JP2010260235A - Embossing system and method for manufacturing workpiece - Google Patents

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Mineaki Eto
藤 峰 明 衛
Masayuki Nagashima
島 正 幸 長
Tomohiko Anazawa
澤 朝 彦 穴
Shota Kimura
村 正 太 木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an embossing system by which a rugged pattern can be formed on an original roll with excellent transfer efficiency while maintaining production efficiency. <P>SOLUTION: The embossing system 30 is an apparatus for forming the rugged pattern on the original roll 20 by embossing. The embossing system 30 includes a lamination device 40 for laminating a covering layer 28 including a metallic foil on the original roll, an embossing device 50 for embossing a laminate 29 of the original roll and the covering layer 28 and a peeling device 45 for peeling the covering layer from the embossed laminate. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、エンボス加工によって樹脂層を含む原反に凹凸柄を形成するエンボス加工システムに係り、とりわけ、生産効率を維持しながら優れた転写効率で凹凸柄を原反に形成することができるエンボス加工システムに関する。   The present invention relates to an embossing system for forming an uneven pattern on an original fabric including a resin layer by embossing, and in particular, an embossing capable of forming an uneven pattern on an original fabric with excellent transfer efficiency while maintaining production efficiency. It relates to the processing system.

また、本発明は、エンボス加工によって樹脂層を含む原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法に係り、とりわけ、加工品の生産効率を維持しながら優れた転写効率で凹凸柄を原反に形成することができるエンボス加工システムに関する。   The present invention also relates to a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric including a resin layer by embossing, and in particular, an uneven pattern with excellent transfer efficiency while maintaining the production efficiency of the processed product. The present invention relates to an embossing system that can be formed into a raw material.

今般、例えば特許文献1に示すように、エンボス加工は広く普及した加工方法となっている。特許文献1には、原反にエンボス加工を施すことにより、離型紙(加工品)を製造する方法が開示されている。この離型紙は、合皮製品、化粧シート、内装材等のシート状材料を作製するための型紙として用いられる。エンボス加工により離型紙を作製する際、被加工体となる原反は、離型紙の耐久性や離型紙を用いて作製されるシート状部材の光沢等を考慮し、紙や樹脂層を含んでいることが多い。   Recently, as shown in Patent Document 1, for example, embossing is a widely used processing method. Patent Document 1 discloses a method for producing a release paper (processed product) by embossing an original fabric. This release paper is used as a paper pattern for producing sheet-like materials such as synthetic leather products, decorative sheets, and interior materials. When producing release paper by embossing, the raw material to be processed includes paper and resin layers in consideration of the durability of the release paper and the gloss of the sheet-like member produced using the release paper. There are many.

特開2002−205311号公報JP 2002-205311 A

ところが、原反にエンボス加工を施した場合、原反に一度付与した凹凸形状はしだいに平坦化していってしまう。原反を加工してなる加工品が離型紙として用いられる場合、離型紙の凹凸形状が平坦化すると、合皮製品、化粧シート、内装材等のシート状材料に形成される柄の深さも浅くなってしまう。すなわち、離型紙の凹凸形状が平坦化していくと、シート状材料に所望の凹凸形状を転写することが不可能となり、もはや、離型紙として使用することができなくなる。   However, when embossing is performed on the original fabric, the uneven shape once imparted to the original fabric is gradually flattened. When a processed product made from a raw fabric is used as release paper, when the uneven shape of the release paper is flattened, the depth of the pattern formed on sheet-like materials such as synthetic leather products, decorative sheets, and interior materials becomes shallow. turn into. That is, when the uneven shape of the release paper is flattened, it becomes impossible to transfer the desired uneven shape to the sheet-like material, and it can no longer be used as the release paper.

このような不具合は、とりわけ、粘弾性の性質を持つ樹脂層を含んだ原反に対してエンボス加工を行った際に顕著となる。一般的に、原反の損傷を回避するため、エンボス加工を低圧力で行うことが好ましいとされている。この目的を達成するため、エンボス加工中に原反が加熱される。加熱された樹脂層は、粘性の特性を強く呈するようになり、低圧力でも変形可能となる。また、樹脂層を加熱することによって応力緩和時間を短くすることができるが、それでもなお、樹脂層の応力緩和時間は0ではない。したがって、エンボス型面が原反に押圧されている時間が短ければ、原反を完全に塑性変形させることができない。そして、エンボス型面による圧力から解放された樹脂層は、弾性の性質により、元の形状に復元しようとする。すなわち、エンボス型面が離間した後に、樹脂層を含む原反に一度付与された凹凸形状はしだいに平坦化していくようになる。   Such a defect becomes particularly noticeable when embossing is performed on a raw material including a resin layer having a viscoelastic property. In general, embossing is preferably performed at a low pressure in order to avoid damage to the original fabric. In order to achieve this purpose, the original fabric is heated during embossing. The heated resin layer has a strong viscosity characteristic and can be deformed even at a low pressure. Moreover, although the stress relaxation time can be shortened by heating the resin layer, the stress relaxation time of the resin layer is still not zero. Therefore, if the time during which the embossed mold surface is pressed against the original fabric is short, the original fabric cannot be completely plastically deformed. Then, the resin layer released from the pressure by the embossed mold surface tries to be restored to its original shape due to the elastic property. That is, after the embossed mold surfaces are separated, the uneven shape once imparted to the raw material including the resin layer is gradually flattened.

以上の不具合を回避するためには、原反にエンボス加工を施す際に、長時間にわたって原反にエンボス型面を押しつけておくことが必要となる。長時間にわたって原反にエンボス型面を押しつけておくと、紙や樹脂からなる原反をしっかりと塑性変形させることができる。しかしながら、このような解決方法によれば、原反にエンボス加工を施してなる加工品の生産効率が著しく低下してしまう。   In order to avoid the above problems, it is necessary to press the embossing mold surface against the original for a long time when embossing the original. When the embossed mold surface is pressed against the original for a long time, the original made of paper or resin can be firmly plastically deformed. However, according to such a solution, the production efficiency of a processed product obtained by embossing the original fabric is significantly reduced.

別の解決方法として、エンボス加工装置を複数台配置し、複数台のエンボス加工装置によって、連続並行して加工を行うことが考えられる。この方法によれば、生産効率を維持しながら、優れた転写効率で凹凸形状を原反に形成することができる可能性がある。しかしながら、実際には、原反の伸び等に起因して、各エンボス加工装置で形成される凹凸形状にずれが生じてしまうといった問題がある。結果として、各エンボス加工装置で形成される凹凸形状が重ならないため、深い凹凸形状を作製することすらできない。   As another solution, it is conceivable to arrange a plurality of embossing apparatuses and perform processing in parallel continuously by a plurality of embossing apparatuses. According to this method, there is a possibility that the concavo-convex shape can be formed in the original fabric with excellent transfer efficiency while maintaining the production efficiency. However, in practice, there is a problem in that the uneven shape formed by each embossing apparatus is displaced due to the elongation of the original fabric. As a result, since the uneven shape formed by each embossing device does not overlap, even a deep uneven shape cannot be produced.

本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成するエンボス加工システムであって、生産効率を維持しながら優れた転写効率で凹凸柄を原反に形成することができるエンボス加工システムを提供することを目的とする。また、本発明は、エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、加工品の生産効率を維持しながら優れた転写効率で凹凸柄を原反に形成することができる加工品の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of these points, and is an embossing system for forming an uneven pattern on an original fabric by embossing. The original pattern is formed with excellent transfer efficiency while maintaining production efficiency. It is an object to provide an embossing system that can be formed on the contrary. In addition, the present invention is a manufacturing method for producing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric by embossing, and forming an uneven pattern on an original fabric with excellent transfer efficiency while maintaining the production efficiency of the processed product. It is an object to provide a method for manufacturing a processed product that can be processed.

本発明による第1のエンボス加工システムは、エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成するエンボス加工システムであって、被覆層と前記原反とを重ね合わせる積層装置と、前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施すエンボス加工装置と、を備え、前記被覆層は、エンボス加工時に前記原反のエンボス型面側の表面をなす材料よりも応力緩和時間が短くなる材料から、形成されていることを特徴とする。   A first embossing system according to the present invention is an embossing system for forming a concavo-convex pattern on an original fabric by embossing, a laminating apparatus for superimposing a covering layer and the original fabric, the original fabric and the covering layer An embossing device for embossing the laminate, and the covering layer is formed from a material that has a stress relaxation time shorter than that of the material forming the surface of the original embossed mold surface during embossing. It is characterized by being.

本発明による第2のエンボス加工システムは、エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成するエンボス加工システムであって、金属箔を含む被覆層と前記原反とを重ね合わせる積層装置と、前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施すエンボス加工装置と、を備えることを特徴とする。   A second embossing system according to the present invention is an embossing system for forming a concavo-convex pattern on an original fabric by embossing, a laminating apparatus for superimposing a coating layer containing metal foil and the original fabric, and the original fabric And an embossing device for embossing the laminate of the covering layer.

本発明による第1または第2のエンボス加工システムが、前記エンボス加工を施された積層体から前記被覆層を剥がす剥離装置を、さらに備えるようにしてもよい。   The 1st or 2nd embossing system by this invention may further be provided with the peeling apparatus which peels off the said coating layer from the laminated body to which the said embossing was given.

本発明による第1または第2のエンボス加工システムが、前記エンボス加工を施された積層体を冷却する冷却装置を、さらに備えるようにしてもよい。   The first or second embossing system according to the present invention may further include a cooling device for cooling the embossed laminate.

また、本発明による第1または第2のエンボス加工システムにおいて、前記エンボス加工装置は、前記積層体を加熱しながら当該積層体にエンボス加工を施すように構成されていてもよい。   Moreover, the 1st or 2nd embossing system by this invention WHEREIN: The said embossing apparatus may be comprised so that the said embossing may be performed to the said laminated body, heating the said laminated body.

さらに、本発明による第1または第2のエンボス加工システムにおいて、前記積層装置は、前記積層体と前記被覆層とを互いに向けて押圧するニップロールであるようにしてもよい。   Furthermore, the 1st or 2nd embossing system by this invention WHEREIN: You may make it the said lamination | stacking apparatus be a nip roll which presses the said laminated body and the said coating layer toward each other.

本発明による第1の加工品の製造方法は、エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、被覆層と前記原反とを重ね合わせる工程と、前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施す工程と、を備え、前記被覆層は、前記エンボス加工を施す工程中に前記原反のエンボス型面側の表面をなす材料よりも応力緩和時間が短くなる材料から、形成されていることを特徴とする。   A manufacturing method of a first processed product according to the present invention is a manufacturing method of manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric by embossing, the step of overlaying a coating layer and the original fabric, A step of embossing the laminate of the original fabric and the coating layer, and the coating layer is more stressed than the material forming the surface on the embossing mold surface side of the original fabric during the embossing step. It is formed from a material whose relaxation time is shortened.

本発明による第2の加工品の製造方法は、エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、金属箔を含む被覆層と前記原反とを重ね合わせる工程と、前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施す工程と、を備えることを特徴とする。   The manufacturing method of the 2nd processed goods by this invention is a manufacturing method which forms an uneven | corrugated pattern in a raw fabric by embossing, and manufactures a processed product, Comprising: The coating layer containing metal foil and the said raw fabric are piled up. And a step of embossing the laminate of the original fabric and the covering layer.

本発明による第1または第2の加工品の製造方法が、前記エンボス加工を施された積層体から前記被覆層を剥がす工程を、さらに備えるようにしてもよい。   The first or second processed product manufacturing method according to the present invention may further include a step of peeling the covering layer from the embossed laminate.

また、本発明による第1または第2の加工品の製造方法が、前記エンボス加工を施された積層体を冷却する工程を、さらに備えるようにしてもよい。   In addition, the first or second processed product manufacturing method according to the present invention may further include a step of cooling the embossed laminate.

さらに、本発明による第1または第2の加工品の製造方法において、前記エンボス加工を施す工程中、前記積層体を加熱しながら当該積層体にエンボス加工を施すようにしてもよい。   Furthermore, in the manufacturing method of the 1st or 2nd processed goods by this invention, you may make it emboss in the said laminated body, heating the said laminated body during the process of performing the said embossing.

本発明による第1のエンボス加工方法は、エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、被覆層と前記原反とを重ね合わせる工程と、前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施す工程と、を備え、前記被覆層は、前記エンボス加工を施す工程中に前記原反のエンボス型面側の表面をなす材料よりも応力緩和時間が短くなる材料から、形成されていることを特徴とする。   A first embossing method according to the present invention is a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric by embossing, the step of overlaying a coating layer and the original fabric, And a step of embossing the laminated body of the coating layer, and the coating layer has a stress relaxation time longer than the material forming the surface of the original embossed mold surface during the embossing step. It is formed from the material which becomes short.

本発明による第2のエンボス加工方法は、エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、金属箔を含む被覆層と前記原反とを重ね合わせる工程と、前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施す工程と、を備えることを特徴とする。   A second embossing method according to the present invention is a manufacturing method for manufacturing a processed product by forming a concavo-convex pattern on an original fabric by embossing, the step of superimposing a coating layer containing a metal foil and the original fabric; And a step of embossing the laminate of the original fabric and the coating layer.

本発明によれば、生産効率を維持しながら優れた転写効率で凹凸柄を原反に形成することができる。   According to the present invention, it is possible to form a concavo-convex pattern on an original fabric with excellent transfer efficiency while maintaining production efficiency.

図1は、本発明による一実施の形態を説明するための図であり、エンボス加工システム、および、エンボス加工システムによる加工品の製造方法を示す模式図である。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment according to the present invention, and is a schematic diagram showing an embossing system and a method of manufacturing a workpiece by the embossing system. 図2は、加工品の製造方法を説明するための図であって、積層体を形成する工程を示す図である。FIG. 2 is a diagram for explaining a method for manufacturing a processed product, and is a diagram illustrating a process of forming a laminated body. 図3は、加工品の製造方法を説明するための図であって、エンボス加工を行う工程を示す図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a method for manufacturing a processed product, and is a diagram illustrating a process of embossing. 図4は、加工品の製造方法を説明するための図であって、積層体を冷却する工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram for explaining a method for manufacturing a processed product, and is a diagram illustrating a process of cooling the laminated body. 図5は、加工品の製造方法を説明するための図であって、被覆層を剥離させる工程を示す図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a method for manufacturing a processed product, and is a diagram illustrating a process of peeling the coating layer. 図6は、図2〜図5に示された製造方法によって得られた加工品(離型紙)を示す図である。FIG. 6 is a view showing a processed product (release paper) obtained by the manufacturing method shown in FIGS.

以下、図面を参照して本発明の
一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual product.

図1および図2は本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうちまず、主に図1を参照して、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造するエンボス加工システムについて説明する。ここで、図1は、エンボス装置およびエンボス装置による加工品の製造方法を説明するための模式図である。   1 and 2 are diagrams for explaining an embodiment according to the present invention. First, an embossing system for manufacturing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric will be described first with reference mainly to FIG. Here, FIG. 1 is a schematic diagram for explaining an embossing device and a method of manufacturing a processed product using the embossing device.

以下に説明するエンボス加工システム30は、原反20から離型紙25を加工品として作製するように構成されている。得られた離型紙25は、ビニールレザーや壁紙等のシート状部材を作製するための型紙として用いられる。とりわけ以下においては、作製された離型紙25が、合成皮革として用いられるシート状部材30を作製するための型紙として機能するようになる例を説明する。なお、この離型紙25は繰り返し用いられ、複数枚のシート状部材を作製することができる。   The embossing system 30 described below is configured to produce a release paper 25 from the raw fabric 20 as a processed product. The obtained release paper 25 is used as a paper pattern for producing sheet-like members such as vinyl leather and wallpaper. In particular, an example will be described below in which the produced release paper 25 functions as a paper pattern for producing a sheet-like member 30 used as synthetic leather. The release paper 25 is repeatedly used, and a plurality of sheet-like members can be produced.

図1に示すように、エンボス加工システム30は、被覆層28と原反20とを重ね合わせる積層装置40と、原反20と被覆層28との積層体29にエンボス加工を施すエンボス加工装置50と、エンボス加工を施された積層体29から被覆層28を剥がす剥離装置45と、を有している。また、エンボス加工システム30は、エンボス加工を施された積層体29を冷却する冷却装置60を、さらに有している。   As shown in FIG. 1, an embossing system 30 includes a laminating apparatus 40 that superimposes a covering layer 28 and an original fabric 20, and an embossing apparatus 50 that embosses a laminate 29 of the original fabric 20 and the covering layer 28. And a peeling device 45 that peels the coating layer 28 from the laminated body 29 that has been embossed. The embossing system 30 further includes a cooling device 60 that cools the embossed laminate 29.

まず、積層装置40について説明する。積層装置40は、シート状の原反20上に被覆シート27を積層するニップロールとして構成されている。この積層装置40は、順次供給されてくる原反20と、順次供給されてくる被覆シート27からなる被覆層28と、を有した積層体29(図2参照)を順次形成していく。   First, the stacking apparatus 40 will be described. The laminating apparatus 40 is configured as a nip roll for laminating the covering sheet 27 on the sheet-shaped raw fabric 20. The laminating apparatus 40 sequentially forms a laminated body 29 (see FIG. 2) having an original fabric 20 that is sequentially supplied and a covering layer 28 that is sequentially provided with a covering sheet 27.

なお、本明細書において、「積層」するとは、隣り合う二つの層を互いに対して固定することを要件とはしない。したがって、「積層」とは、接着剤(粘着材を含む概念)を用いて、二つの層を互いに対して接合する態様等に限られない。例えば、隣り合う二つの層を互いに対して単に重ね合わせただけの状態、言い換えると、重力や摩擦力のみによって互いに拘束され合っている状態をも、本明細書で用いる「積層」に含まれる。図示する例において、ニップロールからなる積層装置40は、原反20上に被覆シート27を直接載置し、さらに、互いに向けて押圧するように構成されている(図2参照)。   In this specification, “stacking” does not require fixing two adjacent layers to each other. Therefore, “lamination” is not limited to an aspect in which two layers are bonded to each other using an adhesive (a concept including an adhesive material). For example, a state in which two adjacent layers are simply overlapped with each other, in other words, a state in which only two layers are constrained to each other only by gravity or frictional force is also included in the “lamination” used in this specification. In the illustrated example, the laminating apparatus 40 composed of nip rolls is configured to place the covering sheet 27 directly on the raw fabric 20 and further press it toward each other (see FIG. 2).

次に、エンボス加工装置50について説明する。図1に示すように、エンボス加工装置50は、原反20に形成されるべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有するエンボス型52と、エンボス型52に対向して配置され、エンボス型52との間で原反20を圧するようになるバックアップ体56と、を有している。本実施の形態において、エンボス型52は、ロール状のエンボスロールとして構成されている。エンボスロール52は回転駆動されるロール本体53を有し、ロール本体53の外周面には凹凸形状を有するエンボス型面53aが形成されている。本実施の形態においては、合成皮革用の離型紙10を作製することができるよう、エンボス型面53aの凹凸形状は、原反20に皮模様を付与し得るように形成されている。   Next, the embossing apparatus 50 will be described. As shown in FIG. 1, the embossing device 50 includes an embossing mold 52 having a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex pattern to be formed on the raw fabric 20, and the embossing mold 52. And a backup body 56 that presses the raw fabric 20 between them. In the present embodiment, the embossing mold 52 is configured as a roll-shaped embossing roll. The embossing roll 52 has a roll main body 53 that is rotationally driven, and an embossing-type surface 53 a having an uneven shape is formed on the outer peripheral surface of the roll main body 53. In this Embodiment, the uneven | corrugated shape of the embossing type | mold surface 53a is formed so that a leather pattern can be provided to the raw fabric 20 so that the release paper 10 for synthetic leather can be produced.

また、本実施の形態において、バックアップ体56は、エンボスロール52に対向して配置され、原反20の移動速度に同期して回転可能なバックアップロールとして構成されている。図3に示すように、バックアップロール56は、エンボスロール52との間で原反20を挟圧するようになる。   Moreover, in this Embodiment, the backup body 56 is arrange | positioned facing the embossing roll 52, and is comprised as a backup roll which can be rotated synchronizing with the moving speed of the original fabric 20. FIG. As shown in FIG. 3, the backup roll 56 sandwiches the raw fabric 20 with the embossing roll 52.

エンボス加工装置50は、エンボスロール52のロール本体53に連結され、ロール本体53を回転駆動する駆動機構(図示せず)と、バックアップロール56に連結され、バックアップロール56を回転駆動する駆動機構(図示せず)と、をさらに有している。これらの駆動機構によって、エンボスロール52およびバックアップロール56は、原反20の搬送速度に同期するようにして回転し、エンボス型面の凹凸形状の形状を原反20に転写していく。   The embossing device 50 is connected to a roll main body 53 of the embossing roll 52, and a drive mechanism (not shown) that rotationally drives the roll main body 53 and a drive mechanism that is connected to the backup roll 56 and rotationally drives the backup roll 56 ( (Not shown). By these drive mechanisms, the embossing roll 52 and the backup roll 56 rotate in synchronization with the conveyance speed of the original fabric 20 to transfer the uneven shape of the embossed mold surface to the original fabric 20.

なお、本実施の形態においては、バックアップロール56の外周面にも、エンボス型面53aの凹凸形状の形状に対応した凹凸形状が形成されている。これにより、エンボスロール52とバックアップロール56との間を通過する原反20(積層体29)に、極めて精度良く高低差のある凹凸柄を転写することができる。   In the present embodiment, an uneven shape corresponding to the uneven shape of the embossed mold surface 53 a is also formed on the outer peripheral surface of the backup roll 56. As a result, it is possible to transfer an uneven pattern having a height difference to the original fabric 20 (laminated body 29) passing between the embossing roll 52 and the backup roll 56 with extremely high accuracy.

また、図1に点線で示すように、エンボスロール52およびバックアップロール56は、それぞれ、加熱装置(加熱機構)54,58を有している。加熱装置54,58は、原反20をエンボス加工している際に、当該原反20を加熱することができるように構成されている。図示する例において、加熱装置54,58は、それぞれ、エンボスロール52およびバックアップロール56に内蔵され、ロール外周面を加熱するようになっている。そして、外周面を介して、加熱装置54,58の熱が原反20(積層体29)に伝達されるようになっている。   Further, as indicated by dotted lines in FIG. 1, the embossing roll 52 and the backup roll 56 have heating devices (heating mechanisms) 54 and 58, respectively. The heating devices 54 and 58 are configured to heat the original fabric 20 when the original fabric 20 is embossed. In the illustrated example, the heating devices 54 and 58 are incorporated in the embossing roll 52 and the backup roll 56, respectively, and heat the outer peripheral surface of the roll. And the heat | fever of the heating apparatuses 54 and 58 is transmitted to the raw fabric 20 (laminated body 29) via an outer peripheral surface.

図1に示すように、エンボスロール52およびバックアップロール56は、上述した積層装置40の下流側に配置されている。したがって、被加工体としての原反20は、まず、積層装置40を構成するニップロール間を通過し、その後、エンボスロール52とバックアップロール56との間を通過するようになる。この際、積層装置40を構成するニップロールは、エンボス加工装置50へ積層体29を案内する案内ロールとしても機能する。   As shown in FIG. 1, the embossing roll 52 and the backup roll 56 are arranged on the downstream side of the laminating apparatus 40 described above. Accordingly, the raw fabric 20 as the workpiece is first passed between the nip rolls constituting the laminating apparatus 40 and then passes between the embossing roll 52 and the backup roll 56. Under the present circumstances, the nip roll which comprises the lamination apparatus 40 functions also as a guide roll which guides the laminated body 29 to the embossing apparatus 50. FIG.

次に、剥離装置45について説明する。剥離装置45は、積層装置40と同様に、一対のロールとして形成されている。一対のロールからなる剥離装置45は、後述する被覆層回収装置34と協同することにより、積層体29から被覆層28を取り除く、すなわち、加工品(離型紙)25から被覆層45を剥離させるようになる。この剥離装置40は、エンボス加工装置50の下流側に配置され、エンボス加工装置50で加工された積層体29(加工品25および被覆層28)を誘導する案内トールとしても機能する。   Next, the peeling device 45 will be described. The peeling device 45 is formed as a pair of rolls similarly to the laminating device 40. The peeling device 45 composed of a pair of rolls removes the coating layer 28 from the laminated body 29 in cooperation with a coating layer recovery device 34 described later, that is, peels the coating layer 45 from the processed product (release paper) 25. become. The peeling device 40 is disposed on the downstream side of the embossing device 50, and also functions as a guide tor that guides the laminated body 29 (the processed product 25 and the coating layer 28) processed by the embossing device 50.

次に、冷却装置60について説明する。冷却装置60は、エンボス加工を施された積層体29(加工品25および被覆層28)を冷却し得るように構成されている。図示する例において、冷却装置60は、冷却媒体を供給するノズルとして形成されている。図1に示すように、冷却装置60を構成するノズルは、エンボス加工を施されたシート状の積層体29の両方の面の側に、それぞれ、配置されている。また、冷却装置60を構成するノズルは、エンボス加工装置50と剥離装置45との間に配置されている。すなわち、エンボス加工を施されたシート状の積層体29は、両方の面の側から冷却媒体を吹き付けられ、冷却されるようになっている。なお、冷媒としては、エンボス加工装置50から送り出された積層体29の温度未満の温度を有する気体(例えば空気や窒素ガス)や、液体窒素等から適宜選択され得る。   Next, the cooling device 60 will be described. The cooling device 60 is configured to cool the laminated body 29 (the processed product 25 and the coating layer 28) that has been subjected to embossing. In the illustrated example, the cooling device 60 is formed as a nozzle that supplies a cooling medium. As shown in FIG. 1, the nozzles constituting the cooling device 60 are respectively arranged on both sides of the embossed sheet-like laminate 29. Further, the nozzle constituting the cooling device 60 is arranged between the embossing device 50 and the peeling device 45. That is, the embossed sheet-like laminate 29 is cooled by spraying a cooling medium from both sides. In addition, as a refrigerant | coolant, it can select suitably from the gas (for example, air and nitrogen gas) which has temperature lower than the temperature of the laminated body 29 sent out from the embossing apparatus 50, liquid nitrogen, etc.

ところで、エンボス加工システム30は、原反20を供給する原反供給装置(図示せず)と、エンボス加工を施されてなる加工品を回収する加工品回収装置(図示せず)と、被覆層28をなすようになる被覆シート27を供給する被覆層供給装置32と、加工品から剥がされた被覆シート27を回収する被覆層回収装置34と、をさらに有している。   By the way, the embossing system 30 includes a raw material supply device (not shown) that supplies the raw material 20, a processed product recovery device (not shown) that recovers a processed product that has been embossed, and a coating layer. 28 further includes a coating layer supply device 32 that supplies the coating sheet 27 that forms 28, and a coating layer collection device 34 that collects the coating sheet 27 peeled off from the processed product.

そして、本実施の形態において、図示しない原反供給装置から供給される原反20は、紙からなる基材24と、基材24上に積層された合成樹脂層22と、からなっている(図2参照)。このような原反20は、例えば、所望の合成樹脂を溶剤と配合して基材24上にコーティングすることにより、製造され得る。この場合、原反20の合成樹脂層22は基材24上に平たく延び広がるとともに、優れた光沢を有するようになる。合成樹脂層22に含まれる樹脂は、例えばポリプロピレン等、製造されるべき離型紙25に対する要求に応じて種々選択される。具体例として、合成皮革用の離型紙を作製するためのエンボス加工システム30においては、30μm〜50μmの厚さを有したポリプロピレンからなる層を合成樹脂層22とし、150μm〜200μmの厚さを有した紙を基材24とすることができる。   And in this Embodiment, the raw fabric 20 supplied from the raw fabric supply apparatus which is not shown in figure consists of the base material 24 which consists of paper, and the synthetic resin layer 22 laminated | stacked on the base material 24 ( (See FIG. 2). Such an original fabric 20 can be manufactured, for example, by blending a desired synthetic resin with a solvent and coating the base material 24. In this case, the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20 extends flatly on the base material 24 and has an excellent gloss. The resin contained in the synthetic resin layer 22 is variously selected according to the request for the release paper 25 to be manufactured, such as polypropylene. As a specific example, in the embossing system 30 for producing a release paper for synthetic leather, a layer made of polypropylene having a thickness of 30 μm to 50 μm is defined as a synthetic resin layer 22 and has a thickness of 150 μm to 200 μm. The finished paper can be used as the base material 24.

また、図3に示すように、原反20のうちの合成樹脂層22が、エンボスロール52のエンボス型面53aに対面し、原反20のうちの基材24が、バックアップロール56に対面するように、原反供給装置から原反20が供給される。   Further, as shown in FIG. 3, the synthetic resin layer 22 in the original fabric 20 faces the embossing mold surface 53 a of the embossing roll 52, and the base material 24 in the original fabric 20 faces the backup roll 56. Thus, the raw fabric 20 is supplied from the raw fabric supply device.

一方、被覆層供給装置32から供給される被覆シート27は、エンボス加工装置50でのエンボス加工時の条件下において、原反20のエンボス型面53の側に位置する表面をなす材料(つまり、合成樹脂層22をなす材料)よりも、応力緩和時間が短い材料から形成されている。本実施の形態において、被覆シート27は、銅やアルミニウム等からなる箔として形成されている。また図1および図2に示すように、原反20のうちの合成樹脂層22の側に被覆層20が積層されるよう、被覆層積層装置32から被覆シート27が供給される。   On the other hand, the covering sheet 27 supplied from the covering layer supply device 32 is a material (that is, a material forming a surface located on the embossing mold surface 53 side of the raw fabric 20 under the conditions at the time of embossing in the embossing device 50 (that is, The material is made of a material having a stress relaxation time shorter than that of the material forming the synthetic resin layer 22. In the present embodiment, the covering sheet 27 is formed as a foil made of copper, aluminum or the like. Further, as shown in FIGS. 1 and 2, a covering sheet 27 is supplied from a covering layer laminating apparatus 32 so that the covering layer 20 is laminated on the synthetic resin layer 22 side of the raw fabric 20.

なお、被覆層28をなすようになる被覆シート27の厚さや材質は、後述するエンボス加工工程において、被覆シート27(被覆層28)が、エンボス型面25の凹凸形状に追従して塑性変形し得るように選択される。すなわち、被覆層28をなす被覆シート27の厚さや材質は、エンボス型面25の凹凸形状や加工圧力を適宜考慮して、設計される。例えば、合成皮革用の離型紙を作製するためのエンボス加工システム30においては、10μm〜20μmの厚さを有したアルミニウム箔を被覆シート27(被覆層28)として用いることができる。   Note that the thickness and material of the covering sheet 27 that forms the covering layer 28 are such that the covering sheet 27 (covering layer 28) plastically deforms following the uneven shape of the embossing mold surface 25 in an embossing process described later. Selected to get. That is, the thickness and material of the covering sheet 27 forming the covering layer 28 are designed in consideration of the uneven shape of the embossing mold surface 25 and the processing pressure as appropriate. For example, in the embossing system 30 for producing a release paper for synthetic leather, an aluminum foil having a thickness of 10 μm to 20 μm can be used as the covering sheet 27 (covering layer 28).

次にこのような構成からなるエンボス加工システム30を用い、加工品(離型紙)25を製造する方法について説明する。   Next, a method of manufacturing a processed product (release paper) 25 using the embossing system 30 having such a configuration will be described.

まず、原反供給装置から原反20が繰り出され、この原反20は積層装置40を構成する一対のニップロールの間に供給される。ここで供給される原反20は、上述したように、紙からなる基材24と、基材24上に積層された合成樹脂層22と、を有している(図2参照)。   First, the original fabric 20 is fed out from the original fabric supply device, and this original fabric 20 is supplied between a pair of nip rolls constituting the laminating device 40. The raw fabric 20 supplied here has the base material 24 made of paper and the synthetic resin layer 22 laminated on the base material 24 as described above (see FIG. 2).

また、原反20の供給と並行して、被覆層供給装置32から被覆シート27が繰り出され、この被覆シート27も積層装置40を構成する一対のニップロールの間に供給される。図2に示すように、被覆シート27は、金属箔からなる被覆層28のみによって構成されている。   In parallel with the supply of the raw fabric 20, the coating sheet 27 is fed out from the coating layer supply device 32, and this coating sheet 27 is also supplied between a pair of nip rolls constituting the laminating device 40. As shown in FIG. 2, the covering sheet 27 is constituted only by a covering layer 28 made of a metal foil.

そして、図2に示すように、積層装置40において、順次供給されてくる原反20上に、順次供給されてくる被覆シート27が重ね合わせられる。このようにして、積層装置40において、原反20と被覆層28とからなる積層体29が順次作製されていく。図2に示すように、作製される積層体29において、金属箔からなる被覆層28は、原反20の合成樹脂層22上に配置されている。   Then, as shown in FIG. 2, in the stacking apparatus 40, the coating sheets 27 that are sequentially supplied are superposed on the raw materials 20 that are sequentially supplied. In this way, in the laminating apparatus 40, the laminated body 29 composed of the raw fabric 20 and the coating layer 28 is sequentially produced. As shown in FIG. 2, in the manufactured laminate 29, the coating layer 28 made of metal foil is disposed on the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20.

その後、積層体29は、エンボス加工装置50に搬送されていく。図1および図3に示すように、積層体29は、エンボス加工装置50のエンボスロール52とバックアップロール56との間に送り込まれ、エンボスロール52とバックアップロール56との間で挟圧されるようになる。   Thereafter, the laminate 29 is conveyed to the embossing apparatus 50. As shown in FIG. 1 and FIG. 3, the laminate 29 is fed between the embossing roll 52 and the backup roll 56 of the embossing apparatus 50 so as to be sandwiched between the embossing roll 52 and the backup roll 56. become.

なお、図3に示すように、エンボス型面53aは、積層体29のうちの被覆層28に当接するようになる。また、図3に示すように、原反20については、合成樹脂層22がエンボス加工装置50のエンボスロール52側に位置し、基材24がバックアップロール56側に位置するようになる。すなわち、バックアップロール56の外周面は、原反20の基材24に当接するようになる。   As shown in FIG. 3, the embossed mold surface 53 a comes into contact with the coating layer 28 in the stacked body 29. As shown in FIG. 3, with respect to the raw fabric 20, the synthetic resin layer 22 is positioned on the embossing roll 52 side of the embossing apparatus 50, and the base material 24 is positioned on the backup roll 56 side. That is, the outer peripheral surface of the backup roll 56 comes into contact with the base material 24 of the original fabric 20.

このエンボス加工工程中、エンボス加工装置50に内蔵された加熱装置54,58によって、例えば、エンボスロール52のエンボス型面53aは、90℃〜150℃程度の温度に加熱され、バックアップロール56の外周面は40℃〜90℃程度の温度に加熱され得る。この結果、エンボスロール52およびバックアップロール56の間を通過する積層体29は、加熱されながらエンボス加工を施されるようになる。とりわけ、積層体29のうちのエンボス型面53aに接触する被覆層28は、金属箔からなり、高い熱伝達率および熱伝導率を有している。このため、エンボス加工工程中に、エンボスロール52およびバックアップロール56の外表面に直接接触することのない原反20の合成樹脂層まで、エンボス加工装置50に内蔵された加熱装置54,58からの熱を高い効率で均一に伝達させることができる。   During this embossing process, for example, the embossing mold surface 53 a of the embossing roll 52 is heated to a temperature of about 90 ° C. to 150 ° C. by the heating devices 54, 58 built in the embossing device 50, and the outer periphery of the backup roll 56. The surface can be heated to a temperature on the order of 40 ° C to 90 ° C. As a result, the laminated body 29 passing between the embossing roll 52 and the backup roll 56 is embossed while being heated. In particular, the coating layer 28 in contact with the embossed mold surface 53a of the laminate 29 is made of a metal foil and has a high heat transfer coefficient and heat conductivity. For this reason, during the embossing process, from the heating devices 54 and 58 incorporated in the embossing device 50, the synthetic resin layer of the raw fabric 20 that does not directly contact the outer surfaces of the embossing roll 52 and the backup roll 56 is obtained. Heat can be uniformly transmitted with high efficiency.

以上のようなエンボス加工工程において、厚さを適切に設定された金属箔からなる被覆層28は、エンボス加工装置50からの圧力によって塑性変形することが可能となる。これにより、被覆層28はエンボス型面53aの外輪郭に沿うように変形され得る。   In the embossing process as described above, the coating layer 28 made of a metal foil having an appropriately set thickness can be plastically deformed by the pressure from the embossing device 50. Thereby, the coating layer 28 can be deformed so as to follow the outer contour of the embossed mold surface 53a.

また、エンボス加工工程中、被覆層28に隣接する原反20の合成樹脂層22は、加熱されて、粘弾性流体としての性質をより強く呈するようになる。このため、合成樹脂22の粘性に起因して、エンボス型面53aの外輪郭に精確に沿うように変形することが可能となる。また、バックアップロール56の外周面にも、エンボス型面53aの凹凸形状に対応した凹凸形状が形成されている。したがって、バックアップロール56の外周面に当接する原反20の基材24も、合成樹脂層22とともに、精度良く所望の形状に変形する。   Further, during the embossing process, the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20 adjacent to the coating layer 28 is heated and exhibits a property as a viscoelastic fluid more strongly. For this reason, it becomes possible to deform | transform so that it may follow the outer contour of the embossing type | mold surface 53a exactly according to the viscosity of the synthetic resin 22. FIG. In addition, a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the embossed mold surface 53 a is also formed on the outer peripheral surface of the backup roll 56. Therefore, the base material 24 of the raw fabric 20 that comes into contact with the outer peripheral surface of the backup roll 56 is also accurately deformed into a desired shape together with the synthetic resin layer 22.

このようにして、エンボス型面53aの凹凸形状が、積層体29に高い精度で、転写され、積層体29(原反20)に所望の凹凸柄が形成されるようになる。凹凸柄を形成された積層体29は、その後、剥離装置45に向けて搬送される。   In this way, the concavo-convex shape of the embossed mold surface 53a is transferred to the laminate 29 with high accuracy, and a desired concavo-convex pattern is formed on the laminate 29 (original fabric 20). The laminated body 29 on which the concave / convex pattern is formed is then conveyed toward the peeling device 45.

ところで、上述したように、原反20の合成樹脂層22は、もともと粘弾性としての性質を有しており、さらにエンボス加工工程時には、加熱されていることから粘弾性としての性質をより強く有するようになる。したがって、エンボスロール52とバックアップロール56との間において、合成樹脂層22は、その粘性性質に起因して、或る程度自由に変形し得るが、その弾性性質に起因して合成樹脂層22の内部には応力が発生する。そして、エンボスロール52とバックアップロール56との間で積層体29(合成樹脂層22)が加圧されている時間は短時間であることから、積層体29(合成樹脂層22)がエンボス加工装置50から送り出される際に、合成樹脂層22の内部に発生した応力は、ほぼそのまま残留している。   By the way, as described above, the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20 originally has viscoelastic properties, and more strongly has viscoelastic properties because it is heated during the embossing process. It becomes like this. Therefore, between the embossing roll 52 and the backup roll 56, the synthetic resin layer 22 can be deformed to some extent due to its viscous property, but due to its elastic property, the synthetic resin layer 22 Stress is generated inside. And since the time which the laminated body 29 (synthetic resin layer 22) is pressurized between the embossing roll 52 and the backup roll 56 is a short time, the laminated body 29 (synthetic resin layer 22) is an embossing apparatus. The stress generated in the synthetic resin layer 22 when being sent out from the resin 50 remains almost as it is.

このため、積層体29(合成樹脂層22)がエンボス加工装置50から送り出された後、合成樹脂層22は、この内部応力に起因して、変形しようとする。同様に、原反20の紙からなる基材22も、エンボス加工装置50での加圧時間が短いことから、エンボス加工工程中に完全に変形しきっていない。すなわち、エンボス加工装置50によって加圧されている間、原反20は所望の形状に変形され得るが、エンボス加工装置50から送り出された後、原反20は加工前の形状(平らな形状)に戻ろうとする。したがって、エンボス加工装置50によっていったん所望の凹凸柄を原反20に形成することができたとしても、その後に、原反20が平坦化してしまうという不都合が生じ得る。   For this reason, after the laminated body 29 (synthetic resin layer 22) is sent out from the embossing apparatus 50, the synthetic resin layer 22 tends to be deformed due to the internal stress. Similarly, since the pressurization time in the embossing apparatus 50 is short, the base material 22 made of paper of the original fabric 20 is not completely deformed during the embossing process. That is, while being pressed by the embossing device 50, the original fabric 20 can be deformed into a desired shape. However, after being fed out from the embossing device 50, the original fabric 20 has a shape before processing (flat shape). Trying to return. Therefore, even if a desired concavo-convex pattern can be once formed on the original fabric 20 by the embossing apparatus 50, there may be a disadvantage that the original fabric 20 is flattened thereafter.

一方、本実施の形態においては、原反20の合成樹脂層22上には金属箔からなる被覆層28が積層され、合成樹脂層22を含む原反20が被覆層28とともにエンボス加工を受けている。エンボス加工時およびエンボス加工後の温度が低下しきっていないとき、この金属箔からなる被覆層28の応力緩和時間は、合成樹脂層22の応力緩和時間と比較して、格段に短くなっている。したがって、エンボス加工装置50による短時間での加圧により、被覆層28は十分に塑性変形することができる。このため、積層体50がエンボス加工装置50から送り出された後においても、被覆層28は、エンボス型面53aから付与された凹凸形状を安定して維持することができる。そして、この凹凸形状を維持する被覆層28が原反20に積層された状態で原反20とともに搬送され、この搬送期間、被覆層28が原反20の復元力に抗していることによって、原反20の平坦化を大幅に抑制することができる。   On the other hand, in the present embodiment, a coating layer 28 made of a metal foil is laminated on the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20, and the raw fabric 20 including the synthetic resin layer 22 is embossed together with the coating layer 28. Yes. When the temperature at the time of embossing and after embossing is not lowered, the stress relaxation time of the coating layer 28 made of this metal foil is significantly shorter than the stress relaxation time of the synthetic resin layer 22. Therefore, the coating layer 28 can be sufficiently plastically deformed by pressing in a short time by the embossing device 50. For this reason, even after the laminated body 50 is sent out from the embossing apparatus 50, the coating layer 28 can stably maintain the uneven shape provided from the embossing mold surface 53a. And, the coating layer 28 that maintains the uneven shape is conveyed with the original fabric 20 in a state of being laminated on the original fabric 20, and during this conveyance period, the coating layer 28 resists the restoring force of the original fabric 20, Flattening of the raw fabric 20 can be significantly suppressed.

また、図1および図4に示すように、積層体29は、エンボス加工装置50から送り出された後、剥離装置45に到達するまでの間、冷却装置60によって積極的に冷却される。上述したように、積層体29のうちの被覆層28は、金属箔からなり、高い熱伝達率および熱伝導率を有している。このため、積層体20の温度を迅速に低下させることができる。   As shown in FIGS. 1 and 4, the laminate 29 is actively cooled by the cooling device 60 until it reaches the peeling device 45 after being sent out from the embossing device 50. As described above, the coating layer 28 of the laminate 29 is made of a metal foil and has a high heat transfer coefficient and heat conductivity. For this reason, the temperature of the laminated body 20 can be reduced rapidly.

積層体29の温度低下にともなって、原反20の合成樹脂層22の温度が低下すると、合成樹脂層22をなす樹脂材料の粘性性質は著しく低下する。すなわち、合成樹脂層22は、流動性を失って硬化し、容易に変形しないようになる。このため、積層体20が冷却されると、合成樹脂層22が、高い流動性を有していたエンボス加工時の変形で蓄積された内部応力によって、もはや平坦化されることはない。また、平坦化しようとする紙の復元力はそもそも微小であり、硬化した合成樹脂層22によって、十分に、紙からなる基材24の平坦化を防止することができる。   When the temperature of the synthetic resin layer 22 of the raw fabric 20 decreases with the temperature decrease of the laminate 29, the viscosity property of the resin material forming the synthetic resin layer 22 is significantly decreased. That is, the synthetic resin layer 22 loses fluidity and hardens and does not easily deform. For this reason, when the laminated body 20 is cooled, the synthetic resin layer 22 is no longer flattened by the internal stress accumulated by the deformation at the time of embossing, which has high fluidity. Further, the restoring force of the paper to be flattened is originally very small, and the hardened synthetic resin layer 22 can sufficiently prevent the flattening of the base material 24 made of paper.

このようにして、図1および図5に示すように、原反20上に積層された被覆層28によって原反20の変形が抑制されながら、積層体20が剥離装置45に搬送されていく。剥離装置45において、積層体29から被覆層28が取り除かれる。すなわち、凹凸形状を形成された原反20から、被覆層28(被覆シート29)が、剥がされる。剥離させられた被覆層28(被覆シート29)は、被覆層回収装置34に巻き取られる。このようにして、図6に示すように、凹凸形状を形成された原反20からなる加工品(離型紙)25が得られるようになる。   In this way, as shown in FIGS. 1 and 5, the laminate 20 is conveyed to the peeling device 45 while the deformation of the original fabric 20 is suppressed by the coating layer 28 laminated on the original fabric 20. In the peeling device 45, the coating layer 28 is removed from the laminate 29. That is, the covering layer 28 (covering sheet 29) is peeled off from the original fabric 20 on which the uneven shape is formed. The peeled coating layer 28 (covering sheet 29) is taken up by the coating layer collecting device 34. In this way, as shown in FIG. 6, a processed product (release paper) 25 made of the raw fabric 20 having a concavo-convex shape is obtained.

以上のような本実施の形態によれば、被覆層28とともに原反20がエンボス加工を施され、エンボス加工後の一定期間の間、被覆層28は原反20に積層されたままとなっている。被覆層28は、エンボス加工時およびエンボス加工後の一定期間の間の状態においても応力緩和時間が十分に短い材料によって形成されており、エンボス加工時における短時間での圧力下で完全に変形しきるようになる。このため、エンボス加工後の一定期間の間、樹脂層22を含む原反20の平坦化が、この被覆層28によって、拘束されるようになる。この結果、エンボス加工速度を低下させることなく、生産効率を維持しながら優れた転写効率で凹凸柄を原反に形成することができる。   According to the present embodiment as described above, the raw fabric 20 is embossed together with the coating layer 28, and the coating layer 28 remains laminated on the raw fabric 20 for a certain period after the embossing. Yes. The covering layer 28 is formed of a material having a sufficiently short stress relaxation time even during the embossing and for a certain period after the embossing, and can be completely deformed under a short time pressure during the embossing. It becomes like this. For this reason, the flattening of the raw fabric 20 including the resin layer 22 is restrained by the coating layer 28 for a certain period after the embossing. As a result, an uneven pattern can be formed on the original fabric with excellent transfer efficiency while maintaining the production efficiency without reducing the embossing speed.

また、本実施の形態においては、エンボス加工時に積層体29が加熱され、エンボス加工後に、冷却装置60によって積層体29が積極的に冷却されるようになる。したがって、原反20の樹脂層22をエンボス加工後に迅速に硬化させることができる。一方、樹脂層22の内部に発生した残留応力は、加熱されて流動性を有する樹脂層22を変形させた際に発生した応力であって、冷却によって硬化した樹脂層22を変形させ得る程度まで大きくはならない。したがって、エンボス加工によって原反20に形成した高精度の凹凸柄を、平坦化させることなく、ほぼそのままに維持することができる。   Moreover, in this Embodiment, the laminated body 29 is heated at the time of embossing, and the laminated body 29 comes to be actively cooled by the cooling device 60 after embossing. Therefore, the resin layer 22 of the raw fabric 20 can be quickly cured after embossing. On the other hand, the residual stress generated inside the resin layer 22 is a stress generated when the resin layer 22 having fluidity is heated and deformed, and to the extent that the resin layer 22 cured by cooling can be deformed. Don't get big. Therefore, the highly accurate uneven pattern formed on the original fabric 20 by embossing can be maintained almost as it is without being flattened.

なお、上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。   Various modifications can be made to the above-described embodiment within the scope of the present invention.

例えば、上述した実施の形態において、合成皮革用の離型紙を加工品60として製造する例を挙げたが、これに限られず、その他の用途に用いられる加工品60を製造することも当然に可能である。   For example, in the above-described embodiment, the example in which the release paper for synthetic leather is manufactured as the processed product 60 has been described. However, the present invention is not limited thereto, and it is naturally possible to manufacture the processed product 60 used for other purposes. It is.

また、上述した実施の形態において、エンボス加工システム30に冷却装置60を設け、エンボス加工後の積層体29を積極的に冷却する例を示したが、これに限られない。原反20の形状や原反20をなす材料の選択によっては、エンボス加工装置50から送り出された積層体29が、放熱による自然冷却によって、十分な冷却速度で冷却されることもある。また、エンボス加工装置50と剥離装置45との間の距離が長く、被覆層28によって原反20の変形を拘束しながら、原反20を十分な温度まで冷却することができることもある。これらの場合のように、剥離装置45によって被覆層28が剥離させられるまでに原反20を十分に冷却することができる場合には、冷却装置60を用いて積極的に原反20を冷却する必要はない。   In the above-described embodiment, the cooling device 60 is provided in the embossing system 30 and the laminated body 29 after the embossing is actively cooled. However, the present invention is not limited thereto. Depending on the shape of the original fabric 20 and the selection of the material constituting the original fabric 20, the laminate 29 fed from the embossing apparatus 50 may be cooled at a sufficient cooling rate by natural cooling by heat radiation. Moreover, the distance between the embossing apparatus 50 and the peeling apparatus 45 is long, and the raw fabric 20 may be cooled to a sufficient temperature while restraining deformation of the raw fabric 20 by the coating layer 28. As in these cases, when the raw fabric 20 can be sufficiently cooled by the peeling device 45 before the coating layer 28 is peeled off, the raw fabric 20 is actively cooled using the cooling device 60. There is no need.

さらに、上述した実施の形態において、エンボス加工システム30が剥離装置45を有する例を示したがこれに限られない。例えば、剥離装置45によって被覆層28を取り除くことなく、エンボス加工を施された積層体29を巻き取るようにしてもよい。この場合、積層体29が実際に使用される直前に、被覆層28が取り外すようにすることができる。上述した実施の形態にように、原反20にエンボス加工を施してなる加工品25が離型紙として用いられる場合には、被覆層28が離型紙を保護するための保護フィルムとしても機能し得る。   Furthermore, although the embossing system 30 has shown the example which has the peeling apparatus 45 in embodiment mentioned above, it is not restricted to this. For example, the embossed laminate 29 may be wound up without removing the coating layer 28 by the peeling device 45. In this case, the covering layer 28 can be removed immediately before the laminate 29 is actually used. As in the above-described embodiment, when the processed product 25 obtained by embossing the original fabric 20 is used as a release paper, the coating layer 28 can also function as a protective film for protecting the release paper. .

20 原反
22 樹脂層(合成樹脂層)
27 被覆シート
28 被覆層
29 積層体
30 エンボス加工システム
40 積層装置
45 剥離装置
50 エンボス加工装置
53a エンボス型面
54 加熱装置
58 加熱装置
60 冷却装置
20 Raw fabric 22 Resin layer (synthetic resin layer)
27 Coating sheet 28 Coating layer 29 Laminate 30 Embossing system 40 Laminating device 45 Peeling device 50 Embossing device 53a Embossing mold surface 54 Heating device 58 Heating device 60 Cooling device

Claims (11)

エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成するエンボス加工システムであって、
被覆層と前記原反とを重ね合わせる積層装置と、
前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施すエンボス加工装置と、を備え、
前記被覆層は、エンボス加工時に前記原反のエンボス型面側の表面をなす材料よりも応力緩和時間が短くなる材料から、形成されている
ことを特徴とするエンボス加工システム。
An embossing system for forming an uneven pattern on an original fabric by embossing,
A laminating apparatus for superimposing the coating layer and the original fabric;
An embossing device for embossing the laminate of the original fabric and the coating layer,
The embossing system is characterized in that the coating layer is formed of a material whose stress relaxation time is shorter than that of the material forming the surface on the embossing mold side of the original fabric during embossing.
エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成するエンボス加工システムであって、
金属箔を含む被覆層と前記原反とを重ね合わせる積層装置と、
前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施すエンボス加工装置と、を備える
ことを特徴とするエンボス加工システム。
An embossing system for forming an uneven pattern on an original fabric by embossing,
A laminating apparatus for superimposing the coating layer containing the metal foil and the original fabric;
An embossing system comprising: an embossing device that embosses the laminate of the original fabric and the coating layer.
前記エンボス加工を施された積層体から前記被覆層を剥がす剥離装置を、さらに備える
ことを特徴とする請求項1または2に記載のエンボス加工システム。
The embossing system according to claim 1 or 2, further comprising a peeling device that peels off the coating layer from the embossed laminate.
前記エンボス加工を施された積層体を冷却する冷却装置を、さらに備える
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のエンボス加工システム。
The embossing system according to any one of claims 1 to 3, further comprising a cooling device that cools the embossed laminate.
前記エンボス加工装置は、前記積層体を加熱しながら当該積層体にエンボス加工を施すように構成されている
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のエンボス加工システム。
The embossing system according to any one of claims 1 to 4, wherein the embossing device is configured to emboss the laminated body while heating the laminated body.
前記積層装置は、前記積層体と前記被覆層とを互いに向けて押圧するニップロールである
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のエンボス加工システム。
The embossing system according to any one of claims 1 to 5, wherein the laminating apparatus is a nip roll that presses the laminated body and the coating layer toward each other.
エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、
被覆層と前記原反とを重ね合わせる工程と、
前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施す工程と、を備え、
前記被覆層は、前記エンボス加工を施す工程中に前記原反のエンボス型面側の表面をなす材料よりも応力緩和時間が短くなる材料から、形成されている
ことを特徴とする加工品の製造方法。
A manufacturing method for manufacturing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric by embossing,
A step of superposing the coating layer and the original fabric;
Embossing the laminate of the original fabric and the coating layer,
The coated layer is formed from a material whose stress relaxation time is shorter than that of the material forming the surface of the original embossed mold surface during the embossing process. Method.
エンボス加工によって原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、
金属箔を含む被覆層と前記原反とを重ね合わせる工程と、
前記原反と前記被覆層との積層体にエンボス加工を施す工程と、を備える
ことを特徴とする加工品の製造方法。
A manufacturing method for manufacturing a processed product by forming an uneven pattern on an original fabric by embossing,
A step of overlaying the coating layer containing the metal foil and the original fabric;
And a step of embossing the laminate of the original fabric and the coating layer.
前記エンボス加工を施された積層体から前記被覆層を剥がす工程を、さらに備える
ことを特徴とする請求項7または8に記載の加工品の製造方法。
The method for manufacturing a processed product according to claim 7, further comprising a step of peeling the covering layer from the embossed laminate.
前記エンボス加工を施された積層体を冷却する工程を、さらに備える
ことを特徴とする請求項7〜9のいずれか一項に記載の加工品の製造方法。
The method for manufacturing a processed product according to any one of claims 7 to 9, further comprising a step of cooling the embossed laminate.
前記エンボス加工を施す工程中、前記積層体を加熱しながら当該積層体にエンボス加工を施す
ことを特徴とする請求項7〜10のいずれか一項に記載の加工品の製造方法。
The method for producing a processed product according to any one of claims 7 to 10, wherein the embossing is performed on the laminate while heating the laminate during the embossing step.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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