JP2010247019A - Solvent gas producer, solvent gas treatment apparatus using the same, and operation method therefor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、揮発性有機化合物(VOC:Volatile Organic Compounds)等の揮発性化合物を含む溶剤ガス発生装置と、これを用いた排気ガス(被処理気体)を浄化処理する溶剤ガス処理装置およびその運転方法に関するものである。 The present invention relates to a solvent gas generation device containing a volatile compound such as a volatile organic compound (VOC), a solvent gas treatment device for purifying an exhaust gas (treated gas) using the same, and an operation thereof It is about the method.
この種溶剤ガス発生装置代表的な例として、下記のものがある。溶剤液を溶剤供給ポンプ及び溶剤液供給配管を介して、噴霧ノズルに供給する。噴霧ノズルは、熱源ボックス内に溶剤液を噴霧する。噴霧された溶剤液は、熱源ボックス内の熱風によって気化される。熱風によって気化しきれなかった溶剤液は、噴霧方向に設けたプレートヒータに付着するとともに、底面に設けたプレートヒータに落下して付着する。プレートヒータは、付着した溶剤液を加熱して気化する。また、溶剤供給配管は、その内部の溶剤を加熱する溶剤供給用ヒータを備えている(例えば、特許文献1参照)。 The following are typical examples of this kind of solvent gas generator. The solvent liquid is supplied to the spray nozzle through a solvent supply pump and a solvent liquid supply pipe. The spray nozzle sprays the solvent liquid into the heat source box. The sprayed solvent liquid is vaporized by hot air in the heat source box. The solvent liquid that could not be vaporized by the hot air adheres to the plate heater provided in the spraying direction, and falls and adheres to the plate heater provided on the bottom surface. The plate heater heats and vaporizes the attached solvent liquid. Further, the solvent supply pipe is provided with a solvent supply heater for heating the solvent therein (see, for example, Patent Document 1).
近年、生活環境に近接した中小規模事業場や畜産業からの悪臭苦情が増加し、また、苦情の原因となる悪臭の発生源が多様化する傾向がある。中でも、印刷・塗装工場等から排出されるガスに含まれる揮発性有機化合物(溶剤ガス)は悪臭をもたらすだけでなく、浮遊粒子状物質(SPM)や光化学オキシダント等の原因物質でもある。このため、個々の事業所における揮発性化合物排出削減に向けた対策が求められている。また、平成18年に大気汚染防止法が改正され、大規模施設等における揮発性化合物排出基準値等が設定された。 In recent years, odor complaints from small and medium-sized businesses and livestock industries close to the living environment have increased, and the sources of odor causing complaints tend to diversify. Among them, volatile organic compounds (solvent gases) contained in gases discharged from printing / painting plants and the like not only cause bad odor, but are also causative substances such as suspended particulate matter (SPM) and photochemical oxidants. For this reason, countermeasures for reducing volatile compound emissions at individual offices are required. In 2006, the Air Pollution Control Law was amended to set volatile compound emission standards for large-scale facilities.
悪臭の脱臭方法として、可燃性を呈する炭化水素などの一般的に揮発性化合物と称されるガスを浄化処理する方法は、分解方式(燃焼、触媒分解など)、除去・分離方式(吸着、冷却凝縮などで、回収方式も含む)、生物脱臭方式に大別される。 As a method for deodorizing bad odors, purification methods for gases generally called volatile compounds such as flammable hydrocarbons include decomposition methods (combustion, catalytic decomposition, etc.), removal and separation methods (adsorption, cooling). It can be roughly classified into biological deodorization methods such as condensation and recovery methods).
前記浄化処理方法、その装置においては、従来から一般的に処理装置の入り口側における発生源からの被処理ガス(被処理気体)中の揮発性化合物成分および処理装置の出口側における処理ガス中の揮発性化合物成分の濃度を濃度計測器で計測し、浄化処理能力の把握および装置の全体的な制御等をおこなっていた。 In the purification treatment method and the apparatus thereof, conventionally, the volatile compound component in the gas to be processed (the gas to be processed) from the generation source on the inlet side of the processing apparatus and the gas in the processing gas on the outlet side of the processing apparatus have been generally used. The concentration of the volatile compound component was measured with a concentration measuring device to grasp the purification treatment capacity and to perform overall control of the apparatus.
前記した処理装置の代表的な例として、下記のものがある。揮発性化合物の除去状態を正確に把握するため、排ガス中に含まれる揮発性化合物を除去するとともに再生可能な排ガス処理部の処理機能を監視する排ガス処理監視装置であって、前記排ガス(被処理気体)の流路に沿って前記排ガス処理部に流入する前記揮発性化合物の流入濃度と前記排ガス処理部から排出される前記揮発性化合物の排出濃度とを検出する濃度検出手段と、前記流入濃度及び前記排出濃度に基づいて、前記排ガス処理部の使用時の処理機能の低下状態又は再生時の処理機能の回復状態を検知する状態検知手段とを備えた排ガス処理監視装置、排ガス処理装置としたものである(例えば、特許文献2参照)。 The following are typical examples of the processing apparatus described above. An exhaust gas treatment monitoring device for removing a volatile compound contained in exhaust gas and monitoring a treatment function of a recyclable exhaust gas treatment unit in order to accurately grasp a removal state of a volatile compound, Concentration detecting means for detecting an inflow concentration of the volatile compound flowing into the exhaust gas treatment unit along a gas flow path and an exhaust concentration of the volatile compound discharged from the exhaust gas treatment unit, and the inflow concentration And an exhaust gas treatment monitoring apparatus and an exhaust gas treatment device provided with a state detection means for detecting a deterioration state of the treatment function during use of the exhaust gas treatment unit or a recovery state of the treatment function during regeneration based on the exhaust concentration. (For example, refer to Patent Document 2).
しかしながら、前記した特許文献1に記載されたものは、熱源ボックス内に溶剤液を噴霧するとともに、噴霧した溶剤液を高温の熱風および噴霧方向に設けたプレートヒータ、底面に設けたプレートヒータに付着した溶剤液を加熱して気化させるため、プレートヒータの温度変動、付着した溶剤液の気化遅れ等によって、プレートヒータ面での気化速度の変動を生じやすく、溶剤ガスの発生量が脈動し、さらに、噴霧した溶剤液が供給した熱風によって気化しないまま熱源ボックス外に吐出する場合もあり、溶剤液の安定した気化が課題となる。 However, the one described in Patent Document 1 sprays the solvent liquid in the heat source box and adheres the sprayed solvent liquid to the plate heater provided in the hot air and the spraying direction, and the plate heater provided on the bottom surface. Since the solvent liquid is heated and vaporized, the temperature fluctuation of the plate heater, the vaporization delay of the adhering solvent liquid, etc. are likely to cause fluctuations in the vaporization speed on the plate heater surface, and the amount of solvent gas generated pulsates. In some cases, the sprayed solvent liquid is discharged out of the heat source box without being vaporized by the supplied hot air, and stable vaporization of the solvent liquid becomes a problem.
また、前記した特許文献2に記載されたものは、揮発性有機化合物成分を含む浄化処理すべき排ガス(被処理気体)の一部および浄化処理後の処理気体を分岐、切換えて、各々の気体の揮発性有機化合物成分の濃度をガスセンサにより計測するものである。 Moreover, what was described in above-mentioned patent document 2 branches and switches a part of waste gas (to-be-processed gas) which should contain the purification process containing a volatile organic compound component, and the process gas after purification process, and each gas The concentration of the volatile organic compound component is measured with a gas sensor.
この場合においては、塗装工場や印刷工場、化学工場等の揮発性有機化合物成分含有ガスの発生源から排出される浄化処理すべき排ガス(被処理気体)中の揮発性有機化合物成分の濃度が極めて不安定なものであり、ごく短時間に揮発性有機化合物成分の濃度が常に変動して一定にならず、さらに様々な揮発性有機化合物成分が混入する恐れがある。 In this case, the concentration of the volatile organic compound component in the exhaust gas to be purified (the gas to be treated) discharged from the generation source of the volatile organic compound component-containing gas such as a coating factory, a printing factory, or a chemical factory is extremely high. It is unstable, and the concentration of the volatile organic compound component always fluctuates in a very short time and does not become constant, and various volatile organic compound components may be mixed.
また、揮発性有機化合物成分含有ガスの発生源が停止状態で、揮発性有機化合物成分含有ガスの発生が無いときには、処理装置の処理能力の評価ができない。 In addition, when the generation source of the volatile organic compound component-containing gas is stopped and there is no generation of the volatile organic compound component-containing gas, the processing capability of the processing apparatus cannot be evaluated.
このため、短時間に揮発性有機化合物成分の濃度の変動(バラツキ)により常に正確で安定した溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができない。また、被処理気体の量または被処理気体中の揮発性有機化合物成分の濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができない。 For this reason, it is impossible to always evaluate the processing capability of the solvent gas processing apparatus accurately and stably due to the fluctuation (variation) of the concentration of the volatile organic compound component in a short time. Further, it is not possible to evaluate the processing capability of the solvent gas processing apparatus by arbitrarily changing the amount of the gas to be processed or the concentration of the volatile organic compound component in the gas to be processed to various conditions.
本発明は、前記従来の課題を解決するもので、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価用として、揮発性有機化合物の溶剤液の安定した気化と、安全性の向上を図った溶剤ガス発生装置を提供することを目的とする。また、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and for the purpose of evaluating the processing capacity of a solvent gas processing device, a solvent gas generator that is capable of stable vaporization of a solvent solution of a volatile organic compound and an improvement in safety. The purpose is to provide. It is another object of the present invention to provide a solvent gas processing apparatus and a method for operating the solvent gas processing apparatus that can always accurately and stably evaluate the processing capacity of volatile organic compounds.
本発明の溶剤ガス発生装置は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置の処理能力の評価運転用として揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させた溶剤ガスを供給する溶剤ガス発生装置であって、揮発性有機化合物の溶剤液を貯蔵するタンクと、前記タンクから溶剤液を吸引吐出するポンプと、前記ポンプによって供給された溶剤液を溶剤ガスとして加熱気化させる気化管と、前記気化管を加熱する加熱手段と、前記気化管の温度を検出して所定温度に制御する温度調節手段と、前記気化管で気化した溶剤ガスを噴出する噴出口を有するノズル孔と、前記ノズル孔を開閉するニードルを駆動する駆動手段と、前記溶剤ガスと混合する希釈気体を供給する希釈気体供給手段と、を備え、前記加熱手段により加熱した気化管にポンプにより溶剤液を供給し加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、ニードルを駆動しノズル孔を開にして前記溶剤ガスを噴出させ、前記ノズル孔から噴出した溶剤ガスに希釈気体を混合させて希釈溶剤ガスとし、前記希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置へ供給することを特徴とするものである。 The solvent gas generator of the present invention supplies a solvent gas obtained by heating and evaporating a solvent liquid of a volatile organic compound for an operation for evaluating the processing capability of the solvent gas processing apparatus for processing a gas to be processed containing a volatile organic compound. A solvent gas generator, a tank for storing a solvent liquid of a volatile organic compound, a pump for sucking and discharging the solvent liquid from the tank, and a vaporization pipe for heating and vaporizing the solvent liquid supplied by the pump as a solvent gas Heating means for heating the vaporization pipe, temperature adjusting means for detecting the temperature of the vaporization pipe and controlling it to a predetermined temperature, a nozzle hole having a jet outlet for jetting the solvent gas vaporized in the vaporization pipe, Vaporization heated by the heating means, comprising driving means for driving a needle for opening and closing the nozzle hole, and dilution gas supply means for supplying a dilution gas mixed with the solvent gas The solvent liquid is supplied to the pump by a pump and vaporized into a solvent gas, and the needle is driven to open the nozzle hole to eject the solvent gas, and the diluent gas is mixed into the solvent gas ejected from the nozzle hole. A diluted solvent gas is used, and the diluted solvent gas is supplied to a solvent gas processing apparatus.
本発明の溶剤ガス処理装置は、前記溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、前記溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能としたしたものである。 The solvent gas processing apparatus of the present invention includes the solvent gas generator, a solvent gas processing apparatus main body for processing a gas to be processed containing a volatile organic compound, and a solvent gas processing apparatus main body for the gas to be processed containing a volatile organic compound. A supply line to the solvent gas processing device main body of the diluted solvent gas generated by the solvent gas generator, and the diluted gas generated by the gas to be processed and the solvent gas generator The supply to the solvent gas processing apparatus main body can be selected, the evaluation operation of the solvent gas processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body by the supply of the diluted solvent gas generated by the solvent gas generator, and the supply of the gas to be processed This makes it possible to perform a processing operation of the gas to be processed.
また、本発明の溶剤ガス処理装置の運転方法は、前記溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の(溶剤ガスの)処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするとともに、溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とするものである。 The operation method of the solvent gas processing apparatus of the present invention includes the solvent gas generator, a solvent gas processing apparatus body for processing a gas to be processed containing a volatile organic compound, and a gas to be processed containing a volatile organic compound. A supply line to the main body of the solvent gas processing apparatus and a supply line to the main body of the solvent gas processing apparatus of the diluted solvent gas generated by the solvent gas generation apparatus, and the generated gas to be processed and the solvent gas generation apparatus It is possible to select supply of diluted solvent gas to the solvent gas processing apparatus main body, evaluation operation of the processing capacity (of solvent gas) of the solvent gas processing apparatus main body by supplying diluted solvent gas generated by the solvent gas generating apparatus, It is possible to perform a processing operation of the gas to be processed by supplying a processing gas, and supply a dilute solvent gas from a solvent gas generator to process the solvent gas of the solvent gas processing apparatus body After evaluation operation, it is characterized in that performing the processing operation of the gas to be treated by the supply of the gas to be treated.
本発明の本発明の溶剤ガス発生装置によれば、揮発性有機化合物の溶剤液の安定した気化と、安全性の向上を図ることができる。また、本発明の溶剤ガス処理装置、溶剤ガス処理装置の運転方法によれば、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。 According to the solvent gas generator of the present invention, it is possible to stably vaporize the solvent liquid of the volatile organic compound and improve safety. Moreover, according to the operation method of the solvent gas processing apparatus and the solvent gas processing apparatus of the present invention, it is possible to always evaluate the processing capability of the volatile organic compound accurately and stably.
第1の発明は、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置の処理能力の評価運転用として揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させた溶剤ガスを供給する溶剤ガス発生装置であって、揮発性有機化合物の溶剤液を貯蔵するタンクと、前記タンクから溶剤液を吸引吐出するポンプと、前記ポンプによって供給された溶剤液を溶剤ガスとして加熱気化させる気化管と、前記気化管を加熱する加熱手段と、前記気化管の温度を検出して所定温度に制御する温度調節手段と、前記気化管で気化した溶剤ガスを噴出する噴出口を有するノズル孔と、前記ノズル孔を開閉するニードルを駆動する駆動手段と、前記溶剤ガスと混合する希釈気体を供給する希釈気体供給手段と、を備え、前記加熱手段により加熱した気化管にポンプにより溶剤液を供給し加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、ニードルを駆動しノズル孔を開にして前記溶剤ガスを噴出させ、前記ノズル孔から噴出した溶剤ガスに希釈気体を混合させて希釈溶剤ガスとし、前記希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置へ供給することを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。 The first aspect of the present invention is the generation of a solvent gas for supplying a solvent gas obtained by heating and vaporizing a solvent liquid of a volatile organic compound as an operation for evaluating the processing capacity of a solvent gas processing apparatus for processing a gas to be processed containing a volatile organic compound. A tank for storing a solvent liquid of a volatile organic compound, a pump for sucking and discharging the solvent liquid from the tank, a vaporizing tube for heating and vaporizing the solvent liquid supplied by the pump as a solvent gas, Heating means for heating the vaporizing pipe, temperature adjusting means for detecting the temperature of the vaporizing pipe and controlling it to a predetermined temperature, a nozzle hole having a jet outlet for jetting the solvent gas vaporized in the vaporizing pipe, and the nozzle hole Drive means for driving a needle for opening and closing the gas, and dilution gas supply means for supplying a dilution gas mixed with the solvent gas, and a pump is attached to the vaporization tube heated by the heating means. The solvent liquid is supplied and vaporized by heating to form a solvent gas, and the needle is driven to open the nozzle hole, the solvent gas is ejected, and the diluent gas is mixed with the solvent gas ejected from the nozzle hole to dilute the solvent gas. The solvent gas generator is characterized in that the diluted solvent gas is supplied to a solvent gas processing device.
これによって、ポンプによって供給された溶剤液を加熱気化させる気化管には、溶剤液のみを供給し、空気は供給しないので、気化管自体の小型化と電気ヒータ等による予熱時間が短縮され短時間で溶剤ガスを気化させることができるとともに、空気の存在しない状態で加熱気化させて溶剤ガスとすることによって引火等の恐れが無く安全である。また、溶剤液を加熱気化させた溶剤ガスをノズル孔から噴射させた後、希釈気体を供給して混合するので、溶剤ガスと希釈気体を均一に混合することができる。さらに、ノズル孔を開閉して溶剤ガスの噴出の有無を瞬時に制御することができる。したがって、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価用として、揮発性有機化合物の溶剤液の安定した気化と、安全性の向上を図った溶剤ガス発生装置とすることができる。 As a result, only the solvent liquid is supplied to the vaporizing pipe for heating and vaporizing the solvent liquid supplied by the pump, and no air is supplied. Therefore, the preheating time by the miniaturization of the vaporizing pipe itself and the electric heater is shortened and the time is shortened. In addition to being able to vaporize the solvent gas, heating and vaporizing in the absence of air to form the solvent gas is safe without the risk of ignition. Further, since the solvent gas obtained by heating and evaporating the solvent liquid is sprayed from the nozzle hole and then the dilution gas is supplied and mixed, the solvent gas and the dilution gas can be mixed uniformly. Furthermore, it is possible to instantaneously control whether or not the solvent gas is ejected by opening and closing the nozzle hole. Therefore, it can be set as the solvent gas generator which aimed at the stable vaporization of the solvent liquid of a volatile organic compound, and the improvement of safety | security for evaluation of the processing capacity of a solvent gas processing apparatus.
第2の発明は、第1の発明において、ポンプのよる溶剤液の気化管への供給量および/または希釈気体の供給手段による希釈気体の供給量を制御して前記希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を調節可能とし、前記希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体へ供給することを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。 According to a second invention, in the first invention, the solvent gas in the diluted solvent gas is controlled by controlling the supply amount of the solvent liquid to the vaporization tube by the pump and / or the supply amount of the dilution gas by the dilution gas supply means. The solvent gas generating device is characterized in that the concentration of gas can be adjusted and the diluted solvent gas is supplied to the main body of the solvent gas processing device.
これによって、溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させた希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置へ供給することができる。 As a result, the diluted solvent gas whose solvent gas concentration is arbitrarily changed under various conditions can be supplied to the solvent gas processing apparatus.
第3の発明は、第1または第2の発明において、複数の種類の溶剤液の内、いずれか一つの溶剤液を選択して気化手段に供給し溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置としたものである。 A third invention is the solvent gas generator according to the first or second invention, wherein one of a plurality of types of solvent liquid is selected and supplied to the vaporizing means to generate a solvent gas. Is.
これによって、複数の種類の溶剤液の溶剤ガスでの溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価を行うことができ、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。 As a result, it is possible to evaluate the processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body with solvent gases of a plurality of types of solvent liquids, and to set a wider range of evaluation conditions for the solvent gas processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body. be able to.
第4の発明は、第1または第2の発明において、複数の種類の溶剤液を同時に気化手段に供給し、前記複数の種類の溶剤液の混合した混合溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置としたものである。 According to a fourth invention, in the first or second invention, a solvent gas generator for supplying a plurality of types of solvent liquids simultaneously to the vaporizing means and generating a mixed solvent gas in which the plurality of types of solvent liquids are mixed; It is a thing.
これによって、複数の種類の溶剤液の混合した混合溶剤ガスでの溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価を行うことができ、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。 As a result, it is possible to evaluate the processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body with a mixed solvent gas in which a plurality of types of solvent liquids are mixed. Can be set widely.
第5の発明は、第4の発明において、複数の種類の溶剤液の各々の溶剤ガスの成分割合を調節可能にしたことを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。 According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect of the invention, the solvent gas generating device is characterized in that the component ratio of each of the plurality of types of solvent liquids can be adjusted.
これによって、複数の種類の溶剤液の様々な成分割合の溶剤ガスでの溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価を行うことができ、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。 As a result, it is possible to evaluate the processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body with solvent gases of various component ratios of a plurality of types of solvent liquids, and the evaluation conditions of the processing capacity of the solvent gas in the solvent gas processing apparatus main body Can be set more widely.
第6の発明は、第1〜5のいずれかの発明において、希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を所定時間内において変化させて希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体へ供給することを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。 A sixth invention is characterized in that, in any one of the first to fifth inventions, the concentration of the solvent gas in the diluted solvent gas is changed within a predetermined time, and the diluted solvent gas is supplied to the main body of the solvent gas processing apparatus. This is a solvent gas generator.
これによって、所定時間内における溶剤ガスの濃度の変化による溶剤ガス処理装置本体の処理能力の評価を行うことができ、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。 This makes it possible to evaluate the processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body due to a change in the concentration of the solvent gas within a predetermined time, and to set a wider range of evaluation conditions for the solvent gas processing capacity in the solvent gas processing apparatus main body. be able to.
第7の発明は、第1〜6のいずれかの発明において、溶剤ガスと空気を混合した希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を爆発限界の下限値以下となるように溶剤液の気化手段への供給量または希釈気体の供給量を制御することを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。 A seventh invention is directed to the solvent liquid vaporization means in any one of the first to sixth inventions, so that the concentration of the solvent gas in the diluted solvent gas obtained by mixing the solvent gas and air is not more than the lower limit of the explosion limit. The solvent gas generation device is characterized in that the supply amount of dilute gas or the supply amount of dilution gas is controlled.
これによって、常に安全な状態に維持して希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体へ供給することができる。 Accordingly, the diluted solvent gas can be supplied to the solvent gas processing apparatus main body while always maintaining a safe state.
第8の発明は、第1〜7のいずれかの発明において、希釈溶剤ガスの温度を検出して所定温度に制御する温度調節手段を備えたことを特徴とする溶剤ガス発生装置としたものである。 An eighth invention is a solvent gas generator characterized in that in any one of the first to seventh inventions, temperature adjusting means for detecting the temperature of the diluted solvent gas and controlling it to a predetermined temperature is provided. is there.
これによって、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの温度変化における処理能力の評価を行うことができき、溶剤ガス処理装置本体での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。 As a result, it is possible to evaluate the processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body in response to temperature changes, and it is possible to set a wider range of conditions for evaluating the solvent gas processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body. .
第9の発明は、前記溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への被処理気体供給ラインと、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への希釈溶剤ガス供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能としたことを特徴とする溶剤ガス処理装置としたものである。 According to a ninth aspect of the present invention, the solvent gas generator, a solvent gas processing apparatus main body for processing a gas to be processed containing a volatile organic compound, and a solvent liquid by heating and vaporizing a solvent liquid of the volatile organic compound to form a solvent gas, A solvent gas generator for generating a diluted solvent gas mixed with the solvent gas and a diluent gas; a gas supply line for supplying a gas to be processed containing a volatile organic compound to a solvent gas processor body; and a solvent gas generator. A dilution solvent gas supply line for supplying the diluted solvent gas generated in step 1 to the solvent gas processing apparatus main body, and supplying the gas to be processed and the diluted solvent gas generated in the solvent gas generation apparatus to the solvent gas processing apparatus main body The operation of evaluating the solvent gas processing capacity of the main body of the solvent gas processing apparatus by supplying the diluted solvent gas generated by the solvent gas generating apparatus and the above-mentioned processing by supplying the gas to be processed It was possible to perform processing operation of the gas is obtained by the solvent gas treatment apparatus according to claim.
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動(バラツキ)が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。 As a result, there is no fluctuation (variation) in the solvent gas concentration in a short time, and furthermore, the amount of the diluted solvent gas or the solvent gas concentration in the diluted solvent gas is arbitrarily changed to various conditions to An evaluation of the processing capacity can be performed. Therefore, it is possible to always evaluate the processing ability of the volatile organic compound accurately and stably.
第10の発明は、第9の発明において、溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体のゼロ校正運転を行うことを可能としたことを特徴とする溶剤ガス処理装置としたものである。 According to a tenth aspect, in the ninth aspect, a calibration gas supply line not including a solvent gas is provided, and the zero calibration operation of the main body of the solvent gas processing apparatus by supplying the calibration gas can be performed. The solvent gas treatment device is as follows.
これによって、校正気体の供給によって、溶剤ガス濃度計の計測精度の向上を図ることができる。また、溶剤ガス処理装置本体内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。 Thereby, the measurement accuracy of the solvent gas concentration meter can be improved by supplying the calibration gas. Further, once the residual solvent gas in the main body of the solvent gas processing apparatus is driven out, it is possible to grasp the processing capacity by the diluted solvent gas from the solvent gas generating apparatus with higher accuracy.
第11の発明は、前記溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体を処理する溶剤ガス処理装置本体と、揮発性有機化合物の溶剤液を加熱気化させて溶剤ガスとするとともに、前記溶剤ガスと希釈気体と混合させた希釈溶剤ガスを発生させる溶剤ガス発生装置と、揮発性有機化合物を含む被処理気体の溶剤ガス処理装置本体への被処理気体供給ラインと、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への希釈溶剤ガス供給ラインと、を備え、前記被処理気体と溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体への供給を選択可能とし、溶剤ガス発生装置で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転と、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを可能とするとともに、溶剤ガス発生装置から希釈溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体の溶剤ガスの処理能力の評価運転を行った後、被処理気体の供給による前記被処理気体の処理運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法としたものである。 In an eleventh aspect of the invention, the solvent gas generator, a solvent gas processing apparatus main body for processing a gas to be processed containing a volatile organic compound, and a solvent liquid by heating and evaporating a solvent liquid of the volatile organic compound, A solvent gas generator for generating a diluted solvent gas mixed with the solvent gas and a diluent gas; a gas supply line for supplying a gas to be processed containing a volatile organic compound to a solvent gas processor body; and a solvent gas generator. A dilution solvent gas supply line for supplying the diluted solvent gas generated in step 1 to the solvent gas processing apparatus main body, and supplying the gas to be processed and the diluted solvent gas generated in the solvent gas generation apparatus to the solvent gas processing apparatus main body The operation of evaluating the solvent gas processing capacity of the main body of the solvent gas processing apparatus by supplying the diluted solvent gas generated by the solvent gas generating apparatus, and the above-mentioned target by supplying the gas to be processed It is possible to perform a processing operation of a physical gas, and after supplying a diluted solvent gas from a solvent gas generator and performing an evaluation operation of the solvent gas processing capacity of the main body of the solvent gas processing device, supplying a gas to be processed The method for operating the solvent gas processing apparatus is characterized in that the processing operation of the gas to be processed is performed.
これによって、短時間での溶剤ガス濃度の変動(バラツキ)が無く、さらに、希釈溶剤ガスの量または希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に様々な条件に変化させて、溶剤ガス処理装置の処理能力の評価を行うことができる。したがって、常に正確で安定した揮発性有機化合物の処理能力の評価を行うことができる。 As a result, there is no fluctuation (variation) in the solvent gas concentration in a short time, and furthermore, the amount of the diluted solvent gas or the solvent gas concentration in the diluted solvent gas is arbitrarily changed to various conditions to An evaluation of the processing capacity can be performed. Therefore, it is possible to always evaluate the processing ability of the volatile organic compound accurately and stably.
第12の発明は、第11の発明において、溶剤ガスを含まない校正気体の供給ラインを備え、校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体の校正運転を行うことを可能とするとともに、校正用気体を溶剤ガス処理装置本体へ供給した後、溶剤ガス発生装置から溶剤ガスを供給して溶剤ガス処理装置本体部の処理能力の評価運転を行うことを特徴とする溶剤ガス処理装置の運転方法としたものである。 In a twelfth aspect of the invention according to the eleventh aspect, a calibration gas supply line not including a solvent gas is provided, and the calibration operation of the solvent gas processing apparatus main body can be performed by supplying a calibration gas. An operation method for a solvent gas processing apparatus, comprising: supplying gas to a solvent gas processing apparatus main body; then supplying solvent gas from the solvent gas generating apparatus to perform an evaluation operation of the processing capacity of the solvent gas processing apparatus main body; and It is a thing.
これによって、校正気体の供給によって、溶剤ガス濃度計の計測精度の向上を図ることができる。また、溶剤ガス処理装置本体内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。 Thereby, the measurement accuracy of the solvent gas concentration meter can be improved by supplying the calibration gas. Further, once the residual solvent gas in the main body of the solvent gas processing apparatus is driven out, it is possible to grasp the processing capacity by the diluted solvent gas from the solvent gas generating apparatus with higher accuracy.
以下、本発明の一実施の形態の溶剤ガス処理装置を図1〜図6を参照しながら説明する。図1は、本発明の一実施の形態の溶剤ガス処理装置の基本構成図、図2は、溶剤ガス発生装置の溶剤液供給部および気化混合部の基本構成図、図3は、気化混合部のノズル孔閉塞時の構成図、図4(a)、(b)は、溶剤ガス発生装置からの溶剤ガスの供給例を示すグラフ、図5は、溶剤ガス処理装置本体の例を示す基本構成図、図6は、溶剤ガス処理装置本体の他の例を基本構成図である。 Hereinafter, a solvent gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a basic configuration diagram of a solvent gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a basic configuration diagram of a solvent liquid supply unit and a vaporization mixing unit, and FIG. 3 is a vaporization mixing unit. FIG. 4A and FIG. 4B are graphs showing examples of supply of solvent gas from the solvent gas generator, and FIG. 5 is a basic configuration showing an example of the solvent gas processing apparatus main body. FIG. 6 and FIG. 6 are basic configuration diagrams of another example of the solvent gas processing apparatus main body.
先ず本発明の一実施の形態の溶剤ガス発生装置100および溶剤ガス処理装置の基本的な構成を説明する。溶剤ガス発生装置100は、主に溶剤液供給部101、気化混合部120から構成されている。溶剤液供給部101は、異なる溶剤液を貯留するタンク102、タンク103、タンク104と、複数の溶剤液を所定の割合で混合して貯留するタンク105を備えている。溶剤液としては、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の揮発性有機化合物が挙げられる。なお、揮発性有機化合物としてこれに限定するものではない。
First, the basic configuration of the
また、各々のタンク102、103、104、105に各々の供給管106、107、108、109を接続してある。さらに、各々の供給管106、107、108、109には、各々流量計110、111、112、113および、開閉弁114、115、116、117を配置している。
Also, the
各々の供給管106、107、108、109の他端は、ポンプ(溶剤液供給手段)118に接続してある。ポンプ118の吐出側には、吐出管119が接続され、この吐出管119は気化混合部120の気化管121に接続されている。また、ポンプ118の溶剤液の供給量は、溶剤液供給量制御手段118aによりポンプ118を制御して調節可能な構成としている。
The other end of each
気化手段である気化混合部120は、一方端を開放した気化管121、気化管121の外周面には電気ヒータ122(加熱手段)を装着ししている。気化管121の温度は、気化管121の温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段122aにより調節されるようになっている。
The vaporizing and mixing
気化管121の気化通路123には、吐出管119から流入した溶剤液の均一な流れおよび、浸透性を良好にするため気化促進体124を充填してある。この気化促進体124は、例えば細線からなる金属繊維材、連通性のアある金属発砲材等か構成してある。
The
気化管121の下部には、溶剤液の廃液管125を接続し、ここに開閉弁126を設けている。
A
気化管121の気化通路123と直交する方向に導出管127が固定され、導出管127の内部は気化通路123と導通している。また、気化管121には、ノズル孔129を形成したノズル体128が固定されている。
The
導出管127のノズル体128と対向する側には、電磁ソレノイド130(駆動手段)を設け、この電磁ソレノイド130によって、軸長方向にニードル131が移動するように構成されている。ニードル131の電磁ソレノイド130と対向する側には、テーパ部132、ノズル孔129に挿入可能な直径とした先端部133が形成されている。
An electromagnetic solenoid 130 (driving means) is provided on the side of the lead-out
また、ノズル体128側には、送風筒134の設け、ノズル体128を囲むように複数の小孔135aを形成した整流板135が位置している。送風筒134には、ブロアA136(希釈気体供給手段)の吐出側を接続し、さらに吐出筒137を接続してこの吐出筒137と開閉弁139を配置した希釈溶剤ガス供給ライン138を接続している。
Further, on the
さらに、ブロアA136による空気(希釈気体)の供給量は、ブロアA136に有するモータの回転数を制御する希釈気体供給量制御手段136aにより調節するように構成している。また、吐出筒137の部分に電気ヒータ140(加熱手段)を設け、希釈溶剤ガスの温度を検出し所定温度に制御する温度調節手段140aにより吐出筒137内を通過する溶剤ガスと空気が混合した希釈溶剤ガスの温度を調節するようになっている。なお、電気ヒータ140を設けたが、希釈溶剤ガスを加熱および冷却する手段を設けてもよい。この場合には希釈溶剤ガスの温度をより幅広く調節することができ、溶剤ガス処理装置本体200での溶剤ガスの処理能力の評価条件をより幅広く設定することができる。
Furthermore, the supply amount of air (dilution gas) by the blower A136 is configured to be adjusted by a dilution gas supply amount control means 136a that controls the rotational speed of the motor included in the blower A136. In addition, an electric heater 140 (heating means) is provided in the
溶剤ガス処理装置本体200の校正気体、希釈溶剤ガス、被処理気体の入口側には、流量計201および溶剤ガス濃度計202が設けられており、また溶剤ガス処理装置本体200の出口側には、溶剤ガス濃度計203が設けられている。
A
溶剤ガス処理装置本体200は、本発明においてはその溶剤ガス処理方式を限定するものではないが、例として図5および図6に代表的な装置を示す。図6に示す基本構成は、触媒酸化式の溶剤ガス処理装置本体であって、ハニカム形状の触媒体205、触媒体205に近接配置し、これを加熱する電気ヒータ206(加熱手段)を備えたものである。この方式は、酸化触媒を用いてより低温で溶剤ガスを分解処理することができる。
Although the solvent gas processing apparatus
また、図5に示す基本構成は、燃焼蓄熱式の溶剤ガス処理装置本体であって、バーナ251、バーナ251の燃焼により蓄熱するハニカム形状の蓄熱材252a、252b、流路切替部253、接続部材254a、254bを備えたものである。この方式は、バーナ251の燃焼熱、高温の蓄熱材252a、252bにより、溶剤ガスを分解処理することができる。
Further, the basic configuration shown in FIG. 5 is a combustion heat storage type solvent gas processing apparatus main body, which is a
図1において溶剤ガス処理装置本体200の入口側には、開閉弁302を配置した被処理気体供給ライン300が接続され、ブロアB301によって浄化処理すべき被処理気体、校正気体を溶剤ガス処理装置本体200に供給する。
In FIG. 1, a
また、ブロアB301の吸入側の被処理気体供給ライン300に開閉弁401を配置した校正気体供給ライン400を接続している。
Further, a calibration
次に、前記した溶剤ガス処理装置および溶剤ガス発生装置の基本的な運転動作について説明する。先ず、溶剤ガスを含まない所定量の校正気体を溶剤ガス処理装置本体200に供給する動作を説明する。この動作時においては、溶剤ガス処理装置本体200、流量計201、溶剤ガス濃度計202を運転状態とし、開閉弁139、302を閉、気化混合部120の運転を停止状態として、ブロアB301を運転して溶剤ガスを含まない所定量の校正気体を溶剤ガス処理装置本体200に供給する。
Next, the basic operation of the solvent gas processing device and the solvent gas generator will be described. First, an operation of supplying a predetermined amount of calibration gas not containing solvent gas to the solvent gas processing apparatus
校正気体は、被処理気体供給ライン300、流量計201、溶剤ガス濃度計202を通って溶剤ガス処理装置本体200に入り、出口側の溶剤ガス濃度計203を通って排出される。
The calibration gas enters the solvent gas processing apparatus
この校正気体の供給によって、溶剤ガス濃度計202、203の零点の校正を行うもので、計測精度の向上を図ることができる。また、溶剤ガス処理装置本体200内に滞留する校正気体の供給前における残留溶剤ガスを一旦追い出し出口側の溶剤ガス濃度計203の零点の校正をより確実に行うことがでるものである。また、溶剤ガス処理装置本体200内の残留溶剤ガスを一旦追い出すことによって、溶剤ガス発生装置100からの希釈溶剤ガスによる処理能力の把握をより精度良く行うことがでる。
By supplying the calibration gas, the zero point of the solvent
溶剤ガスを含まない校正気体を溶剤ガス処理装置本体200に供給する動作を所定時間行い、ブロアB301の運転停止、開閉弁302を閉として校正ステップを終了する。
The operation of supplying the calibration gas not containing the solvent gas to the solvent gas processing apparatus
次に、前記校正ステップを終了した後の溶剤ガス発生装置100の運転動作を説明する。
Next, the operation of the
先ず、図3に示すように電磁ソレノイド130を非通電状態とし、このとき電磁ソレノイド130に有するコイルバネ(図示なし)によってニードル131はノズル孔129側に押し付けられており、先端部133がノズル孔129内に挿入され、かつテーパ部132がノズル孔129に当たって前記ノズル孔129を閉塞させている。
First, as shown in FIG. 3, the
この状態において、電気ヒータ(加熱手段)122に通電し、気化管121、気化通路123を例えば120度C程度に予熱する。このとき導出管127、ノズル体128も気化管121からの伝導熱によってほぼ同温度レベルに予熱される。
In this state, the electric heater (heating means) 122 is energized, and the vaporizing
前記した予熱動作の後、ブロアA136を駆動し、溶剤ガスを含まない大気中の空気を、送風筒134内に供給し、整流板135の複数の小孔135aからノズル体128の近傍に噴出させる。
After the preheating operation described above, the blower A136 is driven, air in the atmosphere not containing solvent gas is supplied into the
ブロアA136の駆動開始後、図4に示すように電磁ソレノイド130を通電状態とし、このとき電磁ソレノイド130に有するコイルバネ(図示なし)に抗してニードル131を電磁ソレノイド130側に吸引し、ノズル孔129から先端部133を抜くと同時にテーパ部132をノズル孔129から離し、これによってノズル孔129を開く。また開閉弁139を開とする。
After the drive of the blower A136 is started, the
次に、ポンプ118を駆動し、例えば開閉弁114を開、他の開閉弁115、116、117を閉として、タンク102内の溶剤液を、供給管106に吸入し、吐出管119を介して気化管121の気化通路123に所定圧力で供給する。この溶剤液は気化管121および気化促進体124に接触して瞬時に気化し、溶剤ガスとして導出管127内に入りノズル孔129より勢い良く噴出する。
Next, the
ノズル孔129より噴出した溶剤ガスは、整流板135の複数の小孔135aから噴出させた希釈気体である空気と均一に混合し、希釈溶剤ガスとなって吐出筒137、希釈溶剤ガス供給ライン138を介して溶剤ガス処理装置本体200に供給され浄化処理を行う。
The solvent gas ejected from the
このとき、溶剤ガス処理装置本体200の入口側において、流量計201による希釈溶剤ガスの流量、および溶剤ガス濃度計202よる希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を計測する。さらに、溶剤ガス処理装置本体200で希釈溶剤ガス中の溶剤ガス成分が浄化処理され浄化空気排出ラインから排出される。このとき溶剤ガス濃度計203による浄化空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
At this time, the flow rate of the diluted solvent gas by the
溶剤ガス発生装置100から溶剤ガス処理装置本体200へ供給された希釈溶剤ガスの量、溶剤ガス濃度等の条件において、溶剤ガス濃度計203により計測した溶剤ガス濃度が所定値以下に浄化処理されていることの確認と、溶剤ガス濃度計202と溶剤ガス濃度計203の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体200の処理能力の基本的な評価を行うものである。
The solvent gas concentration measured by the solvent
前記溶剤ガス処理装置本体200の処理能力の基本的な評価を行った後、ポンプ118の駆動を停止、電気ヒータ(加熱手段)122および電磁ソレノイド130を非通電とする。電磁ソレノイド130を非通電とすることによって、ニードル131はノズル孔129側に押し付けられ、先端部133がノズル孔129内に挿入され、かつテーパ部132がノズル孔129に当たって前記ノズル孔129を閉塞し、溶剤ガスの噴出を瞬時に停止させる。
After the basic evaluation of the processing capability of the solvent gas processing apparatus
前記した動作の後、ブロアA136を所定時間(例えば略30秒)継続駆動し、大気中の空気を送風筒134内に供給し、希釈溶剤ガス供給ライン138に至る流路中を、溶剤ガスを含まない空気に置換する。この後、ブロアA136の駆動を停止し、開閉弁139を閉とする。
After the above-described operation, the
次に、開閉弁302を開、ブロアB301を駆動し、溶剤ガスの発生源からの溶剤ガスを含む被処理空気(被処理気体)を、被処理気体供給ライン300を介して溶剤ガス処理装置本体200に供給するように切替える。これにより溶剤ガスを含む被処理空気の浄化処理を開始するものである。このとき、溶剤ガス処理装置本体200の入口側において、流量計201による被処理空気の流量、および溶剤ガス濃度計202よる被処理空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
Next, the on-off
さらに、溶剤ガス処理装置本体200で被処理空気中の溶剤ガス成分が浄化処理され浄化空気排出ラインから排出される。このとき溶剤ガス濃度計203による浄化空気中の溶剤ガスの濃度を計測する。
Further, the solvent gas component in the air to be treated is purified by the solvent gas processing apparatus
溶剤ガスの発生源から溶剤ガス処理装置本体200へ供給された被処理空気の量、溶剤ガス濃度等の条件において、溶剤ガス濃度計203により計測した溶剤ガス濃度が所定値以下に浄化処理されていることの確認と、溶剤ガス濃度計202と溶剤ガス濃度計203の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体200の処理能力の基本的な確認を行うものである。
The solvent gas concentration measured by the solvent
溶剤ガス処理装置の全体的な制御は、操作部、報知部、制御装置(図示なし)によって校正用気体の供給運転、溶剤ガス発生装置100の希釈溶剤ガスの供給運転、被処理気体の供給運転の切り替え制御、および溶剤ガス発生装置100での溶剤液の選択、希釈溶剤ガス中の濃度等の設定、さらに、溶剤ガス濃度計202と溶剤ガス濃度計203の各々の溶剤ガス濃度差から溶剤ガス処理装置本体200の処理能力(浄化度等)のデータ処理と記憶、表示、音声等による報知を行うものである。
The overall control of the solvent gas processing apparatus is performed by an operation unit, a notifying unit, and a control device (not shown), a calibration gas supply operation, a
校正用気体の供給による溶剤ガス処理装置本体のゼロ校正運転、溶剤ガス発生装置100で発生させた希釈溶剤ガスの供給による溶剤ガス処理装置本体200の溶剤ガスの処理能力の評価運転は、溶剤ガス処理装置本体200の運転開始時、運転停止時、メンテナンス時等、適宜行うことができる。
The solvent gas processing apparatus main body zero calibration operation by supplying calibration gas, and the solvent
次に、溶剤ガス発生装置100から溶剤ガス処理装置本体200へ供給された希釈溶剤ガスの量、溶剤ガス濃度等の条件の設定方法について説明する。
Next, a method for setting conditions such as the amount of diluted solvent gas supplied from the
先ず、複数の溶剤液を選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体200へ供給方法を説明する。前記したように基本的動作の説明においては、開閉弁114を開、他の開閉弁115、116、117を閉として、タンク102内の溶剤液を、ポンプ118により供給管106に吸入し、吐出管119を介して気化管121の気化通路123に所定圧力で供給し、タンク102内の溶剤液の溶剤ガスを発生させたが、さらに、タンク102、103、104に各々対応した開閉弁114、115、116のいずれかを開とし、他を閉とすることによって、開としたタンク内の溶剤液をいずれか一つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスの溶剤ガス処理装置本体200へ供給することができる。
First, a method of supplying a plurality of solvent liquids to a solvent gas processing apparatus
また、タンク102、103、104に各々対応した開閉弁114、115、116のいずれか二つを開とし、他を閉とすることによって、開とした二つのタンク内の溶剤液をいずれか二つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体200へ供給することができる。さらに、同様の手段により、溶剤液をいずれか三つを選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体200へ供給することができる。
Further, by opening any two of the on-off
さらに、開閉弁114、115、116を、閉を含む流量調節弁とすることで、複数の溶剤液の混合割合を任意に選択して気化させ、任意の混合割合の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体200へ供給することができる。
Further, the on-off
また、複数の溶剤液を予め任意に所定の割合で混合して貯留するタンク105を備えているが、この混合した溶剤液を選択して気化させ、この選択した溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガスを溶剤ガス処理装置本体200へ供給することができる。
In addition, a
また、気化させた溶剤液の溶剤ガスを含む希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度は、ブロアA136による希釈気体の供給量および/またはポンプ118による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。
Further, the concentration of the solvent gas in the diluted solvent gas containing the solvent gas of the vaporized solvent liquid can be set by adjusting the supply amount of the diluted gas by the blower A136 and / or the supply amount of the solvent liquid by the
ブロアA136による希釈気体の供給量を一定とした場合は、ポンプ118による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。また、ポンプ118による溶剤液の供給量を一定とした場合は、ブロアA136による希釈気体の供給量の調節によって設定することがでる。さらに、ブロアA136による希釈気体の供給量およびポンプ118による溶剤液の供給量の調節によって設定することがでる。このように希釈溶剤ガスの量、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を任意に変化させることができるものである。
When the supply amount of the dilution gas by the blower A136 is constant, it can be set by adjusting the supply amount of the solvent liquid by the
希釈溶剤ガスの量、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度は、ブロアA136による希釈気体の供給量、ポンプ118による溶剤液の供給量を変化させる速度を制御することで、任意に設定することができる。さらに、気化させる溶剤液の選択は、開閉弁114、115、116、117の開閉制御によってほぼ瞬時に切り替えることができる。
The amount of the diluted solvent gas and the solvent gas concentration in the diluted solvent gas can be arbitrarily set by controlling the rate at which the diluted gas supply amount by the blower A136 and the solvent liquid supply amount by the
図4に示す(a)は、希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を無段階に増加または減少方向に変化させて、また、(b)は希釈溶剤ガス中の溶剤ガス濃度を段階的に変化させて、溶剤ガス処理装置本体200へ供給する例を示す。
(A) shown in FIG. 4 changes the solvent gas concentration in the diluting solvent gas in a stepless increase or decrease direction, and (b) changes the solvent gas concentration in the diluting solvent gas stepwise. An example of supplying to the solvent gas processing apparatus
また、溶剤ガスと空気を混合した希釈溶剤ガス中の溶剤ガスの濃度を爆発限界の下限値以下となるように溶剤液の気化手段への供給量または希釈気体の供給量を制御するものである。 Further, the supply amount of the solvent liquid to the vaporizing means or the supply amount of the dilution gas is controlled so that the concentration of the solvent gas in the diluted solvent gas mixed with the solvent gas and air is not more than the lower limit of the explosion limit. .
さらに、溶剤ガス濃度計202が溶剤ガスの爆発限界の下限値以上の濃度を検出したときは、溶剤ガスの爆発限界の下限値以下に溶剤液の気化手段への供給量を減少させるか、または溶剤液の気化手段への供給を停止するようにしてもよい。この場合には安全性をより向上させることができる。
Further, when the solvent
また、希釈気体供給量の検出手段(図示なし)を備え、前記希釈気体供給量検出手段が所定値以下の希釈気体の供給量を検出したときは、溶剤液の気化手段への供給を停止させるようにしてもよい。この場合にはブロアA136の停止時等置ける安全性をより向上させることができる。 Further, a dilution gas supply amount detection means (not shown) is provided, and when the dilution gas supply amount detection means detects a supply amount of dilution gas below a predetermined value, supply of the solvent liquid to the vaporization means is stopped. You may do it. In this case, it is possible to further improve the safety that the blower A136 can be placed when the blower A136 is stopped.
なお、図2、図3に示す構成の溶剤ガス発生装置において、特にポンプ(溶剤液供給手段)118は、各溶剤液のタンクごとに設けてもよい。 In the solvent gas generator configured as shown in FIGS. 2 and 3, in particular, a pump (solvent liquid supply means) 118 may be provided for each tank of each solvent liquid.
各種溶剤ガスの浄化処理を必要とする広範囲の装置の用途にも適用できる。 The present invention can be applied to a wide range of apparatuses that require purification treatment of various solvent gases.
100 溶剤ガス発生装置
101 溶剤液供給部
102 タンク
103 タンク
104 タンク
105 タンク
106 供給管
107 供給管
108 供給管
109 供給管
110 流量計
111 流量計
112 流量計
113 流量計
114 開閉弁
115 開閉弁
116 開閉弁
117 開閉弁
118 ポンプ(溶剤液供給手段)
118a 溶剤液供給量制御手段
119 吐出管
120 気化混合部(気化手段)
121 気化管(気化手段)
122 電気ヒータ(加熱手段)
122a 温度調節手段
123 気化通路
124 気化促進体
125 廃液管
126 開閉弁
127 導出管
128 ノズル体
129 ノズル孔
130 電磁ソレノイド(駆動手段)
131 ニードル
132 テーパ部
133 先端部
134 送風筒
135 整流板
135a 小孔
136 ブロアA(希釈気体供給手段)
136a 希釈気体供給量制御手段
137 吐出筒
138 希釈溶剤ガス供給ライン
139 開閉弁
140 電気ヒータ(加熱手段)
140a 温度調節手段
200 溶剤ガス処理装置本体
201 流量計
202 溶剤ガス濃度計
203 溶剤ガス濃度計
204 触媒酸化式溶剤ガス処理装置本体
205 触媒体
206 電気ヒータ(加熱手段)
250 燃焼蓄熱式溶剤ガス処理装置本体
251 バーナ
252a 蓄熱材
252b 蓄熱材
253 流路切替部
254a 接続部材
254b 接続部材
300 被処理気体供給ライン
301 ブロアB
302 開閉弁
400 校正気体供給ライン
401 開閉弁
DESCRIPTION OF
118a Solvent liquid supply control means 119
121 Vaporizer (vaporizer)
122 Electric heater (heating means)
122a Temperature adjusting means 123
136a Diluted gas supply amount control means 137
140a Temperature control means 200 Solvent gas processing apparatus
250 Combustion heat storage type solvent gas processing device
302 On-off
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