JP2010249609A - Instrument and method for measuring permeation amount of steam - Google Patents

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JP2010249609A JP2009098242A JP2009098242A JP2010249609A JP 2010249609 A JP2010249609 A JP 2010249609A JP 2009098242 A JP2009098242 A JP 2009098242A JP 2009098242 A JP2009098242 A JP 2009098242A JP 2010249609 A JP2010249609 A JP 2010249609A
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大輔 大森
Shota Kanai
庄太 金井
Takahiro Nakayama
高博 中山
Hirohiko Murakami
村上  裕彦
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an instrument for measuring the permeation amount of steam, evaluating the permeability of steam even with respect to a measuring target little in the amount of gas necessary for measurement and low in the permeability of steam, and also to provide a method for measuring the permeation amount of steam. <P>SOLUTION: In the method for measuring the permeation amount of steam, the measuring target F is arranged so as to demarcate a chamber 2 into two chambers, that is, a first chamber 11 and a second chamber 12, drying gas is introduced into the second chamber 12 while the drying gas is discharged from the second chamber 12, the introduction of the drying gas and the discharge of the drying gas are stopped by closing a first valve 17 and a second valve 19, sample gas containing steam is introduced into the first chamber 11 and the amount of steam in the sample gas, which is permeated through the measuring target F toward the measuring space demarcated by the second chamber 12, a gas introducing route 16 and a gas discharge route 18, is measured in the measuring space. Since the flowing of the drying gas is stopped during measurement, the necessary amount of the drying gas is reduced and the steam permeated through the measuring target F is prevented from being discharged. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、測定対象物の水蒸気透過量を測定するための水蒸気透過量測定装置及び水蒸気透過量測定方法に関する。   The present invention relates to a water vapor transmission amount measuring device and a water vapor transmission amount measurement method for measuring the water vapor transmission amount of a measurement object.

食品包装用のフィルム等の評価要件の一つに水蒸気透過量がある。水蒸気透過量は水蒸気が測定対象物を透過する速度であり、単位時間、単位面積当たりの水蒸気の透過量(g/m/day)で表される。水蒸気透過量は、特に水蒸気が測定対象物を透過する速度が小さい場合等には非常に小さい値になり、また水蒸気は空気中に存在することもあって、高精度に測定されることが求められている。 One of the evaluation requirements for food packaging films is the amount of water vapor permeation. The water vapor transmission rate is the rate at which water vapor passes through the measurement object, and is expressed by the water vapor transmission rate (g / m 2 / day) per unit time and unit area. The amount of water vapor permeation is very small, especially when the speed at which water vapor permeates the measurement object is low, and since water vapor is present in the air, it must be measured with high accuracy. It has been.

水蒸気透過量を測定するための測定装置及び測定方法には種々の形態のものが存在する。例えば、特許文献1には、「フィルム材料のガス透過度測定装置及びガス透過度測定方法」が記載されている。   There are various types of measuring apparatuses and measuring methods for measuring the water vapor transmission rate. For example, Patent Document 1 describes “a gas permeability measuring device and a gas permeability measuring method of a film material”.

特許文献1に記載の装置及び方法では、測定対象物(フィルム材料)を介して対向する2つの室(ガス流動室)の一方に水分等の検出対象物質(特定ガス成分)を含有する暴露ガスを流し、他方にキャリアガスを流す。測定対象物を透過してキャリアガスに混入した特性ガス成分の量を検出手段(水晶発振式水分計)によって検出し、キャリアガスの流量から測定対象物を透過した水分量を算出する。   In the apparatus and method described in Patent Document 1, an exposure gas containing a detection target substance (specific gas component) such as moisture in one of two chambers (gas flow chambers) opposed via a measurement target (film material). And a carrier gas to the other. The amount of the characteristic gas component that has permeated through the measurement object and mixed into the carrier gas is detected by a detection means (quartz oscillation type moisture meter), and the amount of moisture that has permeated through the measurement object is calculated from the flow rate of the carrier gas.

特開2003−322583号公報(段落[0033]、図1)JP 2003-322583 A (paragraph [0033], FIG. 1)

しかしながら、特許文献1に記載の装置及び方法では、測定対象物を透過した検出対象物質をキャリアガスにより搬送するため、測定中には常にキャリアガスを流す必要があり、測定に多量のキャリアガスが必要となるという問題がある。また、測定対象物を透過した水蒸気はキャリアガスによって排出されてしまうため、測定対象物の水蒸気透過性が非常に小さい場合、測定対象物を透過する水分量が検出手段の検出限界以下となるおそれがある。   However, in the apparatus and method described in Patent Document 1, since the detection target substance that has passed through the measurement target is transported by the carrier gas, it is necessary to always flow the carrier gas during the measurement, and a large amount of carrier gas is required for the measurement. There is a problem that it is necessary. In addition, since water vapor that has passed through the measurement object is discharged by the carrier gas, if the water vapor permeability of the measurement object is very small, the amount of water that passes through the measurement object may be below the detection limit of the detection means. There is.

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、測定に必要なガスの量が少なく、水蒸気透過性が小さい測定対象物についても水蒸気透過性を評価することが可能な水蒸気透過量測定装置及び水蒸気透過量測定方法を提供することにある。   In view of the circumstances as described above, an object of the present invention is to provide a water vapor transmission measuring device capable of evaluating water vapor permeability even for a measurement object with a small amount of gas required for measurement and low water vapor permeability, and The object is to provide a method for measuring water vapor transmission.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る水蒸気透過量測定方法は、チャンバを第1の室と第2の室との2室に区画するように測定対象物を配置することを含む。
乾燥ガスは、ガス導入経路に設けられた第1のバルブを開放することで上記第2の室に導入され、ガス排出経路に設けられた第2のバルブを開放することで上記第2の室から排出される。
上記第2の室への乾燥ガスの導入及び上記第2の室からの乾燥ガスの排出は、上記第1のバルブ及び上記第2のバルブを閉止することで停止される。
水蒸気を含む試料ガスは、上記第1の室に導入される。
上記第2の室と、上記ガス導入経路と、上記ガス排出経路とによって画成される測定空間に向けて上記測定対象物を透過した、上記試料ガス中の水蒸気の量は上記測定空間で測定される。
In order to achieve the above object, a method for measuring a water vapor transmission rate according to an aspect of the present invention includes disposing a measurement object so as to partition a chamber into two chambers, a first chamber and a second chamber. .
The dry gas is introduced into the second chamber by opening the first valve provided in the gas introduction path, and the second chamber is opened by opening the second valve provided in the gas discharge path. Discharged from.
The introduction of the dry gas into the second chamber and the discharge of the dry gas from the second chamber are stopped by closing the first valve and the second valve.
A sample gas containing water vapor is introduced into the first chamber.
The amount of water vapor in the sample gas that has passed through the measurement object toward the measurement space defined by the second chamber, the gas introduction path, and the gas discharge path is measured in the measurement space. Is done.

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る水蒸気透過量測定装置は、チャンバと、ガス導入経路と、ガス排出経路と、弁機構と、測定器とを具備する。
上記チャンバは、測定対象物により第1の室と第2の室とに区画される。
上記ガス導入経路は、上記チャンバの上記第2の室に接続され、上記第2の室に乾燥ガスを導入する。
上記ガス排出経路は、上記チャンバの上記第2の室に接続され、上記第2の室から乾燥ガスを排出する。
上記弁機構は、上記ガス導入経路を開閉する第1のバルブと上記ガス排出経路を開閉する第2のバルブとを有し、上記第1のバルブ及び上記第2のバルブが閉止されることで、上記第2の室と、上記ガス排出経路と、上記ガス導入経路とによって画成される測定空間を形成する。
上記測定器は、上記測定空間に配置され、上記測定空間に向けて上記測定対象物を透過した、上記試料ガス中の水蒸気の量を測定する。
In order to achieve the above object, a water vapor permeation amount measuring apparatus according to an embodiment of the present invention includes a chamber, a gas introduction path, a gas discharge path, a valve mechanism, and a measuring instrument.
The chamber is divided into a first chamber and a second chamber by a measurement object.
The gas introduction path is connected to the second chamber of the chamber and introduces a dry gas into the second chamber.
The gas discharge path is connected to the second chamber of the chamber and discharges dry gas from the second chamber.
The valve mechanism includes a first valve that opens and closes the gas introduction path and a second valve that opens and closes the gas discharge path, and the first valve and the second valve are closed. A measurement space defined by the second chamber, the gas discharge path, and the gas introduction path is formed.
The measuring device is disposed in the measurement space, and measures the amount of water vapor in the sample gas that has passed through the measurement object toward the measurement space.

本発明の第1の実施形態に係る水蒸気透過量測定装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the water vapor permeation | transmission amount measuring apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施形態に係る水蒸気透過量測定装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the water-vapor-permeation amount measuring apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態に係る水蒸気透過量測定装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the water-vapor-permeation amount measuring apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention.

本発明の一実施形態に係る水蒸気透過量測定方法は、チャンバを第1の室と第2の室との2室に区画するように測定対象物を配置することを含む。
乾燥ガスは、ガス導入経路に設けられた第1のバルブを開放することで上記第2の室に導入され、ガス排出経路に設けられた第2のバルブを開放することで上記第2の室から排出される。
上記第2の室への乾燥ガスの導入及び上記第2の室からの乾燥ガスの排出は、上記第1のバルブ及び上記第2のバルブを閉止することで停止される。
水蒸気を含む試料ガスは、上記第1の室に導入される。
上記第2の室と、上記ガス導入経路と、上記ガス排出経路とによって画成される測定空間に向けて上記測定対象物を透過した、上記試料ガス中の水蒸気の量は上記測定空間で測定される。
A method for measuring a water vapor transmission amount according to an embodiment of the present invention includes disposing a measurement object so as to divide a chamber into two chambers, a first chamber and a second chamber.
The dry gas is introduced into the second chamber by opening the first valve provided in the gas introduction path, and the second chamber is opened by opening the second valve provided in the gas discharge path. Discharged from.
The introduction of the dry gas into the second chamber and the discharge of the dry gas from the second chamber are stopped by closing the first valve and the second valve.
A sample gas containing water vapor is introduced into the first chamber.
The amount of water vapor in the sample gas that has passed through the measurement object toward the measurement space defined by the second chamber, the gas introduction path, and the gas discharge path is measured in the measurement space. Is done.

水蒸気が測定される際には、第2の室への乾燥ガスの導入及び排出は停止されるため、第1の室から測定空間に向けて測定対象物を透過する水蒸気は排出されることなく測定空間内に留まり、測定される。これにより、水蒸気が測定対象物を透過する速度が非常に小さい場合であっても、時間とともに測定対象物に存在する水蒸気の量が増加し、測定することが可能となる。また、乾燥ガスは測定前に第2の室に導入及び排出されるものの、測定中にあっては導入及び排出が停止されるため、測定に必要なガスの量は、測定中にもガスを流し続ける場合に比べ低減される。   When the water vapor is measured, since the introduction and discharge of the dry gas to the second chamber is stopped, the water vapor that permeates the measurement object from the first chamber toward the measurement space is not discharged. It stays in the measurement space and is measured. As a result, even when the speed at which water vapor passes through the measurement object is very small, the amount of water vapor present in the measurement object increases with time, and measurement is possible. In addition, although dry gas is introduced and discharged into the second chamber before measurement, since introduction and discharge are stopped during measurement, the amount of gas required for measurement is the same as during measurement. It is reduced compared to the case where the flow is continued.

上記水蒸気の量を測定する工程では、露点計によって水蒸気の量を測定してもよい。   In the step of measuring the amount of water vapor, the amount of water vapor may be measured by a dew point meter.

露点計によって、小さい水蒸気量を高精度に測定することが可能となる。   With a dew point meter, it becomes possible to measure a small amount of water vapor with high accuracy.

本発明の一実施形態に係る水蒸気透過量測定装置は、チャンバと、ガス導入経路と、ガス排出経路と、弁機構と、測定器とを具備する。
上記チャンバは、測定対象物により第1の室と第2の室とに区画される。
上記ガス導入経路は、上記チャンバの上記第2の室に接続され、上記第2の室に乾燥ガスを導入する。
上記ガス排出経路は、上記チャンバの上記第2の室に接続され、上記第2の室から乾燥ガスを排出する。
上記弁機構は、上記ガス導入経路を開閉する第1のバルブと上記ガス排出経路を開閉する第2のバルブとを有し、上記第1のバルブ及び上記第2のバルブが閉止されることで、上記第2の室と、上記ガス排出経路と、上記ガス導入経路とによって画成される測定空間を形成する。
上記測定器は、上記測定空間に配置され、上記測定空間に向けて上記測定対象物を透過した、上記試料ガス中の水蒸気の量を測定する。
A water vapor transmission amount measurement device according to an embodiment of the present invention includes a chamber, a gas introduction path, a gas discharge path, a valve mechanism, and a measuring instrument.
The chamber is divided into a first chamber and a second chamber by a measurement object.
The gas introduction path is connected to the second chamber of the chamber and introduces a dry gas into the second chamber.
The gas discharge path is connected to the second chamber of the chamber and discharges dry gas from the second chamber.
The valve mechanism includes a first valve that opens and closes the gas introduction path and a second valve that opens and closes the gas discharge path, and the first valve and the second valve are closed. A measurement space defined by the second chamber, the gas discharge path, and the gas introduction path is formed.
The measuring device is disposed in the measurement space, and measures the amount of water vapor in the sample gas that has passed through the measurement object toward the measurement space.

測定前に弁機構の第1のバルブ及び第2のバルブが開放されて、乾燥ガスが導入及び排出される。測定時には弁機構の第1のバルブ及び第2のバルブが閉止されて乾燥ガスの導入及び排出が停止される。測定時には、乾燥ガスが供給されないため、その必要量を低減することが可能である。また、測定時に測定空間に向けて測定対象物を透過した水蒸気は排出されないため、水蒸気が測定対象物を透過する速度が非常に小さい場合でも測定器によって検出することが可能である。   Before the measurement, the first valve and the second valve of the valve mechanism are opened, and the dry gas is introduced and discharged. At the time of measurement, the first valve and the second valve of the valve mechanism are closed to stop the introduction and discharge of the dry gas. Since dry gas is not supplied at the time of measurement, the required amount can be reduced. Further, since water vapor that has passed through the measurement object toward the measurement space at the time of measurement is not discharged, even if the speed at which the water vapor passes through the measurement object is very small, it can be detected by the measuring instrument.

上記測定器は露点計であってもよい。   The measuring device may be a dew point meter.

露点計によって、小さい水蒸気量を高精度に測定することが可能となる。   With a dew point meter, it becomes possible to measure a small amount of water vapor with high accuracy.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る水蒸気透過量測定装置1(以下、測定装置1)の概略構成を示す模式図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a water vapor transmission amount measuring device 1 (hereinafter, measuring device 1) according to the first embodiment.

同図に示すように、測定装置1は、チャンバ2と、試料ガス導入部3と、試料ガス排出部4と、乾燥ガス導入部5と、乾燥ガス排出部6と、測定器20とを有する。
試料ガス導入部3、試料ガス排出部4、乾燥ガス導入部5及び乾燥ガス排出部6はそれぞれチャンバ2に接続されている。また、チャンバ2には、測定対象物であるフィルムFが取り付けられている。
As shown in FIG. 1, the measuring apparatus 1 includes a chamber 2, a sample gas introduction unit 3, a sample gas discharge unit 4, a dry gas introduction unit 5, a dry gas discharge unit 6, and a measuring instrument 20. .
The sample gas introduction unit 3, the sample gas discharge unit 4, the dry gas introduction unit 5, and the dry gas discharge unit 6 are each connected to the chamber 2. The chamber 2 is attached with a film F which is an object to be measured.

チャンバ2は、第1チャンバ部7と、第2チャンバ部8と、締結具9と、ガスケット10を有する。第1チャンバ部7と第2チャンバ部8とが締結具9により締結され、ガスケット10は第1チャンバ部7と第2チャンバ部8の接合面に配置される。   The chamber 2 includes a first chamber part 7, a second chamber part 8, a fastener 9, and a gasket 10. The first chamber portion 7 and the second chamber portion 8 are fastened by a fastener 9, and the gasket 10 is disposed on the joint surface between the first chamber portion 7 and the second chamber portion 8.

第1チャンバ部7はステンレス等の材料からなり、凹部7aと、フランジ部7bとが形成されている。凹部7aの開口縁にフランジ部7bが形成され、フランジ部7bに、凹部7aの開口に沿って溝が形成されている。また凹部7aには試料ガス導入部3及び試料ガス排出部4が接続される孔が形成されている。   The first chamber portion 7 is made of a material such as stainless steel, and has a concave portion 7a and a flange portion 7b. A flange portion 7b is formed at the opening edge of the recess 7a, and a groove is formed in the flange portion 7b along the opening of the recess 7a. In addition, a hole for connecting the sample gas introduction part 3 and the sample gas discharge part 4 is formed in the recess 7a.

第2チャンバ部8はステンレス等の水蒸気に対する吸着性、透過性が低い材料からなり、凹部8aと、フランジ部8bとが形成されている。凹部8aの開口縁にフランジ部8bが形成され、フランジ部8bに、凹部8aの開口に沿って溝が形成されている。また、凹部8aには乾燥ガス導入部5及び乾燥ガス排出部6が接続される孔が形成されている。   The second chamber portion 8 is made of a material having low adsorptivity and permeability to water vapor such as stainless steel, and has a concave portion 8a and a flange portion 8b. A flange portion 8b is formed at the opening edge of the recess 8a, and a groove is formed in the flange portion 8b along the opening of the recess 8a. The recess 8a is formed with a hole to which the dry gas introduction part 5 and the dry gas discharge part 6 are connected.

第1チャンバ部7は第2チャンバ部8と同一形状に形成されてもよく、異なる形状に形成されてもよい。ただし、凹部7aと凹部8aの開口形状及びフランジ部7bとフランジ部8bの接合面は対応する必要がある。なお、凹部8aの容積が小さくなるように第2チャンバ部8を形成することにより、フィルムFを透過した水蒸気が拡散するのに必要な時間を低減することができる。   The first chamber portion 7 may be formed in the same shape as the second chamber portion 8 or may be formed in a different shape. However, the opening shapes of the recess 7a and the recess 8a and the joint surfaces of the flange portion 7b and the flange portion 8b need to correspond. In addition, the time required for the water vapor | steam which permeate | transmitted the film F to diffuse can be reduced by forming the 2nd chamber part 8 so that the volume of the recessed part 8a may become small.

締結具9はフランジ部7bとフランジ部8bを締結する。締結具9は例えばボルトとナット、クランプ等、着脱が容易なものが用いられる。
ガスケット10は、チャンバ2の内部と外部とをシールする。ガスケット10は例えばゴムからなるOリング等である。ガスケット10は、フランジ部7bの溝、フランジ部8bの溝にそれぞれ一つずつ嵌めこまれ、フランジ部7bとフランジ部8bが締結されるとフィルムFを介して対向し、フィルムFとフランジ部7b、フィルムFとフランジ部8bとの間のガスの連通を遮断する。
The fastener 9 fastens the flange portion 7b and the flange portion 8b. As the fastener 9, for example, a bolt, a nut, a clamp, or the like that can be easily attached and detached is used.
The gasket 10 seals the inside and the outside of the chamber 2. The gasket 10 is, for example, an O-ring made of rubber. The gasket 10 is fitted into the groove of the flange portion 7b and the groove of the flange portion 8b one by one. When the flange portion 7b and the flange portion 8b are fastened, the gasket 10 faces through the film F, and the film F and the flange portion 7b. The communication of the gas between the film F and the flange portion 8b is blocked.

フィルムFが取り付けられた状態で第1チャンバ部7と第2チャンバ部8が結合されると、チャンバ2内に、凹部7aとフィルムFで囲まれた第1室11と、凹部8aとフィルムFで囲まれた第2室12の二室が形成される。   When the first chamber portion 7 and the second chamber portion 8 are coupled with the film F attached, the first chamber 11 surrounded by the recess 7a and the film F, the recess 8a, and the film F are contained in the chamber 2. Two chambers of the second chamber 12 surrounded by are formed.

試料ガス導入部3は、第1室11にキャリアガス及び水蒸気の混合ガス(試料ガス)を供給する。試料ガス導入部3は試料ガス導入管13と水蒸気発生器14を有する。水蒸気発生器14は試料ガス導入管13に直列に設けられている。試料ガス導入部3は、ガス流量を調節し、あるいはガスを遮断するバルブを有していてもよい。   The sample gas introduction unit 3 supplies a mixed gas (sample gas) of carrier gas and water vapor to the first chamber 11. The sample gas introduction unit 3 includes a sample gas introduction pipe 13 and a water vapor generator 14. The water vapor generator 14 is provided in series with the sample gas introduction pipe 13. The sample gas introduction unit 3 may have a valve for adjusting the gas flow rate or shutting off the gas.

試料ガス導入管13は、キャリアガス及び試料ガスが流通する配管である。試料ガス導入管13は、第1室11と図示しないキャリアガス供給機構を接続する。   The sample gas introduction pipe 13 is a pipe through which the carrier gas and the sample gas flow. The sample gas introduction pipe 13 connects the first chamber 11 and a carrier gas supply mechanism (not shown).

水蒸気発生器14は、水蒸気を発生させ、キャリアガス中に水蒸気を供給する。水蒸気発生器14は例えば、液体の水を加熱することによって水蒸気を発生させる。水蒸気発生器14は、発生した水蒸気の圧力を制御する機構を備える。   The water vapor generator 14 generates water vapor and supplies the water vapor into the carrier gas. For example, the water vapor generator 14 generates water vapor by heating liquid water. The steam generator 14 includes a mechanism for controlling the pressure of the generated steam.

試料ガス排出部4は、第1室11から試料ガスを排出する。試料ガス排出部4は試料ガス排出管15を有する。試料ガス排出部4は、ガス流量を調節し、あるいはガスを遮断するバルブ有していてもよい。   The sample gas discharge unit 4 discharges the sample gas from the first chamber 11. The sample gas discharge unit 4 has a sample gas discharge pipe 15. The sample gas discharge unit 4 may have a valve for adjusting the gas flow rate or shutting off the gas.

試料ガス排出管15は、試料ガスが流通する配管である。試料ガス排出管15は、第1室11と図示しない試料ガス排出機構を接続する。   The sample gas discharge pipe 15 is a pipe through which the sample gas flows. The sample gas discharge pipe 15 connects the first chamber 11 and a sample gas discharge mechanism (not shown).

乾燥ガス導入部5は、第2室12に乾燥ガスを供給する。乾燥ガス導入部5は乾燥ガス導入管16と第1バルブ17を有する。第1バルブ17は乾燥ガス導入管16上に配置されている。   The dry gas introduction unit 5 supplies a dry gas to the second chamber 12. The dry gas introduction unit 5 includes a dry gas introduction pipe 16 and a first valve 17. The first valve 17 is disposed on the dry gas introduction pipe 16.

乾燥ガス導入管16は、乾燥ガスが流通する配管である。乾燥ガス導入管16はステンレス等の、水蒸気に対する吸着性、透過性が低い材料により形成されている。乾燥ガス導入管16は、第2室12と図示しない乾燥ガス供給機構を接続する。
第1バルブ17は、乾燥ガス導入管16を遮断し、あるいは開放する。
The dry gas introduction pipe 16 is a pipe through which the dry gas flows. The dry gas introduction pipe 16 is formed of a material having low adsorptivity and permeability to water vapor such as stainless steel. The dry gas introduction pipe 16 connects the second chamber 12 and a dry gas supply mechanism (not shown).
The first valve 17 shuts off or opens the dry gas introduction pipe 16.

乾燥ガス排出部6は、第2室12から乾燥ガスを排出する。乾燥ガス排出部6は乾燥ガス排出管18、第2バルブ19を有する。第2バルブ19は乾燥ガス排出管18に上に配置されている。   The dry gas discharge unit 6 discharges the dry gas from the second chamber 12. The dry gas discharge unit 6 includes a dry gas discharge pipe 18 and a second valve 19. The second valve 19 is disposed above the dry gas discharge pipe 18.

乾燥ガス排出管18は、乾燥ガスが流通する配管である。乾燥ガス排出管18はステンレスなどの、水蒸気に対する吸着性、透過性が低い材料により形成されている。乾燥ガス排出管18は、第2室12と図示しない乾燥ガス排出機構を接続する。
第2バルブ19は、乾燥ガス排出管18を遮断し、あるいは開放する。
The dry gas discharge pipe 18 is a pipe through which the dry gas flows. The dry gas discharge pipe 18 is formed of a material having low adsorptivity and permeability to water vapor such as stainless steel. The dry gas discharge pipe 18 connects the second chamber 12 and a dry gas discharge mechanism (not shown).
The second valve 19 shuts off or opens the dry gas discharge pipe 18.

測定器20は、水蒸気量を測定する。測定器20は、乾燥ガス排出管18上の第2バルブ19よりチャンバ2側に配置されており、第2室12の水蒸気を含有するガスの水蒸気量を測定する。測定器20は、水蒸気量(湿度)を測定することが可能なものから適宜選択することが可能である。例えば高分子抵抗式湿度計、高分子容量式湿度計、酸化アルミ容量式湿度計、赤外線湿度計、マイクロ波湿度計、塩化リチウム露点計、鏡面冷却式露点計、アルファ線露点計等を用いることが可能である。このうち、露点計を用いることにより、小さい水蒸気量を高精度に測定することが可能である。なお、測定器20はセンサ部のみが乾燥ガス排出管18内に配置されてもよい。   The measuring device 20 measures the amount of water vapor. The measuring device 20 is disposed closer to the chamber 2 than the second valve 19 on the dry gas discharge pipe 18 and measures the amount of water vapor of the gas containing water vapor in the second chamber 12. The measuring device 20 can be appropriately selected from those capable of measuring the water vapor amount (humidity). For example, use a polymer resistance hygrometer, polymer capacitive hygrometer, aluminum oxide capacitive hygrometer, infrared hygrometer, microwave hygrometer, lithium chloride dew point meter, mirror cooled dew point meter, alpha ray dew point meter, etc. Is possible. Of these, a small amount of water vapor can be measured with high accuracy by using a dew point meter. Note that only the sensor unit of the measuring device 20 may be disposed in the dry gas discharge pipe 18.

なお、測定装置1は、測定装置1及び流通する気体の温度を一定に保つためのヒーター等を有していてもよい。   The measuring device 1 may have a heater or the like for keeping the temperature of the measuring device 1 and the flowing gas constant.

測定装置1は以上のように構成される。
以下、測定装置1の動作を説明する。
The measuring apparatus 1 is configured as described above.
Hereinafter, the operation of the measuring apparatus 1 will be described.

第1チャンバ部7のフランジ部7bと、第2チャンバ部8のフランジ部8bの間に測定対象物であるフィルムFがセットされ、測定装置1の温度が一定に維持される。   A film F, which is a measurement object, is set between the flange portion 7b of the first chamber portion 7 and the flange portion 8b of the second chamber portion 8, and the temperature of the measuring apparatus 1 is maintained constant.

第1バルブ17及び第2バルブ19が開放され、乾燥ガス供給機構から乾燥ガスが供給される。乾燥ガスは、十分に乾燥されたガス、例えば露点温度−70℃の窒素ガスである。乾燥ガスは、乾燥ガス導入管16、第2室12、乾燥ガス排出管18を流通して乾燥ガス排出機構に排出される。乾燥ガスは経路中に収容されている気体を追い出し、壁面に吸着している水分を除去するのに十分な量が流通される。この際、測定器20により乾燥ガスの水分量を測定しながら流通させてもよい。   The first valve 17 and the second valve 19 are opened, and the dry gas is supplied from the dry gas supply mechanism. The drying gas is a sufficiently dried gas, for example, nitrogen gas having a dew point temperature of −70 ° C. The dry gas flows through the dry gas introduction pipe 16, the second chamber 12, and the dry gas discharge pipe 18 and is discharged to the dry gas discharge mechanism. The dry gas is circulated in an amount sufficient to expel the gas contained in the path and remove the moisture adsorbed on the wall surface. At this time, the measuring device 20 may be circulated while measuring the moisture content of the dry gas.

次に、第1バルブ17及び第2バルブ19を閉止し、乾燥ガス導入管16及び乾燥ガス排出管18を遮断する。乾燥ガスはこれ以降流通されることがないため、測定中に消費されず、使用量を低減することが可能である。この際、第1バルブ17を先に閉止することにより、第2室12内の圧力を大気圧とすることができる。   Next, the first valve 17 and the second valve 19 are closed, and the dry gas introduction pipe 16 and the dry gas discharge pipe 18 are shut off. Since the dry gas is not circulated thereafter, it is not consumed during the measurement, and the amount used can be reduced. At this time, the pressure in the second chamber 12 can be set to atmospheric pressure by closing the first valve 17 first.

次に、キャリアガス供給機構からキャリアガスが供給される。キャリアガスは、例えば窒素ガスである。また、水蒸気発生器14から水蒸気が発生し、キャリアガスに水蒸気が混合されて試料ガスが形成される。試料ガスは、試料ガス導入管13、第1室11、試料ガス排出管15を流通して、試料ガス排出機構に排出される。
必要に応じて、キャリアガスの流量、水蒸気の発生量、試料ガスの温度などの各パラメータが調節される。
Next, carrier gas is supplied from the carrier gas supply mechanism. The carrier gas is, for example, nitrogen gas. Further, water vapor is generated from the water vapor generator 14, and water vapor is mixed with the carrier gas to form a sample gas. The sample gas flows through the sample gas introduction pipe 13, the first chamber 11, and the sample gas discharge pipe 15, and is discharged to the sample gas discharge mechanism.
As necessary, parameters such as the flow rate of the carrier gas, the amount of water vapor generated, and the temperature of the sample gas are adjusted.

第1室11に試料ガスが導入された時点から測定器20により水蒸気量の測定が開始される。第1室11に導入された試料ガスに含有される水蒸気はフィルムFを透過し、第2室12に浸入する。ここで、第2室12内にはガスフローがないため、第2室12に浸入した水蒸気は濃度勾配により、第2室12内、乾燥ガス導入管16内(第1バルブ17よりチャンバ2側)及び乾燥ガス排出管18内(第2バルブ19よりチャンバ2側)(以下、測定空間)に拡散し、測定器20に到達する。測定器20により測定された水蒸気量と、フィルムFの面積(第1室11と第2室12を隔てている領域のみ)と、測定経過時間から、水蒸気透過量(g/m/day)が得られる。 The measurement of the amount of water vapor is started by the measuring device 20 from the time when the sample gas is introduced into the first chamber 11. Water vapor contained in the sample gas introduced into the first chamber 11 passes through the film F and enters the second chamber 12. Here, since there is no gas flow in the second chamber 12, the water vapor that has entered the second chamber 12 has a concentration gradient in the second chamber 12 and in the dry gas introduction pipe 16 (from the first valve 17 to the chamber 2 side). ) And in the dry gas discharge pipe 18 (from the second valve 19 to the chamber 2 side) (hereinafter, measurement space), and reaches the measuring device 20. From the amount of water vapor measured by the measuring device 20, the area of the film F (only the region separating the first chamber 11 and the second chamber 12), and the measurement elapsed time, the amount of water vapor transmission (g / m 2 / day) Is obtained.

測定空間は第1バルブ17及び第2バルブ19により外部と隔絶されているため、フィルムFを透過した水蒸気は排出されず、測定空間内に留まる。このため、フィルムFを透過する速度が小さい場合であっても、時間の経過と共に測定空間内の存在量が増大して測定器20の検出限界以上となり、測定することが可能となる。   Since the measurement space is isolated from the outside by the first valve 17 and the second valve 19, the water vapor that has passed through the film F is not discharged and remains in the measurement space. For this reason, even when the transmission speed through the film F is small, the amount of the presence in the measurement space increases with the passage of time and exceeds the detection limit of the measuring device 20, and measurement is possible.

以上のように、本実施形態に係る測定装置1及びこれを用いる測定方法により、測定対象物(フィルムF)の水蒸気透過量が測定される。乾燥ガスは測定中は供給されないため、その必要量を少ないものとすることが可能である。また、フィルムFを透過した水蒸気は排出されることなく測定空間内に留まるため、水蒸気がフィルムFを透過する速度が小さい場合であっても測定することが可能となる。   As described above, the water vapor transmission amount of the measurement object (film F) is measured by the measurement apparatus 1 according to the present embodiment and the measurement method using the same. Since the dry gas is not supplied during the measurement, the required amount can be reduced. Further, since water vapor that has passed through the film F remains in the measurement space without being discharged, measurement can be performed even when the speed at which the water vapor passes through the film F is low.

(第2の実施形態)
図2は、第2の実施形態に係る水蒸気透過量測定装置30(以下、測定装置30)の概略構成を示す模式図である。測定装置30は第1の実施形態に係る測定装置1と測定器の配置が異なる。なお、測定装置30について、第1の実施形態に係る測定装置1と同一の構成には同一の符号を付し、説明を省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 2 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a water vapor transmission amount measuring device 30 (hereinafter, measuring device 30) according to the second embodiment. The measuring device 30 is different from the measuring device 1 according to the first embodiment in the arrangement of measuring devices. In addition, about the measuring apparatus 30, the same code | symbol is attached | subjected to the structure same as the measuring apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted.

測定器31は、水蒸気量を測定する。測定器31は、第2室12内に配置されている。測定器31は、水蒸気量(湿度)を測定することが可能なものから適宜選択することが可能である。例えば高分子抵抗式湿度計、高分子容量式湿度計、酸化アルミ容量式湿度計、赤外線湿度計、マイクロ波湿度計、塩化リチウム露点計、鏡面冷却式露点計、アルファ線露点計等を用いることが可能である。このうち、露点計を用いることにより、小さい水蒸気量を高精度に測定することが可能である。なお、測定器31はセンサ部のみが第2室12内に配置されてもよい。また、測定器31を第2室12内に配置した場合には、チャンバ2自体に露点計が組み込まれているので、フィルムFを透過した水分を検出しやすい。   The measuring device 31 measures the amount of water vapor. The measuring device 31 is disposed in the second chamber 12. The measuring device 31 can be appropriately selected from those capable of measuring the water vapor amount (humidity). For example, use a polymer resistance hygrometer, polymer capacitive hygrometer, aluminum oxide capacitive hygrometer, infrared hygrometer, microwave hygrometer, lithium chloride dew point meter, mirror cooled dew point meter, alpha ray dew point meter, etc. Is possible. Of these, a small amount of water vapor can be measured with high accuracy by using a dew point meter. Note that only the sensor unit of the measuring device 31 may be disposed in the second chamber 12. Further, when the measuring device 31 is disposed in the second chamber 12, since the dew point meter is incorporated in the chamber 2 itself, it is easy to detect moisture that has passed through the film F.

以上のように構成された測定装置30を用いて水蒸気透過量が測定される。測定方法は、第1の実施形態に係る水蒸気透過量測定方法と同一である。本実施形態に係る測定装置30及びこれを用いる測定方法により、測定対象物(フィルムF)の水蒸気透過量が測定される。乾燥ガスは測定中は供給されないため、その必要量を少ないものとすることが可能である。また、フィルムFを透過した水蒸気は排出されることなく測定空間内に留まるため、水蒸気がフィルムFを透過する速度が小さい場合であっても測定することが可能となる。   The water vapor transmission amount is measured using the measuring apparatus 30 configured as described above. The measurement method is the same as the water vapor transmission amount measurement method according to the first embodiment. The water vapor permeation amount of the measurement object (film F) is measured by the measurement apparatus 30 according to the present embodiment and the measurement method using the same. Since the dry gas is not supplied during the measurement, the required amount can be reduced. Further, since water vapor that has passed through the film F remains in the measurement space without being discharged, measurement can be performed even when the speed at which the water vapor passes through the film F is low.

(第3の実施形態)
図3は、第3の実施形態に係る水蒸気透過量測定装置40(以下、測定装置40)の概略構成を示す模式図である。測定装置40は第1の実施形態に係る測定装置1及び第2の実施形態に係る測定装置30と測定器の配置が異なる。なお、測定装置40について、第1の実施形態に係る測定装置1と同一の構成には同一の符号を付し、説明を省略する。
(Third embodiment)
FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a water vapor transmission amount measuring device 40 (hereinafter, measuring device 40) according to the third embodiment. The measuring device 40 is different from the measuring device 1 according to the first embodiment and the measuring device 30 according to the second embodiment in the arrangement of measuring devices. In addition, about the measuring apparatus 40, the same code | symbol is attached | subjected to the structure same as the measuring apparatus 1 which concerns on 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted.

測定器41は、水蒸気量を測定する。測定器41は、乾燥ガス導入管16上の第1バルブ17よりチャンバ2側に配置されている。測定器41は、水蒸気量(湿度)を測定することが可能なものから適宜選択することが可能である。例えば高分子抵抗式湿度計、高分子容量式湿度計、酸化アルミ容量式湿度計、赤外線湿度計、マイクロ波湿度計、塩化リチウム露点計、鏡面冷却式露点計、アルファ線露点計等を用いることが可能である。このうち、露点計を用いることにより、小さい水蒸気量を高精度に測定することが可能である。なお、測定器41はセンサ部のみが乾燥ガス導入管16内に配置されてもよい。   The measuring device 41 measures the amount of water vapor. The measuring instrument 41 is arranged on the chamber 2 side from the first valve 17 on the dry gas introduction pipe 16. The measuring device 41 can be appropriately selected from those capable of measuring the water vapor amount (humidity). For example, use a polymer resistance hygrometer, polymer capacitive hygrometer, aluminum oxide capacitive hygrometer, infrared hygrometer, microwave hygrometer, lithium chloride dew point meter, mirror cooled dew point meter, alpha ray dew point meter, etc. Is possible. Of these, a small amount of water vapor can be measured with high accuracy by using a dew point meter. Note that only the sensor unit of the measuring instrument 41 may be arranged in the dry gas introduction pipe 16.

以上のように構成された測定装置40を用いて水蒸気透過量が測定される。測定方法は、第1の実施形態に係る水蒸気透過量測定方法と同一である。本実施形態に係る測定装置40及びこれを用いる測定方法により、測定対象物(フィルムF)の水蒸気透過量が測定される。乾燥ガスは測定中は供給されないため、その必要量を少ないものとすることが可能である。また、フィルムFを透過した水蒸気は排出されることなく測定空間内に留まるため、水蒸気がフィルムFを透過する速度が小さい場合であっても測定することが可能となる。   The water vapor transmission amount is measured using the measuring apparatus 40 configured as described above. The measurement method is the same as the water vapor transmission amount measurement method according to the first embodiment. The water vapor permeation amount of the measurement object (film F) is measured by the measurement apparatus 40 according to the present embodiment and the measurement method using the same. Since the dry gas is not supplied during the measurement, the required amount can be reduced. Further, since water vapor that has passed through the film F remains in the measurement space without being discharged, measurement can be performed even when the speed at which the water vapor passes through the film F is low.

本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変更を加え得る。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

上述の各実施形態に係る水蒸気透過量測定装置及び水蒸気透過量測定方法において、測定対象物はフィルム状としたがこれに限られない。例えば板状であってもよい。   In the water vapor transmission amount measurement device and the water vapor transmission amount measurement method according to each of the above-described embodiments, the measurement target is a film, but is not limited thereto. For example, a plate shape may be used.

1 水蒸気透過量測定装置
2 チャンバ
11 第1室
12 第2室
16 乾燥ガス導入管
17 第1バルブ
18 乾燥ガス排出管
19 第2バルブ
20 測定器
30 水蒸気透過量測定装置
31 測定器
40 水蒸気透過量測定装置
41 測定器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Water vapor transmission amount measuring apparatus 2 Chamber 11 1st chamber 12 2nd chamber 16 Drying gas introduction pipe 17 1st valve 18 Drying gas discharge pipe 19 2nd valve 20 Measuring device 30 Water vapor transmission measuring device 31 Measuring device 40 Water vapor transmission amount Measuring equipment 41 Measuring equipment

Claims (4)

チャンバを第1の室と第2の室との2室に区画するように測定対象物を配置し、
ガス導入経路に設けられた第1のバルブを開放することで前記第2の室に乾燥ガスを導入し、ガス排出経路に設けられた第2のバルブを開放することで前記第2の室から乾燥ガスを排出し、
前記第1のバルブ及び前記第2のバルブを閉止することで前記第2の室への乾燥ガスの導入及び前記第2の室からの乾燥ガスの排出を停止し、
前記第1の室に水蒸気を含む試料ガスを導入し、
前記第2の室と、前記ガス導入経路と、前記ガス排出経路とによって画成される測定空間に向けて前記測定対象物を透過した、前記試料ガス中の水蒸気の量を前記測定空間で測定する
水蒸気透過量測定方法。
An object to be measured is arranged so as to divide the chamber into two chambers, a first chamber and a second chamber,
A dry gas is introduced into the second chamber by opening a first valve provided in the gas introduction path, and a second valve provided in the gas discharge path is opened from the second chamber. Exhaust the dry gas,
Close the first valve and the second valve to stop the introduction of the dry gas into the second chamber and the discharge of the dry gas from the second chamber,
Introducing a sample gas containing water vapor into the first chamber;
The amount of water vapor in the sample gas that has passed through the measurement object toward the measurement space defined by the second chamber, the gas introduction path, and the gas discharge path is measured in the measurement space. Yes Water vapor transmission rate measurement method.
請求項1に記載の水蒸気透過量測定方法であって、
前記水蒸気の量を測定する工程では、露点計によって水蒸気の量を測定する
水蒸気透過量測定方法。
The water vapor transmission amount measurement method according to claim 1,
In the step of measuring the amount of water vapor, a method for measuring the amount of water vapor permeated by measuring the amount of water vapor with a dew point meter.
測定対象物により第1の室と第2の室とに区画されるチャンバと、
前記チャンバの前記第2の室に接続され、前記第2の室に乾燥ガスを導入するガス導入経路と、
前記チャンバの前記第2の室に接続され、前記第2の室から乾燥ガスを排出するガス排出経路と、
前記ガス導入経路を開閉する第1のバルブと前記ガス排出経路を開閉する第2のバルブとを有し、前記第1のバルブ及び前記第2のバルブが閉止されることで、前記第2の室と、前記ガス排出経路と、前記ガス導入経路とによって画成される測定空間を形成する弁機構と、
前記測定空間に配置され、前記測定空間に向けて前記測定対象物を透過した、前記試料ガス中の水蒸気の量を測定する測定器と
を具備する水蒸気透過量測定装置。
A chamber partitioned into a first chamber and a second chamber by a measurement object;
A gas introduction path connected to the second chamber of the chamber and for introducing a drying gas into the second chamber;
A gas discharge path connected to the second chamber of the chamber for discharging dry gas from the second chamber;
A first valve that opens and closes the gas introduction path and a second valve that opens and closes the gas discharge path, and the second valve is closed by closing the first valve and the second valve. A valve mechanism that forms a measurement space defined by the chamber, the gas discharge path, and the gas introduction path;
A water vapor permeation amount measuring apparatus comprising: a measuring device that is disposed in the measurement space and that measures the amount of water vapor in the sample gas that has passed through the measurement object toward the measurement space.
請求項3に記載の水蒸気透過量測定装置であって、
前記測定器は露点計である
水蒸気透過量測定装置。
It is a water vapor transmission rate measuring device according to claim 3,
The measuring device is a dew point meter.
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