JP2010535414A - 増大された高磁場特性を有する超電導体、それを製造する方法、及びそれを含むmri装置 - Google Patents
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Abstract
Description
式(1):
ここで、「f」は、適切な関数を意味する。簡単に、「f」は、特定指数αを有し、次の方式で選択することができる。
式(2):
対応するギンツブルグ−ランダウ(Ginzburg−Landau)コヒーレンス長ξGLは、次で与えられる。
式(3):
最後に、上部臨界磁場Hc2は、次のように得ることができる(W. Buckel及びR. Kleinerによる“Superconductivity”, Wiley−VCH, Weinheim (2004), p.236を参照)。
式(4):
式(6):
ここで、Jc0は、純粋な超電導体に対する臨界電流密度である。したがって、非可逆性磁場Hirrは、顕著に増大する。
=0.5ξ0,及びα=1)と線32(ls=2.817ξ0,
=0.5ξ0,及びα=1)である。
=0.6ξ0,及びα=1の場合)で示すように、Jcの追加的な増幅をもたらす。
本発明の一実施例によれば、磁性不純物と非磁性無秩序性を超電導体に注入するために、利用可能な任意の技術を使用することができる。例えば、磁性不純物と非磁性無秩序性を超電導体に注入するために、拡散、アーク溶解、固相反応、急冷−凝結、パルスレーザー蒸着(pulsed laser deposition;PLD)、スパッタリング、分子線エピタキシー(molecular beam epitaxy;MBE)、機械的合金化、照射及び注入(irradiation and implantation)、化学気相蒸着(chemical vapor deposition;CVD)、管内粉末(powder−in−tube;PIT)などの技術を使用することができる。超電導材料内で磁性不純物の溶解度は問題になり得る。したがって、超電導材料及び技術によって最適の溶解度を有する磁性不純物を選択しなければならない。仮に、溶解度限界を超過して磁性不純物を付加すれば、一部の磁性不純物は、沈殿物を形成し得る。この場合、沈殿物は、依然として臨界電流密度Jcを増加させるのに寄与することができる。しかし、沈殿物は、基本的に超電導マトリックスと独立的なので、上部臨界磁場 Hc2は大きく増加しない。磁性ナノ粒子(T. H. Alden及びJ. Livingston, “Ferromagnetic Particles in a Type−II superconductor”, J. Appl. Phys. 37, 3551 (1966); C. C. Koch及びG. R. Love, “Superconductivity in Niobium containing ferromagnetic Gadolinium or paramagnetic Yttrium dispersions”, J. Appl. Phys. 40, 3582 (1969); 及びA. Snezhko, T. Prozorov及びR. Prozorov, “Magnetic nanoparticles as efficient bulk pinning centers in type−II superconductors”, Phys. Rev. B71, 024527 (2005)を参照)と, 人工磁性ピン(N. D. Rizzo, J. Q. Wang, D. E. Prober, L. R. Motowidlo, 及びB. A. Zeitlin, “Ferromagnetic artificial pinning centers in superconducting Nb0.36Ti0.64 wires”, Appl. Phys. Lett. 69, 2285 (1996)参照)と, 磁性ドット(G. Teniers, M. Lange, V. V. Moshchalkov, “Vortex dynamics in superconductors with a lattice of magnetic dots”, Physica C 369, 268 (2002)を参照)を付加することは、磁性不純物付加のように、臨界電流の類似の増大をもたらすことができる。しかし、これらの技術は、ナノ粒子サイズの微細調整を必要とする可能性があり、大量生産に適さないと考えられる。それにもかかわらず、磁性ナノ粒子の負の影響も、本明細書で論議する非磁性無秩序性の付加を通じて補償することができ、したがって、正の影響は、非磁性無秩序性によって増幅されることができる。したがって、本発明の実施例で開示した方法は、超電導体の高磁場特性、すなわちHc2とJcの両方を顕著に増大させることができ、これは、磁性不純物が誘導したボルテックスの強いピンニングにより、固有で且つ強力なので、本発明の方法が有利である。
式(7):1/3<ξ0/l<3
Claims (19)
- その内部に形成された磁性不純物(magnetic impurity)及び非磁性無秩序性(non−magnetic disorder)とを含む超電導材料を含み、
前記磁性不純物と前記非磁性無秩序性を含む前記超電導材料の上部臨界磁場及び臨界電流密度のうち少なくとも1つは、磁性不純物を含み且つ非磁性無秩序性を含まない超電導材料のそれより大きい、超電導体。 - 前記超電導材料は、NbSn3とMgB2よりなる群から選択された少なくとも1つを含む、請求項1記載の超電導体。
- 前記磁性不純物は、ボルテックスピンニングセンター(vortex pinning center)として作用する、請求項1記載の超電導体。
- 超電導材料としてNbと、非磁性無秩序性としてTiと、磁性不純物とを含むNb−Ti合金を含む、請求項1記載の超電導体。
- 前記磁性不純物は、部分的に満たされたd−電子を有する磁性イオン、部分的に満たされたf−電子を有する磁性イオン、及び磁性粒子よりなる群から選択された少なくとも1つを含む、請求項1記載の超電導体。
- 前記磁性不純物は、Mn、Fe、Ni、Cr、Co、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru及びRhよりなる群から選択された少なくとも1つの材料を含む、請求項1記載の超電導体。
- 前記磁性不純物は、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm及びUよりなる群から選択された少なくとも1つの材料を含む、請求項1記載の超電導体。
- 前記超電導材料内の磁性不純物の濃度は、0.1at.%から20at.%までの範囲である、請求項1記載の超電導体。
- 前記磁性不純物と前記非磁性無秩序性とを含む前記超電導材料の超電導転移温度は、前記磁性不純物を含み且つ前記非磁性無秩序性を含まない超電導材料の超電導転移温度より大きい、請求項1記載の超電導体。
- 前記非磁性無秩序性は、結晶欠陥、s−電子またはp−電子を有する非磁性イオン、及び非磁性粒子よりなる群から選択された少なくとも1つを含む、請求項1記載の超電導体。
- 前記非磁性無秩序性は、空孔型欠陥、格子間型欠陥、転位、及び放射ダメージよりなる群から選択された少なくとも1つの結晶欠陥を含む、請求項10記載の超電導体。
- 前記非磁性無秩序性は、沈殿物、第2相転移、ナノサイズ粒子、及び前記超電導材料の結晶粒界での析出物(segregate)よりなる群から選択された少なくとも1つの非磁性粒子を含む、請求項10記載の超電導体。
- 前記非磁性無秩序性は、Zn、Al、Ti、C、B及びLiよりなる群から選択された少なくとも1つの材料を含む、請求項1記載の超電導体。
- 前記超電導材料内で前記非磁性無秩序性の濃度は、ξ0/ lが1/3<ξ0/l<3の範囲にあるように選択され、ξ0は、前記超電導材料のBCSコヒーレンス長であり、かつlは、前記非磁性無秩序性を含む前記超電導材料内での平均自由行程である、請求項1記載の超電導体。
- 前記超電導材料内の前記非磁性無秩序性の濃度は、1at.%から40at.%までの範囲である、請求項1記載の超電導体。
- 超電導材料を調製する段階;
前記超電導材料内に磁性不純物を形成する段階;及び
前記超電導材料内に非磁性無秩序性を形成する段階を含む、
超電導体を製造する方法であって、
前記磁性不純物と前記非磁性無秩序性とを含む前記超電導材料の上部臨界磁場及び臨界電流密度のうち少なくとも1つは、磁性不純物を含み且つ非磁性無秩序性を含まない超電導材料のそれより大きい、方法。 - 前記非磁性無秩序性は、前記超電導材料を調製する段階中に形成される、請求項16記載の方法。
- 前記非磁性無秩序性は、前記超電導材料を調製する段階後に形成される、請求項16記載の方法。
- 請求項1記載の超電導体を含む、MRIまたはNMR装置。
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