JP2010502637A - 積層触媒床を使用するアルキル化触媒の失活の減少法 - Google Patents
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Abstract
Description
序説および定義
ここで詳細な説明をする。添付の請求項はそれぞれ、別々の発明を規定し、それらは侵害の目的上、請求項中に明記された種々の要素または制約に対する同等物を含むものと認められる。文脈に応じて、以下に「本発明」と言及されるものはすべて、場合により、特定の実施形態のみを表すことができる。他の場合には、「本発明」の言及は1項または複数の、しかし必ずしもすべてではない請求項に引用された主題を表すであろう。次に、特
定の実施形態、バージョンおよび実施例を含む本発明をそれぞれ、以下に、より詳細に説明するが、本発明は、これらの実施形態、バージョンまたは実施例に限定はされず、本特許中の情報を利用可能な情報および技術と組み合わせると、当業者に本発明を製造、そして利用させ得るために含まれる。
キルハロゲン化物(例えば、塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、塩化ブチルおよび塩化ペンチル)を含むことができる。1つの実施形態において、アルキル化剤は例えば、エチレン、プロピレン、ブテンおよび/またはぺンテンの混合物のような軽質オレフィンの混合物を含む。他の実施形態において、アルキル化剤はエチレンを含む。
ベータ)触媒は当業者に知られたあらゆるゼオライト触媒から形成することができる。例えば、セリウムベータ触媒はセリウムの封入により改質されたゼオライトベータを含むことができる。セリウムでゼオライトベータ触媒を改質するあらゆる方法を使用することができる。例えば、1つの実施形態において、ゼオライトベータは例えば、反応混合物を結晶化し、そしてゼオライトベータを形成するのに十分な時間(例えば、熱水温浸(hydrothermal digestion)により約1日〜数カ月)、アルキル金属ハロゲン化物および有機鋳型形成剤(例えば、ゼオライト構造を形成するために使用される材料)を含む反応混合物を緩和に撹拌することにより形成することができる。アルキル金属ハロゲン化物は例えば、シリカ、アルミナ、ナトリウムまたは他のアルキル金属酸化物を含むことができる。熱水温浸は、例えば、大気圧で水の沸点より僅かに低い温度〜関与温度における水の蒸気圧以上の圧力で約170℃までの温度で起ることができる。
0%、または少なくとも30%、または少なくとも40%、または少なくとも50%だけ減少される。
、A2およびB)を含む。このような実施形態において、区域A1および区域Bは第2の予備的アルキル化触媒を含み、他方区域A2は第1の予備的アルキル化触媒を含む。
Claims (19)
- 投入ストリームを受けいれ、該投入ストリームを、その中に配置されたゼオライトYを含んでなる第1の予備的アルキル化触媒と接触させて第1の排出ストリームを形成するようになっており、ここで該投入ストリームがアルキル芳香族炭化水素を含んでなる、予備的アルキル化システム並びに
第1の排出ストリームを受け入れ、該第1の排出ストリームを、その中に配置された第1のアルキル化触媒およびアルキル化剤と接触させて第2の排出ストリームを形成するようになっている第1のアルキル化システム、
を含んでなるアルキル化システム。 - 予備的アルキル化システムが更に第2の予備的アルキル化触媒を含んでなる、請求項1のシステム。
- 投入ストリームが、第1のアルキル化触媒と接触している投入ストリームの近位のYゼオライトと接触するように、第1および第2の予備的アルキル化触媒が予備的アルキル化システム内に配列されている、請求項2のシステム。
- アルキル芳香族炭化水素がベンゼンを含んでなる、請求項1のシステム。
- アルキル化剤がエチレンを含んでなり、そして第2の排出ストリームがエチルベンゼンを含んでなる、請求項4のシステム。
- 第1の排出ストリームが約100ppb以下の触媒毒を含んでなる、請求項1のシステム。
- 第1の排出ストリームが約50ppb以下の触媒毒を含んでなる、請求項1のシステム。
- 第1の排出ストリームが第2のレベルの触媒毒を含んでなり、投入ストリームが第1のレベルの触媒毒を含んでなり、そして第2のレベルが第1のレベルより低い、請求項1のシステム。
- 第2のレベルが第1のレベルより少なくとも20%低い、請求項8のシステム。
- 第1のアルキル化触媒がセリウム促進ゼオライトベータ触媒を含んでなる、請求項1のシステム。
- アルキル芳香族炭化水素を含んでなる投入ストリームを受け入れ、該投入ストリームを、第2の予備的アルキル化触媒と接触させる前に第1の予備的アルキル化触媒と接触させて第1の排出ストリームを形成するようになっており、ここで第2の予備的アルキル化触媒がYゼオライトを含んでなる、予備的アルキル化システム並びに
第1の排出ストリームを受け入れ、該第1の排出ストリームを、その中に配置された第1のアルキル化触媒およびアルキル化剤と接触させて第2の排出ストリームを形成するようになっている第1のアルキル化システム、
を含んでなるアルキル化システム。 - 第1の予備的アルキル化触媒がMCM−22、MCM−49およびそれらの組み合わせ物から選択される、請求項11のアルキル化システム。
- 予備的アルキル化システムが、第1の予備的アルキル化触媒との接触の前に、更に、投入ストリームを第2の予備的アルキル化触媒と接触させるようになっている、請求項12のアルキル化システム。
- アルキル芳香族炭化水素がベンゼンを含んでなる、請求項11のシステム。
- アルキル化剤がエチレンを含んでなり、そして第2の排出ストリームがエチルベンゼンを含んでなる、請求項14のシステム。
- 第1の排出ストリームが約100ppb以下の触媒毒を含んでなる、請求項11のシステム。
- 第1の排出ストリームが約50ppb以下の触媒毒を含んでなる、請求項11のシステム。
- 第1のアルキル化触媒がセリウム促進ゼオライトベータ触媒を含んでなる、請求項11のシステム。
- アルキル化触媒との接触の前に、アルキル芳香族炭化水素を、第1の予備的アルキル化触媒、次にYゼオライトを含んでなる第2の予備的アルキル化触媒と接触させ、
アルキル化剤の存在下でアルキル芳香族炭化水素をアルキル化触媒と実質的に連続的に接触させて排出ストリームを形成し、そして
アルキル化触媒の寿命に実質的に等しい期間にわたりアルキル化システムから排出ストリームを引き出す(ここで、アルキル化触媒の寿命は第1および第2の予備的アルキル化触媒と接触しない場合の同様なアルキル化触媒の寿命より長い)工程、
を含んでなる、アルキル化触媒の再生を最少化する方法。
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