JP2010501849A - 曲面付着型触覚センサーとその製造方法 - Google Patents

曲面付着型触覚センサーとその製造方法 Download PDF

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Abstract

本発明は、曲率半径の小さな多次元曲率に適用可能な曲面付着型触覚センサー及びその製造方法に関するものである。本発明の曲面付着型触覚センサーは、多数の下部高分子フィルム層とこの下部高分子フィルム層上に設けられる下部金属層と各々の下部金属層上に設けられる多数の下部抵抗体とで構成される下部パターンと、多数の上部高分子フィルム層とこの上部高分子フィルム層の下部に設けられる上部金属層とこの上部金属層の下部に設けられて下部抵抗体に電気的に接続される多数の上部抵抗体とで構成される上部パターンと、下部パターンと上部パターンとを相互にボンディングする下部高分子層及び上部高分子層とを有していることを特徴とする。

Description

本発明は、触覚センサーとその製造方法に関するもので、より詳細には、曲がり及び復元力に優れる上部のフィルム及び下部のフィルムに金属層と抵抗体をそれぞれ形成した後に相互に直交した状態でボンディングすることによって、柔軟性を増加させ、曲率半径の小さな多次元曲率に適用可能な曲面付着型触覚センサー及びその製造方法に関するものである。
現在、接触を介した周辺環境の情報、つまり、接触力、振動、表面の粗さ、熱伝導度に対する温度変化などを獲得する触覚機能は、次世代情報収集媒体として認識されており、触覚感覚を代替することのできる生体模倣型触覚センサーは、血管内の微細な手術、癌診断などの各種医療診断及び施術に使用されるだけでなく、今後のバーチャル環境技術で重要な触覚表示技術に適用できるので、その重要性が更に増している。
生体模倣型触覚センサーとして、既に産業用ロボットの手首に使用されている六自由度(six degree of freedom)の力/トルクセンサーとロボットのグリッパー(gripper)用として、接触圧力及び瞬間的な滑りを感知できるものが開発されているが、これは感知部の大きさが比較的大きいために感度が低いという問題点を有している。
そして、マイクロ・エレクトロメカニカルシステム(MEMS)の製作技術を利用して、触覚センサーの開発可能性を見せてくれたものがあるが、これらはシリコンウェハーなどでセンサーを開発したため、柔軟性を付与することが難しいという短所があった。
図17は、従来の触覚センサーの一例を示した図面で、日本の東京大学で2005年Takao Someyaグループが発表したものである。
この技術によると、触覚センサーを単一フィルムを利用してパンチング工程で製作し、柔軟性と拡張性を実現している。
ところが、パンチング工程によって製作された触覚センサーは、柔軟性を与えるために、一枚のフィルムをパンチングするため、柔軟性を極大化することができなかった。
従って、円柱や曲率半径が大きな球形には適用することはできるが、人の皮膚のような柔らかさは不足しており、人間型ロボットの指のような器官や極小さな球形に適用するには無理があった。
本発明は、前述したような従来の技術における問題点を解決するために開発されたものであり、本発明の目的は、曲がり及び復元力に優れた材質の高分子フィルムに多数の金属層と抵抗体を形成し、高分子フィルムの信号ラインが相互に直交するように、曲がり及び復元力に優れた上板(上部フィルム)と下板(下部フィルム)とを柔軟性のある高分子でボンディングして、各々の抵抗体を交差点で接触させることによって、柔軟性が相対的に優れたセンサー模様を形成し、曲率を有する物体への付着を可能にする曲面付着型触覚センサー及びその製造方法を提供することである。
また、本発明の目的は、多数の信号ラインを波模様のパターンに形成した後、上板(上部フィルム)と下板(下部フィルム)をボンディングすることによって、X方向及びY方向及び対角線方向の全ての方向に対する引張り/圧縮変形能力を増加させることによって、微細な曲率半径を有する物体への適用を可能にする曲面付着型触覚センサー及びその製造方法を提供することである。
前述したような技術的な課題を解決する本発明の曲面付着型触覚センサーは、下部方向に一定間隔で離隔されて配列される多数の下部高分子フィルム層とこの下部高分子フィルム層上に設けられる下部金属層と各々の下部金属層上に設けられる多数の下部抵抗体とで構成される下部パターンと、下部金属層に直交する方向に一定間隔で離隔されて配列される多数の上部高分子フィルム層とこの上部高分子フィルム層の下部に設けられる上部金属層とこの上部金属層の下部に設けられて下部抵抗体に電気的に接続される多数の上部抵抗体とで構成される上部パターンと、下部パターンと上部パターンとを相互ボンディングする下部高分子層及び上部高分子層とを有している。
ここで、下部パターンと上部パターンは、波模様のパターンをそれぞれ呈しているのが好ましい。
また、下部金属層及び上部金属層は、一般的な金属材料から成形しても良く、蒸着は、メッキ工程やe−ビーム(e−beam)、すなわち、電子ビームまたはスパッタリング装置を利用して蒸着しても良い。
また、下部抵抗体と上部抵抗体は、減圧インクまたはニクロム(Ni−Cr)またはカーボンブラックまたは炭素ナノチューブから形成しても良い。
また、前述したような技術的課題を解決するための本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の一態様は、下部高分子フィルム層上に下部金属層を蒸着する工程と、この下部金属層と下部高分子フィルム層とを一方向に一定間隔で離隔するようにエッチングする工程と、一定間隔で離隔される各々の下部金属層上に多数の下部抵抗体を形成する工程と、上部高分子フィルム層上に上部金属層を形成する工程と、この上部金属層と上部高分子フィルム層とを一方向に一定間隔で離隔するようにエッチングする工程と、一定間隔で離隔される各々の上部金属層上に多数の上部抵抗体を形成する工程と、下部金属層と上部金属層とを相互に直交させて下部抵抗体と上部抵抗体とを交差点で電気的に接続するように下部パターンと上部パターンとをボンディングする工程とを有している。
また、前述したような技術的課題を解決するための本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の他の態様は、下部高分子フィルム層を形成した後に一方向に一定間隔で離隔されるようにパンチング工程を進行する工程と一定間隔で離隔された各々の下部高分子フィルム層上に下部金属層を形成する工程と各々の下部金属層の上部に多数の下部抵抗体を形成する工程とからなる下部パターン形成工程と、上部高分子フィルム層を形成した後に一方向に一定間隔で離隔されるようにパンチング工程を進行する工程と上部高分子フィルム層上に上部金属層を形成する工程と各々の上部金属層上に多数の上部抵抗体を形成する工程とからなる上部パターン形成工程と、下部金属層と上部金属層とを相互に直交させて下部抵抗体と上部抵抗体とを交差点で電気的に接続するように下部パターンと上部パターンとをボンディングする工程とを有している。
前述したような本発明の曲面付着型触覚センサーの多様な製造方法において、下部パターンと上部パターンとをボンディングする工程が、下部パターンを下部高分子層上に接着する工程と、上部パターンを上部高分子層上に接着する工程と、下部抵抗体と上部抵抗体が接続されるように下部パターンと上部パターンを重ねた後にキュアリング(curing)工程を介して相互にボンディングする工程とを有していても良い。
また、前述したような本発明の曲面付着型触覚センサーの多様な製造方法において、下部パターンと上部パターンをボンディングする工程が、下部抵抗体と上部抵抗体とを接続するように下部パターンと上部パターンを重ねた後にモールドに入れてこのモールドの内部に液状の高分子物質を満たしてキュアリングを介してボンディングする工程であっても良い。
また、下部パターンと上部パターンは、波模様のパターンを呈しているのが好ましい。
本発明の曲面付着型触覚センサーの第1実施例を示す平面図である。 図1の曲面付着型触覚センサーを示す断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの第2実施例を示す平面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第1実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第1実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第1実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第1実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第1実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第1実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第2実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第2実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第2実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第2実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第2実施例を順次的に示した断面図である。 本発明の柔軟性を有する触覚センサーの製造工程及び実施例を示した写真である。 本発明の触覚センサーの信号処理を示した回路図である。 従来の触覚センサーの一例を示した図面である。
添付の図面を参照して、本発明を後述する好適な一実施例を用いて説明する。
本発明の実施例を用いて当業者が容易に理解して再現できる程度まで、以下に詳細に説明する。
図1は、本発明の曲面付着型触覚センサーの第1実施例を示す平面図であり、図2は、図1の曲面付着型触覚センサーを示す断面図である。
図1に示すように、図1(A)は、下部パターンの平面図であり、図1(B)は、上部パターンの背面図であり、図1(C)は、下部パターンと上部パターンとを結合させた平面図であり、本発明の実施例である曲面付着型触覚センサーは、下部パターン1と上部パターン2とからなり、下部高分子フィルム層11と上部高分子フィルム層21とを有している。
ここで、下部高分子フィルム層11と上部高分子フィルム層21は、復元力に優れ、曲がりの良い、高い柔軟性を有する高分子フィルム、例えば、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルムなどの各種フィルムまたはVa−Cuのような金属シートから形成されている。
ここで、下部高分子フィルム層11と上部高分子フィルム層21とは、いずれか一方向に一定間隔で離隔されるようにパターニングされており、下部高分子フィルム層11と上部高分子フィルム層21とは、相互に直交した状態で配置されている。
一定間隔で離隔されるようにパターニングされた各下部高分子フィルム層11には、下部金属層12と、下部金属層12にマトリックス状に配列される多数の下部抵抗体13とが設けられている。
一定間隔で離隔されるようにパターニングされた各上部高分子フィルム層21には、上部金属層22と、上部金属層22にマトリックス状に配列される多数の上部抵抗体23とが設けられている。
また、下部抵抗体13と上部抵抗体23とは、減圧インク(pressure sensitive ink)またはニクロム(Ni−Cr)またはカーボンブラックまたは炭素ナノチューブから形成され、減圧インクを用いる場合、スクリーン印刷法を利用して減圧インクを塗布して形成し、ニクロムを用いる場合、ニクロムをe−ビーム(e−beam)、すなわち、電子ビームまたはスパッタリング(sputtering)装置を利用して蒸着した後にエッチングを介して形成するのが好ましい。
また、下部抵抗体13と上部抵抗体23とは、図面には円形で示したが、四角形を呈していても良い。
このような構成によって、各交差点で下部抵抗体13と上部抵抗体23とが相互に電気的に接続されるように、下部金属層12は、第1の方向に配置され、上部金属層22は、下部金属層12に直交する第2の方向に配置されている。
また、下部パターン1と上部パターン2とが接触する部分において、下部高分子フィルム層11と上部高分子フィルム層21とは、円形または四角形を呈している。
一方、下部高分子層と上部高分子層は、復元力に優れ、曲がりの良い、高い柔軟性を有する高分子、例えば、PDMS(ポリジメチルシロキサン)、シリコン、ポリウレタンなどの各種高分子材料から形成されている。
PDMSは、磨耗に弱いため、耐摩耗性と復元力に優れたPU(ポリウレタン)を利用するのが好ましい。
このような本発明の曲面付着型触覚センサーの第1実施例では、柔軟性に優れる上、下部高分子フィルム層の上部に各々金属層と抵抗体を形成し、これを相互に付着することによって、X方向またはY方向には引っ張ることはできないものの、対角線方向への柔軟性を増加させて対角線方向に引っ張ることができる。
これにより、1次元曲率(one-dimensional curvature)を有する円柱や曲率半径が大きな球形だけでなく、多次元曲率(multi-dimensional curvature)を有する卓球ボールの大きさ以下の球形物体への付着が可能であり、人間型ロボットの指のような器官や極めて小さな球形に適用することができる。
図3は、本発明の曲面付着型触覚センサーの第2実施例を示す平面図であり、前述した本発明の曲面付着型触覚センサーの第1実施例と同一な構成に関する説明は省略する。
図3に示すように、本発明の曲面付着型触覚センサーの第2実施例の特徴として、下部パターンと上部パターンとは、波模様のパターンからそれぞれ形成されている。
このように、本発明の曲面付着型触覚センサーの第2実施例では、下部パターンと上部パターンが波模様のパターンを有していることにより、X軸方向とY軸方向と対角線方向への柔軟性が増加して、全ての方向への引張りが可能になる。
その結果、曲率半径の極めて小さな多次元曲率を有する物体への適用が可能になる。
並びに、本発明の実施例では、柔軟性に優れた高分子フィルム層の上部に金属層と抵抗体とを形成するため、信号ライン、つまり、メタルの剥離の発生を回避できる。
その結果、曲面付着型触覚センサーは、金属層と高分子フィルム層との接触強度が大変優秀で、高い耐久性を発揮できる。
本発明の実施例が適用される接触抵抗方式を有する曲面付着型触覚センサーは、既に公知の技術であるため、これに対する具体的な図面及び構成の説明は省略する。
以下では、様々な実施例を介して本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法を説明する。
図4乃至図8は、本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第1実施例を順次的に示した断面図である。
まず、図4に示すように、下部高分子フィルム層110と下部金属層120とを形成する。
次に、図5(A)に図示された断面図と図5(B)に図示された平面図に示すように、下部金属層120と下部高分子フィルム層110とをいずれか一方向に一定間隔で離隔されるようにパターニングしてエッチングする。
ここで、下部高分子フィルム層110と、下部高分子フィルム層110の上部の下部金属層120とは、各々断面では現れないが、波模様の形態に加工しても良い。
次に、図6に示すように、下部金属層120上に多数の下部抵抗体130を形成して下部パターン100を形成し、後述する上部高分子フィルム層210と上部金属層220及び上部抵抗体230とからなる上部パターン200も、下部パターン形成工程と同一な工程を介して形成する。
ここで、下部抵抗体130と上部抵抗体230とは、減圧インクまたはニクロム(Ni−Cr)またはカーボンブラックまたは炭素ナノチューブから形成され、減圧インクを使用する場合、スクリーン印刷法を利用して減圧インクを塗布して形成し、ニクロムを利用する場合、ニクロムをe−ビーム(e−beam)またはスパッタリング装置を利用して蒸着した後にエッチングを介して形成するのが好ましい。
また、下部高分子フィルム層110と上部高分子フィルム層210は、復元力に優れ、曲がりが良い、高い柔軟性を有する高分子フィルム、例えば、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィムルなどの各種フィルムまたはVa−Cuのような金属シートから形成されている。
次に、図7に示すように、下部パターン100と上部パターン200とを各々下部高分子層140上と上部高分子層240上とに接着する。
次に、図8に示すように、下部金属層120と上部金属層220とを相互に交差させるように、下部パターン100と上部パターン200とを重ね、各交差点で上部パターン200の上部抵抗体230と下部パターン100の下部抵抗体130とを相互に電気的に接続するように重ね、キュアリングを介してボンディングする。
また、図9に示すように、下部金属層120と上部金属層220とを相互に交差させるように、下部パターン100と上部パターン200とを重ね、下部抵抗体130と上部抵抗体230とを相互に電気的に接続するように結合し、モールド250にローディングした後、モールド250内部に液状の高分子物質を満たし、キュアリングを介してボンディングしても良い。
ここで、下部パターン100と上部パターン200との間の空間部は、キュアリングされた下部高分子層140及び上部高分子層240が充填されており、相互に固定されるだけでなく、絶縁の役割を果たしている。
ここで、下部高分子層140及び上部高分子層240は、復元力に優れ、高い柔軟性を有する高分子で、例えば、PDMS、シリコン、ポリウレタンなどの各種高分子材料から形成されている。
PDMSの場合、磨耗に弱いため、耐摩耗性と復元力に優れるPU(ポリウレタン)を利用するのが好ましい。
図10乃至図14は、本発明の曲面付着型触覚センサーの製造方法の第2実施例を順次的に示す断面図である。
まず、図10(A)に図示された断面図と図10(B)に図示された平面図に示すように、下部高分子フィルム層310をいずれか一方向に一定間隔で離隔するようにパンチング工程を進行する。
次に、図11(A)に図示された断面図と図11(B)に図示された平面図に示すように、一定間隔で離隔された多数の下部高分子フィルム層310上に下部金属層320を蒸着する。
次に、図12(A)に図示された断面図と図12(B)に図示された平面図に示すように、多数の下部金属層320上に多数の下部抵抗体330を形成して下部パターン300を形成し、後述する上部高分子フィルム層410と上部金属層420及び上部抵抗体430とからなる上部パターン400も、下部パターン300の形成工程と同一な工程を介して形成する。
次に、図13に示すように、下部パターン300を下部高分子層340上に接着し、上部パターン400を上部高分子層440上に接着する。
次に、図14に示すように、上部金属層420と下部金属層320とを相互に交差するように重ね、各交差点で上部抵抗体430と下部抵抗体330とを相互に電気的に接続された後、キュアリングを介してボンディングする。
または、具体的に図示してはいないが、上述した図9に示したように、上部パターンと下部パターンを重ねた後、モールドにローディングし、モールドの内部に液状の高分子物質を満たし、キュアリングを介してボンディングしても良い。
図15は、本発明の柔軟性を有する触覚センサーの製作工程及び実施例を示す写真である。
図15に示す本発明の実施例では、優れた柔軟性を有する高分子層の上部に金属層の形成された下部パターン及び上部パターンをそれぞれボンディングし、各パターンに形成された信号ラインを相互に直交させるようにボンディングされている。
こうして製造された触覚センサーは、柔軟性に優れ、メタルからなる信号ラインの剥離が殆ど発生しないため、写真に示すような曲率半径の小さな球形への適用が可能である。
図16は、8つの下部パターンと8つの上部パターンとからなる8×8形態のマトリックス形態で、外部の力による下部抵抗体と上部抵抗体との間の接触抵抗と、この接触抵抗による信号獲得回路図を示している。
まず、出力端子の出力は、アナログ増幅器530の負(−)入力端子に印加され、アナログ増幅器(OPAMP)530の正(+)入力端子には、測定対象である抵抗Aに連結されたメイン入力ライン以外の入力ラインに印加される電圧と同一な大きさの電圧が印加される。
ここで、アナログ増幅器(OPAMP)530の負(−)入力端子にVGの電圧を印加し、測定対象である抵抗Aに連結されたメイン入力電圧VInライン以外の入力ラインにはVGNDの電圧を印加するが、VGNDとVGは全て同じ電圧を示す。
ここで、アナログ増幅器(OPAMP)530の出力端子と負(−)入力端子の間に接続された帰還抵抗Rfの抵抗値は、力センサーを構成する抵抗の抵抗値と同一な大きさに設定するのが好ましい。
図16で抵抗A(R00)に対するアナログ増幅器(OPAMP)の出力(Vout)値は、下記の数式1のとおりである。
数式1
Figure 2010501849
上述したように、本発明は、曲がり及び復元力に優れた材質の上板高分子層(上部高分子層)及び下板高分子層(下部高分子層)に各々多数の信号ラインと抵抗体を形成し、上板と下板の信号ラインが相互に直交するように、上板(上部パターン)と下板(下部パターン)をボンディングして各々の抵抗体を交差点で接触させることにより、柔軟性に優れたフィルムの間に信号ライン及び抵抗体を形成して、曲率を有する物体への付着を可能にするという利点を有している。
また、本発明は、上板(上部パターン)及び下板(下部パターン)に形成される多数の信号ラインを波模様に形成した後、高分子を利用してボンディングすることによって、X方向、Y方向及び対角線方向の全ての方向に対して引張能力を増加させることにより、微細な曲率半径を有する物体への適用を可能にして、人間型ロボットの指のような器官や極めて小さな球形に適用できるという利点を有している。




Claims (10)

  1. 下部方向に一定間隔で離隔されて配列される多数の下部高分子フィルム層と該下部高分子フィルム層上に設けられる下部金属層と該下部金属層上に設けられる多数の下部抵抗体とで構成される下部パターンと、
    前記下部高分子フィルム層に直交する方向に一定間隔で離隔されて配列される多数の上部高分子フィルム層と該上部高分子フィルム層の下部に設けられる上部金属層と該上部金属層の下部に設けられて前記下部抵抗体に電気的に接続される多数の上部抵抗体とで構成される上部パターンと、
    前記下部抵抗体と前記上部抵抗体が交差点で電気的に接続されるように前記下部パターンと上部パターンとをボンディングする下部高分子層及び上部高分子層とを有していることを特徴とする曲面付着型触覚センサー。
  2. 前記下部高分子フィルム層と上部高分子フィルム層とが、波模様のパターンでそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項1に記載の曲面付着型触覚センサー。
  3. 前記下部高分子フィルム層と上部高分子フィルム層とが、ポリイミドフィルムまたはポリエステルフィルムまたはVa−Cu金属板から形成されていることを特徴とする請求項1に記載の曲面付着型触覚センサー。
  4. 前記下部抵抗体と上部抵抗体とが、減圧インクまたはニクロム(Ni−Cr)またはカーボンブラックまたは炭素ナノチューブから形成されていることを特徴とする請求項1に記載の曲面付着型触覚センサー。
  5. 前記下部高分子フィルム層と上部高分子フィルム層とが、前記下部パターンと上部パターンが接触する部分で円形または四角形を呈していることを特徴とする請求項1に記載の曲面付着型触覚センサー。
  6. 下部高分子フィルム層上に下部金属層を蒸着する工程と、該下部金属層と下部高分子フィルム層とを一方向に一定間隔で離隔するようにエッチングする工程と、前記一定間隔で離隔される各々の下部金属層上に多数の下部抵抗体を形成する工程と、
    上部高分子フィルム層上に上部金属層を形成する工程と、該上部金属層と上部高分子フィルム層とを一方向に一定間隔で離隔するようにエッチングする工程と、前記一定間隔で離隔された各々の上部金属層上に多数の上部抵抗体を形成する工程と、
    前記下部金属層と上部金属層とを相互に直交させて前記下部抵抗体と上部抵抗体とを交差点で電気的に接続するように前記下部パターンと上部パターンとをボンディングする工程とを有していることを特徴とする曲面付着型触覚センサー製造方法。
  7. 下部高分子フィルム層を形成した後に一方向に一定間隔で離隔するようにパンチング工程を進行する工程と、前記一定間隔で離隔された各々の下部高分子フィルム層上に下部金属層を形成する工程と、該下部金属層の上部に多数の下部抵抗体を形成する工程とからなる下部パターン形成工程と、
    上部高分子フィルム層を形成した後に一方向に一定間隔で離隔するようにパンチング工程を進行する工程と、前記上部高分子フィルム層上に上部金属層を形成する工程と、該上部金属層上に多数の上部抵抗体を形成する工程とからなる上部パターン形成工程と、
    前記下部金属層と上部金属層とを相互に直交させて前記下部抵抗体と上部抵抗体とを交差点で電気的に接続するように前記下部パターンと上部パターンとをボンディングする工程とを有していることを特徴とする曲面付着型触覚センサー製造方法。
  8. 前記下部パターンと上部パターンとをボンディングする工程が、前記下部パターンを下部高分子層上に接着する工程と、前記上部パターンを上部高分子層上に接着する工程と、前記下部抵抗体と上部抵抗体とを接続するように下部パターンを接着した下部高分子層と上部パターンを接着した上部高分子層とを重ねた後にキュアリング工程を介して相互にボンディングする工程とを有していることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の曲面付着型触覚センサー製造方法。
  9. 前記下部パターンと上部パターンをボンディングする工程が、前記下部抵抗体と上部抵抗体とを接続するように前記下部パターンと上部パターンとを重ねた後にモールドに入れて該モールドの内部に液状の高分子物質を満たしてキュアリングを介してボンディングする工程であることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の曲面付着型触覚センサー製造方法。
  10. 前記下部高分子層と上部高分子層とが、PDMSまたはシリコンまたはポリウレタンから形成されていることを特徴とする請求項6または請求項7に記載の曲面付着型触覚センサー製造方法。



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