JP2010541226A - 光学モジュールに作用する設定可能な力を有する光学デバイス - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
代替的に、例えば、クランプ接続のような摩擦接続は、作り出すのが特に簡単であり、特に、UV光の影響下であったとしても長期安定性に関していかなる問題も引き起こさないので、光学要素と支持構造体の間でこれらの接続が多くの場合に使用される(特に、照明系では)。この場合、一般的に、保持力は、変形された弾性部材などにおける弾性復元力によって生成される。
本発明の他の好ましい実施形態は、従属請求項から及び添付図面を参照する以下の好ましい実施形態の説明から明らかになるであろう。
以下では、図1から図3を参照して、マイクロリソグラフィのための本発明による光学結像デバイスに使用される本発明による光学デバイスの好ましい実施形態を以下に説明する。
図1は、UV範囲の波長193nmの光によって作動するマイクロリソグラフィ装置の形態にある本発明による光学結像デバイスの好ましい実施形態の概略図である。
対物系104は、特に、例えば、光学要素107.1のような一連の光学要素を含む第2の光学活性要素群107を含む。第2の群107内の光学活性構成要素は、対物系104のハウジング104.2内に堅持される。193nmという作動波長の理由から、光学要素107.1は屈折光学要素、すなわち、レンズなどである。しかし、本発明の他の変形では、例えば、反射又は回折光学要素のようなあらゆる望ましい他の光学要素を用いることができることは言うまでもない。同様に、当然ながら、そのような光学要素のあらゆる望ましい組合せを用いることができる。
この状態変数は、一方では、光学モジュール109に対して力発生要素111.1の力の作用が影響を及ぼす可能性があるいずれかの望ましい変数とすることができる。この状態変数は、例えば、感知手段113によって感知され、光学モジュール109に対して力発生要素111.1の力の作用が影響を及ぼす可能性があるマイクロリソグラフィ装置101における結像誤差を表す変数とすることができる。従って、力発生要素111.1の力の作用は、例えば、レンズ107.1の位置及び/又は向き(各々が、事前設定基準に対する)、及び/又はその幾何学形状に影響を及ぼす可能性があり、これらのファクタは、更にマイクロリソグラフィ装置101における結像誤差に影響を及ぼす。しかし、同様に、この状態変数は、光学モジュール109に対して作用される力又はモーメントとすることができる。
この手順は、その上に重ね合わせられた更に別の調整回路を有することができる。従って、制御デバイス112は、例えば、力発生要素111.1の力の作用目的に依存して更に別の変数を感知して制御デバイス112へと送信するセンサデバイス112.1を有することができ、次に、制御デバイス112は、この更に別の変数を用いることによって作動チャンバ111.2内の作動圧力を設定する。
しかし、力発生要素111.1の力の作用目的が、例えば、主に正確に事前設定されたシフトの発生であった場合は(例えば、レンズ107.1における精密に定められた位置及び/又は向きを得るための)、センサデバイス112.1は、力発生要素111.1の力の作用の得られるシフトを測定するように設計することができる。従って、センサデバイスは、上述のものに伴ってあらゆる望ましい原理に従って作動する適切な行程測定手段(例えば、干渉計、符号化器、容量性行程計等)とすることができる。
FR=F−FV (1)
予備負荷要素(図2に示しているような)は、力発生要素111.1と運動学的に直列に配置することができる。しかし、この種の予備負荷要素を力発生要素111.1と運動学的に平行に同様に良好に配置することができることは言うまでもない。平行に配置された場合には、予備負荷要素は、光学モジュール109に対して力発生要素111.1の引張力を相殺する圧縮力を作用するように設計される。
また、複数の力発生デバイス111を光学モジュール109と係合させることができることも言うまでもない。例えば、光学モジュール109の(従って、同様にレンズ107.1の)周囲を巡って分散され(好ましくは均等に)、光学モジュール109の平面内で作用し、光学モジュール109の(従って、レンズ107.1の)位置及び向きを光学モジュール109の平面内で3つの自由度(2つの平行移動自由度及び1つの回転自由度)で設定することができる3つの力発生デバイス111を設けることができる。この場合、光学モジュール109は、光学モジュール109及び支持構造体110と係合する付加的な受動的支持構造体によって誘導することができることは言うまでもない。
最初に、この工程の実行は、段階115.1で始まる。次に、段階115.2では、図1に示しているマイクロリソグラフィ装置101の構成要素が、上述したマスク103.1内の投影パターンの像の形成を基板105.1上で行うことができる状態に誘導される。
次に、段階115.5では、制御デバイス112は、力発生デバイス111が光学モジュール109に対して適切な力を作用するように、上述の手法で力発生要素111.1を制御する。
段階115.5に続いて段階115.6では、更に別の結像段階を依然として行う必要があるか否かを判断するために検査が行われる。この必要がなかった場合には、工程の実行は、段階115.7において終了される。そうではない場合には、ジャンプが行われて段階115.3に戻る。
以下では、本発明による光学デバイスの更に別の好ましい実施形態116を図1及び図4を参照して説明する。光学デバイス116は、照明系102の一部であり、棒形の光学要素106.1の形態にある光学モジュール及び支持構造体117を含む。光学要素106.1は、力発生デバイス118によって支持構造体117に接続される。
力発生デバイス118の目的は、光学モジュール106.1に対してクランプ力FRを作用し、そうすることで、外力が光学モジュール106.1に対して作用する時でさえも、支持構造体117に対して光学モジュール106.1をその事前設定位置に保持することである。この目的のために、力発生デバイス118は、ここでもまた、流体力発生要素118.1を含む。力発生要素118.1は、制御デバイス112によって作動流体を印加することができる作動チャンバ118.2を有する。ここでもまた、制御デバイス112は、力発生要素118.1によって作用すべきである力Fに応じて作動チャンバ118.2に供給される作動流体の作動圧力を設定する。
感知手段113は、感知したこの加速度の現在値を制御デバイス112へと供給する。制御デバイス112は、加速度aの現在値を用いてクランプ力に対する設定値FRSを判断し、クランプ力に対する設定値FRSとその実際の値FRの間の既存のあらゆる差が相殺されるように作動チャンバ118.2内の作動圧力を設定する。
上述のように、クランプ力に対する設定値FRSは、制御デバイス112内で、感知手段113によって感知される加速度aに応じて事前設定される。次に、制御デバイス112は、クランプ力の実際の値FRが設定値FRSと同じになるまで作動流体の作動圧力を修正する。
力発生要素118.1及び予備負荷要素118.4の各々は、一方で門形枠118.5に接続され、他方でクランプ板118.6に接続される。装着状態では、門形枠118.5は、支持構造体117に固定され、クランプ板118.6は、光学モジュール106.1と接触状態にある。
FR=FV−F (2)
予備負荷要素を制御デバイス112の制御下で調節することができる予備負荷力FVを有する能動的要素とすることができることも言うまでもない。予備負荷要素は、能動的に調節することができる力を発生させるあらゆる望ましい要素とすることができる。特に、予備負荷要素は、電気又は電気機械要素(例えば、圧電アクチュエータ、ローレンツアクチュエータ等)、又は前と同様に流体力発生要素(例えば、ピストンアクチュエータ、振動板アクチュエータ、又は蛇腹アクチュエータ等)であり、特に、更に別の流体筋肉要素とすることができる。
最初に、工程の実行は、段階120.1で始まる。次に、段階120.2では、図1に示しているマイクロリソグラフィ装置101の構成要素が、上述したマスク103.1内の投影パターンの像の形成を基板105.1上で行うことができる状態に誘導される。
次に、段階120.5では、制御デバイス112は、力発生デバイス118が光学モジュール106.1に対して適切なクランプ力FRを作用するように、上述の手法で力発生要素118.1を制御する。
段階120.5に続いて段階115.6では、マイクロリソグラフィ装置を作動し続けるべきか否かを判断するために検査が行われる。作動し続けない場合には、工程の実行は、段階120.7において終了される。そうではない場合には、ジャンプが行われて段階120.3に戻る。
以下では、光学デバイス116の代わりにマイクロリソグラフィ装置101において用いることができる本発明による光学デバイス216の更に別の実施形態を図1及び図6を参照して以下に説明する。光学デバイス216の基本の構成及び作動は、図4に示している光学デバイス116のものに対応し、従って、ここで詳述するのは相違点のみとする。特に、類似の構成要素には、値を100だけ増した参照番号を付与しており、これらの特徴に関しては上述に提供した説明を参照されたい。
本発明の他の変形では、あらゆる望ましい他の電気又は電気機械要素(例えば、ローレンツアクチュエータ)、又は流体力発生要素(例えば、ピストンアクチュエータ、振動板アクチュエータ、又は蛇腹アクチュエータ等)を現在荷重状況へのクランプ力FRの動的な適合を行う上で用いる力発生要素として用いることができることも言うまでもない。
以下では、本発明による光学デバイスの更に別の好ましい実施形態316を図1及び図7を参照して説明する。光学デバイス316は、対物系104の一部であり、光学要素107.1の形態の光学モジュール及び支持構造体317を含む。この実施形態では、光学要素は、レンズ107.1の形態で設計される。レンズ107.1は、その外周にステップ107.2を有する。レンズ107.1は、ステップ107.2の領域内で力発生デバイス318によって支持構造体317に接続される。
感知手段313は、感知したこの加速度の現在値を制御デバイス312へと供給する。制御デバイス312は、加速度aの現在値を用いてクランプ力に対する設定値FRSを判断し、クランプ力に対する設定値FRSとその実際の値FRの間の既存のあらゆる差が相殺されるように作動チャンバ318.2内の作動圧力を設定する。
上述のように、クランプ力に対する設定値FRSは、制御デバイス312内で、感知手段313によって感知される加速度aに応じて事前設定される。次に、制御デバイス312は、クランプ力の実際の値FRが設定値FRSと同じになるまで作動流体の作動圧力を修正する。
力発生要素318.1及び予備負荷要素318.4の各々は、一方で接合部318.5に接続され、他方でクランプ板318.6に接続される。装着状態では、接合部318.5は、支持構造体317に固定され、クランプ板318.6は、光学モジュール107.1と接触状態にある。
FR=FV−F
予備負荷要素を制御デバイス312の制御下で調節することができる予備負荷力FVを有する能動的要素とすることができることも言うまでもない。予備負荷要素は、能動的に調節することができる力を発生させるあらゆる望ましい要素とすることができる。特に、予備負荷要素は、電気又は電気機械要素(例えば、圧電アクチュエータ、ローレンツアクチュエータ等)、又は前と同様に流体力発生要素(例えば、ピストンアクチュエータ、振動板アクチュエータ、又は蛇腹アクチュエータ等)であり、特に、更に別の流体筋肉要素とすることができる。
更に別の変形では、力発生要素318.1によって作用される力F(光学デバイス316の作動状態を表す状態変数の更に別の現在値という形態にある)が能動的に影響を受けることを可能にするために、感知手段313は、光学デバイス316に対してクランプ力FRの方向に作用する加速度bの現在値を追加で感知することができる。
上述のように、クランプ力に対する設定値FRSは、制御デバイス312内で、感知手段313によって感知される加速度a及びbに応じて事前設定される。次に、制御デバイス312は、クランプ力の実際の値FRが設定値FRSと同じになるまで作動流体の作動圧力を修正する。
FR=FV−F−Fb=一定 (3)
ここで、Fbは、慣性力に対する反力である(レンズ107.1の加速度bから生じる)。言い換えれば、この手法によって達成することができるものは、一定の加速度aにおいて、更に、軸線方向加速度bに関係なく、得られる同じクランプ力がレンズ107.1に対して常に作用することであり、これは、クランプ力が同じであるから、レンズ107.1に対して印加されるクランプから生じる応力が一定に留まることを意味する。これは、例えば、応力誘起の複屈折のような応力誘起の影響の低減につながり、従って、高い品質の像形成がもたらされる。
図3に関連して説明した方法は、光学デバイス316を用いて等しく良好に実施することができ、かつ状態変数として感知されるものが加速度a、及び必要に応じて加速度bであり、これらの状態変数が説明された方式で考慮されることにこの時点で言及しておきたい。
以下では、光学デバイス316の代わりにマイクロリソグラフィ装置101において用いることができる本発明による光学デバイスの更に別の好ましい実施形態416を図1及び図7を参照して説明する。光学デバイス416の基本の構成及び作動は、図7に示している光学デバイス316のものに対応し、従って、ここで詳述するのは相違点のみとする。特に、類似の構成要素には、値を100だけ増した参照番号を付与しており、これらの特徴に関しては上述に提供した説明を参照されたい。
力発生デバイス418は、その力発生要素として圧電要素418.1を含み、それを用いて、第3の実施形態と同様にクランプ力FRを光学デバイス416の現在の荷重状況に動的に適合させることができる。この実施形態では(力発生要素418.1が停止している時には)、予備負荷力FVは、支持構造体317と光学モジュール307.1の間の力伝達線内に置かれた構成要素の弾性変形(及び特に接合部418.5における弾性変形)によって得られる。この場合、予備負荷力FVは、通常作動において予想される最大荷重状況だけに向けて(例えば、3gの最大加速度に向けて)設計される。
本発明の他の変形では、光学デバイス416に対して同様に加速度a及びbに応じてクランプ力の設定を行うことができることも言うまでもない(光学デバイス316に関連して上述した手法で)。
本発明を屈折又は反射光学要素しか用いない実施形態を参照して上述した。しかし、当然ながら、本発明は、特に、屈折光学要素、反射光学要素、又は回折光学要素を単独又はあらゆる望ましい組合せで備える光学デバイスと共に他の波長に対する像形成の場合に用いることができることを再度ここで指摘しておきたい。
最後に、以上は、本発明をマイクロリソグラフィの分野からの実施形態を参照して説明したものであることを指摘しておきたい。しかし、本発明は、特に、像形成に使用される光のあらゆる望ましい波長であらゆる望ましい他の用途又は結像工程において等しく良好に用いることができることは言うまでもない。
109 光学モジュール
110 支持構造体
111 力発生デバイス
Claims (47)
- 光学モジュールと、
支持構造体と、
力発生デバイスと、
を有し、
前記力発生デバイスが、前記光学モジュールと前記支持構造体とに接続され、かつ該光学モジュールに対してクランプ力を作用するように設計された、
特にマイクロリソグラフィのための光学デバイスであって、
力発生デバイスが、光学モジュールに作用する加速度に応じて、それに接続した制御デバイスの制御の下でクランプ力を変更するように設計される、
ことを特徴とする光学デバイス。 - 前記力発生デバイスに接続した制御デバイスが設けられ、かつ
前記制御デバイスに接続した感知手段が設けられ、
前記感知手段は、前記光学デバイスの作動の状態を表す状態変数の現在値を感知するように設計され、
前記光学モジュールに対して作用される前記力発生デバイスの前記力に対する設定値が、前記状態変数の前記値に応じて事前設定され、
前記制御デバイスは、前記状態変数の前記現在値から生じる現在の設定値に応じて前記クランプ力を設定するように設計され、
特に、前記設定値は、前記状態変数の値の事前設定可能な範囲にわたって実質的に一定であるように準備される、
ことを特徴とする請求項1に記載の光学デバイス。 - 前記状態変数は、前記光学モジュールに対して少なくとも1つの自由度で作用する力又は加速度を表す変数であることを特徴とする請求項2に記載の光学デバイス。
- 前記力発生デバイスは、作動圧力を有する作動流体を印加することができる作動チャンバを有する力発生要素を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の光学デバイス。
- 前記力発生要素は、筋肉要素として設計され、該筋肉要素は、第1の作動圧力で第1の引張力を作用し、該第1の作動圧力に対して高められた第2の作動圧力で、該第1の引張力に対して強められた第2の引張力を作用することを特徴とする請求項4に記載の光学デバイス。
- 前記力発生デバイスは、予備負荷要素を有し、
前記予備負荷要素は、少なくとも1つの作動状態において、前記力発生要素の前記引張力を相殺する予備負荷力を作用するように設計される、
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の光学デバイス。 - 前記予備負荷要素は、機械バネデバイス及び/又は流体予備負荷デバイスを含むことを特徴とする請求項6に記載の光学デバイス。
- 前記力発生要素は、前記予備負荷要素と機械的に平行に配置されることを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の光学デバイス。
- 前記光学モジュールは、少なくとも1つの光学要素を含むことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の光学デバイス。
- 前記光学モジュールは、前記光学要素を保持する保持デバイスを有し、
前記力発生デバイスは、その力を前記保持デバイスに作用するように設計される、
ことを特徴とする請求項9に記載の光学デバイス。 - 前記光学要素は、
一端で前記保持デバイスによって保持された棒形要素であり、又は
外周を有し、かつ該外周の領域内で前記保持デバイスによって保持された要素である、
ことを特徴とする請求項10に記載の光学デバイス。 - 前記力発生要素によって作用される前記力を測定するように設計された力測定手段が設けられることを特徴とする請求項1から請求項11のいずれか1項に記載の光学デバイス。
- 照明デバイスと、
投影パターンを含むマスクを受け取るためのマスクデバイスと、
一群の光学要素を有する投影デバイスと、
基板を受け取るための基板デバイスと、
を有し、
前記照明デバイスが、前記投影パターンを照明するように設計され、かつ
前記光学要素群が、前記投影パターンの像を前記基板上に形成するように設計され、
前記照明デバイス及び/又は前記投影デバイスが、支持構造体を有する光学モジュールと力発生デバイスとを含み、
前記力発生デバイスが、前記光学モジュールと前記支持構造体とに接続され、かつ該光学モジュールに対してクランプ力を作用するように設計された、
特にマイクロリソグラフィのための光学像形成装置であって、
力発生デバイスが、光学モジュールに作用する加速度に応じて、それに接続した制御デバイスの制御の下でクランプ力を変更するように設計される、
ことを特徴とする装置。 - 光学モジュールが、支持構造体によって支持され、
クランプ力が、前記光学モジュールと前記支持構造体とに接続した力発生デバイスによって該光学モジュールに対して作用される、
特にマイクロリソグラフィに使用するための光学モジュールに対して力を作用する方法であって、
クランプ力が、光学モジュールに作用する加速度に応じて、制御デバイスの制御の下で変更される、
ことを特徴とする方法。 - 前記光学デバイスの作動の状態を表す状態変数の現在値が感知され、
前記光学モジュールに対して作用される前記力発生デバイスの前記クランプ力に対する設定値が、前記状態変数の前記値に応じて事前設定され、
前記制御デバイスは、前記状態変数の前記現在値から生じる現在の設定値に応じて前記クランプ力を設定し、
特に、前記設定値は、前記状態変数の値の事前設定可能な範囲にわたって実質的に一定であるように準備される、
ことを特徴とする請求項14に記載の方法。 - 前記状態変数は、前記光学モジュールに対して少なくとも1つの自由度で作用する力又は加速度を表す変数であることを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記力発生デバイスは、作動圧力を有する作動流体を印加することができる作動チャンバを有する力発生要素を有することを特徴とする請求項14から請求項16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記力発生要素は、筋肉要素として設計され、該筋肉要素は、第1の作動圧力で第1の引張力を作用し、該第1の作動圧力に対して高められた第2の作動圧力で、該第1の引張力に対して強められた第2の引張力を作用することを特徴とする請求項17に記載の方法。
- 前記力発生デバイスは、予備負荷要素を有し、
前記予備負荷要素は、少なくとも1つの作動状態において、前記力発生要素の前記力を相殺する予備負荷力を作用する、
ことを特徴とする請求項14から請求項18のいずれか1項に記載の方法。 - 前記力発生要素の前記力は測定され、かつ少なくとも1つの予備負荷要素には、前記力発生デバイスによる前記光学モジュールとの接触が行われる前に該力発生要素の事前設定可能な力によって予備負荷が掛けられ、
前記力発生デバイスは、該力発生デバイスと前記光学モジュールの間の接触が、前記力発生要素の前記測定された力の事前設定可能な変化を用いて感知されるまで、該光学モジュールに向けて移動され、かつ
前記力発生要素の前記力は、次に、事前設定可能な値まで低減される、
ことを特徴とする請求項19に記載の方法。 - 前記予備負荷力は、機械的及び/又は流体的に発生されることを特徴とする請求項19又は請求項20に記載の方法。
- 前記光学モジュールは、保持デバイスによって保持された少なくとも1つの光学要素を含み、
前記力発生デバイスの前記力は、前記保持デバイスに対して作用される、
ことを特徴とする請求項14から請求項21のいずれか1項に記載の方法。 - 力発生要素として使用されるものが、筋肉要素として設計された要素であり、これは、第1の作動圧力で第1の引張力を作用し、該第1の作動圧力に対して高められた第2の作動圧力で、該第1の引張力に対して強められた第2の引張力を作用することを特徴とする請求項14から請求項22のいずれか1項に記載の方法。
- 光学モジュールと、
支持構造体と、
力発生デバイスと、
を有し、
前記力発生デバイスが、前記光学モジュールと前記支持構造体とに接続され、かつ該光学モジュールに対して力を作用するように設計され、
前記力発生デバイスが、作動圧力を有する作動流体を印加することができる作動チャンバを有する流体力発生要素を有する、
特にマイクロリソグラフィのための光学デバイスであって、
力発生要素が、筋肉要素として設計され、該筋肉要素は、第1の作動圧力で第1の引張力を作用し、該第1の作動圧力に対して高められた第2の作動圧力で、該第1の引張力に対して強められた第2の引張力を作用する、
ことを特徴とする光学デバイス。 - 前記力発生デバイスに接続することができる制御デバイスが設けられ、
前記制御デバイスは、前記作動チャンバ内の前記作動圧力を変更するように設計される、
ことを特徴とする請求項24に記載の光学デバイス。 - 前記制御デバイスに接続した感知手段が設けられ、
前記感知手段は、光学デバイスの作動の状態を表す状態変数の現在値を感知するように設計され、
前記光学モジュールに対して作用される前記力発生デバイスの前記力に対する設定値が、前記状態変数の前記値に応じて事前設定され、かつ
前記制御デバイスは、前記状態変数の前記現在値から生じる現在の設定値に応じて前記作動チャンバ内の前記作動圧力を設定するように設計される、
ことを特徴とする請求項25に記載の光学デバイス。 - 前記力発生デバイスは、前記光学モジュールを事前設定位置において定位置に少なくとも1つの自由度で固定するように設計され、かつ
前記状態変数は、前記少なくとも1つの自由度で前記光学モジュールに対して作用する力又は加速度を表す変数である、
ことを特徴とする請求項26に記載の光学デバイス。 - 前記力発生デバイスは、前記少なくとも1つの自由度で前記光学モジュールにシフトを付与するアクチュエータの方式で設計され、
前記状態変数は、基準に対する前記光学モジュールの位置、及び/又は基準に対する該光学モジュールの向き、及び/又は該光学モジュールの幾何学形状を前記少なくとも1つの自由度で表す変数である、
ことを特徴とする請求項26に記載の光学デバイス。 - 前記力発生デバイスは、予備負荷要素を有し、
前記予備負荷要素は、少なくとも1つの作動状態において、前記力発生要素の前記引張力を相殺する予備負荷力を作用するように設計される、
ことを特徴とする請求項24から請求項28のいずれか1項に記載の光学デバイス。 - 前記予備負荷要素は、機械バネデバイス及び/又は流体予備負荷デバイスを含むことを特徴とする請求項29に記載の光学デバイス。
- 前記力発生要素は、前記予備負荷要素と機械的に平行に配置されることを特徴とする請求項29又は請求項30に記載の光学デバイス。
- 前記光学モジュールは、少なくとも1つの光学要素を含むことを特徴とする請求項24から請求項31のいずれか1項に記載の光学デバイス。
- 前記光学モジュールは、前記光学要素を保持する保持デバイスを有し、
前記力発生デバイスは、その力を前記保持デバイスに対して作用するように設計される、
ことを特徴とする請求項32に記載の光学デバイス。 - 前記保持デバイスは、前記光学要素に対してクランプ力を作用することができるクランプ要素を含み、
前記力発生デバイスは、前記クランプ力を発生させるように設計される、
ことを特徴とする請求項33に記載の光学デバイス。 - 前記光学要素は、一端で前記保持デバイスによって保持された棒形要素であることを特徴とする請求項33及び請求項34のいずれか1項に記載の光学デバイス。
- 前記力発生要素によって作用される前記力を測定するように設計された力測定デバイスが設けられることを特徴とする請求項24から請求項35のいずれか1項に記載の光学デバイス。
- 照明デバイスと、
投影パターンを含むマスクを受け取るためのマスクデバイスと、
一群の光学要素を有する投影デバイスと、
基板を受け取るための基板デバイスと、
を有し、
前記照明デバイスが、前記投影パターンを照明するように設計され、
前記光学要素群が、前記投影パターンの像を前記基板上に形成するように設計され、
前記照明デバイス及び/又は前記投影デバイスが、支持構造体を有する光学モジュールと力発生デバイスとを含み、
前記力発生デバイスが、前記光学モジュールと前記支持構造体とに接続され、かつ該光学モジュールに対してクランプ力を作用するように設計され、
前記力発生デバイスが、作動圧力を有する作動流体を印加することができる作動チャンバを有する流体力発生要素を有する、
特にマイクロリソグラフィのための光学像形成装置であって、
力発生要素が、筋肉要素として設計され、該筋肉要素は、第1の作動圧力で第1の引張力を作用し、該第1の作動圧力に対して高められた第2の作動圧力で、該第1の引張力に対して強められた第2の引張力を作用する、
ことを特徴とする装置。 - 光学モジュールが、支持構造体によって支持され、
前記光学モジュールと前記支持構造体とに接続され、かつ作動圧力を有する作動流体を付加することができる作動チャンバを備えた流体力発生要素を有する力発生デバイスによる力が、該光学モジュールに対して作用される、
特にマイクロリソグラフィに使用するための光学モジュールに対して力を作用する方法であって、
力発生要素として使用されるものが、筋肉要素として設計された要素であり、これは、第1の作動圧力で第1の引張力を作用し、該第1の作動圧力に対して高められた第2の作動圧力で、該第1の引張力に対して強められた第2の引張力を作用する、
ことを特徴とする方法。 - 前記作動チャンバ内の前記作動圧力は、前記光学モジュールに対して作用する前記力を変えるために変更されることを特徴とする請求項38に記載の方法。
- 光学デバイスの作動の状態を表す状態変数の現在値が感知され、
前記光学モジュールに対して作用される前記力発生デバイスのクランプ力に対する設定値が、前記状態変数の前記値に応じて事前設定され、かつ
前記作動チャンバ内の前記作動圧力は、前記状態変数の前記現在値から生じる現在の設定値に応じて設定される、
ことを特徴とする請求項39に記載の方法。 - 前記光学モジュールは、前記力発生デバイスによって少なくとも1つの自由度で事前設定位置において定位置に固定され、かつ
前記状態変数は、前記少なくとも1つの自由度で前記光学モジュールに対して作用する力又は加速度を表す変数である、
ことを特徴とする請求項40に記載の方法。 - 前記力発生デバイスは、少なくとも1つの自由度で前記光学モジュールに対してシフトを付与し、
前記状態変数は、基準に対する前記光学モジュールの位置、及び/又は基準に対する該光学モジュールの向き、及び/又は該光学モジュールの幾何学形状を前記少なくとも1つの自由度で表す変数である、
ことを特徴とする請求項41に記載の方法。 - 前記力発生デバイスは、少なくとも1つの予備負荷要素を有し、
前記予備負荷要素は、少なくとも1つの作動状態において、前記力発生要素の前記引張力を相殺する予備負荷力を作用する、
ことを特徴とする請求項38から請求項42のいずれか1項に記載の方法。 - 前記力発生要素の前記力は測定され、かつ前記少なくとも1つの予備負荷要素には、前記力発生デバイスによる前記光学モジュールとの接触が行われる前に該力発生要素の事前設定可能な力によって予備負荷が掛けられ、
前記力発生デバイスは、該力発生デバイスと前記光学モジュールの間の前記接触が、前記力発生要素の前記測定された引張力の事前設定可能な変化を用いて感知されるまで、該光学モジュールに向けて移動され、かつ
前記力発生要素の前記引張力は、次に、事前設定可能な値まで低減される、
ことを特徴とする請求項43に記載の方法。 - 前記予備負荷力は、機械的及び/又は流体的に発生されることを特徴とする請求項43又は請求項44に記載の方法。
- 光学要素が、保持デバイスによって保持された少なくとも1つの光学要素を含み、
前記力発生デバイスの前記力は、前記保持デバイスに対して作用される、
ことを特徴とする請求項38から請求項45のいずれか1項に記載の方法。 - 前記力発生デバイスは、前記保持デバイスを用いて前記光学要素に対してクランプ力を作用することを特徴とする請求項46に記載の方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001284226A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Nikon Corp | 光学部材保持装置及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。 |
JP2001355608A (ja) * | 2000-06-14 | 2001-12-26 | Toray Eng Co Ltd | アクチュエータ |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001284226A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Nikon Corp | 光学部材保持装置及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。 |
JP2001355608A (ja) * | 2000-06-14 | 2001-12-26 | Toray Eng Co Ltd | アクチュエータ |
WO2006068461A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-06-29 | Asml Netherlands B.V. | Support structure and lithographic apparatus |
WO2006119970A2 (en) * | 2005-05-09 | 2006-11-16 | Carl Zeiss Smt Ag | Assembly for adjusting an optical element |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014041881A (ja) * | 2012-08-21 | 2014-03-06 | Canon Inc | 光学装置、露光装置、および物品製造方法 |
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