JP2010247020A - 溶剤ガス処理装置およびその運転方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体200と、溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置100と、を備え、被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室301内に供給し、区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給する。
【選択図】図1
Description
101 溶剤液供給部
102 タンク
103 タンク
104 タンク
105 タンク
106 供給管
107 供給管
108 供給管
109 供給管
110 流量計
111 流量計
112 流量計
113 流量計
114 開閉弁
115 開閉弁
116 開閉弁
117 開閉弁
118 ポンプ(溶剤液供給手段)
118a 溶剤液供給量制御手段
119 吐出管
120 気化混合部(気化手段)
121 気化管(気化手段)
122 電気ヒータ(加熱手段)
122a 温度調節手段
123 気化通路
124 気化促進体
125 廃液管
126 開閉弁
127 導出管
128 ノズル体
129 ノズル孔
130 電磁ソレノイド(駆動手段)
131 ニードル
132 テーパ部
133 先端部
134 送風筒
135 整流板
135a 小孔
136 ブロアA(希釈気体供給手段)
136a 希釈気体供給量制御手段
137 吐出筒
138 希釈溶剤ガス供給ライン
139 開閉弁
140 電気ヒータ(加熱手段)
140a 温度調節手段
141 溶剤ガス濃度計
200 溶剤ガス処理装置本体
201 流量計
202 溶剤ガス濃度計
203 溶剤ガス濃度計
204 触媒酸化式溶剤ガス処理装置本体
205 触媒体
206 電気ヒータ(加熱手段)
250 燃焼蓄熱式溶剤ガス処理装置本体
251 バーナ
252a 蓄熱材
252b 蓄熱材
253 流路切替部
254a 接続部材
254b 接続部材
300 大気開放部
301 区画室
301a 区画室内部
302 開口
400 供給ライン
401 開閉弁
402 ブロアB(吸引手段)
402a 吸引量制御手段
500 被処理気体供給ライン
501 開閉弁
Claims (5)
- 揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置に供給することを特徴とする溶剤ガス処理装置。
- 溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを吐出させた区画室内の圧力を陽圧に維持することを特徴とする請求項1に記載の溶剤ガス処理装置。
- 溶剤ガスを含まない校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能としたことを特徴とする請求項1または2に記載の溶剤ガス処理装置。
- 揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするともに、前記溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスを大気開放状態で所定量貯留する区画室内に供給し、前記区画室内の貯留した希釈溶剤ガスを吸引して溶剤ガス処理装置本体に供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法。
- 溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能とするとともに、校正用気体を溶剤ガス処理装置本体へ供給した後、溶剤ガス発生装置から溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体部の処理能力の評価運転を行うことを特徴とする請求項4に記載の溶剤ガス処理装置の運転方法。
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JP2008302348A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Ooden:Kk | 排ガス処理監視装置、排ガス処理装置及び排ガス処理監視方法 |
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