JP2010230076A - Gate valve device - Google Patents

Gate valve device Download PDF

Info

Publication number
JP2010230076A
JP2010230076A JP2009077968A JP2009077968A JP2010230076A JP 2010230076 A JP2010230076 A JP 2010230076A JP 2009077968 A JP2009077968 A JP 2009077968A JP 2009077968 A JP2009077968 A JP 2009077968A JP 2010230076 A JP2010230076 A JP 2010230076A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
valve body
opening
power output
heater
gate valve
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009077968A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5342295B2 (en
Inventor
Kazuo Sasaki
和男 佐々木
Hiroki Nabeyama
裕樹 鍋山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2009077968A priority Critical patent/JP5342295B2/en
Priority to CN2010101199086A priority patent/CN101846215B/en
Priority to KR1020100023113A priority patent/KR101215578B1/en
Priority to TW99109000A priority patent/TW201104115A/en
Publication of JP2010230076A publication Critical patent/JP2010230076A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5342295B2 publication Critical patent/JP5342295B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To install a heater on a valve element for opening and closing an opening, and to easily supply electric power to this heater. <P>SOLUTION: A gate valve 10 includes: the valve element 12 for opening and closing the opening 112 provided on a wall that partitions into adjacent two spaces; a valve body moving device 20 moving the valve element 12; the heater 13 for heating the valve element 12; and a connector electrically connected to the heater 13 and electrically and physically connectable to an electric power output part that outputs electric power to be supplied to the heater 13. The valve element 12, the heater 13, and the connector are integrated. The connector is interlocked with the valve element 12 to be electrically and physically connected to the electric power output part with the valve element 12 blocking the opening 112, and electrically and physically separated from the electric power output part with the valve element 12 opening the opening 112. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば基板を真空条件下で処理するための真空チャンバーの開口部のような、隣接する2つの空間を仕切る壁に設けられた開口部を開閉するためのゲートバルブ装置に関する。   The present invention relates to a gate valve device for opening and closing an opening provided in a wall that partitions two adjacent spaces, such as an opening of a vacuum chamber for processing a substrate under vacuum conditions.

FPD(フラットパネルディスプレイ)用のガラス基板等の基板に対して真空条件下でプラズマエッチング、プラズマアッシング、プラズマ成膜等の処理を行うために、真空処理システムが用いられている。この真空処理システムは、例えば、基板に対する処理が行われるプロセスチャンバーと、プロセスチャンバーへの基板の搬入およびプロセスチャンバーからの基板の搬出を行う搬送装置を収容した搬送チャンバーと、プロセスチャンバーと搬送チャンバーとの間に設けられたゲートバルブ装置等を備えている。プロセスチャンバーと搬送チャンバーは、いずれも、基板を真空条件下で処理するための真空チャンバーである。   2. Description of the Related Art A vacuum processing system is used to perform processing such as plasma etching, plasma ashing, and plasma film formation on a substrate such as a glass substrate for FPD (flat panel display) under vacuum conditions. This vacuum processing system includes, for example, a process chamber in which processing is performed on a substrate, a transfer chamber that contains a transfer device that carries a substrate into and out of the process chamber, a process chamber and a transfer chamber A gate valve device or the like provided between the two is provided. Both the process chamber and the transfer chamber are vacuum chambers for processing the substrate under vacuum conditions.

プロセスチャンバーは、基板の搬入または搬出の際に基板を通過させるための開口部を有している。プロセスチャンバーと搬送チャンバーとの間に設けられたゲートバルブ装置は、プロセスチャンバーの開口部を開閉する弁体を有している。この弁体によってプロセスチャンバーの開口部が閉塞されることによって、プロセスチャンバーは気密にシールされる。   The process chamber has an opening for allowing the substrate to pass through when the substrate is carried in or out. A gate valve device provided between a process chamber and a transfer chamber has a valve body that opens and closes an opening of the process chamber. The process chamber is hermetically sealed by closing the opening of the process chamber by the valve body.

プロセスチャンバー内で行われる処理には、酸化膜エッチングのように、処理中に、堆積し得る副生成物が生じる処理が含まれる。このような処理中に副生成物がプロセスチャンバーの内壁に付着すると、この副生成物が内壁から剥がれてパーティクル(浮遊粒子)が生じ、このパーティクルがエッチング不良を引き起こすおそれがある。そこで、このような処理を行う際には、プロセスチャンバーの内壁への副生成物の付着を防止するために、チラー(恒温装置)によってプロセスチャンバーの周囲において高温の媒体を循環させて、プロセスチャンバーを100℃程度に昇温することが行われている。   Processing performed in the process chamber includes processing that produces by-products that may be deposited during processing, such as oxide film etching. If a by-product adheres to the inner wall of the process chamber during such processing, the by-product is peeled off from the inner wall to generate particles (floating particles), which may cause etching defects. Therefore, when performing such treatment, in order to prevent by-products from adhering to the inner wall of the process chamber, a high-temperature medium is circulated around the process chamber by a chiller (constant temperature device), and the process chamber is circulated. The temperature is raised to about 100 ° C.

プロセスチャンバー内で、処理が行われる際には、プロセスチャンバーの開口部はゲートバルブ装置の弁体によって閉塞されている。この状態で、弁体の表面の一部は、プロセスチャンバー内の空間に露出する。弁体は、チラーによって直接昇温することができない。また、弁体とプロセスチャンバーとの接触面積は小さいことから、前述のようにチラーによってプロセスチャンバーを100℃程度に昇温していても、弁体は、同じ様には昇温されない。そのため、プロセスチャンバーの開口部が弁体によって閉塞されている状態において、弁体の表面のうちプロセスチャンバー内の空間に露出している部分には副生成物が付着しやすい。この部分に副生成物が付着すると、プロセスチャンバーの内壁に副生成物が付着した場合と同様に、パーティクルが生じて、エッチング不良が発生するおそれがある。   When processing is performed in the process chamber, the opening of the process chamber is closed by the valve body of the gate valve device. In this state, a part of the surface of the valve body is exposed to the space in the process chamber. The valve body cannot be heated directly by the chiller. Further, since the contact area between the valve element and the process chamber is small, even if the process chamber is heated to about 100 ° C. by the chiller as described above, the valve element is not heated in the same manner. Therefore, in a state where the opening of the process chamber is closed by the valve body, a by-product tends to adhere to a portion of the surface of the valve body exposed to the space in the process chamber. If a by-product adheres to this portion, particles may be generated and etching defects may occur as in the case where the by-product adheres to the inner wall of the process chamber.

そこで、従来、弁体の表面に副生成物が付着することを防止するために、例えば特許文献1ないし3に記載されているように、弁体にヒーターを取り付け、ヒーターによって弁体を直接加熱することが提案されている。   Therefore, conventionally, in order to prevent by-products from adhering to the surface of the valve body, for example, as described in Patent Documents 1 to 3, a heater is attached to the valve body, and the valve body is directly heated by the heater. It has been proposed to do.

特開2001−4505号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-4505 特開平10−132095号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-132095 特開平11−325313号公報JP 11-325313 A

ところで、ゲートバルブ装置では、開口部を開閉するために弁体を移動させる駆動機構が必要である。この駆動機構としては、弁体が他の構造物と擦れることによるパーティクルの発生を防止するために、弁体が他の構造物と擦れない機構が好ましい。このように弁体が他の構造物と擦れない機構としては、例えば、弁体が開口部を閉塞する際には、開口部に対向する位置まで、開口部を有する壁の面に平行な方向に弁体を移動させ、その後、弁体を開口部に向けて壁の面に垂直な方向に移動させ、弁体が開口部を開放する際には、開口部を閉塞する際とは逆の動作を行う機構が考えられる。このような機構は、例えば、壁の面に平行な方向に駆動されるベース部材に対してリンク機構を介して弁体を接続することによって実現することができる。   By the way, in the gate valve device, a driving mechanism for moving the valve body is required to open and close the opening. As the drive mechanism, a mechanism in which the valve body does not rub against other structures is preferable in order to prevent generation of particles due to the valve body rubbing against other structures. As a mechanism in which the valve body does not rub against other structures in this way, for example, when the valve body closes the opening, the direction parallel to the surface of the wall having the opening is provided up to a position facing the opening. Then, the valve body is moved toward the opening in a direction perpendicular to the surface of the wall. When the valve body opens the opening, it is the opposite of closing the opening. A mechanism for performing the operation is conceivable. Such a mechanism can be realized, for example, by connecting a valve body to a base member driven in a direction parallel to the wall surface via a link mechanism.

ここで、ベース部材に対してリンク機構を介して弁体が接続された駆動機構を含むゲートバルブ装置において、弁体にヒーターを取り付ける場合について考える。この場合、ヒーターに電力を供給するために、電力供給用のケーブルを、ベース部材およびリンク機構を経由してヒーターに接続されるように設けることが考えられる。しかし、ベース部材に対してリンク機構を介して弁体が接続された駆動機構を含むゲートバルブ装置では、弁体によって開口部を開閉する動作に伴って、一体化された弁体およびヒーターとベース部材との相対的な位置関係が変化するため、電力供給用のケーブルを、ベース部材およびリンク機構を経由してヒーターに接続されるように設けることが難しいという問題点がある。   Here, consider a case where a heater is attached to a valve body in a gate valve device including a drive mechanism in which the valve body is connected to the base member via a link mechanism. In this case, in order to supply power to the heater, it is conceivable to provide a power supply cable so as to be connected to the heater via the base member and the link mechanism. However, in a gate valve device including a drive mechanism in which a valve body is connected to a base member via a link mechanism, an integrated valve body, a heater, and a base are operated in accordance with an operation of opening and closing the opening by the valve body. Since the relative positional relationship with the member changes, there is a problem that it is difficult to provide a power supply cable so as to be connected to the heater via the base member and the link mechanism.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、開口部を開閉するための弁体にヒーターを取り付け、且つこのヒーターに容易に電力を供給することができるようにしたゲートバルブ装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to attach a heater to a valve body for opening and closing an opening, and to easily supply power to the heater. To provide an apparatus.

本発明のゲートバルブ装置は、隣接する2つの空間を仕切る壁に設けられた開口部を開閉するための弁体と、前記弁体によって前記開口部を開閉するために弁体を移動させる弁体移動手段と、前記弁体を加熱するためのヒーターと、前記ヒーターに電気的に接続されていると共に、前記ヒーターに供給される電力を出力する電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続可能なコネクタとを備えている。前記弁体、ヒーターおよびコネクタは一体化されている。前記コネクタは、前記弁体が前記開口部を閉塞した状態では前記電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続され、前記弁体が前記開口部を開放した状態では前記電力出力部から電気的且つ物理的に乖離するように、前記弁体と連動する。   The gate valve device of the present invention includes a valve body for opening and closing an opening provided in a wall partitioning two adjacent spaces, and a valve body for moving the valve body to open and close the opening by the valve body Electrically and physically connected to a moving means, a heater for heating the valve body, and a power output unit that is electrically connected to the heater and outputs power supplied to the heater With possible connectors. The valve body, the heater and the connector are integrated. The connector is electrically and physically connected to the power output unit when the valve body closes the opening, and is electrically connected to the power output unit when the valve body opens the opening. It interlocks with the valve body so as to be physically and physically deviated.

本発明のゲートバルブ装置において、前記電力出力部は、前記壁に固定されていてもよい。   In the gate valve device according to the present invention, the power output unit may be fixed to the wall.

また、本発明のゲートバルブ装置は、更に、前記弁体、ヒーターおよびコネクタを収容する筐体を備え、前記電力出力部は、前記筐体に固定されていてもよい。この場合、前記筐体は、前記壁の少なくとも一部を構成する壁構成部分を有し、前記電力出力部は、前記壁構成部分に固定されていてもよい。   Moreover, the gate valve device of the present invention may further include a housing that accommodates the valve body, the heater, and the connector, and the power output unit may be fixed to the housing. In this case, the housing may include a wall constituent part constituting at least a part of the wall, and the power output unit may be fixed to the wall constituent part.

また、本発明のゲートバルブ装置は、更に、前記電力出力部に対して電力を供給するための電源と前記電力出力部との間に設けられ、前記電力出力部に対する電力の供給と遮断とを選択するスイッチを備えていてもよい。   Further, the gate valve device of the present invention is further provided between a power source for supplying power to the power output unit and the power output unit, and supplies and shuts off power to the power output unit. A switch to be selected may be provided.

また、本発明のゲートバルブ装置は、更に、前記弁体、ヒーターおよびコネクタと一体化され、前記ヒーターに電気的に接続されていると共に、前記ヒーターに供給される電力を出力する第2の電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続可能な副コネクタを備えていてもよい。前記副コネクタは、前記弁体が前記開口部を閉塞した状態では前記第2の電力出力部から電気的且つ物理的に乖離し、前記弁体が前記開口部を開放した特定の状態では前記第2の電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続されるように、前記弁体と連動する。   The gate valve device of the present invention is further integrated with the valve body, the heater, and the connector, and is electrically connected to the heater, and outputs second power supplied to the heater. You may provide the subconnector which can be electrically and physically connected with respect to an output part. The sub-connector is electrically and physically separated from the second power output portion when the valve body closes the opening, and the sub-connector is electrically connected to the second power output portion when the valve body opens the opening. It interlock | cooperates with the said valve body so that it may connect electrically and physically with respect to 2 electric power output parts.

また、本発明のゲートバルブ装置は、更に、前記第2の電力出力部を備えていてもよい。この場合、ゲートバルブ装置は、更に、前記弁体、ヒーター、コネクタおよび副コネクタを収容する筐体を備え、前記第2の電力出力部は前記筐体に固定されていてもよい。また、ゲートバルブ装置は、更に、前記第2の電力出力部に対して電力を供給するための電源と前記第2の電力出力部との間に設けられ、前記第2の電力出力部に対する電力の供給と遮断とを選択するスイッチを備えていてもよい。   The gate valve device of the present invention may further include the second power output unit. In this case, the gate valve device may further include a housing that accommodates the valve body, the heater, the connector, and the sub connector, and the second power output unit may be fixed to the housing. The gate valve device is further provided between a power source for supplying power to the second power output unit and the second power output unit, and power to the second power output unit. There may be provided a switch for selecting between supply and shutoff.

また、本発明のゲートバルブ装置において、前記弁体移動手段は、ベース部材と、前記ベース部材を前記壁の面に平行な方向に移動させる駆動手段と、前記ベース部材と前記弁体とを接続するリンク機構とを有し、前記弁体によって前記開口部を閉塞する際には、前記開口部に対向する位置まで前記弁体を前記壁の面に平行な方向に移動させ、その後、前記弁体を前記開口部に向けて前記壁の面に垂直な方向に移動させ、前記弁体が前記開口部を開放する際には、前記弁体に、前記開口部を閉塞する際とは逆の動作を行わせるものであってもよい。   In the gate valve device of the present invention, the valve body moving means connects a base member, a driving means for moving the base member in a direction parallel to the surface of the wall, and the base member and the valve body. When the opening is closed by the valve body, the valve body is moved in a direction parallel to the surface of the wall to a position facing the opening, and then the valve The body is moved toward the opening in a direction perpendicular to the wall surface, and when the valve body opens the opening, the valve body is opposite to when the opening is closed. An operation may be performed.

また、本発明のゲートバルブ装置において、前記2つの空間の一方は、基板を真空条件下で処理するための真空チャンバーの内部であってもよい。   In the gate valve device of the present invention, one of the two spaces may be inside a vacuum chamber for processing the substrate under vacuum conditions.

本発明のゲートバルブ装置では、弁体が開口部を開放した状態では、ヒーターに電気的に接続されたコネクタは電力出力部から電気的且つ物理的に乖離しているが、弁体が開口部を閉塞した状態では、コネクタが電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続されて、ヒーターに電力を供給することが可能になる。このように、本発明のゲートバルブ装置によれば、ヒーターに直接接続されるように電力供給用のケーブルを設けることなく、弁体にヒーターを取り付け、且つヒーターに容易に電力を供給することができるという効果を奏する。   In the gate valve device of the present invention, in a state where the valve body opens the opening, the connector electrically connected to the heater is electrically and physically separated from the power output unit, but the valve body is open. In a state in which the connector is closed, the connector is electrically and physically connected to the power output unit, and power can be supplied to the heater. Thus, according to the gate valve device of the present invention, it is possible to attach a heater to a valve body and easily supply power to the heater without providing a power supply cable so as to be directly connected to the heater. There is an effect that can be done.

本発明の第1の実施の形態に係るゲートバルブ装置を含む真空処理システムを概略的に示す斜視図である。1 is a perspective view schematically showing a vacuum processing system including a gate valve device according to a first embodiment of the present invention. 図1に示した真空処理システムの内部を概略的に示す平面図である。It is a top view which shows roughly the inside of the vacuum processing system shown in FIG. 本発明の第1の実施の形態に係るゲートバルブ装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the gate valve apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 図3に示したゲートバルブ装置の他の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other state of the gate valve apparatus shown in FIG. 図3に示したゲートバルブ装置の更に他の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another state of the gate valve apparatus shown in FIG. 図4に示した状態におけるゲートバルブ装置の弁体、ヒーターおよびコネクタ部を示す正面図である。It is a front view which shows the valve body, heater, and connector part of the gate valve apparatus in the state shown in FIG. 図6に示したコネクタ部に接続されるターミナル部を示す正面図である。It is a front view which shows the terminal part connected to the connector part shown in FIG. 本発明の第1の実施の形態に係るゲートバルブ装置の回路構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the circuit structure of the gate valve apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1の実施の形態に係るゲートバルブ装置の動作を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating operation | movement of the gate valve apparatus which concerns on the 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2の実施の形態に係るゲートバルブ装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the gate valve apparatus which concerns on the 2nd Embodiment of this invention. 図10に示したゲートバルブ装置の他の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other state of the gate valve apparatus shown in FIG. 図10に示したゲートバルブ装置の更に他の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another state of the gate valve apparatus shown in FIG. 本発明の第3の実施の形態に係るゲートバルブ装置の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the gate valve apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention. 図13に示したゲートバルブ装置の他の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other state of the gate valve apparatus shown in FIG. 図13に示したゲートバルブ装置の更に他の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the further another state of the gate valve apparatus shown in FIG. 図14に示した状態におけるゲートバルブ装置の弁体、ヒーター、コネクタ部、副コネクタ部および副ターミナル部を示す正面図である。It is a front view which shows the valve body of the gate valve apparatus in the state shown in FIG. 14, a heater, a connector part, a subconnector part, and a subterminal part. 本発明の第3の実施の形態に係るゲートバルブ装置の回路構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the circuit structure of the gate valve apparatus which concerns on the 3rd Embodiment of this invention.

[第1の実施の形態]
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。始めに、図1および図2を参照して、本発明の第1の実施の形態に係るゲートバルブ装置を含むシステムの一例としての真空処理システム100の構成について説明する。図1は、真空処理システム100を概略的に示す斜視図である。図2は、真空処理システム100の内部を概略的に示す平面図である。真空処理システム100は、例えばFPD用のガラス基板(以下、単に「基板」と記す)Sに対してプラズマ処理を行うための処理システムとして構成されている。なお、FPDとしては、液晶ディスプレイ(LCD)、エレクトロルミネセンス(Electro Luminescence;EL)ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル(PDP)等が例示される。
[First Embodiment]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, the configuration of a vacuum processing system 100 as an example of a system including a gate valve device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a vacuum processing system 100. FIG. 2 is a plan view schematically showing the inside of the vacuum processing system 100. The vacuum processing system 100 is configured as a processing system for performing plasma processing on a glass substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) S for FPD, for example. Examples of the FPD include a liquid crystal display (LCD), an electro luminescence (EL) display, a plasma display panel (PDP), and the like.

真空処理システム100は、十字形に連結された5つの真空チャンバーを備えている。具体的には、真空処理システム100は、5つの真空チャンバーとして、3つのプロセスチャンバー101a,101b,101cと、搬送チャンバー103と、ロードロックチャンバー105とを備えている。これらの真空チャンバーにおいて、搬送チャンバー103は中央に配置されている。搬送チャンバー103は、4つの側面を有している。プロセスチャンバー101a,101b,101cとロードロックチャンバー105は、搬送チャンバー103の各側面に隣接するように配置されている。   The vacuum processing system 100 includes five vacuum chambers connected in a cross shape. Specifically, the vacuum processing system 100 includes three process chambers 101a, 101b, and 101c, a transfer chamber 103, and a load lock chamber 105 as five vacuum chambers. In these vacuum chambers, the transfer chamber 103 is disposed in the center. The transfer chamber 103 has four side surfaces. The process chambers 101 a, 101 b, 101 c and the load lock chamber 105 are arranged adjacent to each side surface of the transfer chamber 103.

図示しないが、真空処理システム100は、更に、それぞれプロセスチャンバー101a,101b,101cに取り付けられた3つのチラーを備えている。この3つのチラーは、それぞれ、プロセスチャンバー101a,101b,101cを所定の温度(例えば、120℃)に昇温できるようになっている。   Although not shown, the vacuum processing system 100 further includes three chillers attached to the process chambers 101a, 101b, and 101c, respectively. Each of these three chillers can raise the temperature of the process chambers 101a, 101b, and 101c to a predetermined temperature (for example, 120 ° C.).

プロセスチャンバー101a,101b,101cは、その内部空間を所定の減圧雰囲気(真空状態)に維持できるように構成されている。プロセスチャンバー101a,101b,101c内には、それぞれ、基板Sを載置する載置台としてのサセプタ102が配備されている。   The process chambers 101a, 101b, and 101c are configured so that their internal spaces can be maintained in a predetermined reduced pressure atmosphere (vacuum state). In the process chambers 101a, 101b, and 101c, susceptors 102 as placement platforms on which the substrates S are placed are respectively provided.

プロセスチャンバー101a,101b,101cでは、基板Sをサセプタ102に載置した状態で、基板Sに対して、例えば真空条件でのエッチング処理、アッシング処理、成膜処理等のプラズマ処理が行なわれる。プロセスチャンバー101a,101b,101c内には、それぞれ、そこで行われる処理のための装置が収容されている。真空処理システム100では、3つのプロセスチャンバー101a,101b,101cで同種の処理を行ってもよいし、プロセスチャンバー毎に異なる種類の処理を行ってもよい。なお、プロセスチャンバーの数は3つに限らず、4つ以上であってもよい。   In the process chambers 101a, 101b, and 101c, with the substrate S placed on the susceptor 102, the substrate S is subjected to plasma processing such as etching processing, ashing processing, and film forming processing under vacuum conditions. In the process chambers 101a, 101b, and 101c, apparatuses for processing performed therein are accommodated, respectively. In the vacuum processing system 100, the same type of processing may be performed in the three process chambers 101a, 101b, and 101c, or different types of processing may be performed for each process chamber. The number of process chambers is not limited to three and may be four or more.

搬送チャンバー103は、プロセスチャンバー101a,101b,101cと同様に所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。真空処理システム100は、更に、搬送チャンバー103内に設けられた搬送装置133を備えている。搬送装置133は、進出、退避および旋回可能に構成されて基板Sを搬送する櫛歯状のフォーク135を有している。この搬送装置133によって、プロセスチャンバー101a,101b,101cとロードロックチャンバー105の間で基板Sの搬送が行われる。   The transfer chamber 103 is configured so that it can be maintained in a predetermined reduced-pressure atmosphere in the same manner as the process chambers 101a, 101b, and 101c. The vacuum processing system 100 further includes a transfer device 133 provided in the transfer chamber 103. The transport device 133 has a comb-like fork 135 configured to be advanced, retracted and swiveled to transport the substrate S. By the transfer device 133, the substrate S is transferred between the process chambers 101a, 101b, 101c and the load lock chamber 105.

ロードロックチャンバー105は、プロセスチャンバー101a,101b,101cおよび搬送チャンバー103と同様に所定の減圧雰囲気に保持できるように構成されている。ロードロックチャンバー105は、減圧雰囲気の搬送チャンバー103と外部の大気雰囲気との間で基板Sの授受を行うためのものである。   The load lock chamber 105 is configured to be able to be maintained in a predetermined reduced pressure atmosphere in the same manner as the process chambers 101 a, 101 b, 101 c and the transfer chamber 103. The load lock chamber 105 is for transferring the substrate S between the transfer chamber 103 in a reduced-pressure atmosphere and the external air atmosphere.

ロードロックチャンバー105は、大気圧状態と真空状態とを繰り返す関係上、極力その内容積が小さく構成されている。ロードロックチャンバー105には、基板Sを支持する複数のバッファ138が間隔をあけて配設されている。これらバッファ138同士の隙間は、櫛歯状のフォーク(例えばフォーク135)の逃げ溝となっている。   The load lock chamber 105 is configured to have a small internal volume as much as possible in view of repeating the atmospheric pressure state and the vacuum state. In the load lock chamber 105, a plurality of buffers 138 that support the substrate S are disposed at intervals. The gap between these buffers 138 is a relief groove of a comb-like fork (for example, fork 135).

真空処理システム100は、更に、5つのゲートバルブ装置10a,10b,10c,10d,10eを備えている。ゲートバルブ装置10aは、搬送チャンバー103とプロセスチャンバー101aとの間に配置されている。ゲートバルブ装置10bは、搬送チャンバー103とプロセスチャンバー101bとの間に配置されている。ゲートバルブ装置10cは、搬送チャンバー103とプロセスチャンバー101cとの間に配置されている。ゲートバルブ装置10dは、搬送チャンバー103とロードロックチャンバー105との間に配置されている。ゲートバルブ装置10eは、ロードロックチャンバー105におけるゲートバルブ装置10dとは反対側に配置されている。ゲートバルブ装置10a〜10eは、いずれも、隣接する2つの空間を仕切る壁に設けられた開口部を開閉する機能を有している。   The vacuum processing system 100 further includes five gate valve devices 10a, 10b, 10c, 10d, and 10e. The gate valve device 10a is disposed between the transfer chamber 103 and the process chamber 101a. The gate valve device 10b is disposed between the transfer chamber 103 and the process chamber 101b. The gate valve device 10c is disposed between the transfer chamber 103 and the process chamber 101c. The gate valve device 10 d is disposed between the transfer chamber 103 and the load lock chamber 105. The gate valve device 10e is disposed on the opposite side of the load lock chamber 105 from the gate valve device 10d. Each of the gate valve devices 10a to 10e has a function of opening and closing an opening provided in a wall that partitions two adjacent spaces.

ゲートバルブ装置10a〜10dは、閉状態で各チャンバーを気密にシールすると共に、開状態でチャンバー間を連通させて基板Sの移送を可能にする。ゲートバルブ装置10eは、閉状態でロードロックチャンバー105の気密性を維持すると共に、開状態でロードロックチャンバー105内と外部との間で基板Sの移送を可能にする。   The gate valve devices 10a to 10d hermetically seal each chamber in the closed state, and allow the substrate S to be transferred by communicating between the chambers in the open state. The gate valve device 10e maintains the airtightness of the load lock chamber 105 in the closed state, and enables the transfer of the substrate S between the inside and outside of the load lock chamber 105 in the open state.

真空処理システム100は、更に、ロードロックチャンバー105との間でゲートバルブ装置10eを挟む位置に配置された搬送装置125を備えている。搬送装置125は、基板保持具としてのフォーク127と、フォーク127を進出、退避および旋回可能に支持する支持部129と、この支持部129を駆動する駆動機構を備えた駆動部131とを有している。   The vacuum processing system 100 further includes a transfer device 125 disposed at a position where the gate valve device 10 e is sandwiched between the vacuum processing system 100 and the load lock chamber 105. The transport device 125 includes a fork 127 as a substrate holder, a support portion 129 that supports the fork 127 so that the fork 127 can be advanced, retracted, and turned, and a drive portion 131 that includes a drive mechanism that drives the support portion 129. ing.

真空処理システム100は、更に、駆動部131の両側に配置されたカセットインデクサ121a,121bと、それぞれカセットインデクサ121a,121bの上に載置されたカセットC1,C2とを備えている。カセットインデクサ121a,121bは、それぞれ、カセットC1,C2を昇降する昇降機構部123a,123bを有している。各カセットC1,C2内には、基板Sを、上下に間隔を空けて多段に配置できるようになっている。搬送装置125のフォーク127は、カセットC1,C2の間に配置されている。   The vacuum processing system 100 further includes cassette indexers 121a and 121b disposed on both sides of the drive unit 131, and cassettes C1 and C2 mounted on the cassette indexers 121a and 121b, respectively. The cassette indexers 121a and 121b have elevating mechanisms 123a and 123b that elevate and lower the cassettes C1 and C2, respectively. In each cassette C1, C2, the substrates S can be arranged in multiple stages at intervals in the vertical direction. The fork 127 of the transport device 125 is disposed between the cassettes C1 and C2.

また、図1および図2では図示しないが、真空処理システム100は、更に、真空処理システム100において制御が必要な構成要素を制御する制御部を備えている。制御部は、例えば、CPUを備えたコントローラと、コントローラに接続されたユーザーインターフェースと、コントローラに接続された記憶部とを有している。コントローラは、真空処理システム100において制御が必要な構成要素を統括して制御する。ユーザーインターフェースは、工程管理者が真空処理システム100を管理するためにコマンドの入力操作等を行うキーボードや、真空処理システム100の稼働状況を可視化して表示するディスプレイ等から構成される。記憶部には、真空処理システム100で実行される各種処理をコントローラの制御にて実現するための制御プログラム(ソフトウエア)や処理条件データ等が記録されたレシピが保存されている。そして、必要に応じて、ユーザーインターフェースからの指示等にて任意のレシピを記憶部から呼び出してコントローラに実行させることで、コントローラの制御下で、真空処理システム100での所望の処理が行われる。   Although not illustrated in FIGS. 1 and 2, the vacuum processing system 100 further includes a control unit that controls components that need to be controlled in the vacuum processing system 100. The control unit includes, for example, a controller including a CPU, a user interface connected to the controller, and a storage unit connected to the controller. The controller controls all components that need to be controlled in the vacuum processing system 100. The user interface includes a keyboard on which a process manager manages command input in order to manage the vacuum processing system 100, a display that visualizes and displays the operating status of the vacuum processing system 100, and the like. The storage unit stores a recipe in which a control program (software) for realizing various processes executed in the vacuum processing system 100 under the control of the controller, processing condition data, and the like are recorded. Then, if necessary, an arbitrary recipe is called from the storage unit by an instruction from the user interface or the like, and is executed by the controller, so that a desired process in the vacuum processing system 100 is performed under the control of the controller.

前記制御プログラムや処理条件データ等のレシピは、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体、例えばCD−ROM、ハードディスク、フレキシブルディスク、フラッシュメモリなどに格納された状態のものを利用できる。あるいは、他の装置から、例えば専用回線を介して随時伝送させてオンラインで利用したりすることも可能である。   Recipes such as the control program and processing condition data can be stored in a computer-readable storage medium such as a CD-ROM, a hard disk, a flexible disk, or a flash memory. Alternatively, it can be transmitted from other devices as needed via, for example, a dedicated line and used online.

次に、真空処理システム100の動作について説明する。まず、搬送装置125のフォーク127を進退駆動させて、カセットC1から未処理の基板Sを受け取り、これを、ロードロックチャンバー105のバッファ138に載置する。次に、フォーク127を、ロードロックチャンバー105から退避させる。   Next, the operation of the vacuum processing system 100 will be described. First, the fork 127 of the transfer device 125 is driven forward and backward to receive the unprocessed substrate S from the cassette C 1, and this is placed on the buffer 138 of the load lock chamber 105. Next, the fork 127 is retracted from the load lock chamber 105.

次に、ロードロックチャンバー105の大気側のゲートバルブ装置10eを閉じる。次に、ロードロックチャンバー105内を排気して、内部を所定の真空度まで減圧する。次に、搬送チャンバー103とロードロックチャンバー105との間のゲートバルブ装置10dを開く。次に、搬送装置133のフォーク135により、ロードロックチャンバー105に収容された基板Sを受け取る。   Next, the gate valve device 10e on the atmosphere side of the load lock chamber 105 is closed. Next, the inside of the load lock chamber 105 is evacuated, and the inside is depressurized to a predetermined degree of vacuum. Next, the gate valve device 10d between the transfer chamber 103 and the load lock chamber 105 is opened. Next, the substrate S accommodated in the load lock chamber 105 is received by the fork 135 of the transfer device 133.

次に、搬送装置133のフォーク135により、プロセスチャンバー101a,101b,101cのいずれかに基板Sを搬入し、サセプタ102に受け渡す。次に、基板Sが搬入されたプロセスチャンバーと搬送チャンバー103との間のゲートバルブ装置を閉じる。   Next, the substrate S is carried into one of the process chambers 101 a, 101 b, 101 c by the fork 135 of the transfer device 133 and transferred to the susceptor 102. Next, the gate valve device between the process chamber into which the substrate S is loaded and the transfer chamber 103 is closed.

次に、基板Sが搬入されたプロセスチャンバー内で、基板Sに対してエッチング等の所定の処理が施される。次に、処理が終了したら、処理が行われたプロセスチャンバーと搬送チャンバー103との間のゲートバルブ装置を開く。次に、処理済みの基板Sが、サセプタ102から搬送装置133のフォーク135に受け渡され、プロセスチャンバーから搬出される。   Next, a predetermined process such as etching is performed on the substrate S in the process chamber into which the substrate S is carried. Next, when the process is completed, the gate valve device between the process chamber in which the process is performed and the transfer chamber 103 is opened. Next, the processed substrate S is transferred from the susceptor 102 to the fork 135 of the transfer device 133 and is unloaded from the process chamber.

基板Sは、搬入時とは逆の経路でロードロックチャンバー105を経て、搬送装置125によりカセットC2に収容される。なお、処理済みの基板Sを元のカセットC1に戻してもよい。   The substrate S is accommodated in the cassette C2 by the transfer device 125 through the load lock chamber 105 through a path opposite to that at the time of carry-in. Note that the processed substrate S may be returned to the original cassette C1.

次に、図3ないし図8を参照して、本実施の形態に係るゲートバルブ装置の構成について詳しく説明する。図3ないし図5は、本実施の形態に係るゲートバルブ装置の構成を示す断面図である。なお、図3はゲートバルブ装置の開状態を表し、図4および図5はゲートバルブ装置の閉状態を表している。図6は、図4に示した状態におけるゲートバルブ装置の弁体、ヒーターおよびコネクタ部を示す正面図である。図7は、図6に示したコネクタ部に接続されるコネクタ部を示す正面図である。図8は、本実施の形態に係るゲートバルブ装置の回路構成を示す回路図である。   Next, the configuration of the gate valve device according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 5 are cross-sectional views showing the configuration of the gate valve device according to the present embodiment. 3 shows the open state of the gate valve device, and FIGS. 4 and 5 show the closed state of the gate valve device. FIG. 6 is a front view showing a valve body, a heater, and a connector portion of the gate valve device in the state shown in FIG. FIG. 7 is a front view showing a connector portion connected to the connector portion shown in FIG. FIG. 8 is a circuit diagram showing a circuit configuration of the gate valve device according to the present embodiment.

本実施の形態に係るゲートバルブ装置10は、図1および図2に示した真空処理システム100における5つのゲートバルブ装置10a,10b,10c,10d,10eのいずれにも適用することができるが、特に、プロセスチャンバー101a,101b,101cと搬送チャンバー103の間に設けられたゲートバルブ装置10a,10b,10cに適用するのに適している。そこで、以下、ゲートバルブ装置10a,10b,10cに適用した場合を例にとって、本実施の形態に係るゲートバルブ装置10について説明する。この例では、ゲートバルブ装置10は、チャンバー101と搬送チャンバー103との間に配置されている。チャンバー101は、プロセスチャンバー101a,101b,101cのいずれかである。なお、図3ないし図5では、搬送チャンバー103の図示を省略している。   The gate valve device 10 according to the present embodiment can be applied to any of the five gate valve devices 10a, 10b, 10c, 10d, and 10e in the vacuum processing system 100 shown in FIGS. In particular, it is suitable for application to the gate valve devices 10a, 10b, and 10c provided between the process chambers 101a, 101b, and 101c and the transfer chamber 103. Therefore, hereinafter, the gate valve device 10 according to the present embodiment will be described by taking as an example the case where it is applied to the gate valve devices 10a, 10b, and 10c. In this example, the gate valve device 10 is disposed between the chamber 101 and the transfer chamber 103. The chamber 101 is one of process chambers 101a, 101b, and 101c. 3 to 5, illustration of the transfer chamber 103 is omitted.

図3ないし図5に示したように、チャンバー101は、チャンバー101内の空間を画定する筐体111を備えている。筐体111は、ゲートバルブ装置10に隣接する壁111Aを含んでいる。この壁111Aは、チャンバー101内の空間とそれに隣接するゲートバルブ装置10側の空間とを仕切っている。壁111Aには、チャンバー101と搬送チャンバー103との間で基板Sの移送を可能にする開口部112が設けられている。壁111Aは、ゲートバルブ装置10に向いた面111ASを有している。壁111Aには、面111ASにおいて露出するように、ターミナル部40が埋め込まれて固定されている。   As shown in FIGS. 3 to 5, the chamber 101 includes a housing 111 that defines a space in the chamber 101. The casing 111 includes a wall 111 </ b> A adjacent to the gate valve device 10. This wall 111A partitions the space in the chamber 101 and the space on the side of the gate valve device 10 adjacent thereto. An opening 112 that enables the transfer of the substrate S between the chamber 101 and the transfer chamber 103 is provided in the wall 111A. The wall 111 </ b> A has a surface 111 </ b> AS facing the gate valve device 10. A terminal portion 40 is embedded and fixed to the wall 111A so as to be exposed at the surface 111AS.

ゲートバルブ装置10は、筐体11と、開口部112を開閉するための弁体12と、開口部112を開閉するために弁体12を移動させる弁体移動装置20と、弁体12を加熱するためのヒーター13と、コネクタ部30とを備えている。弁体12、ヒーター13およびコネクタ部30は一体化されている。筐体11は、これら一体化された弁体12、ヒーター13およびコネクタ部30と、弁体移動装置20の一部を収容している。弁体移動装置20は、本発明における弁体移動手段に対応する。   The gate valve device 10 heats the valve body 12, a valve body 12 for opening and closing the opening 112, a valve body moving device 20 for moving the valve body 12 to open and close the opening 112, and the valve body 12. A heater 13 and a connector part 30 are provided. The valve body 12, the heater 13, and the connector part 30 are integrated. The housing 11 accommodates the integrated valve body 12, the heater 13, the connector portion 30, and a part of the valve body moving device 20. The valve body moving device 20 corresponds to the valve body moving means in the present invention.

筐体11は、上部と、底部と、上部と底部とを連結する2つの側部とを有する四角筒形状をなしている。筐体11におけるチャンバー101側の端(図3における右端)と搬送チャンバー103側の端(図3における左端)はそれぞれ開口している。   The housing 11 has a rectangular tube shape having an upper part, a bottom part, and two side parts connecting the upper part and the bottom part. An end of the housing 11 on the chamber 101 side (right end in FIG. 3) and an end on the transfer chamber 103 side (left end in FIG. 3) are open.

弁体12は、ほぼ直方体形状をなしている。弁体12は、チャンバー101に向き、開口部112を閉塞可能なシール面12Aと、このシール面12Aとは反対側の背面12Bと、上面12Cと、底面12Dと、2つの側面12E,12Fとを有している。シール面12Aは、開口部112を閉塞することができる大きさを有している。なお、図6では、開口部112を二点鎖線で表している。   The valve body 12 has a substantially rectangular parallelepiped shape. The valve body 12 faces the chamber 101 and has a sealing surface 12A capable of closing the opening 112, a back surface 12B opposite to the sealing surface 12A, a top surface 12C, a bottom surface 12D, and two side surfaces 12E and 12F. have. The sealing surface 12 </ b> A has a size that can close the opening 112. In FIG. 6, the opening 112 is indicated by a two-dot chain line.

壁111Aの面111ASにおける開口部112の周囲には、Oリング19が取り付けられている。図4および図5に示したように、弁体12が開口部112を閉塞した状態では、Oリング19は、全周にわたって、面111ASとシール面12Aとの間に挟まれる。これにより、チャンバー101が気密にシールされる。   An O-ring 19 is attached around the opening 112 in the surface 111AS of the wall 111A. As shown in FIGS. 4 and 5, in a state where the valve body 12 closes the opening 112, the O-ring 19 is sandwiched between the surface 111 AS and the seal surface 12 A over the entire circumference. Thereby, the chamber 101 is hermetically sealed.

ヒーター13は、底面12Dに接するように弁体12に取り付けられている。なお、ヒーター13は、シール面12A以外の面であれば、底面12D以外の面に接するように、弁体12に取り付けられていてもよい。ヒーター13としては、例えばプレート型ヒーターが用いられる。しかし、ヒーター13は、プレート型ヒーターに限られるものではなく、電力の供給を受けて発熱するものであればよい。   The heater 13 is attached to the valve body 12 so as to contact the bottom surface 12D. The heater 13 may be attached to the valve body 12 so as to be in contact with a surface other than the bottom surface 12D as long as it is a surface other than the seal surface 12A. As the heater 13, for example, a plate type heater is used. However, the heater 13 is not limited to a plate-type heater, and any heater that generates heat upon receiving power supply may be used.

図8に示したように、ゲートバルブ装置10は、更に、弁体12の温度を測定するための温度センサ73を備えている。図3ないし図6では温度センサ73を図示していないが、温度センサ73は弁体12に取り付けられている。   As shown in FIG. 8, the gate valve device 10 further includes a temperature sensor 73 for measuring the temperature of the valve body 12. Although the temperature sensor 73 is not illustrated in FIGS. 3 to 6, the temperature sensor 73 is attached to the valve body 12.

弁体移動装置20は、エアシリンダー21と、ベース部材22と、リンク23,24,25,26とを有している。エアシリンダー21は、シリンダー部21aとロッド部21bとを含んでいる。シリンダー部21aは、筐体11の底部に取り付けられている。ロッド部21bは、シリンダー部21aから筐体11の底部に形成された開口部を通して、筐体11の内部に向けて突出している。ロッド部21bの一部は、シリンダー部21aに収容されている。ロッド部21bは、シリンダー部21aに供給されるエアにより、シリンダー部21aおよびロッド21bの軸方向(図3における上下方向)に往復運動する。なお、エアシリンダー21の代わりに、油圧シリンダーや、モータにより駆動するボールねじ機構を使用してもよい。   The valve body moving device 20 includes an air cylinder 21, a base member 22, and links 23, 24, 25, and 26. The air cylinder 21 includes a cylinder part 21a and a rod part 21b. The cylinder part 21 a is attached to the bottom part of the housing 11. The rod portion 21 b protrudes from the cylinder portion 21 a toward the inside of the housing 11 through an opening formed at the bottom of the housing 11. A part of the rod part 21b is accommodated in the cylinder part 21a. The rod portion 21b reciprocates in the axial direction (vertical direction in FIG. 3) of the cylinder portion 21a and the rod 21b by air supplied to the cylinder portion 21a. Instead of the air cylinder 21, a hydraulic cylinder or a ball screw mechanism driven by a motor may be used.

ベース部材22は、ロッド部21bの先端部に取り付けられている。ベース部材22は、例えば、弁体12と同様に、ほぼ直方体形状をなし、弁体12に向いた前面と、その反対側の背面と、上面と、底面と、2つの側面とを有している。エアシリンダー21は、ベース部材22を壁111Aの面111ASに平行な方向に移動させる。エアシリンダー21は、本発明における駆動手段に対応する。   The base member 22 is attached to the distal end portion of the rod portion 21b. The base member 22 has, for example, a substantially rectangular parallelepiped shape, similar to the valve body 12, and has a front surface facing the valve body 12, a back surface on the opposite side, a top surface, a bottom surface, and two side surfaces. Yes. The air cylinder 21 moves the base member 22 in a direction parallel to the surface 111AS of the wall 111A. The air cylinder 21 corresponds to the driving means in the present invention.

リンク23〜26は、ベース部材22と弁体12とを接続するリンク機構を構成している。図3ないし図6に示したように、リンク23,24の一端部は、弁体12の側面12Eに対して回動可能に接続され、リンク23,24の他端部は、側面12Eに対応するベース部材22の側面に対して回動可能に接続されている。同様に、リンク25,26の一端部は、弁体12の側面12Fに対して回動可能に接続され、リンク25,26の他端部は、側面12Fに対応するベース部材22の側面に対して回動可能に接続されている。   The links 23 to 26 constitute a link mechanism that connects the base member 22 and the valve body 12. As shown in FIGS. 3 to 6, one end portions of the links 23 and 24 are rotatably connected to the side surface 12E of the valve body 12, and the other end portions of the links 23 and 24 correspond to the side surface 12E. The base member 22 is connected to the side surface of the base member 22 so as to be rotatable. Similarly, one end portions of the links 25 and 26 are rotatably connected to the side surface 12F of the valve body 12, and the other end portions of the links 25 and 26 are connected to the side surface of the base member 22 corresponding to the side surface 12F. And are connected so as to be rotatable.

図示しないが、ベース部材22は、リンク23〜26を、それらのベース部材22の側面に対する接続部を中心として図3における反時計回り方向に回動するように付勢するばねと、反時計回り方向へのリンク23〜26の回動を規制するストッパとを含んでいる。図3は、ストッパによってリンク23〜26の回動が規制された状態を表している。この状態では、弁体12の上面12Cは、ベース部材22の上面よりも上方の位置にある。   Although not shown, the base member 22 includes a spring that urges the links 23 to 26 to rotate in the counterclockwise direction in FIG. 3 about a connection portion with respect to the side surface of the base member 22, and a counterclockwise direction. And a stopper for restricting the rotation of the links 23 to 26 in the direction. FIG. 3 shows a state in which the rotation of the links 23 to 26 is restricted by the stopper. In this state, the upper surface 12 </ b> C of the valve body 12 is located above the upper surface of the base member 22.

弁体12の上面12Cには、ローラー15,16が回転可能に取り付けられている。ローラー15,16の一部は、上面12Cよりも上方に突出している。なお、ローラー15,16としては、円柱状、球状等、種々の形状のものを用いることができる。   Rollers 15 and 16 are rotatably attached to the upper surface 12C of the valve body 12. A part of the rollers 15 and 16 protrudes upward from the upper surface 12C. In addition, as the rollers 15 and 16, those having various shapes such as a columnar shape and a spherical shape can be used.

弁体移動装置20は、弁体12を、図3に示した待機位置と、図4および図5に示した閉塞位置との間で移動させる。弁体移動装置20の動作については、後で詳しく説明する。   The valve body moving device 20 moves the valve body 12 between the standby position shown in FIG. 3 and the closed position shown in FIGS. 4 and 5. The operation of the valve body moving device 20 will be described in detail later.

以下、コネクタ部30とターミナル部40について詳しく説明する。コネクタ部30は後で説明する4つのコネクタを有し、ターミナル部40は後で説明する4つの入出力端子を有している。コネクタ部30とターミナル部40は、弁体12が閉塞位置にあるときに、コネクタ部30の4つのコネクタとターミナル部40の4つの入出力端子が互いに接続されるような位置に配置されている。図3ないし図6に示した例では、コネクタ部30は、ヒーター13の底面に取り付けられている。しかし、コネクタ部30は、弁体12の底面12D等、他の位置に設けられていてもよい。   Hereinafter, the connector unit 30 and the terminal unit 40 will be described in detail. The connector part 30 has four connectors which will be described later, and the terminal part 40 has four input / output terminals which will be described later. The connector part 30 and the terminal part 40 are arranged at positions where the four connectors of the connector part 30 and the four input / output terminals of the terminal part 40 are connected to each other when the valve body 12 is in the closed position. . In the example shown in FIGS. 3 to 6, the connector portion 30 is attached to the bottom surface of the heater 13. However, the connector part 30 may be provided in other positions, such as bottom face 12D of the valve body 12. FIG.

図6に示したように、コネクタ部30は、絶縁材料からなる本体30Aと、この本体30Aによって保持された電力用コネクタ31,32およびセンサ用コネクタ33,34を有している。本体30Aは、チャンバー101に向いた面30ASと、この面30ASにおいて開口し、それぞれコネクタ31,32,33,34を収容する4つの凹部を有している。コネクタ31,32は、ヒーター13に電気的に接続されている。コネクタ33,34は、温度センサ73に電気的に接続されている。なお、弁体12の温度を測定する必要がない場合には、温度センサ73およびコネクタ33,34を設けなくてもよい。   As shown in FIG. 6, the connector section 30 includes a main body 30A made of an insulating material, power connectors 31 and 32, and sensor connectors 33 and 34 held by the main body 30A. The main body 30A has a surface 30AS facing the chamber 101 and four recesses that open on the surface 30AS and accommodate the connectors 31, 32, 33, and 34, respectively. The connectors 31 and 32 are electrically connected to the heater 13. The connectors 33 and 34 are electrically connected to the temperature sensor 73. In addition, when it is not necessary to measure the temperature of the valve body 12, the temperature sensor 73 and the connectors 33 and 34 may not be provided.

ここで、図3および図6を参照して、コネクタ31,32,33,34の構造の一例について説明する。この例では、コネクタ31,32,33,34は、それぞれ、対応する凹部内に進退可能に収容された金属製のプラグ31a,32a,33a,34aを有している。プラグ31a,32a,33a,34aは、それぞれ、フランジを有するほぼ円柱形状をなしている。コネクタ31,32,33,34は、それぞれ、更に、対応する凹部内に収容され、プラグ31a,32a,33a,34aを、対応する凹部から突出する方向(図3における右方向)に付勢するばねを有している。なお、図3には、コネクタ31,32,33,34のばねのうち、コネクタ31のばね31bのみを示している。なお、コネクタ31,32,33,34を収容する凹部は、それぞれ、凹部から抜けないようにプラグ31a,32a,33a,34aを保持している。プラグ31a,32aはヒーター13に電気的に接続され、プラグ33a,34aは温度センサ73に電気的に接続されている。   Here, an example of the structure of the connectors 31, 32, 33, and 34 will be described with reference to FIGS. In this example, the connectors 31, 32, 33, and 34 have metal plugs 31a, 32a, 33a, and 34a, respectively, accommodated in the corresponding recesses so as to be able to advance and retract. Each of the plugs 31a, 32a, 33a, and 34a has a substantially cylindrical shape having a flange. Each of the connectors 31, 32, 33, and 34 is further accommodated in a corresponding recess, and biases the plugs 31a, 32a, 33a, and 34a in a direction protruding from the corresponding recess (right direction in FIG. 3). It has a spring. FIG. 3 shows only the spring 31 b of the connector 31 among the springs of the connectors 31, 32, 33 and 34. The recesses that accommodate the connectors 31, 32, 33, and 34 hold the plugs 31a, 32a, 33a, and 34a so as not to come out of the recesses. The plugs 31 a and 32 a are electrically connected to the heater 13, and the plugs 33 a and 34 a are electrically connected to the temperature sensor 73.

図3および図7に示したように、ターミナル部40は、絶縁材料からなる本体40Aと、この本体40Aによって保持された電力出力端子41,42およびセンサ入力端子43,44を有している。以下、電力出力端子41,42およびセンサ入力端子43,44を、入出力端子41,42,43,44とも記す。本体40Aは、ゲートバルブ装置10に向いた面40ASと、この面40ASにおいて開口し、それぞれ入出力端子41,42,43,44を収容する4つの凹部を有している。図7に示したように、面40ASにおいて、電力出力端子41,42の周囲には、電力出力端子41,42とその周辺部分との間の絶縁性を高めるために、Oリング45,46が取り付けられている。なお、弁体12の温度を測定する必要がない場合には、センサ入力端子43,44を設けなくてもよい。   As shown in FIGS. 3 and 7, the terminal portion 40 has a main body 40A made of an insulating material, power output terminals 41 and 42 and sensor input terminals 43 and 44 held by the main body 40A. Hereinafter, the power output terminals 41, 42 and the sensor input terminals 43, 44 are also referred to as input / output terminals 41, 42, 43, 44. The main body 40A has a surface 40AS facing the gate valve device 10 and four recesses that open at the surface 40AS and accommodate the input / output terminals 41, 42, 43, and 44, respectively. As shown in FIG. 7, on the surface 40AS, O-rings 45 and 46 are provided around the power output terminals 41 and 42 in order to improve insulation between the power output terminals 41 and 42 and the peripheral portions thereof. It is attached. If it is not necessary to measure the temperature of the valve body 12, the sensor input terminals 43 and 44 need not be provided.

図4および図5に示したように、弁体12が開口部112を閉塞した状態では、コネクタ31,32,33,34のプラグ31a,32a,33a,34aは、それぞれ入出力端子41,42,43,44に接触する。これにより、コネクタ31,32,33,34(プラグ31a,32a,33a,34a)は、それぞれ入出力端子41,42,43,44に対して電気的且つ物理的に接続される。また、この状態において、Oリング45,46は、面30ASと面40ASとの間に挟まれる。   As shown in FIGS. 4 and 5, when the valve body 12 closes the opening 112, the plugs 31a, 32a, 33a, 34a of the connectors 31, 32, 33, 34 are input / output terminals 41, 42, respectively. , 43, 44. Thereby, the connectors 31, 32, 33, and 34 (plugs 31a, 32a, 33a, and 34a) are electrically and physically connected to the input / output terminals 41, 42, 43, and 44, respectively. In this state, the O-rings 45 and 46 are sandwiched between the surface 30AS and the surface 40AS.

入出力端子41,42,43,44には、それぞれ導線が接続されている。この4本の導線は、例えば、壁111Aの内部に形成された孔を通して、筐体111の外部に引き出されている。   Conductive wires are connected to the input / output terminals 41, 42, 43, and 44, respectively. The four conductive wires are led out of the casing 111 through, for example, holes formed in the wall 111A.

図8に示したように、真空処理システム100は、ヒーター13に供給される電力を発生する電源71と、スイッチ49と、制御部72とを備えている。電力出力端子41,42は、電源71に対して、スイッチ49を介して電気的に接続されている。スイッチ49は、導通状態と遮断状態とが選択されるものである。図8には、電力出力端子41と電源71の間にスイッチ49が設けられた例を示している。しかし、このようなスイッチ49の代わりに、電力出力端子41と電源71の間と、電力出力端子42と電源71の間を、同時に導通または遮断するスイッチを設けてもよい。コネクタ31,32が電力出力端子41,42に接続され、且つスイッチ49が導通状態のときには、電源71からヒーター13に対して電力が供給され得る。電力出力端子41,42は、本発明における電力出力部に対応する。   As shown in FIG. 8, the vacuum processing system 100 includes a power source 71 that generates power to be supplied to the heater 13, a switch 49, and a control unit 72. The power output terminals 41 and 42 are electrically connected to the power source 71 via the switch 49. The switch 49 selects a conduction state or a cutoff state. FIG. 8 shows an example in which a switch 49 is provided between the power output terminal 41 and the power source 71. However, instead of the switch 49 as described above, a switch for simultaneously connecting or disconnecting between the power output terminal 41 and the power source 71 and between the power output terminal 42 and the power source 71 may be provided. When the connectors 31 and 32 are connected to the power output terminals 41 and 42 and the switch 49 is in a conductive state, power can be supplied from the power source 71 to the heater 13. The power output terminals 41 and 42 correspond to the power output unit in the present invention.

センサ入力端子43,44は、制御部72に接続されている。従って、コネクタ33,34がセンサ入力端子43,44に接続されると、温度センサ73が制御部72に接続される。制御部72は、例えば、真空処理システム100において制御が必要な構成要素を統括して制御するものである。制御部72は、ゲートバルブ装置10の動作を制御するために、コネクタ33,34およびセンサ入力端子43,44を介して接続される温度センサ73によって得られる弁体12の温度情報を取得すると共に、エアシリンダー21、電源71およびスイッチ49を制御する。なお、制御部72は、真空処理システム100において制御が必要な構成要素を統括して制御するものではなく、ゲートバルブ装置10のみの制御を行うものであってもよい。この場合の制御部72は、例えば、真空処理システム100において統括的な制御を行う他の制御部によって制御される。   The sensor input terminals 43 and 44 are connected to the control unit 72. Therefore, when the connectors 33 and 34 are connected to the sensor input terminals 43 and 44, the temperature sensor 73 is connected to the control unit 72. For example, the control unit 72 controls the components that need to be controlled in the vacuum processing system 100. The control unit 72 acquires temperature information of the valve body 12 obtained by the temperature sensor 73 connected via the connectors 33 and 34 and the sensor input terminals 43 and 44 in order to control the operation of the gate valve device 10. The air cylinder 21, the power source 71 and the switch 49 are controlled. Note that the control unit 72 may not control the components that need to be controlled in the vacuum processing system 100, but may control only the gate valve device 10. In this case, the control unit 72 is controlled by, for example, another control unit that performs overall control in the vacuum processing system 100.

後で詳しく説明するが、本実施の形態では、ヒーター13に接続されたコネクタ31,32は、弁体12が開口部112を閉塞した状態では電力出力部である電力出力端子41,42に対して電気的且つ物理的に接続され、弁体12が開口部112を開放した状態では電力出力端子41,42から電気的且つ物理的に乖離するように、弁体12と連動する。   As will be described in detail later, in the present embodiment, the connectors 31 and 32 connected to the heater 13 are connected to the power output terminals 41 and 42 that are power output portions when the valve body 12 closes the opening 112. When the valve body 12 opens the opening 112, the valve body 12 is interlocked with the valve body 12 so as to be electrically and physically separated from the power output terminals 41 and 42.

なお、ここまでの説明では、ゲートバルブ装置10は、構成要素として、ターミナル部40、スイッチ49および電源71を含んでいないものとしている。しかし、ゲートバルブ装置10は、構成要素として、ターミナル部40を含んでいてもよいし、更にスイッチ49を含んでいてもよいし、更に電源71を含んでいてもよい。   In the description so far, the gate valve device 10 does not include the terminal unit 40, the switch 49, and the power source 71 as components. However, the gate valve device 10 may include a terminal unit 40 as a component, may further include a switch 49, and may further include a power source 71.

次に、図3ないし図5および図9を参照して、チャンバー101において基板Sに対して所定の処理を施す場合を例にとって、本実施の形態に係るゲートバルブ装置10の動作について詳しく説明する。図9は、ゲートバルブ装置10の動作を説明するための説明図である。図9では、チャンバー101への基板Sの搬入から、処理済みの基板Sのチャンバー101からの搬出までの6つのステップの各々における動作内容、開口部112の状態およびヒーター13の状態を表している。   Next, with reference to FIGS. 3 to 5 and FIG. 9, the operation of the gate valve device 10 according to the present embodiment will be described in detail by taking as an example the case where a predetermined process is performed on the substrate S in the chamber 101. . FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining the operation of the gate valve device 10. FIG. 9 shows the operation contents, the state of the opening 112, and the state of the heater 13 in each of the six steps from loading the substrate S into the chamber 101 to unloading the processed substrate S from the chamber 101. .

図9におけるステップ1では、開口部112が開放され、開口部112を通して、搬送チャンバー103からチャンバー101へ基板Sが搬入される。このステップ1では、弁体12は待機位置にある。図3は、弁体12が待機位置にある状態を示している。弁体12の待機位置は、エアシリンダー21のロッド部21bの先端部が可動範囲の最下端に位置するときの弁体12の位置である。弁体12が待機位置にある状態では、弁体12は開口部112を開放している。この状態で、開口部112を通して、搬送チャンバー103からチャンバー101へ基板Sが搬入される。   In Step 1 in FIG. 9, the opening 112 is opened, and the substrate S is carried into the chamber 101 from the transfer chamber 103 through the opening 112. In this step 1, the valve body 12 is in the standby position. FIG. 3 shows a state in which the valve body 12 is in the standby position. The standby position of the valve body 12 is the position of the valve body 12 when the distal end portion of the rod portion 21b of the air cylinder 21 is positioned at the lowest end of the movable range. When the valve body 12 is in the standby position, the valve body 12 opens the opening 112. In this state, the substrate S is carried from the transfer chamber 103 into the chamber 101 through the opening 112.

また、ステップ1では、ヒーター13は、オフ状態、すなわち電力が供給されない状態にある。弁体12が待機位置にある状態を含めて、開口部112が開放されている状態では、コネクタ部30とターミナル部40は互いに分離されている。そのため、ヒーター13に接続されたコネクタ31,32は、電力出力部である電力出力端子41,42から電気的且つ物理的に乖離している。従って、開口部112が開放されている状態では、ヒーター13には電力は供給されない。また、開口部112が開放されている状態では、スイッチ49は遮断状態に設定されている。   In Step 1, the heater 13 is in an off state, that is, in a state where no power is supplied. In the state where the opening 112 is opened, including the state where the valve body 12 is in the standby position, the connector portion 30 and the terminal portion 40 are separated from each other. Therefore, the connectors 31 and 32 connected to the heater 13 are electrically and physically separated from the power output terminals 41 and 42 which are power output units. Accordingly, no electric power is supplied to the heater 13 when the opening 112 is open. In addition, when the opening 112 is open, the switch 49 is set to a cutoff state.

次のステップ2では、弁体12によって開口部112を閉塞する動作が行われる。図3に示した状態から、弁体12によって開口部112を閉塞する際には、弁体移動装置20のエアシリンダー21によってベース部材22を上昇させる。ベース部材22の上昇に伴って、弁体12も上昇する。このとき、ローラー15,16が筐体11の上部に当接するまでは、弁体12は、壁111Aの面111ASに平行な方向に移動する。   In the next step 2, an operation of closing the opening 112 by the valve body 12 is performed. When the opening 112 is closed by the valve body 12 from the state shown in FIG. 3, the base member 22 is raised by the air cylinder 21 of the valve body moving device 20. As the base member 22 is raised, the valve body 12 is also raised. At this time, the valve body 12 moves in a direction parallel to the surface 111AS of the wall 111A until the rollers 15 and 16 contact the upper portion of the housing 11.

ローラー15,16が筐体11の上部に当接したとき、弁体12は開口部112に対向する位置に達している。この状態から、更にエアシリンダー21によってベース部材22を上昇させると、弁体12は上昇できないため、リンク23〜26が、それらのベース部材22の側面に対する接続部を中心として図3における時計回り方向に回動しながら、弁体12は開口部112に向けて壁111Aの面111ASに垂直な方向に移動する。このとき、ローラー15,16の作用により、弁体12は筐体11と擦れることなく滑らかに移動する。そして、最終的には、図4に示したように、弁体12のシール面12Aが壁111Aの面111ASに押し付けられて、弁体12によって開口部112が閉塞される。この時点で、弁体移動装置20の動作は停止する。弁体12によって開口部112が閉塞されるとき、コネクタ部30はターミナル部40に接続される。具体的には、コネクタ31,32,33,34のプラグ31a,32a,33a,34aが、それぞれ入出力端子41,42,43,44に接触することによって、コネクタ31,32,33,34(プラグ31a,32a,33a,34a)が、それぞれ入出力端子41,42,43,44に対して電気的且つ物理的に接続される。   When the rollers 15 and 16 come into contact with the upper part of the housing 11, the valve body 12 reaches a position facing the opening 112. When the base member 22 is further lifted by the air cylinder 21 from this state, the valve body 12 cannot be lifted, so that the links 23 to 26 are clockwise in FIG. 3 centering on the connection portions with respect to the side surfaces of the base member 22. While rotating, the valve body 12 moves toward the opening 112 in a direction perpendicular to the surface 111AS of the wall 111A. At this time, the valve body 12 moves smoothly without being rubbed against the housing 11 by the action of the rollers 15 and 16. Finally, as shown in FIG. 4, the sealing surface 12A of the valve body 12 is pressed against the surface 111AS of the wall 111A, and the opening 112 is closed by the valve body 12. At this time, the operation of the valve body moving device 20 stops. When the opening 112 is closed by the valve body 12, the connector portion 30 is connected to the terminal portion 40. Specifically, the plugs 31a, 32a, 33a, 34a of the connectors 31, 32, 33, 34 contact the input / output terminals 41, 42, 43, 44, respectively, so that the connectors 31, 32, 33, 34 ( Plugs 31a, 32a, 33a, 34a) are electrically and physically connected to the input / output terminals 41, 42, 43, 44, respectively.

図4に示したように、上記の動作により弁体12が開口部112を閉塞した時点では、スイッチ49は遮断状態になっている。従って、この時点では、ヒーター13には電力は供給されていない。   As shown in FIG. 4, when the valve body 12 closes the opening 112 by the above-described operation, the switch 49 is in a cut-off state. Therefore, at this time, no power is supplied to the heater 13.

次のステップ3では、ヒーター13がオン状態、すなわち電力が供給される状態にされる。このように、ヒーター13がオン状態にされるのは、弁体12によって開口部112が閉塞された後である。ステップ3では、図5に示したように、スイッチ49が導通状態に設定される。これにより、電源71から電力出力端子41,42およびコネクタ31,32を経由してヒーター13に電力が供給されて、ヒーター13が発熱し、弁体12が加熱される。また、このとき、温度センサ73は、コネクタ33,34およびセンサ入力端子43,44を介して制御部72に接続されている。制御部72は、温度センサ73によって得られる弁体12の温度情報を取得し、この温度情報に基づいて電源71を制御して、弁体12の温度を制御する。なお、制御部72は、弁体12の温度を制御するため、スイッチ49の導通状態と遮断状態とを切り替えてもよい。   In the next step 3, the heater 13 is turned on, that is, in a state where electric power is supplied. Thus, the heater 13 is turned on after the opening 112 is closed by the valve body 12. In step 3, as shown in FIG. 5, the switch 49 is set to a conductive state. As a result, power is supplied from the power source 71 to the heater 13 via the power output terminals 41 and 42 and the connectors 31 and 32, the heater 13 generates heat, and the valve body 12 is heated. At this time, the temperature sensor 73 is connected to the control unit 72 via the connectors 33 and 34 and the sensor input terminals 43 and 44. The control unit 72 acquires temperature information of the valve body 12 obtained by the temperature sensor 73 and controls the power source 71 based on the temperature information to control the temperature of the valve body 12. Note that the control unit 72 may switch between a conduction state and a cutoff state of the switch 49 in order to control the temperature of the valve body 12.

次のステップ4では、弁体12によって開口部112が閉塞され、ヒーター13に電力が供給されて、弁体12が加熱されている状態で、チャンバー101において基板Sに対してエッチング等の所定の処理が施される。   In the next step 4, the opening 112 is closed by the valve body 12, electric power is supplied to the heater 13, and the valve body 12 is heated. Processing is performed.

チャンバー101における処理が終了すると、次のステップ5において、弁体12によって開口部112が閉塞されている状態で、スイッチ49が遮断状態に設定されて、ヒーター13に対する電力の供給が停止される。   When the processing in the chamber 101 is completed, in the next step 5, the switch 49 is set to the cut-off state with the opening 112 closed by the valve body 12, and the supply of power to the heater 13 is stopped.

次のステップ6では、開口部112が開放され、開口部112を通して、チャンバー101から搬送チャンバー103へ、処理済みの基板Sが搬出される。このステップ6では、弁体移動装置20によって、弁体12に、開口部112を閉塞する際とは逆の動作を行わせて、開口部112を開放する。すなわち、弁体移動装置20のエアシリンダー21によってベース部材22を下降させる。このとき、初めのうちは、ローラー15,16が筐体11の上部に当接したままで、リンク23〜26が、それらのベース部材22の側面に対する接続部を中心として図3における反時計回り方向に回動しながら、弁体12は開口部112から離れるように壁111Aの面111ASに垂直な方向に移動する。これにより、開口部112が開放される。また、弁体12が開口部112を開放するとき、コネクタ部30はターミナル部40から分離される。   In the next step 6, the opening 112 is opened, and the processed substrate S is carried out from the chamber 101 to the transfer chamber 103 through the opening 112. In step 6, the valve body moving device 20 causes the valve body 12 to perform the reverse operation of closing the opening 112, thereby opening the opening 112. That is, the base member 22 is lowered by the air cylinder 21 of the valve body moving device 20. At this time, at first, the rollers 15 and 16 remain in contact with the upper portion of the housing 11, and the links 23 to 26 rotate counterclockwise in FIG. 3 centering on the connection portions with respect to the side surfaces of the base member 22. While rotating in the direction, the valve body 12 moves in a direction perpendicular to the surface 111AS of the wall 111A so as to move away from the opening 112. Thereby, the opening 112 is opened. Further, when the valve body 12 opens the opening 112, the connector part 30 is separated from the terminal part 40.

リンク23〜26が、ストッパによって規制される位置まで回動すると、その後は、ベース部材22の下降に伴って、弁体12も下降する。このとき、弁体12は、壁111Aの面111ASに平行な方向に移動する。そして、最終的には、弁体12が図3に示した待機位置に達し、弁体移動装置20の動作は停止する。その後、開口部112を通して、チャンバー101から搬送チャンバー103へ、処理済みの基板Sが搬出される。   When the links 23 to 26 are rotated to the positions regulated by the stoppers, the valve body 12 is also lowered as the base member 22 is lowered thereafter. At this time, the valve body 12 moves in a direction parallel to the surface 111AS of the wall 111A. Finally, the valve body 12 reaches the standby position shown in FIG. 3, and the operation of the valve body moving device 20 stops. Thereafter, the processed substrate S is unloaded from the chamber 101 to the transfer chamber 103 through the opening 112.

次に、本実施の形態に係るゲートバルブ装置10の効果について説明する。本実施の形態に係るゲートバルブ装置10は、弁体12を加熱するためのヒーター13を備えている。そのため、このゲートバルブ装置10によれば、チャンバー101内で、副生成物が生じる処理が行われる場合、ヒーター13によって弁体12を加熱することにより、副生成物が弁体12の表面に付着することを防止することができる。これにより、本実施の形態によれば、パーティクルが発生することを防止することができ、その結果、パーティクルに起因したエッチング不良等の不具合の発生を防止することができる。   Next, the effect of the gate valve device 10 according to the present embodiment will be described. The gate valve device 10 according to the present embodiment includes a heater 13 for heating the valve body 12. Therefore, according to the gate valve device 10, when a process for generating a by-product is performed in the chamber 101, the by-product adheres to the surface of the valve body 12 by heating the valve body 12 by the heater 13. Can be prevented. Thereby, according to this Embodiment, it can prevent that a particle | grain generate | occur | produces and, as a result, generation | occurrence | production of malfunctions, such as an etching defect resulting from a particle, can be prevented.

また、本実施の形態では、弁体12と、ヒーター13と、ヒーター13に電気的に接続されたコネクタ31,32を含むコネクタ部30とが一体化されている。そして、コネクタ31,32は、弁体12が開口部112を閉塞した状態では電力出力部である電力出力端子41,42に対して電気的且つ物理的に接続され、弁体12が開口部112を開放した状態では電力出力端子41,42から電気的且つ物理的に乖離するように、弁体12と連動する。そのため、本実施の形態では、弁体12が開口部112を閉塞した状態においてのみ、コネクタ31,32が電力出力部である電力出力端子41,42に対して電気的且つ物理的に接続されて、ヒーター13に電力を供給することが可能になる。このように、本実施の形態によれば、ゲートバルブ装置10の筐体11内において、ベース部材22およびリンク機構を経由してヒーター13に直接接続されるように電力供給用のケーブルを設けることなく、ヒーター13に容易に電力を供給することができる。   Moreover, in this Embodiment, the valve body 12, the heater 13, and the connector part 30 containing the connectors 31 and 32 electrically connected to the heater 13 are integrated. The connectors 31 and 32 are electrically and physically connected to the power output terminals 41 and 42 which are power output portions in a state where the valve body 12 closes the opening portion 112, and the valve body 12 is connected to the opening portion 112. In the open state, the valve body 12 is interlocked so as to be electrically and physically separated from the power output terminals 41 and 42. Therefore, in the present embodiment, the connectors 31 and 32 are electrically and physically connected to the power output terminals 41 and 42 that are the power output units only when the valve body 12 closes the opening 112. It becomes possible to supply power to the heater 13. Thus, according to the present embodiment, the power supply cable is provided in the casing 11 of the gate valve device 10 so as to be directly connected to the heater 13 via the base member 22 and the link mechanism. The electric power can be easily supplied to the heater 13.

また、本実施の形態に係るゲートバルブ装置10は、弁体移動装置20を経由してヒーター13に接続されるような電力供給用のケーブルを備えていない。そのため、本実施の形態によれば、ゲートバルブ装置10の取り付けやメンテナンスが容易になる。   The gate valve device 10 according to the present embodiment does not include a power supply cable that is connected to the heater 13 via the valve body moving device 20. Therefore, according to the present embodiment, the attachment and maintenance of the gate valve device 10 are facilitated.

また、本実施の形態では、電源71と電力出力端子41,42の間に、電源71から電力出力端子41,42への電力の供給と遮断とを選択するスイッチ49が設けられている。そして、開口部112が開放された状態から開口部112が閉塞された状態に移行する際には、開口部112が閉塞されてコネクタ31,32が電力出力端子41,42に接続された後に、スイッチ49が導通状態に設定されて電力出力端子41,42に電力が供給される。また、開口部112が閉塞された状態から開口部112が開放された状態に移行する際には、スイッチ49が遮断状態に設定されて電力出力端子41,42に対する電力の供給が遮断された後に、開口部112が開放されてコネクタ31,32が電力出力端子41,42から乖離する。従って、本実施の形態では、電力出力端子41,42が電源71に接続された状態で露出することはない。そのため、本実施の形態によれば、電力出力端子41,42からのアーク放電や漏電の発生を防止することができる。   Further, in the present embodiment, a switch 49 is provided between the power supply 71 and the power output terminals 41 and 42 to select supply and cut-off of power from the power supply 71 to the power output terminals 41 and 42. And when shifting from the state where the opening 112 is opened to the state where the opening 112 is closed, after the opening 112 is closed and the connectors 31, 32 are connected to the power output terminals 41, 42, The switch 49 is set to a conductive state, and power is supplied to the power output terminals 41 and 42. In addition, when the state in which the opening 112 is closed to the state in which the opening 112 is opened, the switch 49 is set to the cut-off state and the supply of power to the power output terminals 41 and 42 is cut off. The opening 112 is opened and the connectors 31 and 32 are separated from the power output terminals 41 and 42. Therefore, in this embodiment, the power output terminals 41 and 42 are not exposed in a state where they are connected to the power source 71. Therefore, according to this Embodiment, generation | occurrence | production of the arc discharge and electric leakage from the electric power output terminals 41 and 42 can be prevented.

また、本実施の形態では、コネクタ部30がターミナル部40に接続された状態では、電力出力端子41,42とその周辺部分との間の絶縁性を高めるために、電力出力端子41,42の周囲に設けられたOリング45,46が、コネクタ部30の本体30Aの面30ASとターミナル部40の本体40Aの面40ASとの間に挟まれる。これにより、本実施の形態によれば、より効果的に、電力出力端子41,42からのアーク放電や漏電の発生を防止することができる。   Moreover, in this Embodiment, in the state in which the connector part 30 was connected to the terminal part 40, in order to improve the insulation between the power output terminals 41 and 42 and its peripheral part, the power output terminals 41 and 42 O-rings 45 and 46 provided around are sandwiched between the surface 30AS of the main body 30A of the connector portion 30 and the surface 40AS of the main body 40A of the terminal portion 40. Thereby, according to this Embodiment, generation | occurrence | production of the arc discharge from the electric power output terminals 41 and 42 and electric leakage can be prevented more effectively.

また、本実施の形態では、ヒーター13は、弁体12の表面に取り付けられている。そのため、本実施の形態によれば、ヒーター13を弁体12の内部に設ける場合に比べて、弁体12の剛性の低下を防止することができる。   In the present embodiment, the heater 13 is attached to the surface of the valve body 12. Therefore, according to this Embodiment, compared with the case where the heater 13 is provided in the inside of the valve body 12, the fall of the rigidity of the valve body 12 can be prevented.

[第2の実施の形態]
次に、図10ないし図12を参照して、本発明の第2の実施の形態に係るゲートバルブ装置について説明する。図10ないし図12は、本実施の形態に係るゲートバルブ装置の構成を示す断面図である。なお、図10はゲートバルブ装置の開状態を表し、図11および図12はゲートバルブ装置の閉状態を表している。
[Second Embodiment]
Next, a gate valve device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 10 to 12 are cross-sectional views showing the configuration of the gate valve device according to the present embodiment. 10 shows the open state of the gate valve device, and FIGS. 11 and 12 show the closed state of the gate valve device.

以下、本実施の形態に係るゲートバルブ装置80が、第1の実施の形態に係るゲートバルブ装置10と異なる点について説明する。ゲートバルブ装置80は、ゲートバルブ装置10における筐体11の代わりに筐体81を備えている。筐体81は、上部と、底部と、上部と底部とを連結する4つの側部とを有する箱形状をなしている。筐体81の4つの側部のうちの1つは、チャンバー101の筐体111の壁111Aに接している。この側部を、壁構成部分81Aと呼ぶ。この壁構成部分81Aは、チャンバー101内の空間とそれに隣接するゲートバルブ装置10側の空間とを仕切る壁の少なくとも一部を構成する。壁構成部分81Aは、壁111Aに接する面と、その反対側の面81ASとを有している。また、筐体81の4つの側部のうち、壁構成部分81Aとは反対側の側部81Bは、図示しない搬送チャンバー103に接している。   Hereinafter, the difference between the gate valve device 80 according to the present embodiment and the gate valve device 10 according to the first embodiment will be described. The gate valve device 80 includes a housing 81 instead of the housing 11 in the gate valve device 10. The casing 81 has a box shape having an upper portion, a bottom portion, and four side portions connecting the upper portion and the bottom portion. One of the four side portions of the casing 81 is in contact with the wall 111 </ b> A of the casing 111 of the chamber 101. This side portion is referred to as a wall constituting portion 81A. The wall constituting portion 81A constitutes at least a part of a wall that partitions the space in the chamber 101 and the space on the gate valve device 10 side adjacent thereto. The wall constituting portion 81A has a surface in contact with the wall 111A and an opposite surface 81AS. Of the four side portions of the housing 81, the side portion 81B opposite to the wall constituting portion 81A is in contact with the transfer chamber 103 (not shown).

壁構成部分81Aと側部81Bには、それぞれ、基板Sの移送を可能にする開口部82,83が設けられている。開口部82は、チャンバー101における壁111Aの開口部112に連続している。一例として、壁構成部分81Aに接する壁111Aの面に垂直な方向から見たとき、開口部82,83の形状および位置は、開口部112の形状および位置と一致している。本実施の形態では、弁体12は、開口部82を開閉するようになっている。   The wall constituting portion 81A and the side portion 81B are provided with openings 82 and 83 that enable the transfer of the substrate S, respectively. The opening 82 is continuous with the opening 112 of the wall 111 </ b> A in the chamber 101. As an example, the shapes and positions of the openings 82 and 83 coincide with the shapes and positions of the openings 112 when viewed from a direction perpendicular to the surface of the wall 111A in contact with the wall constituting portion 81A. In the present embodiment, the valve body 12 opens and closes the opening 82.

壁構成部分81Aの面81ASにおける開口部82の周囲には、Oリング89が取り付けられている。図11および図12に示したように、弁体12が開口部82を閉塞した状態では、Oリング89は、全周にわたって、面81ASとシール面12Aとの間に挟まれる。これにより、チャンバー101が気密にシールされる。   An O-ring 89 is attached around the opening 82 in the surface 81AS of the wall constituting portion 81A. As shown in FIGS. 11 and 12, in a state where the valve body 12 closes the opening 82, the O-ring 89 is sandwiched between the surface 81AS and the seal surface 12A over the entire circumference. Thereby, the chamber 101 is hermetically sealed.

本実施の形態では、ターミナル部40は、面81ASにおいて露出するように、壁構成部分81Aに埋め込まれて固定されている。入出力端子41,42,43,44に接続された4本の導線は、例えば、壁構成部分81Aの内部に形成された孔を通して、筐体81の外部に引き出されている。   In the present embodiment, the terminal portion 40 is embedded and fixed in the wall constituting portion 81A so as to be exposed at the surface 81AS. The four conducting wires connected to the input / output terminals 41, 42, 43, and 44 are led out of the housing 81 through, for example, holes formed in the wall constituting portion 81A.

また、本実施の形態では、エアシリンダー21のシリンダー部21aは、筐体81の底部に取り付けられている。エアシリンダー21のロッド部21bは、シリンダー部21aから筐体81の底部に形成された開口部を通して、筐体81の内部に向けて突出している。   In the present embodiment, the cylinder portion 21 a of the air cylinder 21 is attached to the bottom portion of the housing 81. The rod portion 21 b of the air cylinder 21 protrudes from the cylinder portion 21 a toward the inside of the housing 81 through an opening formed at the bottom of the housing 81.

本実施の形態では、ゲートバルブ装置80は、構成要素として、ターミナル部40を含んでいる。ゲートバルブ装置80は、構成要素として、更にスイッチ49を含んでいてもよいし、更に電源71を含んでいてもよい。   In the present embodiment, the gate valve device 80 includes a terminal unit 40 as a component. The gate valve device 80 may further include a switch 49 as a component, and may further include a power source 71.

次に、図10ないし図12を参照して、本実施の形態に係るゲートバルブ装置80の動作について説明する。図10は、弁体12が待機位置にある状態を示している。弁体12が待機位置にある状態を含めて、開口部82が開放されている状態では、コネクタ部30とターミナル部40は互いに分離されている。そのため、ヒーター13に接続されたコネクタ31,32は、電力出力部である電力出力端子41,42から電気的且つ物理的に乖離している。従って、開口部82が開放されている状態では、ヒーター13には電力は供給されない。また、開口部82が開放されている状態では、スイッチ49は遮断状態に設定されている。この状態で、開口部83,82,112を通して、搬送チャンバー103からチャンバー101へ基板Sが搬入される。   Next, the operation of the gate valve device 80 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 10 shows a state where the valve body 12 is in the standby position. In a state where the opening 82 is opened, including a state where the valve body 12 is in the standby position, the connector portion 30 and the terminal portion 40 are separated from each other. Therefore, the connectors 31 and 32 connected to the heater 13 are electrically and physically separated from the power output terminals 41 and 42 which are power output units. Therefore, no electric power is supplied to the heater 13 when the opening 82 is open. Further, in a state where the opening 82 is opened, the switch 49 is set to a cutoff state. In this state, the substrate S is carried into the chamber 101 from the transfer chamber 103 through the openings 83, 82, and 112.

図10に示した状態から、弁体12によって開口部82を閉塞する際には、第1の実施の形態と同様に、弁体移動装置20によって弁体12を移動させる。これにより、図11に示したように、弁体12のシール面12Aが壁81Aの面81ASに押し付けられて、弁体12によって開口部82が閉塞される。弁体12が開口部82を閉塞した時点では、スイッチ49は遮断状態になっている。従って、この時点では、ヒーター13には電力は供給されていない。   When the opening 82 is closed by the valve body 12 from the state shown in FIG. 10, the valve body 12 is moved by the valve body moving device 20 as in the first embodiment. As a result, as shown in FIG. 11, the sealing surface 12A of the valve body 12 is pressed against the surface 81AS of the wall 81A, and the opening 82 is closed by the valve body 12. When the valve body 12 closes the opening 82, the switch 49 is in a cut-off state. Therefore, at this time, no power is supplied to the heater 13.

弁体12によって開口部82が閉塞された後に、図12に示したように、スイッチ49が導通状態に設定される。これにより、電源71から電力出力端子41,42およびコネクタ31,32を経由してヒーター13に電力が供給されて、ヒーター13が発熱し、弁体12が加熱される。   After the opening 82 is closed by the valve body 12, as shown in FIG. 12, the switch 49 is set to a conductive state. As a result, power is supplied from the power source 71 to the heater 13 via the power output terminals 41 and 42 and the connectors 31 and 32, the heater 13 generates heat, and the valve body 12 is heated.

その後、チャンバー101において基板Sに対してエッチング等の所定の処理が施される。チャンバー101における処理が終了すると、弁体12によって開口部82が閉塞されている状態で、スイッチ49が遮断状態に設定されて、ヒーター13に対する電力の供給が停止される。次に、第1の実施の形態と同様に、弁体移動装置20によって弁体12を移動させて、開口部82を開放する。また、弁体12が開口部82を開放するとき、コネクタ部30はターミナル部40から分離される。   Thereafter, a predetermined process such as etching is performed on the substrate S in the chamber 101. When the processing in the chamber 101 is completed, the switch 49 is set to the cut-off state in a state where the opening 82 is closed by the valve body 12, and the supply of power to the heater 13 is stopped. Next, as in the first embodiment, the valve body 12 is moved by the valve body moving device 20 to open the opening 82. Further, when the valve body 12 opens the opening portion 82, the connector portion 30 is separated from the terminal portion 40.

本実施の形態では、ゲートバルブ装置80がターミナル部40を備えている。そのため、本実施の形態では、ターミナル部40を備えていない既存のチャンバー101に何ら変更を加えることなく、本実施の形態に係るゲートバルブ装置80を設けることができる。   In the present embodiment, the gate valve device 80 includes a terminal unit 40. Therefore, in the present embodiment, the gate valve device 80 according to the present embodiment can be provided without any modification to the existing chamber 101 that does not include the terminal unit 40.

本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第1の実施の形態と同様である。   Other configurations, operations, and effects in the present embodiment are the same as those in the first embodiment.

[第3の実施の形態]
次に、図13ないし図17を参照して、本発明の第3の実施の形態に係るゲートバルブ装置について説明する。図13ないし図15は、本実施の形態に係るゲートバルブ装置の構成を示す断面図である。なお、図13はゲートバルブ装置の開状態を表し、図14および図15はゲートバルブ装置の閉状態を表している。図16は、図14に示した状態におけるゲートバルブ装置の弁体、ヒーター、コネクタ部、副コネクタ部および副ターミナル部を示す正面図である。図17は、本実施の形態に係るゲートバルブ装置の回路構成を示す回路図である。
[Third Embodiment]
Next, a gate valve device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 13 to 15 are cross-sectional views showing the configuration of the gate valve device according to the present embodiment. 13 shows the open state of the gate valve device, and FIGS. 14 and 15 show the closed state of the gate valve device. FIG. 16 is a front view showing the valve body, the heater, the connector part, the sub connector part, and the sub terminal part of the gate valve device in the state shown in FIG. FIG. 17 is a circuit diagram showing a circuit configuration of the gate valve device according to the present embodiment.

本実施の形態に係るゲートバルブ装置90は、第1の実施の形態に係るゲートバルブ装置10の構成要素に加えて、副コネクタ部50と副ターミナル部60を備えている。副コネクタ部50は、弁体12、ヒーター13およびコネクタ部30と一体化されている。副ターミナル部60は、筐体11の底部に固定されている。副コネクタ部50は後で説明する4つの副コネクタを有し、副ターミナル部60は後で説明する4つの副入出力端子を有している。副コネクタ部50と副ターミナル部60は、弁体12が待機位置にあるときに、副コネクタ部50の4つの副コネクタと副ターミナル部60の4つの副入出力端子が互いに接続されるような位置に配置されている。図13ないし図16に示した例では、副コネクタ部50は、ヒーター13の底面に取り付けられている。しかし、副コネクタ部50は、弁体12の底面12D等、他の位置に設けられていてもよい。本実施の形態において、弁体12が待機位置にある状態は、本発明における「弁体が開口部を開放した特定の状態」に対応する。   The gate valve device 90 according to the present embodiment includes a sub connector portion 50 and a sub terminal portion 60 in addition to the components of the gate valve device 10 according to the first embodiment. The sub connector part 50 is integrated with the valve body 12, the heater 13 and the connector part 30. The sub terminal unit 60 is fixed to the bottom of the housing 11. The sub-connector section 50 has four sub-connectors described later, and the sub-terminal section 60 has four sub input / output terminals described later. The sub-connector unit 50 and the sub-terminal unit 60 are configured such that the four sub-connectors of the sub-connector unit 50 and the four sub-input / output terminals of the sub-terminal unit 60 are connected to each other when the valve body 12 is in the standby position. Placed in position. In the example shown in FIGS. 13 to 16, the sub-connector portion 50 is attached to the bottom surface of the heater 13. However, the sub connector portion 50 may be provided at other positions such as the bottom surface 12D of the valve body 12. In the present embodiment, the state in which the valve body 12 is in the standby position corresponds to the “specific state in which the valve body opens the opening” in the present invention.

副コネクタ部50の構成は、コネクタ部30の構成と同様である。すなわち、副コネクタ部50は、絶縁材料からなる本体50Aと、この本体50Aによって保持された電力用副コネクタ51,52およびセンサ用副コネクタ53,54を有している。本体50Aは、下に向いた面50ASと、この面50ASにおいて開口し、それぞれ副コネクタ51,52,53,54を収容する4つの凹部を有している。副コネクタ51,52は、ヒーター13に電気的に接続されている。副コネクタ53,54は、温度センサ73に電気的に接続されている。なお、弁体12の温度を測定する必要がない場合には、副コネクタ53,54を設けなくてもよい。   The configuration of the sub-connector unit 50 is the same as the configuration of the connector unit 30. That is, the sub-connector portion 50 has a main body 50A made of an insulating material, power sub-connectors 51 and 52 and sensor sub-connectors 53 and 54 held by the main body 50A. The main body 50A has a surface 50AS facing downward, and four recesses that open on the surface 50AS and accommodate the sub-connectors 51, 52, 53, and 54, respectively. The sub connectors 51 and 52 are electrically connected to the heater 13. The sub connectors 53 and 54 are electrically connected to the temperature sensor 73. If there is no need to measure the temperature of the valve body 12, the sub connectors 53 and 54 need not be provided.

ここで、図14および図16を参照して、副コネクタ51,52,53,54の構造の一例について説明する。この例では、副コネクタ51,52,53,54は、それぞれ、対応する凹部内に進退可能に収容された金属製のプラグ51a,52a,53a,54aを有している。プラグ51a,52a,53a,54aは、それぞれ、フランジを有するほぼ円柱形状をなしている。副コネクタ51,52,53,54は、それぞれ、更に、対応する凹部内に収容され、プラグ51a,52a,53a,54aを、対応する凹部から突出する方向(図14における下方向)に付勢するばねを有している。なお、図14には、副コネクタ51,52,53,54のばねのうち、副コネクタ51のばね51bのみを示している。なお、副コネクタ51,52,53,54を収容する凹部は、それぞれ、凹部から抜けないようにプラグ51a,52a,53a,54aを保持している。プラグ51a,52aはヒーター13に電気的に接続され、プラグ53a,54aは温度センサ73に電気的に接続されている。   Here, an example of the structure of the sub-connectors 51, 52, 53, and 54 will be described with reference to FIGS. In this example, the sub-connectors 51, 52, 53, and 54 have metal plugs 51a, 52a, 53a, and 54a, respectively, accommodated in the corresponding recesses so as to be able to advance and retract. Each of the plugs 51a, 52a, 53a, 54a has a substantially cylindrical shape having a flange. The sub-connectors 51, 52, 53, and 54 are further accommodated in the corresponding recesses, respectively, and urge the plugs 51a, 52a, 53a, and 54a in the direction protruding from the corresponding recesses (downward direction in FIG. 14). Springs to FIG. 14 shows only the spring 51b of the sub-connector 51 among the springs of the sub-connectors 51, 52, 53, and 54. Note that the recesses that accommodate the sub-connectors 51, 52, 53, and 54 hold plugs 51a, 52a, 53a, and 54a, respectively, so as not to come out of the recesses. The plugs 51 a and 52 a are electrically connected to the heater 13, and the plugs 53 a and 54 a are electrically connected to the temperature sensor 73.

副ターミナル部60の構成は、ターミナル部40の構成と同様である。すなわち、図16に示したように、副ターミナル部60は、絶縁材料からなる本体60Aと、この本体60Aによって保持された副電力出力端子61,62および副センサ入力端子63,64を有している。以下、副電力出力端子61,62および副センサ入力端子63,44を、副入出力端子61,62,63,64とも記す。本体60Aは、上に向いた面60ASと、この面60ASにおいて開口し、それぞれ副入出力端子61,62,63,64を収容する4つの凹部を有している。面60ASにおいて、副電力出力端子61,62の周囲には、電力出力端子61,62とその周辺部分との間の絶縁性を高めるために、Oリング65,66が取り付けられている。なお、弁体12の温度を測定する必要がない場合には、副センサ入力端子63,64を設けなくてもよい。   The configuration of the sub-terminal unit 60 is the same as the configuration of the terminal unit 40. That is, as shown in FIG. 16, the sub-terminal portion 60 has a main body 60A made of an insulating material, sub-power output terminals 61 and 62, and sub-sensor input terminals 63 and 64 held by the main body 60A. Yes. Hereinafter, the sub power output terminals 61 and 62 and the sub sensor input terminals 63 and 44 are also referred to as sub input / output terminals 61, 62, 63, and 64. The main body 60A has an upward surface 60AS and four recesses that open on the surface 60AS and accommodate the sub input / output terminals 61, 62, 63, 64, respectively. On the surface 60AS, O-rings 65 and 66 are attached around the auxiliary power output terminals 61 and 62 in order to improve insulation between the power output terminals 61 and 62 and the peripheral portions thereof. In addition, when it is not necessary to measure the temperature of the valve body 12, the sub sensor input terminals 63 and 64 may not be provided.

図13に示したように、弁体12が待機位置にある状態では、副コネクタ51,52,53,54のプラグ51a,52a,53a,54aは、それぞれ副入出力端子61,62,63,64に接触する。これにより、副コネクタ51,52,53,54(プラグ51a,52a,53a,54a)は、それぞれ副入出力端子61,62,63,64に対して電気的且つ物理的に接続される。また、この状態において、副電力出力端子61,62の周囲に設けられたOリング65,66は、面50ASと面60ASとの間に挟まれる。   As shown in FIG. 13, when the valve body 12 is in the standby position, the plugs 51a, 52a, 53a, 54a of the sub connectors 51, 52, 53, 54 are respectively connected to the sub input / output terminals 61, 62, 63, 64 is contacted. Thus, the sub connectors 51, 52, 53, 54 (plugs 51a, 52a, 53a, 54a) are electrically and physically connected to the sub input / output terminals 61, 62, 63, 64, respectively. In this state, the O-rings 65 and 66 provided around the auxiliary power output terminals 61 and 62 are sandwiched between the surface 50AS and the surface 60AS.

副入出力端子61,62,63,64には、それぞれ導線が接続されている。この4本の導線は、例えば、筐体11に形成された孔を通して、筐体11の外部に引き出されている。   Conductive wires are connected to the sub input / output terminals 61, 62, 63, 64, respectively. The four conductive wires are led out of the casing 11 through, for example, holes formed in the casing 11.

図17に示したように、副電力出力端子61,62は、電源71に対して、スイッチ69を介して電気的に接続されている。このスイッチ69は、ゲートバルブ装置90の構成要素であってもよい。スイッチ69は、導通状態と遮断状態とが選択されるものである。図17には、副電力出力端子61と電源71の間にスイッチ69が設けられた例を示している。しかし、このようなスイッチ69の代わりに、副電力出力端子61と電源71の間と、副電力出力端子62と電源71の間を、同時に導通または遮断するスイッチを設けてもよい。副コネクタ51,52が副電力出力端子61,62に接続され、且つスイッチ69が導通状態のときには、電源71からヒーター13に対して電力が供給され得る。副電力出力端子61,62は、本発明における第2の電力出力部に対応する。   As shown in FIG. 17, the sub power output terminals 61 and 62 are electrically connected to the power source 71 via the switch 69. The switch 69 may be a component of the gate valve device 90. The switch 69 selects a conduction state or a cutoff state. FIG. 17 shows an example in which a switch 69 is provided between the sub power output terminal 61 and the power source 71. However, instead of such a switch 69, a switch that simultaneously conducts or cuts off between the sub power output terminal 61 and the power source 71 and between the sub power output terminal 62 and the power source 71 may be provided. When the sub connectors 51 and 52 are connected to the sub power output terminals 61 and 62 and the switch 69 is in a conductive state, power can be supplied from the power source 71 to the heater 13. The sub power output terminals 61 and 62 correspond to the second power output unit in the present invention.

副センサ入力端子63,64は、制御部72に接続されている。従って、副コネクタ53,54が副センサ入力端子63,64に接続されると、温度センサ73が制御部72に接続される。なお、図17では、副コネクタ53,54および副センサ入力端子63,64の図示を省略している。制御部72は、ゲートバルブ装置10の動作を制御するために、コネクタ33,34およびセンサ入力端子43,44を介して、または副コネクタ53,54および副センサ入力端子63,64を介して接続される温度センサ73によって得られる弁体12の温度情報を取得すると共に、エアシリンダー21、電源71およびスイッチ49,69を制御する。   The sub sensor input terminals 63 and 64 are connected to the control unit 72. Therefore, when the sub connectors 53 and 54 are connected to the sub sensor input terminals 63 and 64, the temperature sensor 73 is connected to the control unit 72. In FIG. 17, the sub connectors 53 and 54 and the sub sensor input terminals 63 and 64 are not shown. The control unit 72 is connected via the connectors 33 and 34 and the sensor input terminals 43 and 44 or via the sub connectors 53 and 54 and the sub sensor input terminals 63 and 64 in order to control the operation of the gate valve device 10. The temperature information of the valve body 12 obtained by the temperature sensor 73 is acquired, and the air cylinder 21, the power source 71, and the switches 49 and 69 are controlled.

次に、図13ないし図15を参照して、本実施の形態に係るゲートバルブ装置90の動作について詳しく説明する。図13は、弁体12が待機位置にある状態を示している。この状態では、弁体12は開口部112を開放している。この状態で、開口部112を通して、搬送チャンバー103からチャンバー101へ基板Sが搬入される。また、この状態では、コネクタ部30とターミナル部40は互いに分離され、副コネクタ部50と副ターミナル部60は互いに接続されている。具体的には、副コネクタ51,52,53,54のプラグ51a,52a,53a,54aが、それぞれ副入出力端子61,62,63,64に接触することによって、副コネクタ51,52,53,54(プラグ51a,52a,53a,54a)が、それぞれ副入出力端子61,62,63,64に対して電気的且つ物理的に接続されている。   Next, the operation of the gate valve device 90 according to the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 13 to 15. FIG. 13 shows a state in which the valve body 12 is in the standby position. In this state, the valve body 12 opens the opening 112. In this state, the substrate S is carried from the transfer chamber 103 into the chamber 101 through the opening 112. In this state, the connector part 30 and the terminal part 40 are separated from each other, and the sub-connector part 50 and the sub-terminal part 60 are connected to each other. Specifically, the plugs 51a, 52a, 53a, 54a of the sub-connectors 51, 52, 53, 54 come into contact with the sub input / output terminals 61, 62, 63, 64, respectively. , 54 (plugs 51a, 52a, 53a, 54a) are electrically and physically connected to the sub input / output terminals 61, 62, 63, 64, respectively.

図13に示したように、弁体12が待機位置にある状態において、スイッチ69を導通状態にすると、電源71から副電力出力端子61,62および副コネクタ51,52を経由してヒーター13に電力が供給されて、ヒーター13が発熱し、弁体12が加熱される。また、このとき、温度センサ73は、副コネクタ53,54および副センサ入力端子63,64を介して制御部72に接続されている。制御部72は、温度センサ73によって得られる弁体12の温度情報を取得し、この温度情報に基づいて電源71を制御して、弁体12の温度を制御する。なお、制御部72は、弁体12の温度を調整するため、スイッチ69の導通状態と遮断状態とを切り替えてもよい。   As illustrated in FIG. 13, when the switch 69 is turned on in a state where the valve body 12 is in the standby position, the power source 71 supplies the heater 13 via the sub power output terminals 61 and 62 and the sub connectors 51 and 52. Electric power is supplied, the heater 13 generates heat, and the valve body 12 is heated. At this time, the temperature sensor 73 is connected to the control unit 72 via the sub connectors 53 and 54 and the sub sensor input terminals 63 and 64. The control unit 72 acquires temperature information of the valve body 12 obtained by the temperature sensor 73 and controls the power source 71 based on the temperature information to control the temperature of the valve body 12. The control unit 72 may switch between a conductive state and a cut-off state of the switch 69 in order to adjust the temperature of the valve body 12.

図13に示した状態から、弁体12によって開口部112を閉塞する際には、スイッチ69を遮断状態に設定した後、弁体移動装置20のエアシリンダー21によってベース部材22を上昇させる。ベース部材22の上昇に伴って、弁体12も上昇する。これにより、副コネクタ部50は副ターミナル部60から分離される。弁体12によって開口部112を閉塞する際のゲートバルブ装置90の動作は、第1の実施の形態と同様である。   When the opening 112 is closed by the valve body 12 from the state shown in FIG. 13, the base member 22 is lifted by the air cylinder 21 of the valve body moving device 20 after the switch 69 is set to the cutoff state. As the base member 22 is raised, the valve body 12 is also raised. Thereby, the sub connector part 50 is separated from the sub terminal part 60. The operation of the gate valve device 90 when closing the opening 112 with the valve body 12 is the same as that of the first embodiment.

図14に示したように、弁体12が開口部112を閉塞した時点では、スイッチ49は遮断状態になっている。従って、この時点では、ヒーター13には電力は供給されていない。   As shown in FIG. 14, when the valve body 12 closes the opening 112, the switch 49 is in a cut-off state. Therefore, at this time, no power is supplied to the heater 13.

弁体12によって開口部112が閉塞された後に、図15に示したように、スイッチ49が導通状態に設定される。これにより、電源71から電力出力端子41,42およびコネクタ31,32を経由してヒーター13に電力が供給されて、ヒーター13が発熱し、弁体12が加熱される。   After the opening 112 is closed by the valve body 12, as shown in FIG. 15, the switch 49 is set to a conductive state. As a result, power is supplied from the power source 71 to the heater 13 via the power output terminals 41 and 42 and the connectors 31 and 32, the heater 13 generates heat, and the valve body 12 is heated.

その後、チャンバー101において基板Sに対してエッチング等の所定の処理が施される。チャンバー101における処理が終了すると、弁体12によって開口部112が閉塞されている状態で、スイッチ49が遮断状態に設定されて、ヒーター13に対する電力の供給が停止される。次に、第1の実施の形態と同様に、弁体移動装置20によって弁体12を移動させて、開口部112を開放する。また、弁体12が開口部82を開放するとき、コネクタ部30はターミナル部40から分離される。弁体12が図13に示した待機位置に達すると、副コネクタ部50が副ターミナル部60に接続される。   Thereafter, a predetermined process such as etching is performed on the substrate S in the chamber 101. When the processing in the chamber 101 is completed, the switch 49 is set to a cut-off state in a state where the opening 112 is closed by the valve body 12, and the supply of power to the heater 13 is stopped. Next, as in the first embodiment, the valve body 12 is moved by the valve body moving device 20 to open the opening 112. Further, when the valve body 12 opens the opening portion 82, the connector portion 30 is separated from the terminal portion 40. When the valve body 12 reaches the standby position shown in FIG. 13, the sub connector portion 50 is connected to the sub terminal portion 60.

以上説明したように、本実施の形態に係るゲートバルブ装置90は、第1の実施の形態に係るゲートバルブ装置10の構成要素に加えて、ヒーター13に電気的に接続された副コネクタ51,52を含む副コネクタ部50と、第2の電力出力部である副電力出力端子61,62を含む副ターミナル部60とを備えている。副コネクタ51,52は、弁体12が開口部112を閉塞した状態では副電力出力端子61,62から電気的且つ物理的に乖離し、弁体12が開口部112を開放した特定の状態すなわち弁体12が待機位置にある状態では副電力出力端子61,62に対して電気的且つ物理的に接続されるように、弁体12と連動する。   As described above, the gate valve device 90 according to the present embodiment includes the sub-connector 51 electrically connected to the heater 13 in addition to the components of the gate valve device 10 according to the first embodiment. And a sub-terminal portion 60 including sub-power output terminals 61 and 62 which are second power output portions. The sub connectors 51 and 52 are electrically and physically separated from the sub power output terminals 61 and 62 in a state where the valve body 12 closes the opening 112, and a specific state in which the valve body 12 opens the opening 112, that is, In a state where the valve body 12 is in the standby position, the valve body 12 is interlocked with the sub power output terminals 61 and 62 so as to be electrically and physically connected.

本実施の形態によれば、弁体12によって開口部112を閉塞する前に、弁体12を予備加熱することができる。これにより、本実施の形態によれば、弁体12によって開口部112を閉塞した後における弁体12の加熱時間を短縮することができる。その結果、本実施の形態によれば、基板Sへの処理が開始されるまでの待ち時間を短縮することができ、その結果、プロセス全体における処理時間を短縮することができる。   According to the present embodiment, the valve body 12 can be preheated before the opening 112 is closed by the valve body 12. Thereby, according to this Embodiment, the heating time of the valve body 12 after the opening part 112 is obstruct | occluded with the valve body 12 can be shortened. As a result, according to the present embodiment, the waiting time until the processing on the substrate S is started can be shortened, and as a result, the processing time in the entire process can be shortened.

また、本実施の形態では、弁体12が待機位置にある状態から開口部112が閉塞された状態に移行する際には、スイッチ69が遮断状態に設定された後に、副コネクタ51,52が副電力出力端子61,62から乖離する。また、開口部112が閉塞された状態から弁体12が待機位置にある状態に移行する際には、副コネクタ51,52が副電力出力端子61,62に接続された後に、スイッチ69が導通状態に設定されて副電力出力端子61,62に電力が供給される。従って、本実施の形態では、副電力出力端子61,62が電源71に接続された状態で露出することはない。そのため、本実施の形態によれば、副電力出力端子61,62からのアーク放電や漏電の発生を防止することができる。   Further, in the present embodiment, when the valve body 12 is shifted from the standby position to the closed state of the opening 112, the sub-connectors 51 and 52 are set after the switch 69 is set to the cutoff state. It deviates from the sub power output terminals 61 and 62. Further, when the valve body 12 is shifted from the closed state to the standby position, the switch 69 is turned on after the sub connectors 51 and 52 are connected to the sub power output terminals 61 and 62. The state is set and power is supplied to the sub power output terminals 61 and 62. Therefore, in the present embodiment, the sub power output terminals 61 and 62 are not exposed in a state where they are connected to the power source 71. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to prevent arc discharge and leakage from the sub power output terminals 61 and 62.

また、本実施の形態では、副コネクタ部50が副ターミナル部60に接続された状態では、副電力出力端子61,62とその周辺部分との間の絶縁性を高めるために、副電力出力端子61,62の周囲に設けられたOリング65,66が、副コネクタ部50の面50ASと副ターミナル部60の面60ASとの間に挟まれる。これにより、本実施の形態によれば、より効果的に、副電力出力端子61,62からのアーク放電や漏電の発生を防止することができる。   In the present embodiment, in the state where the sub connector portion 50 is connected to the sub terminal portion 60, the sub power output terminal is used in order to improve the insulation between the sub power output terminals 61 and 62 and the peripheral portion thereof. O-rings 65 and 66 provided around 61 and 62 are sandwiched between the surface 50AS of the sub-connector portion 50 and the surface 60AS of the sub-terminal portion 60. Thereby, according to this Embodiment, generation | occurrence | production of the arc discharge from the sub-power output terminals 61 and 62 and electric leakage can be prevented more effectively.

本実施の形態におけるその他の構成、作用および効果は、第1の実施の形態と同様である。   Other configurations, operations, and effects in the present embodiment are the same as those in the first embodiment.

なお、本発明は、上記各実施の形態に限定されず、種々の変更が可能である。例えば、第3の実施の形態において、ゲートバルブ装置が筐体11の代わりに第2の実施の形態における筐体81を備え、ターミナル部40が、面81ASにおいて露出するように、壁構成部分81Aに埋め込まれて固定されていてもよい。   In addition, this invention is not limited to said each embodiment, A various change is possible. For example, in the third embodiment, the gate valve device includes the casing 81 in the second embodiment instead of the casing 11, and the wall constituting portion 81A is exposed so that the terminal portion 40 is exposed on the surface 81AS. It may be embedded and fixed in.

また、第1ないし第3の実施の形態において、コネクタ部30を、弁体12の側面12Eまたは12Fに取り付けてもよい。   In the first to third embodiments, the connector portion 30 may be attached to the side surface 12E or 12F of the valve body 12.

10,80,90…ゲートバルブ装置、11,81,111…筐体、12…弁体、13…ヒーター、19,89…Oリング、20…弁体移動装置、30…コネクタ部、40…ターミナル部、49,69…スイッチ、50…副コネクタ部、60…副ターミナル部、71…電源、82,112…開口部、100…真空処理システム、101…チャンバー、103…搬送チャンバー、S…基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,80,90 ... Gate valve apparatus 11, 81, 111 ... Housing | casing, 12 ... Valve body, 13 ... Heater, 19, 89 ... O-ring, 20 ... Valve body moving apparatus, 30 ... Connector part, 40 ... Terminal , 49, 69 ... switch, 50 ... sub-connector part, 60 ... sub-terminal part, 71 ... power source, 82, 112 ... opening, 100 ... vacuum processing system, 101 ... chamber, 103 ... transfer chamber, S ... substrate.

Claims (11)

隣接する2つの空間を仕切る壁に設けられた開口部を開閉するための弁体と、
前記弁体によって前記開口部を開閉するために弁体を移動させる弁体移動手段と、
前記弁体を加熱するためのヒーターと、
前記ヒーターに電気的に接続されていると共に、前記ヒーターに供給される電力を出力する電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続可能なコネクタとを備えたゲートバルブ装置であって、
前記弁体、ヒーターおよびコネクタは一体化され、
前記コネクタは、前記弁体が前記開口部を閉塞した状態では前記電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続され、前記弁体が前記開口部を開放した状態では前記電力出力部から電気的且つ物理的に乖離するように、前記弁体と連動することを特徴とするゲートバルブ装置。
A valve body for opening and closing an opening provided in a wall partitioning two adjacent spaces;
Valve body moving means for moving the valve body to open and close the opening by the valve body;
A heater for heating the valve body;
A gate valve device comprising a connector electrically connected to the heater and electrically and physically connectable to a power output unit that outputs power supplied to the heater,
The valve body, heater and connector are integrated,
The connector is electrically and physically connected to the power output unit when the valve body closes the opening, and is electrically connected to the power output unit when the valve body opens the opening. A gate valve device which is interlocked with the valve body so as to be physically and physically separated.
前記電力出力部は、前記壁に固定されていることを特徴とする請求項1に記載のゲートバルブ装置。   The gate valve device according to claim 1, wherein the power output unit is fixed to the wall. 更に、前記弁体、ヒーターおよびコネクタを収容する筐体を備え、前記電力出力部は、前記筐体に固定されていることを特徴とする請求項1に記載のゲートバルブ装置。   The gate valve device according to claim 1, further comprising a housing that accommodates the valve body, a heater, and a connector, wherein the power output unit is fixed to the housing. 前記筐体は、前記壁の少なくとも一部を構成する壁構成部分を有し、前記電力出力部は、前記壁構成部分に固定されていることを特徴とする請求項3に記載のゲートバルブ装置。   4. The gate valve device according to claim 3, wherein the housing includes a wall constituent part constituting at least a part of the wall, and the power output unit is fixed to the wall constituent part. . 更に、前記電力出力部に対して電力を供給するための電源と前記電力出力部との間に設けられ、前記電力出力部に対する電力の供給と遮断とを選択するスイッチを備えたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のゲートバルブ装置。   The power output unit further includes a switch that is provided between a power source for supplying power to the power output unit and the power output unit, and that selects whether power is supplied to or cut off from the power output unit. The gate valve device according to any one of claims 1 to 4. 更に、前記弁体、ヒーターおよびコネクタと一体化され、前記ヒーターに電気的に接続されていると共に、前記ヒーターに供給される電力を出力する第2の電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続可能な副コネクタを備え、
前記副コネクタは、前記弁体が前記開口部を閉塞した状態では前記第2の電力出力部から電気的且つ物理的に乖離し、前記弁体が前記開口部を開放した特定の状態では前記第2の電力出力部に対して電気的且つ物理的に接続されるように、前記弁体と連動することを特徴とする請求項1または2に記載のゲートバルブ装置。
Furthermore, it is integrated with the valve body, the heater and the connector, is electrically connected to the heater, and is electrically and physically connected to the second power output unit that outputs power supplied to the heater. A sub-connector that can be connected to
The sub-connector is electrically and physically separated from the second power output portion when the valve body closes the opening, and the sub-connector is electrically connected to the second power output portion when the valve body opens the opening. The gate valve device according to claim 1, wherein the gate valve device is interlocked with the valve body so as to be electrically and physically connected to the two power output units.
更に、前記第2の電力出力部を備えたことを特徴とする請求項6に記載のゲートバルブ装置。   The gate valve device according to claim 6, further comprising the second power output unit. 更に、前記弁体、ヒーター、コネクタおよび副コネクタを収容する筐体を備え、
前記第2の電力出力部は前記筐体に固定されていることを特徴とする請求項7に記載のゲートバルブ装置。
And a housing for accommodating the valve body, the heater, the connector, and the sub-connector,
The gate valve device according to claim 7, wherein the second power output unit is fixed to the housing.
更に、前記第2の電力出力部に対して電力を供給するための電源と前記第2の電力出力部との間に設けられ、前記第2の電力出力部に対する電力の供給と遮断とを選択するスイッチを備えたことを特徴とする請求項7または8に記載のゲートバルブ装置。   Further, provided between a power supply for supplying power to the second power output unit and the second power output unit, selection of supply and cut-off of power to the second power output unit is selected. The gate valve device according to claim 7 or 8, further comprising a switch for performing the operation. 前記弁体移動手段は、ベース部材と、前記ベース部材を前記壁の面に平行な方向に移動させる駆動手段と、前記ベース部材と前記弁体とを接続するリンク機構とを有し、前記弁体によって前記開口部を閉塞する際には、前記開口部に対向する位置まで前記弁体を前記壁の面に平行な方向に移動させ、その後、前記弁体を前記開口部に向けて前記壁の面に垂直な方向に移動させ、前記弁体が前記開口部を開放する際には、前記弁体に、前記開口部を閉塞する際とは逆の動作を行わせることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載のゲートバルブ装置。   The valve body moving means includes a base member, drive means for moving the base member in a direction parallel to the surface of the wall, and a link mechanism that connects the base member and the valve body. When the opening is closed by a body, the valve body is moved in a direction parallel to the surface of the wall to a position facing the opening, and then the valve body is directed toward the opening. When the valve body opens the opening, the valve body is caused to perform an operation opposite to that when the opening is closed. Item 10. The gate valve device according to any one of Items 1 to 9. 前記2つの空間の一方は、基板を真空条件下で処理するための真空チャンバーの内部であることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載のゲートバルブ装置。   11. The gate valve device according to claim 1, wherein one of the two spaces is inside a vacuum chamber for processing a substrate under a vacuum condition.
JP2009077968A 2009-03-27 2009-03-27 Gate valve device Expired - Fee Related JP5342295B2 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009077968A JP5342295B2 (en) 2009-03-27 2009-03-27 Gate valve device
CN2010101199086A CN101846215B (en) 2009-03-27 2010-02-22 Gate valve device
KR1020100023113A KR101215578B1 (en) 2009-03-27 2010-03-16 Gate valve device
TW99109000A TW201104115A (en) 2009-03-27 2010-03-26 Gate valve device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009077968A JP5342295B2 (en) 2009-03-27 2009-03-27 Gate valve device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010230076A true JP2010230076A (en) 2010-10-14
JP5342295B2 JP5342295B2 (en) 2013-11-13

Family

ID=42770942

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009077968A Expired - Fee Related JP5342295B2 (en) 2009-03-27 2009-03-27 Gate valve device

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5342295B2 (en)
KR (1) KR101215578B1 (en)
CN (1) CN101846215B (en)
TW (1) TW201104115A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015081633A (en) * 2013-10-22 2015-04-27 東京エレクトロン株式会社 Gate valve device and plasma processing device

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101313849B1 (en) * 2013-03-13 2013-10-01 주식회사 엠에스티엔지니어링 Vacuum isolation valve and method for controlling a pipe using the same
CN104421437B (en) * 2013-08-20 2017-10-17 中微半导体设备(上海)有限公司 Movable valve, portable shielding door and vacuum flush system
JP6219229B2 (en) * 2014-05-19 2017-10-25 東京エレクトロン株式会社 Heater feeding mechanism
KR101738598B1 (en) * 2015-07-31 2017-05-22 프리시스 주식회사 Bidirectional drive gate valve
KR101872881B1 (en) * 2016-10-25 2018-06-29 프리시스 주식회사 Gate valve blade
CN107294032B (en) * 2017-08-02 2023-02-21 德州智能电气设备有限公司 Hand-operated jack box
CN110043711B (en) * 2019-02-26 2020-10-20 日扬电子科技(上海)有限公司 Heating gate valve
CN113339559B (en) * 2021-04-23 2022-09-30 宁波雪路登智能科技有限公司 Propeller type air volume balance valve with damping function

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57187967U (en) * 1981-05-27 1982-11-29
JPS6359511A (en) * 1986-08-29 1988-03-15 Mitsubishi Electric Corp Resin molding equipment
JPS63127734U (en) * 1987-02-13 1988-08-22
JPH0372000U (en) * 1989-11-01 1991-07-19
JPH09131301A (en) * 1995-11-09 1997-05-20 Asahi Optical Co Ltd Cart for endoscope system
JPH10132095A (en) * 1996-10-29 1998-05-22 Benkan Corp Heater for heating gate valve body
JPH10235559A (en) * 1997-02-26 1998-09-08 Disco Abrasive Syst Ltd Grinding device
JPH11325313A (en) * 1996-01-31 1999-11-26 Benkan Corp Non-sliding gate valve for semiconductor manufacturing equipment
JP2000145997A (en) * 1998-11-17 2000-05-26 Sumitomo Heavy Ind Ltd Safety valve heating device
JP2001004505A (en) * 1999-06-22 2001-01-12 Sumitomo Metal Ind Ltd Gate valve, sample treatment device equipped therewith and sample treatment method
JP2004008361A (en) * 2002-06-05 2004-01-15 Miku Planning:Kk Traveling type food and drink serving apparatus
JP2005249025A (en) * 2004-03-03 2005-09-15 Yaskawa Electric Corp Gate valve coated with photocatalyst

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4368045B2 (en) * 2000-07-27 2009-11-18 新明和工業株式会社 Vacuum gate valve
JP4107376B2 (en) * 2002-06-20 2008-06-25 株式会社オーバ Adhesive member for toilet seat cover
JP2005265149A (en) 2004-03-22 2005-09-29 Toshiba Ceramics Co Ltd Ceramic gate valve
JP2006222242A (en) * 2005-02-10 2006-08-24 Tokyo Electron Ltd Equipment and method for producing semiconductor

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57187967U (en) * 1981-05-27 1982-11-29
JPS6359511A (en) * 1986-08-29 1988-03-15 Mitsubishi Electric Corp Resin molding equipment
JPS63127734U (en) * 1987-02-13 1988-08-22
JPH0372000U (en) * 1989-11-01 1991-07-19
JPH09131301A (en) * 1995-11-09 1997-05-20 Asahi Optical Co Ltd Cart for endoscope system
JPH11325313A (en) * 1996-01-31 1999-11-26 Benkan Corp Non-sliding gate valve for semiconductor manufacturing equipment
JPH10132095A (en) * 1996-10-29 1998-05-22 Benkan Corp Heater for heating gate valve body
JPH10235559A (en) * 1997-02-26 1998-09-08 Disco Abrasive Syst Ltd Grinding device
JP2000145997A (en) * 1998-11-17 2000-05-26 Sumitomo Heavy Ind Ltd Safety valve heating device
JP2001004505A (en) * 1999-06-22 2001-01-12 Sumitomo Metal Ind Ltd Gate valve, sample treatment device equipped therewith and sample treatment method
JP2004008361A (en) * 2002-06-05 2004-01-15 Miku Planning:Kk Traveling type food and drink serving apparatus
JP2005249025A (en) * 2004-03-03 2005-09-15 Yaskawa Electric Corp Gate valve coated with photocatalyst

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015081633A (en) * 2013-10-22 2015-04-27 東京エレクトロン株式会社 Gate valve device and plasma processing device

Also Published As

Publication number Publication date
JP5342295B2 (en) 2013-11-13
KR20100108216A (en) 2010-10-06
CN101846215A (en) 2010-09-29
TW201104115A (en) 2011-02-01
CN101846215B (en) 2012-08-22
KR101215578B1 (en) 2012-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5342295B2 (en) Gate valve device
JP6812264B2 (en) Vacuum processing equipment and maintenance equipment
US8590902B2 (en) Seal member, depressurized chamber, depressurizing processing apparatus, seal mechanism of depressurized chamber, and method of manufacturing a depressurized chamber
JP2018037559A (en) Substrate processing method and substrate processing system
JP4849825B2 (en) Processing apparatus, alignment method, control program, and computer storage medium
JP2008135517A (en) Controller and controlling method of substrate processor, and storage medium storing control program
JP5003315B2 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, and storage medium
JP2010118385A (en) Closed container and lid opening/closing system therefor
JP2011187615A (en) Treatment substrate storage pod and lid opening/closing system of the same
TWI521593B (en) Processing device and its maintenance method
JP2008041896A (en) Substrate sensing mechanism, and substrate processor using same
JP2009087972A (en) Substrate-storing structure and semiconductor manufacturing apparatus
TW201520370A (en) Gas processing apparatus
KR20180006473A (en) Gate valve apparatus and plasma processing apparatus
KR20210059693A (en) Load port apparatus and method of driving the same
JP2007208235A (en) Substrate transfer device and substrate holding body
JP5571122B2 (en) Substrate processing apparatus and method for controlling substrate processing apparatus
JP2007309382A (en) Decompression vessel, decompression treatment device, and decompression vessel manufacturing method
JPH08172034A (en) Vacuum process device
CN108878245B (en) Gate valve device and substrate processing system
JP2008235800A (en) Load-lock device and processing system for substrate
JP2000091328A (en) Plasma-etching device and liquid crystal display device
TW201543599A (en) Vertical heat treatment apparatus
KR102139613B1 (en) Apparatus for transfer a substrate and apparatus for treating a substrate
KR20150108657A (en) Apparatus of treating substrate, method of operating the same, and method of manufacturing substrate using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120210

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121225

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130130

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130723

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130809

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5342295

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees