JP2010286589A - 光偏向器及びこれを用いた画像表示装置 - Google Patents

光偏向器及びこれを用いた画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 ミラー部を駆動させると共にミラー部の動きを検出可能とし、かつ、従来よりも小型化が可能な光偏向器及びこれを用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】 光偏向器1は、外部から照射された光を反射する反射面A21及び上記光を通過させるピンホール22b,22dを有するミラー部21と、ピンホール光偏向器を通過した光を受光する受光部11b,11dと、ミラー部21を所定の回転軸21aで駆動させ反射面A21で反射した光を所定の方向に偏向させる駆動手段30a,30bと、を備える。受光部11b,11dは回転軸21aに直交する方向に対して幅が異なる形状を有している。
【選択図】図1

Description

本発明は、照射された光を所定の方向に偏向するためのミラー部の動きを検出可能にする光偏向器及びこれを用いた画像表示装置に関する。
近年、バーコードリーダやレーザプリンタ等の光スキャナ、及び、プロジェクタやHMD(Head Mount Display)等の画像表示装置に、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術を利用した光偏向器を用いる検討が盛んに行われている。
MEMS技術を利用した光偏向器の一例が特許文献1に開示されている。
特許文献1に開示されている光偏向器は、駆動用の圧電素子でミラー部を駆動させ、検出用の圧電素子でミラー部の動きを検出するものである。
特許文献1に開示されている光偏向器によれば、駆動用の圧電素子でミラー部を駆動させているときに、使用環境の変化等によってミラー部の動き、例えばミラー部の偏向角度が設定値からずれた場合においても、検出用の圧電素子でミラー部の動きを検出することができるので、ミラー部の動きを調整することが可能になるとしている。
特開平9−101474号公報
しかしながら、特許文献1に開示されているような光偏向器では、ミラー部を駆動させるための駆動用の圧電素子と、ミラー部の動きを検出するための検出用の圧電素子とが必要である。圧電素子は、ミラー部を駆動させるためには、またミラー部の動きを検出するためにはそれぞれある程度の大きさが必要になる。そのため、これら2種類の圧電素子が形成されることによって光偏向器が大型化してしまうという問題があり、その改善が望まれている。
そこで、本発明が解決しようとする課題は、上記問題を鑑みてなされたものであり、ミラー部を駆動させると共にミラー部の動きを検出可能とし、かつ、従来よりも小型化が可能な光偏向器及びこれを用いた画像表示装置を提供することにある。
上記の課題を解決するために、本発明は次の光偏向器及びこれを用いた画像表示装置を提供する。
1)外部から照射された光(LR,LG,LB)を反射する反射面(A21)、及び前記光を通過させるピンホール(22b,22d)を有するミラー部(21)と、前記ピンホールを通過した光を受光する受光部(11b,11d,91)と、前記ミラー部を所定の回転軸(21a)で駆動させ、前記反射面で反射した光を所定の方向に偏向させる駆動手段(30a,30b)と、を備えていることを特徴とする光偏向器(1)。
2)前記受光部(11b,11d)は、前記回転軸に直交する方向に対して幅が異なる形状を有していることを特徴とする1)記載の光偏向器。
3)前記受光部(91)は、前記回転軸に直交する方向に順次配置された複数の受光領域(91a〜91g)を有していることを特徴とする1)記載の光偏向器。
4)前記受光部は、赤色光(LR)を受光する受光領域、緑色光(LG)を受光する受光領域、及び青色光(LB)を受光する受光領域を有していることを特徴とする2)記載の光偏向器。
5)前記受光部は、前記複数の受光領域毎に、赤色光(LR)を受光する赤色受光領域(192R)、緑色光(LG)を受光する緑色受光領域(192G)、及び青色光(LB)を受光する青色受光領域(192B)を有していることを特徴とする3)記載の光偏向器。
6)1)〜5)のいずれかに記載の光偏向器(1,80)と、前記光を出射する光源(210,220,230)と、を備え、前記ミラー部を前記駆動手段によって前記所定の回転軸で駆動させると共に前記所定の回転軸とは異なる回転軸(21b)で駆動させ、前記反射面で反射した光を2次元的に偏向させて所定の画像を表示させることを特徴とする画像表示装置(200)。
本発明によれば、ミラー部を駆動させると共にミラー部の動きを検出可能とし、かつ、従来よりも小型化が可能になるという効果を奏する。
本発明に係る光偏向器の実施例1を説明するための模式図である。 実施例1の光偏向器における光偏向部を説明するための模式図である。 実施例1の光偏向器における支持基板を説明するための模式図である。 実施例1の光偏向器において、ミラー部の動きを検出する方法を説明するための模式図である。 実施例1の光偏向器における光偏向部の製造方法を説明するための模式図である。 実施例1の光偏向器における光偏向部の製造方法を説明するための模式図である。 実施例1の光偏向器における支持基板の製造方法を説明するための模式図である。 本発明に係る光偏向器の実施例2を説明するための模式図である。 実施例2の光偏向器における光偏向部を説明するための模式図である。 実施例2の光偏向器における支持基板を説明するための模式図である。 実施例2の光偏向器において、ミラー部の動きを検出する方法を説明するための模式図である。 本発明に係る画像表示装置の実施例を説明するための模式図である。 実施例1の光偏向器における受光部の変形例を説明するための模式図である。 実施例2の光偏向器における受光部の変形例を説明するための模式図である。
本発明の実施の形態を、実施例1及び2により図1〜図14を用いて説明する。
<実施例1>
[光偏向器の構成]
実施例1における光偏向器の構成について、図1〜図3を用いて説明する。
図1は本発明に係る光偏向器の実施例1を説明するための模式図であり、図1(a)は反射面側から見た平面図、図1(b)は(a)のA−B線における断面図、図1(c)は(a)のC−D線における断面図である。
図2は図1の光偏向器における光偏向部を説明するための模式図であり、図2(a)は反射面側から見た平面図、図2(b)は反射面とは反対の側から見た平面図である。
図3は図1の光偏向器における支持基板を説明するための模式的平面図である。
図1に示すように、光偏向器1は、支持基板10と、支持基板10の一面A10側に固定された光偏向部20と、支持基板10の一面A10に対向する他面B10側に固定された永久磁石50と、を有して構成されている。
光偏向部20について、図1と共に図2を用いて説明する。
図1及び図2に示すように、光偏向部20は、外部から照射された光を反射する反射面A21、並びに上記光が通過する4つのピンホール22a,22b,22c,及び22dを有するミラー部21と、ミラー部21を囲うように配置された枠部23と、枠部23を囲うように配置されたフレーム部24と、ミラー部21の重心O21を通る中心線21a上にミラー部21を介して対向配置され、ミラー部21と枠部23とを連接する一対の梁部25a,25bと、ミラー部21の重心O21を通り中心線21aに直交する中心線21b上にミラー部21を介して対向配置され、枠部23とフレーム部24とを連接する一対の梁部26a,26bと、を有して構成されている。
図1(b)及び(c)に示すように、ミラー部21、枠部23、梁部25a,25b、及び梁部26a,26bは、フレーム部24よりも薄く形成されている。
なお、実施例1では、フレーム部24において、後述する一対のミラー駆動部30a,30bが形成されている領域を他の領域よりも薄く形成している。
ここで、便宜上、光偏向部20において、反射面A21が設けられている側の面を表(おもて)面、反射面A21が設けられている側の面に対向する面(反対側の面)を裏面と称す。
図1及び図2(a)に示すように、フレーム部24の表面には、ミラー部21を介して対向する一対のミラー駆動部30a,30bが形成されている。
ミラー駆動部30a,30bは、フレーム部24の表面に順次形成された、絶縁膜31a,31b、下電極32a,32b、圧電体膜33a,33b、及び上電極34a,34bを有して構成されている。
また、フレーム部24の表面には、一方の上電極34aに配線35aを介して電気的に接続された端子36a、他方の上電極34bに配線35bを介して電気的に接続された端子36b、及び下電極32a,32bに配線35cを介して電気的に接続された端子36cが形成されている。
図2(b)に示すように、光偏向部20の裏面には、一方の梁部25a側の枠部23に沿って形成された電磁コイル41と、電磁コイル41の一端側が電気的に接続された端子42と、電磁コイル41の他端側が電気的に接続された端子43と、他方の梁部25b側の枠部23に沿って形成された電磁コイル44と、電磁コイル44の一端側が電気的に接続された端子45と、電磁コイル44の他端側が電気的に接続された端子46と、が形成されている。
端子42,43,45,及び46は、フレーム部24の裏面に形成されている。
次に、支持基板10について、図1と共に図3を用いて説明する。
図1及び図3に示すように、支持基板10は、ミラー部21が配置されている側の面A10に、ミラー部21の4つのピンホール22a,22b,22c,及び22dにそれぞれ対向する4つの受光部11a,11b,11c,及び11dと、4つの受光部11a,11b,11c,及び11dに配線12a,12b,12c,及び12dを介してそれぞれ電気的に接続された端子13a,13b,13c,及び13dと、が形成されている。
受光部11a〜11dは、受光部11aの中心と受光部11cの中心とを結ぶ線(仮想線)と、受光部11bの中心と受光部11dの中心とを結ぶ線(仮想線)との交点から離間する方向に幅が異なる形状をそれぞれ有している。実施例1では、受光部11a〜11dの形状を、上記交点側を頂点として交点から離間するに従って幅が広くなる三角形状とした。
また、支持基板10は、ミラー部21が配置されている側の面A10に、ミラー部21の端子42,43,45,及び46にそれぞれ電気的に接続される端子14a,14b,14c,及び14dが形成されている。
[光偏向器の駆動方法]
実施例1における光偏向器の駆動方法について、図1と共に図4を用いて説明する。
図4は上述した光偏向器1において、ミラー部の動きを検出する方法を説明するための模式図であり、図4(a)はミラー部を駆動させていない状態(初期状態)、図4(b)はミラー部を図1(b)のEで示す状態に駆動させたとき、図4(c)はミラー部を図1(b)のFで示す状態に駆動させたとき、図4(d)はミラー部を図1(c)のGで示す状態に駆動させたとき、図4(e)はミラー部を図1(c)のHで示す状態に駆動させたときの、受光部11a〜11dと、ピンホール22a〜22dを通って受光部11a〜11dに照射された光の照射領域との位置関係をそれぞれ示すものである。
なお、図4(a)〜(e)におけるL1,L2,L3,及びL4は、外部からピンホール22a,22b,22c,及び22dを通って支持基板10の表面A10に照射された光の照射領域を示すものである。
まず、ミラー部21を、図1(a)における上下方向に駆動する場合について説明する。
外部からミラー部21に向かって照射された光は、ピンホール22a,22b,22c,及び22dを通って受光部11a,11b,11c,及び11dに到達する。
ミラー部21を駆動させていない初期状態では、受光部11a,11b,11c,及び11dと照射領域L1,L2,L3,及びL4との位置関係は、例えば図4(a)に示す状態になる。
受光部11a,11b,11c,及び11dと照射領域L1,L2,L3,及びL4との重なり面積に応じて受光量が変化する。
例えば、受光部11aと照射領域L1との重なり面積が大きいほど、受光部11aの受光量が大きくなり、上記重なり面積が小さいほど受光部11aの受光量が小さくなる。
同様に、受光部11bと照射領域L2との重なり面積が大きいほど、受光部11bの受光量が大きくなり、上記重なり面積が小さいほど受光部11bの受光量が小さくなる。
同様に、受光部11cと照射領域L3との重なり面積が大きいほど、受光部11cの受光量が大きくなり、上記重なり面積が小さいほど受光部11cの受光量が小さくなる。
同様に、受光部11dと照射領域L4との重なり面積が大きいほど、受光部11dの受光量が大きくなり、上記重なり面積が小さいほど受光部11dの受光量が小さくなる。
外部から、端子36a及び36bと端子36cとに所定の電圧を印加して圧電体膜33a,33bをそれぞれ励振させることにより、ミラー部21は、梁部25aと梁部25bとを結ぶ線(仮想線)21aを回転軸として、図1(a)における上下方向に駆動する。
例えば、ミラー部21を図1(c)のGで示す状態に駆動させたときには、図4(b)に示すように、初期状態{図4(a)参照}に比べて、受光部11bと照射領域L2との重なり面積が大きくなり、受光部11dと照射領域L4との重なり面積が小さくなる。
このときの受光部11b及び受光部11dの少なくともいずれかの受光量を端子13b,13dを介して検出し、初期状態における受光量との差分を算出することによって、ミラー部21の傾斜角度θ1を求めることができる。
ミラー部21を図1(c)のHで示す状態に駆動させたときには、図4(c)に示すように、初期状態{図4(a)参照}に比べて、受光部11bと照射領域L2との重なり面積が小さくなり、受光部11dと照射領域L4との重なり面積が大きくなる。
このときの受光部11b及び受光部11dの少なくともいずれかの受光量を端子13b,13dを介して検出し、初期状態における受光量との差分を算出することによって、ミラー部21の傾斜角度θ2を求めることができる。
また、ミラー部21を図1(a)における上下方向に繰り返し駆動させると、受光部11b及び受光部11dの受光量がそれぞれ周期的に変動するため、受光部11b及び受光部11dの少なくともいずれかの受光量の変動周期を検出することにより、ミラー部21の図1(a)における上下方向の駆動周波数を求めることができる。
ミラー部21の図1(a)における上下方向の駆動周波数や傾斜角度θ1,θ2が、使用環境の変化等によって設定値からずれた場合は、圧電体膜33a,33bに印加する電圧をずれ量に応じて制御することによって、上記駆動周波数や傾斜角度θ1,θ2を設定値に調整することができる。
次に、ミラー部21を、図1(a)における左右方向に駆動する場合について説明する。
電磁コイル41及び電磁コイル44{図2(b)参照}の少なくともいずれかに外部から端子14a,14b,14c,14dを介して所定の電流を印加し、電磁コイル41,44と永久磁石50とによって磁界を発生させることにより、ミラー部21は、梁部26aと梁部26bとを結ぶ線(仮想線)21bを回転軸として、図1(a)における左右方向に駆動する。
例えば、電磁コイル41と永久磁石50とが反発し合うように又は電磁コイル44と永久磁石50とが引き合うように電流を印加することにより、ミラー部21を図1(b)のEに示す状態に駆動させることができる。
また、電磁コイル41と永久磁石50とが引き合うように又は電磁コイル44と永久磁石50とが反発し合うように電流を印加することにより、ミラー部21を図1(b)のFに示す状態に駆動させることができる。
ミラー部21を図1(b)のEで示す状態に駆動させたときには、図4(c)に示すように、初期状態{図4(a)参照}に比べて、受光部11aと照射領域L1との重なり面積が大きくなり、受光部11cと照射領域L3との重なり面積が小さくなる。
このときの受光部11a及び受光部11cの少なくともいずれかの受光量を端子13a,13cを介して検出し、初期状態における受光量との差分を算出することによって、ミラー部21の傾斜角度θ3を求めることができる。
また、ミラー部21を図1(b)のFで示す状態に駆動させたときには、図4(d)に示すように、初期状態{図4(a)参照}に比べて、受光部11aと照射領域L1との重なり面積が小さくなり、受光部11cと照射領域L3との重なり面積が大きくなる。
このときの受光部11a及び受光部11cの少なくともいずれかの受光量を端子13a,13cを介して検出し、初期状態における受光量との差分を算出することによって、ミラー部21の傾斜角度θ4を求めることができる。
また、ミラー部21を図1(a)における左右方向に繰り返し駆動させると、受光部11a及び受光部11cの受光量がそれぞれ周期的に変動するため、受光部11a及び受光部11cの少なくともいずれかの受光量の変動周期を検出することにより、ミラー部21の図1(a)における左右方向の駆動周波数を求めることができる。
ミラー部21の図1(a)における左右方向の駆動周波数や傾斜角度θ3,θ4が、使用環境の変化等によって設定値からずれた場合は、電磁コイル41,44に印加する電流をずれ量に応じて制御すること等によって、上記駆動周波数や傾斜角度θ3,θ4を設定値に調整することができる。
[光偏向器の製造方法]
実施例1における光偏向器の製造方法について、図1〜図3及び図5〜図7を用いて説明する。
図5は実施例1の光偏向器の製造方法において、特に光偏向部の製造方法を説明するための模式図であり、図5(a)は図2(b)に対応する平面図であり、図5(b)は図5(a)のA−B線における断面図、図5(c)は図5(a)のC−D線における断面図である。
図6は実施例1の光偏向器の製造方法において、特に光偏向部の製造方法を説明するための模式図であり、図6(a)は図2(a)に対応する平面図であり、図6(b)は図6(a)のA−B線における断面図、図6(c)は図6(a)のC−D線における断面図である。
図7は実施例1の光偏向器の製造方法において、特に支持基板の製造方法を説明するための模式図であり図3に対応するものである。
まず、前述した光偏向器1における光偏向部20の製造方法について説明する。
図5に示すように、基板60の裏面の所定の領域をエッチングして薄板状部61を形成する。
実施例1では、基板60に、2つのシリコン層間にシリコン酸化層が介在する3層構造のSOI(Silicon on Insulator)ウエハを用い、一方のシリコン層の所定の領域をシリコン酸化層をエッチングストップ層としてエッチングし、さらにこのエッチングによって露出したシリコン酸化層をエッチングすることによって、厚さが50μmの薄板状部61を形成した。
次に、図6に示すように、薄板状部61の所定の領域をエッチングすることにより、4つのピンホール22a,22b、22c、及び22dを有するミラー部21と、枠部23と、フレーム部24と、一対の梁部25a,25bと、一対の梁部26a,26bとを、一度に形成する。
ミラー部21において、一方の面は薄板状部61を形成する際にエッチングされたエッチング面であり、他方の面はエッチングされていない非エッチング面である。この非エッチング面が反射面A21になる。
次に、図2(a)に示すように、フレーム部24の表面に絶縁膜31a,31bを形成する。
その後、絶縁膜31a,31b上に下電極32a,32bを形成すると共にフレーム部24上に配線35c及び端子36cを形成する。
さらに、下電極32a,32bを覆うように圧電体膜33a,33bを形成する。
その後、圧電体膜33a,33b上に上電極34a,34bを形成すると共にフレーム部24上に配線35a,35b及び端子36a,36bを形成する。
次に、図2(b)に示すように、枠部23の裏面に電磁コイル41,44を形成すると共に、フレーム部24の裏面に端子42,43及び端子45,46を形成する。
上述した製造方法により、前述の光偏向部20を作製することができる。
次に、前述した光偏向器1における支持基板10の製造方法について説明する。
図7に示すように、基板70の表面に、前述した光偏向部20の4つのピンホール22a,22b、22c、及び22dに対応するように、4つの受光部11a,11b,11c,及び11dを形成する。
基板70の材料としては、シリコン(Si),ガリウム砒素(GaAs),インジウムリン(InP)等の半導体材料を用いることができる。受光部11a〜11dは、周知の半導体プロセスにより形成することができる。
次に、図3に示すように、基板70の表面に、配線12a〜12d及び端子13a〜13d,14a〜14dを形成することにより、前述の支持基板10を作製することができる。
その後、光偏向部20の端子42,43,45,及び46と、支持基板10の端子14a,14b,14c,及び14dとが互いに電気的に接続するように、光偏向部20と支持基板10とを貼り合わせることによって、上述した光偏向器1が得られる。
<実施例2>
[光偏向器の構成]
実施例2における光偏向器の構成について、図8〜図10を用いて説明する。
図8は本発明に係る光偏向器の実施例2を説明するための模式図であり、図8(a)は図1(a)に対応する平面図であり、図8(b)及び(c)は図1(b)及び(c)にそれぞれ対応する断面図である。
図9は図8の光偏向器における光偏向部を説明するための模式図であり、図8(a)及び図2(a)にそれぞれ対応する平面図である。
図10は図8の光偏向器における支持基板を説明するための模式図であり、図8(a)及び図3にそれぞれ対応する平面図である。
なお、実施例1と同じ構成部には説明をわかりやすくするために実施例1と同じ符号を付して説明する。
図8に示すように、光偏向器80は、支持基板90と、支持基板90の一面A90側に固定された光偏向部100と、支持基板90の一面A90に対向する他面B90側に固定された永久磁石50と、を有して構成されている。
光偏向部100について、図8と共に図9を用いて説明する。
実施例2の光偏向部100は、実施例1の光偏向部20に対し、ピンホールが2つである点で相違し、それ以外については実施例1と同じ構成である。
以下に、ミラー部21に2つのピンホール22b及び22cが形成されている場合について説明するが、2つのピンホールは22b及び22cの組み合わせに限定されるものではなく、他に実施例1の22a及び22b、22c及び22d、並びに22d及び22aのいずれかの組み合わせでもよい。
次に、支持基板90について、図8と共に図10を用いて説明する。
実施例2の支持基板90は、実施例1の支持基板10の受光部11bが形成されている位置に受光部91が形成され、受光部11cが形成されている位置に受光部92が形成されている。
受光部91及び92は、光偏向部100のピンホール22b及び22cにそれぞれ対向配置されている。
なお、受光部91及び92は、上述した2つのピンホールの組み合わせに応じて配置される。例えば、2つのピンホールが22a及び22bの組み合わせのときには、受光部91及び92は2つのピンホール22a及び22bにそれぞれ対向配置される。
図10に示すように、受光部91は、支持基板90の表面におけるミラー部21の重心O21に対応する位置から外周部に向かって(例えば図10における上方向)順次配置された複数の受光領域91a,91b,91c,91d,91e,91f,及び91gを有して構成されている。
複数の受光領域91a,91b,91c,91d,91e,91f,及び91gは、配線93a,93b,93c,93d,93e,93f,及び93gを介して端子94a,94b,94c,94d,94e,94f,及び94gに、それぞれ電気的に接続されている。
なお、実施例2では、受光領域を9つとしたが受光領域の個数はこれに限定されるものではない。
図10に示すように、受光部92は、支持基板90の表面におけるミラー部21の重心O21に対応する位置から外周部に向かって、かつ上記複数の受光領域91a〜91gの配列方向に直交する方向(図10における右方向)に順次配置された複数の受光領域92a,92b,92c,92d,92e,92f,及び92gで構成されている。
複数の受光領域92a,92b,92c,92d,92e,92f,及び92gは、配線95a,95b,95c,95d,95e,95f,及び95gを介して端子96a,96b,96c,96d,96e,96f,及び96gに、それぞれ電気的に接続されている。
光偏向部100と支持基板90とは、光偏向部100の端子42,43,45,及び46と、支持基板90の端子14a,14b,14c,及び14dとがそれぞれ電気的に接続されるように貼り合わされている。
[光偏向器の駆動方法]
実施例2における光偏向器の駆動方法について、図8及び図11を用いて説明する。
図11は上述した光偏向器80において、ミラー部の動きを検出する方法を説明するための模式図であり、図11(a)はミラー部を駆動させていない状態(初期状態)、図11(b)はミラー部を図8(b)のEで示す状態に駆動させたとき、図11(c)はミラー部を図8(b)のFで示す状態に駆動させたとき、図11(d)はミラー部を図8(c)のGで示す状態に駆動させたとき、図11(e)はミラー部を図8(c)のHで示す状態に駆動させたときの、受光部91及び92とピンホール22b及び22cを通って受光部91及び92に照射された光の照射領域との位置関係をそれぞれ示すものである。
まず、ミラー部21を、図8(a)における上下方向に駆動する場合について説明する。
図8(a)に示すように、外部からミラー部21に向かって照射された光は、ピンホール22b及び22cを通って受光部91及び92に到達する。
ここで、図11(a)〜(e)におけるL2及びL3は、外部からピンホール22b及び22cを通過して支持基板90の表面A90に照射された光の照射領域を示すものである。
外部から、端子36a及び36bと端子36cとに所定の電圧を印加して圧電体膜33a,33bをそれぞれ励振させることにより、ミラー部21は、梁部25aと梁部25bとを結ぶ線(仮想線)21aを回転軸として、図8(a)における上下方向に駆動する。
図11(a)に示すように、ミラー部21を駆動させる前の初期状態では、照射領域L2は、受光部91の主に受光領域91dに位置しており、ミラー部21を図8(c)のGで示す状態に駆動させたときには、図11(b)に示すように、照射領域L2は、例えば受光部91の受光領域91bに移動する。
受光部91において照射領域L2が位置する受光領域を特定することにより、ミラー部21の傾斜角度θ1を求めることができる。
また、受光部91の各受光領域91a〜91gと照射領域L2との重なり面積に応じてその受光領域における受光量が変化するため、各受光領域91a〜91gにおける受光量の比率を算出することにより、ミラー部21の傾斜角度θ1をより精度良く求めることができる。
ミラー部21を図8(c)のGで示す状態に駆動させたときには、図11(c)に示すように、照射領域L2は、例えば受光部91の受光領域91fに移動する。
受光部91において照射領域L2が位置する受光領域を特定することにより、ミラー部21の傾斜角度θ2を求めることができる。
また、受光部91の各受光領域91a〜91gと照射領域L2との重なり面積に応じてその受光領域における受光量が変化するため、各受光領域91a〜91gにおける受光量の比率を算出することにより、ミラー部21の傾斜角度θ2をより精度良く求めることができる。
また、ミラー部21を図8(a)における上下方向に繰り返し駆動させると、受光部91の受光領域91a〜91gにおける照射領域L2の位置が周期的に変動するため、この変動周期を検出することにより、ミラー部21の図8(a)における上下方向の駆動周波数を求めることができる。
ミラー部21の図8(a)における上下方向の駆動周波数や傾斜角度θ1,θ2が、使用環境の変化等によって設定値からずれた場合は、圧電体膜33a,33bに印加する電圧をずれ量に応じて制御すること等によって、上記駆動周波数や傾斜角度θ1,θ2を設定値に調整することができる。
次に、ミラー部21を、図8(a)における左右方向に駆動する場合について説明する。
電磁コイル41及び電磁コイル44{図2(b)参照}の少なくともいずれかに外部から端子14a,14b,14c,14dを介して所定の電流を印加し、電磁コイル41,44と永久磁石50とによって磁界を発生させることにより、ミラー部21は、梁部26aと梁部26bとを結ぶ線(仮想線)21bを回転軸として、図8(a)における左右方向に駆動する。
図11(a)に示すように、ミラー部21を駆動させる前の初期状態では、照射領域L3は、受光部92の主に受光領域92dに位置しており、ミラー部21を図8(b)のEで示す状態に駆動させたときには、図11(d)に示すように、照射領域L3は、例えば受光部92の受光領域92fに移動する。
受光部92において照射領域L3が位置する受光領域を特定することにより、ミラー部21の傾斜角度θ3を求めることができる。
また、受光部92の各受光領域92a〜92gと照射領域L3との重なり面積に応じてその受光領域における受光量が変化するため、各受光領域92a〜92gにおける受光量の比率を算出することにより、ミラー部21の傾斜角度θ3をより精度良く求めることができる。
ミラー部21を図8(b)のFで示す状態に駆動させたときには、図11(e)に示すように、照射領域L3は、例えば受光部92の受光領域92bに移動する。
受光部92において照射領域L3が位置する受光領域を特定することにより、ミラー部21の傾斜角度θ4を求めることができる。
また、受光部92の各受光領域92a〜92gと照射領域L3との重なり面積に応じてその受光領域における受光量が変化するため、各受光領域92a〜92gにおける受光量の比率を算出することにより、ミラー部21の傾斜角度θ4をより精度良く求めることができる。
また、ミラー部21を図8(a)における左右方向に繰り返し駆動させると、受光部92の受光領域92a〜92gにおける照射領域L3の位置が周期的に変動するため、この変動周期を検出することにより、ミラー部21の図8(a)における左右方向の駆動周波数を求めることができる。
ミラー部21の図8(a)における左右方向の駆動周波数や傾斜角度θ3,θ4が、使用環境の変化等によって設定値からずれた場合は、電磁コイル41,44に印加する電流をずれ量に応じて制御すること等によって、上記駆動周波数や傾斜角度θ3,θ4を設定値に調整することができる。
次に、上述した光偏向器1,80を用いた画像表示装置について、図12を用いて説明する。
図12は、上述した実施例1の光偏向器1または実施例2の光偏向器80を用いた画像表示装置200を説明するための模式図である。
図12に示すように、画像表示装置200は、赤色光LRを出射する赤色光源210と、緑色光LGを出射する緑色光源220と、青色光LBを出射する青色光源230と、赤色光LRを透過し緑色光LGを偏向するダイクロイックプリズム240と、赤色光LR及び緑色光LGを透過し青色光LBを偏向するダイクロイックプリズム250と、前述した光偏向器1または80と、を有して構成されている。
赤色光LR,緑色光LG,及び青色光LBは、光偏向器1,80の反射面A21でそれぞれ反射される。
そして、光偏向器1,80のミラー部21を水平方向{例えば図1(a)または図8(a)の左右方向}、及び垂直方向{例えば図1(a)または図8(a)の上下方向}に駆動させることにより、スクリーン等の被投影手段にフルカラーの画像を表示させることができる。
本発明の実施例は、上述した構成及び手順に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において変形例としてもよいのは言うまでもない。
例えば、実施例1の光偏向器1における支持基板10の受光部11a〜11dの形状はこれに限定されるものではない。
ここで、実施例1の光偏向器1における支持基板10の受光部11a〜11dの変形例について、受光部11cを例に挙げて図13を用いて説明する。
図13は、実施例1の光偏向器1における支持基板10の受光部11cの変形例を説明するための模式的平面図であり、図13(a)は実施例1の受光部11cを示し、図13(b)は変形例の受光部111を示すものである。
図13(b)に示すように、受光部111は、ピンホール22cを通過した赤色光LR(図12参照)を受光する受光領域111Rと、ピンホール22cを通過した緑色光LG(図12参照)を受光する受光領域111Gと、ピンホール22cを通過した青色光LB(図12参照)を受光する受光領域111Bと、を有して構成されている。
受光領域111R上には赤色光LRのみを透過する赤色フィルタが配置されており、受光領域111G上には緑色光LGのみを透過する緑色フィルタが配置されており、受光領域111B上には青色光LBのみを透過する青色フィルタが配置されている。
上述した構成により、各色光LR,LG,LBに対する受光量をそれぞれ算出することができるので、各色光LR,LG,LBの光出力をそれぞれ制御することができる。
また、上述した構成により、各色光LR、LG、LBに対する受光量の総和を算出することにより、ミラー部21の駆動を制御することができる。


に対するミラー部21の駆動をそれぞれ制御することができる。
また、実施例2の光偏向器80における支持基板90の受光部91,92の形状はこれに限定されるものではない。
ここで、実施例2の光偏向器80における支持基板90の受光部91,92の変形例について、受光部92を例に挙げて図14を用いて説明する。
図14は、実施例2の光偏向器80における支持基板90の受光部92の変形例を説明するための模式的平面図であり、図14(a)は実施例2の受光部92を示し、図14(b)は変形例の受光部192を示すものである。
図14(b)に示すように、受光部192は、照射領域L3の直径よりも狭い幅を有し、受光領域92a〜92g毎に、ピンホール22cを通過した赤色光LR(図12参照)を受光する受光領域192Rと、ピンホール22cを通過した緑色光LG(図12参照)を受光する受光領域192Gと、ピンホール22cを通過した青色光LB(図12参照)を受光する受光領域192Bと、を有する。
受光領域192R上には赤色光LRのみを透過する赤色フィルタが配置されており、受光領域192G上には緑色光LGのみを透過する緑色フィルタが配置されており、受光領域192B上には青色光LBのみを透過する青色フィルタが配置されている。
上述した構成により、各色光LR,LG,LBに対する受光量をそれぞれ算出することができるので、各色光LR,LG,LBの光出力をそれぞれ制御することができる。
また、上述した構成により、各色光LR、LG、LBに対する受光量の総和を算出することにより、ミラー部21の駆動を制御することができる。
1_光偏向器、 10_支持基板、 11a〜11d_受光部、 12a〜12d_配線、 13a〜13d,14a〜14d_端子、 20_光偏向部、 21_ミラー部、21a,21b_中心線、 22a〜22d_ピンホール、 23_枠部、 24_フレーム部、 25a,25b,26a,26b_梁部、 30a,30b_ミラー駆動部、 31a,31b_絶縁膜、 32a,32b_下電極、 33a,33b_圧電体膜、 34a,34b_上電極、 35a〜35c_配線、 36a〜36c,42,43,45,46_端子、 41,44_電磁コイル、 50_永久磁石、 A10,B10_面、 A21_反射面、 O21_重心

Claims (6)

  1. 外部から照射された光を反射する反射面、及び前記光を通過させるピンホールを有するミラー部と、
    前記ピンホールを通過した光を受光する受光部と、
    前記ミラー部を所定の回転軸で駆動させ、前記反射面で反射した光を所定の方向に偏向させる駆動手段と、
    を備えていることを特徴とする光偏向器。
  2. 前記受光部は、前記回転軸に直交する方向に対して幅が異なる形状を有していることを特徴とする請求項1記載の光偏向器。
  3. 前記受光部は、前記回転軸に直交する方向に順次配置された複数の受光領域を有していることを特徴とする請求項1記載の光偏向器。
  4. 前記受光部は、赤色光を受光する受光領域、緑色光を受光する受光領域、及び青色光を受光する受光領域を有していることを特徴とする請求項2記載の光偏向器。
  5. 前記受光部は、前記複数の受光領域毎に、赤色光を受光する赤色受光領域、緑色光を受光する緑色受光領域、及び青色光を受光する青色受光領域を有していることを特徴とする請求項3記載の光偏向器。
  6. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光偏向器と、
    前記光を出射する光源と、
    を備え、
    前記ミラー部を前記駆動手段によって前記所定の回転軸で駆動させると共に前記所定の回転軸とは異なる回転軸で駆動させ、前記反射面で反射した光を2次元的に偏向させて所定の画像を表示させることを特徴とする画像表示装置。
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