JP2010255079A - 排気配管および成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】排気配管の内面への生成物の堆積を抑えることができる排気配管および成膜装置を提供する。
【解決手段】排気配管70aは、第1方向D1から第2方向D2へと屈曲する流路を有する排気配管であって、第1配管部21および第2配管部22aを有する。第1配管部21は流路のうち第1方向D1に沿う部分を有する。第2配管部22aは、流路のうち第2方向D2に沿う部分を有し、かつ第1配管部21に連結されている。流路は、第1方向D1および第2方向D2を含む断面において、流路の流れに沿って幅が狭くなった後に広くなる狭窄部を有する。
【選択図】図4
【解決手段】排気配管70aは、第1方向D1から第2方向D2へと屈曲する流路を有する排気配管であって、第1配管部21および第2配管部22aを有する。第1配管部21は流路のうち第1方向D1に沿う部分を有する。第2配管部22aは、流路のうち第2方向D2に沿う部分を有し、かつ第1配管部21に連結されている。流路は、第1方向D1および第2方向D2を含む断面において、流路の流れに沿って幅が狭くなった後に広くなる狭窄部を有する。
【選択図】図4
Description
本発明は、排気配管および成膜装置に関するものである。
成膜装置の中には、たとえばCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)装置のように、成膜室からの排気を排気するための排気配管を有するものがある。この排気がシランガスなどのように高い反応性を有する場合、排気から反応生成物が生じることによって、排気配管の内面に生成物が堆積することがある。この生成物は、排気配管のコンダクタンスを低下させるだけでなく、排気配管の内面から剥離してポンプなどの排気機構に侵入することで、排気機構の故障の原因となり得る。よってこのような生成物の堆積に対する対策が求められる。
たとえば特開平10−64829号公報(特許文献1)によれば、上記のような生成物の清掃方法が開示されている。この方法によれば、清掃治具導入口より排気配管内へ清掃治具が落下されて導入され、排気配管の終端部より取り出されて排気配管内が清掃される。
上記公報の方法のように清掃を行なうためには、排気配管が取り付けられた装置の使用を中止しなければならず、また清掃のための手間を要する。よって清掃の頻度をできるだけ低くすることが望まれる。このためには、排気配管の内面への生成物の堆積を抑える必要がある。
それゆえ本発明の目的は、排気配管の内面への生成物の堆積を抑えることができる排気配管および成膜装置を提供することである。
本発明の排気配管は、第1方向から第2方向へと屈曲する流路を有する排気配管であって、第1および第2配管部を有する。第1配管部は流路のうち第1方向に沿う部分を有する。第2配管部は、流路のうち第2方向に沿う部分を有し、かつ第1配管部に連結されている。流路は、第1および第2方向を含む断面において、流路の流れに沿って幅が狭くなった後に広くなる狭窄部を有する。
本発明の排気配管によれば、排気配管の内面への生成物の堆積を抑えることができる。
上記の排気配管において好ましくは、狭窄部における流路の幅の変化は連続的である。
上記の排気配管において好ましくは、狭窄部における流路の幅の変化は連続的である。
これにより、流路の幅の変化に起因する排気の滞留を抑えることができる。
上記の排気配管において好ましくは、第2配管部は、流路を狭めるように第1方向に向かって膨出した膨出部を含む。
上記の排気配管において好ましくは、第2配管部は、流路を狭めるように第1方向に向かって膨出した膨出部を含む。
これにより第2配管部の流路のうち第1方向と反対方向の側に位置する部分が少なくなる。よってこの部分における滞留の発生を防止することができる。
上記の排気配管において好ましくは、第2配管部は、流路を狭めるように第1方向の反対方向に向かって膨出した膨出部を含む。
これにより排気が第1方向の反対方向に向かうように導かれる。この導かれた排気が排気配管の内面の第1方向と反対方向の側の部分に吹き付けられることで、この部分における排気の滞留を防止することができる。
上記の排気配管において好ましくは、第2配管部は膨出部を支持する基部を含み、膨出部の材料の融点は基部の材料の融点よりも低い。
これにより、基部を溶かしてしまうことなく、溶融した材料を基部に付加することで膨出部を形成することができる。
本発明の成膜装置は成膜室および排気配管を有する。成膜室は、原料ガスを使用して膜を形成するためのものである。排気配管は、使用された原料ガスを成膜室から導くためのものであり、第1方向から第2方向へと屈曲する流路を有する。排気配管は第1および第2配管部を含む。第1配管部は、流路のうち第1方向に沿う部分を有する。第2配管部は、流路のうち第2方向に沿う部分を有し、かつ第1配管部に連結されている。流路は、第1および第2方向を含む断面において、流路の流れに沿って幅が狭くなった後に広くなる狭窄部を有する。
本発明の成膜装置によれば、排気配管の内面への生成物の堆積を抑えることができる。
以上説明したように、本発明によれば、排気配管の内面への生成物の堆積を抑えることができる。
以下、本発明の実施の形態について図に基づいて説明する。
(実施の形態1)
はじめに本実施の形態の成膜装置の概要について説明する。
(実施の形態1)
はじめに本実施の形態の成膜装置の概要について説明する。
図1を参照して、本実施の形態の成膜装置90はCVD装置であって、成膜室93と、エルボ配管70a(排気配管)と、直線配管71と、原料ガスボンベ91と、希釈ガスボンベ92と、原料ガス導入配管83と、希釈ガス導入配管84と、排気ポンプ94と、除害装置95(スクラバー)と、一般配管73とを有する。
成膜室93は、原料ガス導入配管83を介して原料ガスボンベ91から導入された原料ガスを使用して、基板101上に膜102を形成するためのものである。たとえば原料ガスとしてシランガスが使用されることにより、膜102としてシリコン膜が形成される。
エルボ配管70aおよび直線配管71は、成膜室93で使用された原料ガスを成膜室93から排気ポンプ94および除害装置95へ排気として導くためのものである。この排気は、未反応の原料ガスを含有するので、生成物を生じ得るものである。
一般配管73は、除害装置95を経た排気を導くためのものである。この排気からは生成物を生成するガスおよび生成物が除害装置95によって既に除去されている。よって一般配管73およびさらに下流側の配管においては、生成物の堆積はほとんど生じない。
次に成膜装置90が有するエルボ配管70aについて詳しく説明する。
図2〜図4を参照して、エルボ配管70aは、流入方向D1(第1方向)から流出方向D2(第2方向)へと屈曲する流路を有する。流入方向D1および流出方向D2がなす角度は、たとえば90°である。
図2〜図4を参照して、エルボ配管70aは、流入方向D1(第1方向)から流出方向D2(第2方向)へと屈曲する流路を有する。流入方向D1および流出方向D2がなす角度は、たとえば90°である。
またエルボ配管70aは上流部21(第1配管部)と、下流部22a(第2配管部)と、フランジ31、32とを有する。上流部21は、流路のうち流入方向D1に沿う部分(図4の右端部)を有する。下流部22aは、流路のうち流入方向D2に沿う部分(図4の下端部)を有する。上流部21および下流部22aは連結部Cで連結されている。好ましくは、上流部21および下流部22aは一体形成されており、連結部Cには継ぎ目がない。
下流部22aは基部22および膨出部50aを有する。
基部22は、たとえば、連結部Cを含む面について上流部21と面対称な形状を有する。また基部22の材料は、たとえばステンレス鋼である。
基部22は、たとえば、連結部Cを含む面について上流部21と面対称な形状を有する。また基部22の材料は、たとえばステンレス鋼である。
膨出部50aは基部22に支持されている。また膨出部50aは、基部22の内面を基準として、流入方向D1に向かって矢印E1(図4)のように膨出することで、下流部22aの流路を狭めている。より具体的には、下流部22aの流路は、流入方向D1および流出方向D2方向を含む断面(図4の断面)において、流路の流れに沿って、幅が寸法W1aから寸法W2aへと狭くなった後に寸法W3aへと広くなる狭窄部(図4の寸法W2aの部分近傍)を有する。狭窄部における流路の幅の変化は連続的である。好ましくは、膨出部50aは、図4の断面における連結部Cの内周側の接線Tを超えないように膨出している。
また膨出部50aの材料は、基部22の材料と異なり、好ましくは、基部22の融点よりも低い融点を有する金属材料である。
フランジ31は、エルボ配管70aの上流部21側の端部に取り付けられている。またフランジ32は、エルボ配管70aの下流部22a側の端部に取り付けられている。
次に比較例のエルボ配管について説明する。
図5を参照して、比較例のエルボ配管70Zは、本実施の形態のエルボ配管70a(図4)と異なり膨出部50a(図4)を有しない。これにより基部22による流路のうち流入方向D1と反対方向の側(図5の右側)に位置する部分が広くなる。この部分は、排気が流入方向D1から流出方向D2へと屈曲する際にエルボ配管70Zの内面の陰となる部分であるため、排気の滞留が生じやすい。この滞留の結果、排気からの生成物DPが堆積しやすい。
図5を参照して、比較例のエルボ配管70Zは、本実施の形態のエルボ配管70a(図4)と異なり膨出部50a(図4)を有しない。これにより基部22による流路のうち流入方向D1と反対方向の側(図5の右側)に位置する部分が広くなる。この部分は、排気が流入方向D1から流出方向D2へと屈曲する際にエルボ配管70Zの内面の陰となる部分であるため、排気の滞留が生じやすい。この滞留の結果、排気からの生成物DPが堆積しやすい。
生成物DPの堆積がいったん生じてしまうと、生成物DPは容易に成長し、エルボ配管70Zのコンダクタンスを低下させてしまう。このためエルボ配管70Zを頻繁に清掃する必要が生じてしまう。また生成物DPが基部22の内面から剥離して排気ポンプ94(図1)または除害装置95(図1)に侵入することで、排気ポンプ94または除害装置95が故障し得る。
図6を参照して、この比較例に対して本実施の形態のエルボ配管70aによれば、膨出部50aによって下流部22aの流路のうち流入方向D1と反対方向の側(図6の右側)に位置する部分が少なくなる。よってこの部分における排気の滞留を防止することができるので、生成物DP(図5)の堆積を防止することができる。
また下流部22aの流路は、流入方向D1および流出方向D2方向を含む断面(図4の断面)において、流路の流れに沿って、幅が寸法W1aから寸法W2aへと狭くなった後に寸法W3aへと広くなる狭窄部を有する。この狭窄部における流路の幅の変化が連続的であることにより、流路の幅の変化に起因する排気の滞留を抑えることができる。すなわち、膨出部50aを設けたことに起因して排気の滞留が生じることを防ぐことができる。
また膨出部50aの材料は、好ましくは基部22の融点よりも低い融点を有する金属材料である。これにより、基部22を溶かしてしまうことなく、溶融した材料を基部22に付加することで膨出部50aを形成することができる。
(実施の形態2)
図7を参照して、本実施の形態のエルボ配管70bは、実施の形態1の下流部22a(図4)の代わりに、下流部22bを有する。下流部22bは、流路のうち流入方向D2に沿う部分を有する。また下流部22bは膨出部50a(図4)の代わりに膨出部50bを有する。
図7を参照して、本実施の形態のエルボ配管70bは、実施の形態1の下流部22a(図4)の代わりに、下流部22bを有する。下流部22bは、流路のうち流入方向D2に沿う部分を有する。また下流部22bは膨出部50a(図4)の代わりに膨出部50bを有する。
膨出部50bは基部22に支持されている。また膨出部50bは、基部22の内面を基準として、流入方向D1の反対方向(図7の右方向)に向かって矢印E2(図7)のように膨出することで、下流部22bの流路を狭めている。より具体的には、下流部22bの流路は、流入方向D1および流出方向D2方向を含む断面(図7の断面)において、流路の流れに沿って、幅が寸法W1bから寸法W2bへと狭くなった後に寸法W3bへと広くなる狭窄部(図7の寸法W2bの部分近傍)を有する。狭窄部における流路の幅の変化は連続的である。好ましくは、膨出部50bは、図7の断面における連結部Cの内周側の接線Tを超えないように膨出している。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態1の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
図8を参照して、本実施の形態によれば、膨出部50bによって、排気が流入方向D1の反対方向(図8の右方向)に向かうように導かれる。この導かれた排気が下流部22bの内面の流入方向D1と反対方向の側(図8の右側)の部分に吹き付けられることで、この部分における排気の滞留を防止することができる。よってこの部分に生成物DPが堆積することを防止することができる。
また下流部22bの流路は、流入方向D1および流出方向D2方向を含む断面(図7の断面)において、流路の流れに沿って、幅が寸法W1bから寸法W2bへと狭くなった後に寸法W3bへと広くなる狭窄部を有する。この狭窄部における流路の幅の変化が連続的であることにより、流路の幅の変化に起因する排気の滞留を抑えることができる。すなわち、膨出部50bを設けたことに起因して排気の滞留が生じることを防ぐことができる。
また膨出部50bの材料は、基部22の材料と異なり、好ましくは、基部22の融点よりも低い融点を有する金属材料である。これにより、基部22を溶かしてしまうことなく、溶融した材料を基部22に付加することで膨出部50bを形成することができる。
(実施の形態3)
図9を参照して、本実施の形態のエルボ配管70cは、実施の形態1の下流部22a(図4)の代わりに下流部22cを有する。下流部22cは、膨出部50a(図4)の代わりに膨出部50cを有する。膨出部50cは、膨出部50a(図4)の表面形状と同様の表面形状が得られるように矢印E1(図9)のように膨出している。すなわち膨出部50cは、下流部22cの流路を狭めるように膨出している。下流部22cは、たとえば基部22(図4)を変形することにより得られる。
図9を参照して、本実施の形態のエルボ配管70cは、実施の形態1の下流部22a(図4)の代わりに下流部22cを有する。下流部22cは、膨出部50a(図4)の代わりに膨出部50cを有する。膨出部50cは、膨出部50a(図4)の表面形状と同様の表面形状が得られるように矢印E1(図9)のように膨出している。すなわち膨出部50cは、下流部22cの流路を狭めるように膨出している。下流部22cは、たとえば基部22(図4)を変形することにより得られる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態1の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
本実施の形態によっても、実施の形態1と同様に、生成物DP(図5)の堆積を防止することができる。
(実施の形態4)
図10を参照して、本実施の形態のエルボ配管70dは、実施の形態2の下流部22b(図7)の代わりに下流部22dを有する。下流部22dは、膨出部50b(図7)の代わりに膨出部50dを有する。膨出部50dは、膨出部50b(図7)の表面形状と同様の表面形状が得られるように矢印E2(図10)のように膨出している。すなわち膨出部50dは、下流部22dの流路を狭めるように膨出している。下流部22dは、たとえば基部22(図7)を変形することにより得られる。
図10を参照して、本実施の形態のエルボ配管70dは、実施の形態2の下流部22b(図7)の代わりに下流部22dを有する。下流部22dは、膨出部50b(図7)の代わりに膨出部50dを有する。膨出部50dは、膨出部50b(図7)の表面形状と同様の表面形状が得られるように矢印E2(図10)のように膨出している。すなわち膨出部50dは、下流部22dの流路を狭めるように膨出している。下流部22dは、たとえば基部22(図7)を変形することにより得られる。
なお、上記以外の構成については、上述した実施の形態2の構成とほぼ同じであるため、同一または対応する要素について同一の符号を付し、その説明を繰り返さない。
本実施の形態によっても、実施の形態2と同様に、生成物DP(図5)の堆積を防止することができる。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本発明は、排気配管および成膜装置に特に有利に適用することができる。
21 上流部(第1配管部)、22a〜22d 下流部(第2配管部)、22 基部、31,32 フランジ、50a〜50d 膨出部、70a〜70d エルボ配管(排気配管)、71 直線配管、73 一般配管、83 原料ガス導入配管、84 希釈ガス導入配管、90 成膜装置、91 原料ガスボンベ、92 希釈ガスボンベ、93 成膜室、94 排気ポンプ、95 除害装置、101 基板、102 膜、D1 流入方向(第1方向)、D2 流出方向(第2方向)。
Claims (6)
- 第1方向から第2方向へと屈曲する流路を有する排気配管であって、
前記流路のうち前記第1方向に沿う部分を有する第1配管部と、
前記流路のうち前記第2方向に沿う部分を有し、かつ前記第1配管部に連結された第2配管部とを備え、
前記流路は、前記第1および第2方向を含む断面において、前記流路の流れに沿って幅が狭くなった後に広くなる狭窄部を有する、排気配管。 - 前記狭窄部における前記流路の幅の変化は連続的である、請求項1に記載の排気配管。
- 前記第2配管部は、前記流路を狭めるように前記第1方向に向かって膨出した膨出部を含む、請求項1または2に記載の排気配管。
- 前記第2配管部は、前記流路を狭めるように前記第1方向の反対方向に向かって膨出した膨出部を含む、請求項1または2に記載の排気配管。
- 前記第2配管部は前記膨出部を支持する基部を含み、前記膨出部の材料の融点は前記基部の材料の融点よりも低い、請求項3または4に記載の排気配管。
- 原料ガスを使用して膜を形成するための成膜室と、
使用された前記原料ガスを前記成膜室から導くための、第1方向から第2方向へと屈曲する流路を有する排気配管とを備え、
前記排気配管は、
前記流路のうち前記第1方向に沿う部分を有する第1配管部と、
前記流路のうち前記第2方向に沿う部分を有し、かつ前記第1配管部に連結された第2配管部とを含み、
前記流路は、前記第1および第2方向を含む断面において、前記流路の流れに沿って幅が狭くなった後に広くなる狭窄部を有する、成膜装置。
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