JP2010212677A - 薄膜トランジスタの作製方法及び表示装置の作製方法 - Google Patents
薄膜トランジスタの作製方法及び表示装置の作製方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010212677A JP2010212677A JP2010030141A JP2010030141A JP2010212677A JP 2010212677 A JP2010212677 A JP 2010212677A JP 2010030141 A JP2010030141 A JP 2010030141A JP 2010030141 A JP2010030141 A JP 2010030141A JP 2010212677 A JP2010212677 A JP 2010212677A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- etching
- resist mask
- conductive film
- electrode layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 183
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 125
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 757
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 251
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 226
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 184
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 76
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims description 20
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 claims description 15
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 12
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 12
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 38
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 409
- 239000000463 material Substances 0.000 description 89
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 79
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 50
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 42
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 37
- 230000008569 process Effects 0.000 description 35
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 30
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 29
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 25
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 15
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 11
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 11
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 230000006870 function Effects 0.000 description 11
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 11
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 10
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 9
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 9
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 8
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 8
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 7
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 7
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005236 sound signal Effects 0.000 description 6
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 5
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 5
- -1 MgAg Inorganic materials 0.000 description 4
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 4
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 238000005499 laser crystallization Methods 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- OFIYHXOOOISSDN-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegallium Chemical compound [Te]=[Ga] OFIYHXOOOISSDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N trifluorochlorine Chemical compound FCl(F)F JOHWNGGYGAVMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019974 CrSi Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016006 MoSi Inorganic materials 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N arsane Chemical compound [AsH3] RBFQJDQYXXHULB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021563 chromium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000008155 medical solution Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K trifluorochromium Chemical compound F[Cr](F)F FTBATIJJKIIOTP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
- H01L27/1259—Multistep manufacturing methods
- H01L27/1288—Multistep manufacturing methods employing particular masking sequences or specially adapted masks, e.g. half-tone mask
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、第2の導電膜上に第1のレジストマスクを形成し、第1のレジストマスクを用いて、第2の導電膜、不純物半導体膜、半導体膜、第1の絶縁膜、第1の導電膜、下地膜及び遮光膜に第1のエッチングを行い、第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、第2の導電膜上に第2のレジストマスクを形成し、第2のレジストマスクを用いて、第2の導電膜、不純物半導体膜及び半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することで薄膜トランジスタを作製する。
【選択図】図1
Description
本実施の形態では、薄膜トランジスタの作製方法及び該薄膜トランジスタがマトリクス状に配置された表示装置の作製方法の一例について、図1乃至図26を参照して説明する。
本実施の形態では、本発明の一態様である薄膜トランジスタの作製方法及び表示装置の作製方法であって、実施の形態1とは異なるものについて、図26乃至図31を参照して説明する。具体的には、多階調マスクを用いて、実施の形態1と同様に薄膜トランジスタを作製する。
本実施の形態では、薄膜トランジスタ及び該薄膜トランジスタがマトリクス状に配置されたEL表示装置を作製する方法の一例について、図32乃至図42を参照して説明する。
本実施の形態は、実施の形態1乃至実施の形態3にて説明した方法により作製した表示パネルまたは表示装置を表示部として組み込んだ電子機器について図43乃至図45を参照して説明する。このような電子機器としては、例えば、ビデオカメラ若しくはデジタルカメラなどのカメラ、ヘッドマウントディスプレイ(ゴーグル型ディスプレイ)、カーナビゲーション、プロジェクタ、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍など)が挙げられる。それらの一例を図43に示す。
51 更なる下地膜
52 遮光膜
53 下地膜
54 遮光層
55 下地層
102 第1の導電膜
104 第1の絶縁膜
106 半導体膜
108 不純物半導体膜
110 第2の導電膜
112 第1のレジストマスク
114 薄膜積層体
116 ゲート電極層
116A ゲート電極層
116B ゲート電極層
116C ゲート電極層
116D ゲート電極層
118 第2のレジストマスク
118A 第2のレジストマスク
118B 第2のレジストマスク
118C 第2のレジストマスク
118D 第2のレジストマスク
120 ソース電極及びドレイン電極層
120A ソース電極及びドレイン電極層
120B ソース電極及びドレイン電極層
120C ソース電極及びドレイン電極層
120D ソース電極及びドレイン電極層
122 ソース領域及びドレイン領域
122A ソース領域及びドレイン領域
122B ソース領域及びドレイン領域
122C ソース領域及びドレイン領域
122D ソース領域及びドレイン領域
124 半導体層
126 第1の保護膜
128 第2の保護膜
130 第1の開口部
131 第2の開口部
132 画素電極層
140 グレートーンマスク
141 基板
142 遮光部
143 回折格子部
145 ハーフトーンマスク
146 基板
147 半透光部
148 遮光部
151 角
160A 第3の開口部
160B 第3の開口部
161 第4の開口部
170 第1のレジストマスク
171 第2のレジストマスク
171A 第2のレジストマスク
171B 第2のレジストマスク
171C 第2のレジストマスク
171D 第2のレジストマスク
180 画素
181 第1のトランジスタ
182 第2のトランジスタ
183 第3のトランジスタ
184 容量素子
185 発光素子
186 ゲート配線
187 第1の電源線
188 ソース配線
189 第2の電源線
190 共通電極
191 更なる下地膜
192 遮光膜
193 下地膜
194 遮光層
195 下地層
200 基板
202 第1の導電膜
204 第1の絶縁膜
206 半導体膜
208 不純物半導体膜
210 第2の導電膜
212 第1のレジストマスク
214 薄膜積層体
216 ゲート電極層
216A ゲート電極層
216B ゲート電極層
216C ゲート電極層
216D ゲート電極層
218 第2のレジストマスク
218A 第2のレジストマスク
218B 第2のレジストマスク
218C 第2のレジストマスク
218D 第2のレジストマスク
218E 第2のレジストマスク
218F 第2のレジストマスク
220 ソース電極及びドレイン電極層
220A ソース電極及びドレイン電極層
220B ソース電極及びドレイン電極層
220C ソース電極及びドレイン電極層
220D ソース電極及びドレイン電極層
220E ソース電極及びドレイン電極層
220F ソース電極及びドレイン電極層
222 ソース領域及びドレイン領域
222A ソース領域及びドレイン領域
222B ソース領域及びドレイン領域
222C ソース領域及びドレイン領域
222D ソース領域及びドレイン領域
224 半導体層
226 第1の保護膜
228 第2の保護膜
230 第1の開口部
230A 第1の開口部
230B 第1の開口部
230C 第1の開口部
230D 第1の開口部
231 第2の開口部
232 第1の画素電極層
232A 第1の画素電極層
232B 第1の画素電極層
232C 第1の画素電極層
233 隔壁
234 EL層
235 第2の画素電極層
236 発光素子
237 第3の保護膜
301 筐体
302 筐体
303 表示部
304 スピーカ
305 マイクロフォン
306 操作キー
307 ポインティングデバイス
308 表面カメラ用レンズ
309 外部接続端子ジャック
310 イヤホン端子
311 キーボード
312 外部メモリスロット
313 裏面カメラ
314 ライト
321 筐体
322 表示用パネル
323 主画面
324 モデム
325 受信機
326 リモコン操作機
327 表示部
328 サブ画面
329 スピーカ部
331 本体
332 表示部
351 画素部
352 信号線駆動回路
353 走査線駆動回路
354 チューナ
355 映像信号増幅回路
356 映像信号処理回路
357 コントロール回路
358 信号分割回路
359 音声信号増幅回路
360 音声信号処理回路
361 制御回路
362 入力部
363 スピーカ
Claims (17)
- 遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、
前記第2の導電膜上に第1のレジストマスクを形成し、
前記第1のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜、前記半導体膜、前記第1の絶縁膜、前記第1の導電膜、前記下地膜及び前記遮光膜に第1のエッチングを行い、
前記第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、
前記第2の導電膜上に第2のレジストマスクを形成し、
前記第2のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜及び前記半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、
前記第2の導電膜上に第1のレジストマスクを形成し、
前記第1のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜、前記半導体膜、前記第1の絶縁膜、前記第1の導電膜、前記下地膜及び前記遮光膜に第1のエッチングを行い、
前記第2の導電膜上に第2のレジストマスクを形成し、
前記第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、
前記第2のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜及び前記半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、
前記第2の導電膜上に凹部を有する第1のレジストマスクを形成し、
前記第1のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜、前記半導体膜、前記第1の絶縁膜、前記第1の導電膜、前記下地膜及び前記遮光膜に第1のエッチングを行い、
前記第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、
前記第1のレジストマスクを縮小させることで前記第1のレジストマスクの凹部と重畳する前記第2の導電膜を露出させつつ第2のレジストマスクを形成し、
前記第2のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜及び前記半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、
前記第2の導電膜上に凹部を有する第1のレジストマスクを形成し、
前記第1のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜、前記半導体膜、前記第1の絶縁膜、前記第1の導電膜、前記下地膜及び前記遮光膜に第1のエッチングを行い、
前記第1のレジストマスクを縮小させることで前記第1のレジストマスクの凹部と重畳する前記第2の導電膜を露出させつつ第2のレジストマスクを形成し、
前記第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、
前記第2のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜及び前記半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 請求項3または請求項4において、
前記第1のレジストマスクは多階調マスクを用いて形成することを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 請求項1乃至請求項5のいずれか一において、
前記遮光膜は絶縁膜上に形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 請求項1乃至請求項6のいずれか一において、
前記第1のエッチングによって素子領域を形成し、
前記第2のエッチングによって前記素子領域の側面から概ね等しい距離だけ内側にゲート電極層の側面を形成することを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか一において、
前記第1のエッチングはドライエッチングであり、前記第2のエッチングはウエットエッチングであることを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、
前記第2の導電膜上に第1のレジストマスクを形成し、
前記第1のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜、前記半導体膜、前記第1の絶縁膜、前記第1の導電膜、前記下地膜及び前記遮光膜に第1のエッチングを行い、
前記第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、
前記第2の導電膜上に第2のレジストマスクを形成し、
前記第2のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜及び前記半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することで薄膜トランジスタを形成し、
前記第2のレジストマスクを除去し、
前記薄膜トランジスタを覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記ソース電極及びドレイン電極層の一部を露出するように前記第2の絶縁膜に開口部を形成し、
前記開口部及び前記第2の絶縁膜上に画素電極を選択的に形成することを特徴とする表示装置の作製方法。 - 遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、
前記第2の導電膜上に第1のレジストマスクを形成し、
前記第1のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜、前記半導体膜、前記第1の絶縁膜、前記第1の導電膜、前記下地膜及び前記遮光膜に第1のエッチングを行い、
前記第2の導電膜上に第2のレジストマスクを形成し、
前記第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、
前記第2のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜及び前記半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することで薄膜トランジスタを形成し、
前記第2のレジストマスクを除去し、
前記薄膜トランジスタを覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記ソース電極及びドレイン電極層の一部を露出するように前記第2の絶縁膜に開口部を形成し、
前記開口部及び前記第2の絶縁膜上に画素電極を選択的に形成することを特徴とする表示装置の作製方法。 - 遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、
前記第2の導電膜上に凹部を有する第1のレジストマスクを形成し、
前記第1のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜、前記半導体膜、前記第1の絶縁膜、前記第1の導電膜、前記下地膜及び前記遮光膜に第1のエッチングを行い、
前記第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、
前記第1のレジストマスクを縮小させることで前記第1のレジストマスクの凹部と重畳する前記第2の導電膜を露出させつつ第2のレジストマスクを形成し、
前記第2のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜及び前記半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することで薄膜トランジスタを形成し、
前記第2のレジストマスクを除去し、
前記薄膜トランジスタを覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記ソース電極及びドレイン電極層の一部を露出するように前記第2の絶縁膜に開口部を形成し、
前記開口部及び前記第2の絶縁膜上に画素電極を選択的に形成することを特徴とする表示装置の作製方法。 - 遮光膜、下地膜、第1の導電膜、第1の絶縁膜、半導体膜、不純物半導体膜及び第2の導電膜を順に積層して形成し、
前記第2の導電膜上に凹部を有する第1のレジストマスクを形成し、
前記第1のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜、前記半導体膜、前記第1の絶縁膜、前記第1の導電膜、前記下地膜及び前記遮光膜に第1のエッチングを行い、
前記第1のレジストマスクを縮小させることで前記第1のレジストマスクの凹部と重畳する前記第2の導電膜を露出させつつ第2のレジストマスクを形成し、
前記第1の導電膜の一部にサイドエッチングを伴う第2のエッチングを行ってゲート電極層を形成し、
前記第2のレジストマスクを用いて、前記第2の導電膜、前記不純物半導体膜及び前記半導体膜の一部に第3のエッチングを行ってソース電極及びドレイン電極層、ソース領域及びドレイン領域並びに半導体層を形成することで薄膜トランジスタを形成し、
前記第2のレジストマスクを除去し、
前記薄膜トランジスタを覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記ソース電極及びドレイン電極層の一部を露出するように前記第2の絶縁膜に開口部を形成し、
前記開口部及び前記第2の絶縁膜上に画素電極を選択的に形成することを特徴とする表示装置の作製方法。 - 請求項11または請求項12において、
前記第1のレジストマスクは多階調マスクを用いて形成することを特徴とする表示装置の作製方法。 - 請求項9乃至請求項13のいずれか一において、
前記遮光膜は絶縁膜上に形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタの作製方法。 - 請求項9乃至請求項14のいずれか一において、
前記第1のエッチングによって素子領域を形成し、
前記第2のエッチングによって前記素子領域の側面から概ね等しい距離だけ内側にゲート電極層の側面を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。 - 請求項9乃至請求項15のいずれか一において、
前記第1のエッチングはドライエッチングであり、前記第2のエッチングはウエットエッチングであることを特徴とする表示装置の作製方法。 - 請求項9乃至請求項16のいずれか一において、
前記第2の絶縁膜は、CVD法またはスパッタリング法により形成した絶縁膜と、スピンコート法により形成した絶縁膜と、を積層して形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010030141A JP5564281B2 (ja) | 2009-02-16 | 2010-02-15 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009032939 | 2009-02-16 | ||
JP2009032939 | 2009-02-16 | ||
JP2010030141A JP5564281B2 (ja) | 2009-02-16 | 2010-02-15 | 半導体装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014122007A Division JP5997725B2 (ja) | 2009-02-16 | 2014-06-13 | 表示装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010212677A true JP2010212677A (ja) | 2010-09-24 |
JP2010212677A5 JP2010212677A5 (ja) | 2013-01-24 |
JP5564281B2 JP5564281B2 (ja) | 2014-07-30 |
Family
ID=42560289
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010030141A Expired - Fee Related JP5564281B2 (ja) | 2009-02-16 | 2010-02-15 | 半導体装置 |
JP2014122007A Expired - Fee Related JP5997725B2 (ja) | 2009-02-16 | 2014-06-13 | 表示装置 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014122007A Expired - Fee Related JP5997725B2 (ja) | 2009-02-16 | 2014-06-13 | 表示装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7989234B2 (ja) |
JP (2) | JP5564281B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8207026B2 (en) * | 2009-01-28 | 2012-06-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of thin film transistor and manufacturing method of display device |
US7989234B2 (en) * | 2009-02-16 | 2011-08-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing thin film transistor and method for manufacturing display device |
JP5539765B2 (ja) * | 2009-03-26 | 2014-07-02 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | トランジスタの作製方法 |
KR102067669B1 (ko) | 2012-11-06 | 2020-01-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
KR20170106607A (ko) * | 2016-03-11 | 2017-09-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61225869A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-07 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 薄膜トランジスタ装置とその製造方法 |
JPH03271720A (ja) * | 1990-03-22 | 1991-12-03 | Sanyo Electric Co Ltd | アクティブマトリクス型表示装置の薄膜トランジスタアレイの製造方法 |
WO2008099528A1 (ja) * | 2007-02-13 | 2008-08-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示装置、表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56122123A (en) * | 1980-03-03 | 1981-09-25 | Shunpei Yamazaki | Semiamorphous semiconductor |
JPS6484669A (en) | 1987-09-26 | 1989-03-29 | Casio Computer Co Ltd | Thin film transistor |
JPH0311744A (ja) | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Citizen Watch Co Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JPH03161938A (ja) | 1989-11-20 | 1991-07-11 | Seiko Instr Inc | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JPH05142570A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-11 | Sharp Corp | アクテイブマトリクス基板 |
EP1338914A3 (en) * | 1995-11-21 | 2003-11-19 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method for manufacturing liquid crystal display |
US6493048B1 (en) * | 1998-10-21 | 2002-12-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Thin film transistor array panel for a liquid crystal display and a method for manufacturing the same |
KR100325079B1 (ko) * | 1999-12-22 | 2002-03-02 | 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 | 고개구율 및 고투과율 액정표시장치의 제조방법 |
KR100494683B1 (ko) * | 2000-05-31 | 2005-06-13 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 4-마스크를 이용한 박막 트랜지스터 액정표시장치의제조시에 사용하는 할프톤 노광 공정용 포토 마스크 |
US7223643B2 (en) * | 2000-08-11 | 2007-05-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of manufacturing a semiconductor device |
TW488080B (en) * | 2001-06-08 | 2002-05-21 | Au Optronics Corp | Method for producing thin film transistor |
JP2003179069A (ja) | 2001-12-12 | 2003-06-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜トランジスタ、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子、ならびに表示装置用基板およびその製造方法 |
KR101201017B1 (ko) * | 2005-06-27 | 2012-11-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
KR101225440B1 (ko) * | 2005-06-30 | 2013-01-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
US8149346B2 (en) * | 2005-10-14 | 2012-04-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and manufacturing method thereof |
JP5105811B2 (ja) | 2005-10-14 | 2012-12-26 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
CN102331639A (zh) * | 2005-12-05 | 2012-01-25 | 株式会社半导体能源研究所 | 液晶显示器 |
EP1793266B1 (en) * | 2005-12-05 | 2017-03-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Transflective Liquid Crystal Display with a Horizontal Electric Field Configuration |
TWI322288B (en) * | 2006-03-07 | 2010-03-21 | Au Optronics Corp | Manufacture method of pixel array substrate |
WO2009072451A1 (en) * | 2007-12-03 | 2009-06-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of thin film transistor and manufacturing method of display device |
US8035107B2 (en) * | 2008-02-26 | 2011-10-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing display device |
CN101939694B (zh) * | 2008-02-27 | 2014-01-29 | 株式会社半导体能源研究所 | 液晶显示器件及其制造方法以及电子装置 |
US8101442B2 (en) * | 2008-03-05 | 2012-01-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing EL display device |
US7749820B2 (en) * | 2008-03-07 | 2010-07-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin film transistor, manufacturing method thereof, display device, and manufacturing method thereof |
US7989275B2 (en) * | 2008-03-10 | 2011-08-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin film transistor, manufacturing method thereof, display device, and manufacturing method thereof |
US7883943B2 (en) * | 2008-03-11 | 2011-02-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing thin film transistor and method for manufacturing display device |
US7985605B2 (en) * | 2008-04-17 | 2011-07-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device and manufacturing method thereof |
US7790483B2 (en) * | 2008-06-17 | 2010-09-07 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thin film transistor and manufacturing method thereof, and display device and manufacturing method thereof |
US8207026B2 (en) | 2009-01-28 | 2012-06-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of thin film transistor and manufacturing method of display device |
JP5503995B2 (ja) | 2009-02-13 | 2014-05-28 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
US7989234B2 (en) * | 2009-02-16 | 2011-08-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing thin film transistor and method for manufacturing display device |
-
2010
- 2010-01-28 US US12/695,802 patent/US7989234B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-15 JP JP2010030141A patent/JP5564281B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-07-05 US US13/175,990 patent/US8709836B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-06-13 JP JP2014122007A patent/JP5997725B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61225869A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-07 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 薄膜トランジスタ装置とその製造方法 |
JPH03271720A (ja) * | 1990-03-22 | 1991-12-03 | Sanyo Electric Co Ltd | アクティブマトリクス型表示装置の薄膜トランジスタアレイの製造方法 |
WO2008099528A1 (ja) * | 2007-02-13 | 2008-08-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示装置、表示装置の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20100210057A1 (en) | 2010-08-19 |
US20110263060A1 (en) | 2011-10-27 |
JP5564281B2 (ja) | 2014-07-30 |
US8709836B2 (en) | 2014-04-29 |
JP5997725B2 (ja) | 2016-09-28 |
JP2014238580A (ja) | 2014-12-18 |
US7989234B2 (en) | 2011-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5383256B2 (ja) | 薄膜トランジスタ及びその作製方法、並びに表示装置及びその作製方法 | |
JP6666986B2 (ja) | 表示装置 | |
JP5396165B2 (ja) | 薄膜トランジスタの作製方法及び表示装置の作製方法 | |
JP5371487B2 (ja) | 薄膜トランジスタ及びその作製方法、並びに表示装置及びその作製方法 | |
JP5530111B2 (ja) | 薄膜トランジスタの作製方法 | |
JP5523853B2 (ja) | 薄膜トランジスタの作製方法及び表示装置の作製方法 | |
JP5997725B2 (ja) | 表示装置 | |
JP5460096B2 (ja) | 表示装置の作製方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121129 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140304 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140319 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140610 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140616 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5564281 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |