JP2010212563A - レーザ発振装置およびレーザ加工機 - Google Patents

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Tetsuji Nishimura
哲二 西村
Takayuki Yamashita
隆之 山下
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Abstract

【課題】従来のレーザ発振装置のメカニカルシャッタは繰り返し精度の問題でレーザ光がアブソーバにずれて入射する問題があった。
【解決手段】レーザ光66を射出するレーザ発振装置65のレーザ光の光路上に出入りする反射鏡2と、反射鏡2によるレーザ光の反射光路上に配置した凹状のレーザ光受けを有するアブソーバ9を備え、反射鏡2を反射光路の軸線上に移動させる駆動装置5を設け、駆動装置5により反射鏡2によるレーザ光の反射位置に反射鏡2を位置させたときに、反射光路がアブソーバ9の凹状部分の中心からレーザ光のビーム径以上ずれた位置となる位置関係とした。
【選択図】図1

Description

本発明は、レーザ光をアブソーバに反射する反射鏡を備えたレーザ発振装置及びレーザ加工機に関するものである。
レーザ光を射出するレーザ発振装置には、安全のためにレーザ発振装置で発振したレーザ光をレーザ加工やレーザ溶接など熱源の必要な時以外には外部へ照射させないメカニカルシャッタなどの保護装置を設けている(例えば、特許文献1参照)。
このような従来のメカニカルシャッタの概略構成の一例を図6、図7に示す。以下、図6、図7を参照しながら従来のメカニカルシャッタを説明する。
この図6に於いて、41はレーザ光を反射させるほぼ全反射の反射鏡であり、メカニカルシャッタは、反射鏡41を保持するミラーブロック42、ミラーブロック42を開閉させる電磁ソレノイドなどの駆動装置43、反射鏡41により反射したレーザ光を吸収させるためにドータイトなどの高吸収剤を塗布したアブソーバ内筒45とアブソーバ外筒46で構成されたアブソーバ44、ミラーブロック42とアブソーバ44を冷却するための冷却水流路47、ミラーブロック42の開閉検出のためのリミットスイッチ48、49、各機器をとりつけるベース51、カバー52を備えており、このメカニカルシャッタの駆動装置43の要部を示す図7において、駆動装置43は、リミットスイッチ48,49に信号を送るセンサドグ50、駆動装置43の回転軸53と鉛直方向にミラーブロック42を連結するテーパピン54を備えている。
以上が従来のメカニカルシャッタの構成であり、次にその動作について説明する。
レーザ発振装置より発振したレーザ光はカバー52の穴を通過しミラーブロック42に装着された反射鏡41で反射されアブソーバ内筒45の円錐形状部へ達し、一部は多段反射を繰り返してレーザ光は吸収される。この状態からレーザ加工やレーザ溶接のためにレーザ光をメカニカルシャッタ外へ照射させるときは駆動装置43に電力が供給されミラーブロック42が回転する。ミラーブロック42の回転と供にセンザドグ50も回転しリミットスイッチ48の光電部を遮光してメカニカルシャッタ“開”の位置検出を行う。逆に外部への射光をやめ元に戻す際には駆動装置43に電力供給がなくなり、ミラーブロック42の自重にて反射鏡41は落下し元の状態に戻る。このときセンサドグ50も元に戻りリミットスイッチ49の光電部を遮光してメカニカルシャッタ“閉”の位置検出を行う。またアブソーバ44とミラーブロック42へは常時冷却水が循環しており部品の焼損を阻止している。
特開昭60−240392号公報
この様な従来のメカニカルシャッタは、回転軸53に連結されたミラーブロック42の繰り返し位置再現性が、駆動装置本体の精度に直接影響し、電磁ソレノイドなどの駆動装置においては繰り返し精度が±1度ほど変化するために、この角度ずれによって反射鏡41で反射されたレーザ光がアブソーバ44にずれて入射するために、センターあわせなどの位置調整の必要や一部多段反射をせずに反射光として反射されベース51やカバー52などを加熱するなどの問題があった。
本発明は前述のごとき問題を鑑みてなされたもので、高繰り返し位置精度が得られるメカニカルシャッタを備えたレーザ発振装置およびレーザ加工機を提供するものである。
上記問題点を解決するために本発明は、レーザ光を射出するレーザ発振装置の前記レーザ光の光路上に出入りする反射鏡と、前記反射鏡によるレーザ光の反射光路上に配置した凹状のレーザ光受けを有するアブソーバを備え、前記反射鏡を前記反射光路の軸線上に移動させる駆動装置を設け、前記駆動装置により前記反射鏡によるレーザ光の反射位置に前記反射鏡を位置させたときに、前記反射光路が前記アブソーバの凹状部分の中心から前記レーザ光のビーム径以上ずれた位置となる位置関係としたものである。
この構成により、反射鏡が反射光路上を移動し、反射鏡によるレーザ光の反射位置に反射鏡を位置させたときに、反射光路がアブソーバの凹状部分の中心からレーザ光のビーム径以上ずれた位置へスライドするので、アブソーバに対するレーザ光との反射角度を保つことができ、繰り返し精度よくアブソーバでレーザ光を吸収することができる。
本発明により、高繰り返し位置精度が得られ大出力レーザ光にも対応できるレーザ発振装置を提供することが出来る。
以下に本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
図1は、本実施の形態1におけるレーザ加工機の構成図を示している。
図に示すレーザ加工機は、加工ワーク61を乗せる加工テーブル62と、加工テーブル62の移動またはレーザ光を集光する集光手段67の少なくとも一方を移動する位置決め手段63と、前記位置決め手段63を制御する数値制御手段64と、レーザ発振装置65と、レーザ光路66とにより構成されている。
レーザ発振装置65より出射されたレーザ光は、折返し鏡などで構成されたレーザ光路66で伝送され集光手段67により集光されて、加工ワーク61に照射され、加工が開始される。それと同時に数値制御手段64により位置決め手段63に指令が出力され、加工テーブル62または集光手段67の少なくとも一方を動作させて加工ワーク61を加工される。
本実施の形態は、このレーザ加工機のレーザ発振装置65に用いたメカニカルシャッタ65aの構造として、以下の実施の形態2、3、4に述べるように、反射鏡を反射光路の軸線上に移動させる駆動装置を設け、駆動装置により反射鏡によるレーザ光の反射位置に反射鏡を位置させたときに、反射光路がアブソーバの凹状部分の中心からレーザ光のビーム径以上ずれた位置となる位置関係としたことを特徴とするものである。
この構成により、反射鏡が反射光路上を移動し、反射鏡によるレーザ光の反射位置に反射鏡を位置させたときに、反射光路がアブソーバの凹状部分の中心からレーザ光のビーム径以上ずれた位置へスライドするので、アブソーバに対するレーザ光との反射角度を保つことができ、繰り返し精度よくアブソーバでレーザ光を吸収することができる。
(実施の形態2)
図2は本実施の形態2の前述したメカニカルシャッタ65aの概略構成を示す構成図で、(b)はレーザ光の光路方向に見た正面図、(a)は反射光路で破断した側面図、図3はそのメカニカルシャッタ65aの駆動装置の概略構成を示す図で、(b)はレーザ光の光路方向に見た正面図、(a)は反射光路で破断した側面図である。
なお、本実施の形態2において実施の形態1と同様な構成については図1と同じ符号を付し、その説明を省略する。
図2に示すように本実施の形態のメカニカルシャッタ65aは、レーザ発振装置65から放出されるレーザ光66の光軸上1に反射鏡2が配置されている。前記反射鏡2はミラーブロック3に固定されており、前記ミラーブロック3はリニアガイド4に固定され駆動装置5の回転機構を直線運動に変えている。
このミラーブロック3の反射鏡2により反射したレーザ光の反射光路上にはドータイトなどの高吸収剤を塗布した凹形状のアブソーバ内筒10とアブソーバ外筒11で構成されているアブソーバ9を配置しており、詳しくは前記反射鏡2により反射されたレーザ光の反射光路がアブソーバ内筒10の凹状部分の中心からレーザ光のビーム径以上ずれた図中Aの位置となるように配置されている。
なお、反射鏡2により反射したレーザ光の反射光路とは反対方向側にガイド光発生装置7を配置して、後述するガイド光反射鏡8でガイド光をレーザ発振装置65から射出し、レーザ光の光路と合致するようにガイド光発生装置7とガイド光反射鏡8の位置を決めている。
また、前記ミラーブロック3とアブソーバ9は冷却水流路12で冷却するように構成している。
そして、ミラーブロック3の開閉検出のためのリミットスイッチ13、14と、前記リミットスイッチ13、14に信号を送るセンサドグ15を設けており、各機器はベース16に取り付けており、駆動装置5をカバー17で覆うようにしいる。
この駆動装置5は、図3に示すように、前記回転運動を直線運動に変える際のアーム18、アーム18内に設けた穴部19、前記ミラーブロック3に固定されて前記回転運動を直線運動に変える際に発生する摩擦を低減させるベアリング6、反射鏡2の鏡面とは反対側に前記ガイド光を反射するガイド光反射鏡8を備えている。
以上がメカニカルシャッタ65aの構成であり、次にその動作について説明する。
レーザ発振装置65で発振したレーザ光はカバー17の穴を通過しミラーブロック3に装着された反射鏡2で反射されアブソーバ内筒10の凹形状部へ達し、多段反射を繰り返してレーザ光は吸収される。
この状態からレーザ加工やレーザ溶接のためにレーザ光をメカニカルシャッタ外へ照射させるときは図2における駆動装置5に電力が供給されアーム18が回転し、前記アーム内に設けられた穴部19をベアリング6が回転しながら滑っていき、前記ベアリング6は前記ミラーブロック3に固定されているため前記リニアガイド4に案内されるように持ち上がる。
そして、ミラーブロック3の上昇と供にセンザドグ15も上昇しリミットスイッチ13の光電部を遮光してメカニカルシャッタ“開”の位置検出を行う。逆に外部への射光をやめ元に戻す際には駆動装置5に電力供給がなくなり、ミラーブロック3の自重にて反射鏡2は落下し元の状態に戻る。このときセンサドグ15も元に戻りリミットスイッチ14の光電部を遮光してメカニカルシャッタ“閉”の位置検出を行う。またアブソーバ9とミラーブロック3へは常時冷却水流路12に冷却水が循環しており部品の焼損を阻止している。
前述したように前記アブソーバ内筒10へ入射されるレーザ光は一部多段反射を繰り返し減衰されているが、本来は全てのレーザ光が多段反射されるのが望ましい。レーザ光の反射回数は多ければ多いほど前記レーザ光を吸収し反射光の抑制につながり、大出力のレーザ発振装置にも対応できる。
また前記レーザ光のビーム径以上ずれた位置となる位置関係を保つためにリニアガイドを装着しており、これにより前記レーザ光の多段反射軌跡がほぼ一定になることから、継時的変化による反射光発生も抑制さる。また近年ガイド光などレーザ光の通過経路を目視できるように可視光などがレーザ光軸上に配置されることがあるが遠距離地点での位置精度の確保に対しても有効な手段となっている。
また図は省略するが、低出力のレーザ発振装置においては、メカニカルシャッタ65aの反射鏡2の代わりにミラーブロック3の表面を鏡面仕上げし反射鏡と一体化することも有効な手段となっている。
(実施の形態3)
図4は本発明の実施の形態3を示す駆動装置の概略構成図である。
なお、本実施の形態3において実施の形態1、2と同様な構成については図1、2、3と同じ符号を付し、その説明を省略する。
本実施の形態3の特徴とする構成は、駆動装置5の反射鏡2の反射光路上を移動させる機構であり、具体的にはミラーブロック3に固定されたラックギア21と駆動装置5に固定された歯車22である。
この構成のように、歯車22を回転駆動することで、この歯車22と噛み合ったラックギア21が前後方向に移動することができる。
したがって、このラックギア21の移動方向と、反射鏡2の反射光路を合わせることにより、実施の形態2のものより簡単な構成で繰り返し精度よくアブソーバでレーザ光を吸収することができる。
なお、ラックギア21と歯車22の場合、バックラッシュが発生するので、予め歯車22の回転駆動時の制御タイミングを、このバックラッシュ時間と距離を考慮する必要がある。
また、図5に示すように、駆動装置5の反射鏡2の反射光路上を移動させる機構として、ラックギア21と歯車22に代えて、リニアモータ31とミラーブロック3を直結する構成を用いても良い。
この構成のように、リニアモータ31を使用することで、より簡単な構成で反射鏡2を前後方向に移動することができる。
したがって、このリニアモータ31の移動方向と、反射鏡2の反射光路を合わせることにより、実施の形態2や3のものより簡単な構成で繰り返し精度よくアブソーバでレーザ光を吸収することができる。
本発明は、繰り返し精度よくアブソーバでレーザ光を吸収することができ、大出力レーザ光にも対応できるのでレーザ発振装置およびレーザ加工装置として有用である。
本発明の実施の形態1におけるレーザ加工機の構成図 本発明の実施の形態2におけるメカニカルシャッタの概略構成図 本発明の実施の形態2におけるメカニカルシャッタの駆動装置の概略構成図 本発明の実施の形態3におけるメカニカルシャッタの駆動装置の概略構成図 本発明の実施の形態3における別の構成例のメカニカルシャッタの駆動装置の概略構成図 従来のメカニカルシャッタの概略構成図 従来のメカニカルシャッタの駆動装置の概略構成図
1 レーザ光の光軸
2 反射鏡
3 ミラーブロック
4 リニアガイド
5 駆動装置
6 ベアリング
7 ガイド光発生装置
8 ガイド光反射鏡
9 アブソーバ
10 アブソーバ内筒
11 アブソーバ外筒
12 冷却水路
13、14 リミットスイッチ
15 センサドグ
16 ベース
17 カバー
18 アーム
19 穴部
21 ラックギア
22 歯車
31 リニアモータ
61 加工ワーク
62 加工テーブル
63 駆動装置
64 数値制御手段
65 レーザ発振装置
66 レーザ光路
67 レーザ光集光手段

Claims (3)

  1. レーザ光を射出するレーザ発振装置の前記レーザ光の光路上に出入りする反射鏡と、前記反射鏡によるレーザ光の反射光路上に配置した凹状のレーザ光受けを有するアブソーバを備え、前記反射鏡を前記反射光路の軸線上に移動させる駆動装置を設け、前記駆動装置により前記反射鏡によるレーザ光の反射位置に前記反射鏡を位置させたときに、前記反射光路が前記アブソーバの凹状部分の中心から前記レーザ光のビーム径以上ずれた位置となる位置関係としたレーザ発振装置。
  2. 前記反射鏡の鏡面の反対側にガイド光を反射するガイド光反射鏡を設け、前記駆動装置により前記反射鏡によるレーザ光の反射位置に前記反射鏡を位置させたときに前記ガイド光反射鏡で反射したガイド光が前記レーザ発振装置のレーザ光の光路上に位置する請求項1記載のレーザ発振装置。
  3. 加工物を乗せる加工テーブルと、前記加工テーブルの移動とレーザ光の集光手段のうち少なくとも一方を移動する位置決め手段と、前記位置決め手段を制御する数値制御手段と、請求項1または2に記載のレーザ発振装置を備えたレーザ加工機。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2017017952A1 (ja) * 2015-07-28 2017-02-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 レーザシャッタ装置の冷却装置

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