JP2010519681A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 可動マウントに取り付けられた少なくとも１つの電極を備え、
   前記可動マウントは、
   前記少なくとも１つの電極の半径方向の拡大を可能にするように構成されている、イオンビーム加速装置。
2. 複数の電極を備え、該電極の少なくとも１つが可動マウントに支持されている、請求項１に記載の装置。
3. 少なくとも１つの開口を有する第１の電極と、
   前記第１の電極に隣接するとともに該第１の電極から間隔をあけて配置され、少なくとも１つの開口を有する第２の電極と、
   前記第２の電極に隣接するとともに該第２の電極から間隔をあけて配置され、少なくとも１つの開口を有する第３の電極と、を備え、
   各電極の前記少なくとも１つの開口は、他の電極の対応する開口に対して一列に並んでおり、かつ、前記第１の電極、第２の電極、および第３の電極のうち少なくとも１つの電極が可動マウントに取り付けられている、請求項１に記載の装置。
4. 各電極が可動マウントに取り付けられている、請求項３に記載の装置。
5. 前記可動マウントが、前記各開口のアライメントに利用できるように構成されている、請求項４に記載の装置。
6. 前記マウントが熱的に分離されているマウントである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
7. 前記マウントがラジアルキネマチックマウントである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の装置。
8. 胴体部をさらに備え、
   前記可動マウントが該胴体部に取り付けられ、かつ、そこから熱的に分離されている、請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置。
9. プラズマチャンバ、
   該プラズマチャンバ内で、第１の極性の粒子と第２の極性の逆の帯電粒子とを含むプラズマを発生する手段、
   前記プラズマチャンバ内で前記第１の極性の粒子を抑制する手段、および、
   請求項１〜８のいずれか１項に記載の前記加速装置を含み、
   前記第１の電極が前記プラズマと接触している、帯電粒子ビーム生成装置。