材上の所定の場所に描画する位置ずれ検査用パターン1は、途中に区切れ部11を有するラインパターンからなる第1の検査用パターン10と、少なくとも一つのドット21を有する第2の検査用パターン20とを有し、最初の一群の直線パターンを描画する第1の工程では、第1の検査用パターン10と第2の検査用パターン20のうちの一方のみを描画し、第1の工程の後、角度方向の異なる他の一群の直線パターンを描画する第2の工程以降では、第1の工程で描画されなかった他方のみを、第2の検査用パターン20のドット21が第1の検査用パターン10の区切れ部11内に配置されるように組み合わせて描画する。
【選択図】 図1
Description
前記位置ずれ検査用パターンは、途中に区切れ部を有するラインパターンからなる第1の検査用パターンと、少なくとも一つのドットを有する第2の検査用パターンとを有し、
前記角度方向の異なる複数の直線パターン群のうちの最初の一群の直線パターンを描画する第1の工程では、前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンのうちの一方のみを描画し、
前記第1の工程の後、前記最初の一群の直線パターンとは角度方向の異なる他の一群の直線パターンを描画する第2の工程以降では、前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンのうちの前記第1の工程で描画されなかった他方のみを、前記第2の検査用パターンの前記ドットが前記第1の検査用パターンの前記区切れ部内に配置されるように組み合わせて描画することを特徴とする描画方法である。
前記角度方向の異なる複数の直線パターン群をそれぞれ描画する工程毎に、前記基材上の所定の場所に、各直線パターン群の各々の描画位置を指標する位置ずれ検査用パターンを描画する位置ずれ検査用パターン描画手段と、
前記基材上に描画された前記角度方向の異なる複数の直線パターン群間の位置ずれ量を検出するための位置ずれ量検出手段と、
前記位置ずれ量検出手段により検出された位置ずれ量を予め設定された基準量と比較することにより、前記角度方向の異なる複数の直線パターン群の描画の良否を判断する判断手段とを有してなり、
前記位置ずれ検査用パターンは、途中に区切れ部を有するラインパターンからなる第1の検査用パターンと、少なくとも一つのドットを有する第2の検査用パターンとを有し、
前記位置ずれ検査用パターン描画手段は、前記角度方向の異なる複数の直線パターン群のうちの最初の一群の直線パターンを描画する第1の工程で、前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンのうちの一方のみを形成し、前記第1の工程の後、前記最初の一群の直線パターンとは角度方向の異なる他の一群の直線パターンを描画する第2の工程以降では、前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンのうちの前記第1の工程で描画されなかった他方のみを描画し、且つ、前記第2の検査用パターンの前記ドットが前記第1の検査用パターンの前記区切れ部内に配置されるように組み合わせて描画するものであり、
前記位置ずれ量検出手段は、前記基材上に描画された前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンとの間の位置ずれ量を検出することによって、前記角度方向の異なる複数の直線パターン群間の位置ずれ量を検出することを特徴とする描画装置である。
10:第1の検査用パターン
10c:中心線
11:区切れ部
12:ライン
12a、12b:端部
20:第2の検査用パターン
21:ドット
22:ライン
23:区切れ部
100:描画装置
101:装置基台
102:ヘッドモジュール
103:ステージ
104:θ回転機構
105:Y移動機構
106:X移動機構
107:カメラ
108:ガントリ
109:スライダ
110:θ回転機構
111:Z移動機構
W:基材
Claims (6)
- 多数のノズルから液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に走査移動させながら、前記液滴吐出ヘッドの前記ノズルから前記基材上に液滴を吐出して走査方向に沿う一群の直線パターンの描画動作を、前記基材表面に対する前記液滴吐出ヘッドの相対的な走査方向を異ならせて繰り返すことにより、前記基材上に角度方向の異なる複数の直線パターン群の描画と、前記角度方向の異なる複数の直線パターン群をそれぞれ描画する工程毎に、前記基材上の所定の場所に、各直線パターン群の各々の描画位置を指標する位置ずれ検査用パターンの描画とを行う描画方法であって、
前記位置ずれ検査用パターンは、途中に区切れ部を有するラインパターンからなる第1の検査用パターンと、少なくとも一つのドットを有する第2の検査用パターンとを有し、
前記角度方向の異なる複数の直線パターン群のうちの最初の一群の直線パターンを描画する第1の工程では、前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンのうちの一方のみを描画し、
前記第1の工程の後、前記最初の一群の直線パターンとは角度方向の異なる他の一群の直線パターンを描画する第2の工程以降では、前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンのうちの前記第1の工程で描画されなかった他方のみを、前記第2の検査用パターンの前記ドットが前記第1の検査用パターンの前記区切れ部内に配置されるように組み合わせて描画することを特徴とする描画方法。 - 前記第2の検査用パターンは、所定の長さに亘って一定間隔をおいて点在する複数のドットのみで構成されていることを特徴とする請求項1記載の描画方法。
- 前記第2の検査用パターンは、前記第1の検査用パターンの前記区切れ部内に配置されるドット以外はライン状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の描画方法。
- 多数のノズルから液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと基材とを相対的に走査移動させながら、前記液滴吐出ヘッドの前記ノズルから前記基材上に液滴を吐出して走査方向に沿う一群の直線パターンの描画動作を、前記基材表面に対する前記液滴吐出ヘッドの相対的な走査方向を異ならせて繰り返すことにより、前記基材上に角度方向の異なる複数の直線パターン群を描画する描画装置において、
前記角度方向の異なる複数の直線パターン群をそれぞれ描画する工程毎に、前記基材上の所定の場所に、各直線パターン群の各々の描画位置を指標する位置ずれ検査用パターンを描画する位置ずれ検査用パターン描画手段と、
前記基材上に描画された前記角度方向の異なる複数の直線パターン群間の位置ずれ量を検出するための位置ずれ量検出手段と、
前記位置ずれ量検出手段により検出された位置ずれ量を予め設定された基準量と比較することにより、前記角度方向の異なる複数の直線パターン群の描画の良否を判断する判断手段とを有してなり、
前記位置ずれ検査用パターンは、途中に区切れ部を有するラインパターンからなる第1の検査用パターンと、少なくとも一つのドットを有する第2の検査用パターンとを有し、
前記位置ずれ検査用パターン描画手段は、前記角度方向の異なる複数の直線パターン群のうちの最初の一群の直線パターンを描画する第1の工程で、前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンのうちの一方のみを形成し、前記第1の工程の後、前記最初の一群の直線パターンとは角度方向の異なる他の一群の直線パターンを描画する第2の工程以降では、前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンのうちの前記第1の工程で描画されなかった他方のみを描画し、且つ、前記第2の検査用パターンの前記ドットが前記第1の検査用パターンの前記区切れ部内に配置されるように組み合わせて描画するものであり、
前記位置ずれ量検出手段は、前記基材上に描画された前記第1の検査用パターンと前記第2の検査用パターンとの間の位置ずれ量を検出することによって、前記角度方向の異なる複数の直線パターン群間の位置ずれ量を検出することを特徴とする描画装置。 - 前記第2の検査用パターンは、所定の長さに亘って一定間隔をおいて点在する複数のドットのみで構成されていることを特徴とする請求項4記載の描画装置。
- 前記第2の検査用パターンは、前記第1の検査用パターンの前記区切れ部内に配置されるドット以外はライン状に形成されていることを特徴とする請求項4記載の描画装置。
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---|---|---|---|---|
JP2003318508A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-07 | Seiko Epson Corp | アライメントマーク及び形成方法及び検出方法及び表示装置及び電子機器 |
JP2007130572A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Seiko Epson Corp | ワーク処理方法、ワーク処理システム、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 |
JP2008046628A (ja) * | 2007-08-02 | 2008-02-28 | Seiko Epson Corp | アライメントマスクおよびドット位置認識方法 |
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