JP2010538456A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 極紫外線リソグラフィ装置のための流れ管理システムであって、
   少なくとも部分的に第１の空間を取り囲む第１の囲い壁と、
   極紫外線光を放出するプラズマを前記第１の空間に発生させるシステムと、
   少なくとも部分的に第２の空間を取り囲む第２の囲い壁と、
   少なくとも部分的に通路を取り囲んで、ＥＵＶ光が前記第１の空間から該通路に入ることを可能にする第１の開放端とＥＵＶ光が該通路を出て前記第２の空間に入ることを可能にする第２の開放端とを有し、かつ該第１及び第２の端部に対して低減された断面積を有する位置を確立する形状を有する、該第１の空間から該第２の空間までの汚染物質の流れを抑制する細長い本体と、
   前記本体の前記第１の端部と低減された断面積を有する前記位置との間の地点で前記通路内にガスを導入するように位置決めされた開口を出るガス流と、
   を含むことを特徴とするシステム。
2. プラズマを前記通路に生成するために該通路に電磁界を発生させるための光源を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
3. 荷電粒子を偏向させるために前記第２の空間に電界を確立するための１対の電極を更に含むことを特徴とする請求項２に記載のシステム。
4. 前記光源は、前記通路に誘導結合放電プラズマを作り出すための高周波コイルを含むことを特徴とする請求項２に記載のシステム。
5. 前記光源は、前記通路に直流電極放電を生成することを特徴とする請求項２に記載のシステム。
6. 前記光源は、前記通路に高周波電極放電を生成することを特徴とする請求項２に記載のシステム。
7. 前記電極放電は、グロー放電であることを特徴とする請求項５又は６に記載のシステム。
8. 前記電極放電は、コロナ放電であることを特徴とする請求項５又は６に記載のシステム。
9. 前記細長い本体の温度を所定の範囲内に維持する温度制御システムを更に含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
10. 前記細長い本体の前記通路に配置された少なくとも１つのベーンを更に含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
11. 前記本体の前記第１の端部と低減された断面積を有する前記位置との間のそれぞれの地点で前記通路内にガスを導入するように各々位置決めされた複数の開口を含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
12. 前記開口から前記細長い本体の前記第１の端部の方向に流れを向けるノズルを含むことを特徴とする請求項１に記載のシステム。
13. 流れ管理システムを有する極紫外線リソグラフィ装置であって、該流れ管理システムは、
    少なくとも部分的に第１の空間を取り囲む第１の囲い壁と、
    極紫外線光を放出するプラズマを前記第１の空間に発生させるシステムと、
    少なくとも部分的に第２の空間を取り囲む第２の囲い壁と、
    少なくとも部分的に通路を取り囲んで、ＥＵＶ光が前記第１の空間から該通路に入ることを可能にする第１の開放端とＥＵＶ光が該通路を出て前記第２の空間に入ることを可能にする第２の開放端とを有し、かつ該第１及び第２の端部に対して低減された断面積を有する位置を確立する形状を有する、該第１の空間から該第２の空間までの汚染物質の流れを抑制する細長い本体と、
    ガス流を供給する開口であって、前記本体の前記第１の端部と低減された断面積を有する前記位置との間の地点で前記通路内にガスを導入するように位置決めされた、前記開口と、
    を含み、
    前記第１の空間はガスが配置された第１のチャンバであり、前記第２の空間はガスが配置された第２のチャンバであり、
    前記極紫外線リソグラフィ装置は更に、中間チャンバからガスを除去するポンプを含むことを特徴とする極紫外線リソグラフィ装置。
14. 前記ポンプは、前記開口を出る前記ガス流及び前記第１及び第２のチャンバ内の作動圧力と協働して、該第２のチャンバから前記中間チャンバ内に向けられたガス流と、該開口から前記細長い本体の前記第１の開放端を通って該第１のチャンバに入るガス流とを確立することを特徴とする請求項１３に記載の極紫外線リソグラフィ装置。
15. 前記通路が前記第１の空間と前記第２の空間との間に流体連通を確立しており、この流体連通が確立されていない場合には、前記第２の空間は前記第１の空間からシールされていることを特徴とする請求項１に記載のシステム。