JP2010204586A - Phase difference film and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、位相差フィルム及びその製造方法に関し、詳しくは高い透明性を有して、加熱後であっても位相差の変化量の少ない、優れた性能を有した位相差フィルム及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a retardation film and a method for producing the same, and in particular, has a high transparency, has a small amount of change in retardation even after heating, and has an excellent performance and a method for producing the same. About.
近年、ブラウン管方式のCRTに替わり、液晶表示装置が広く用いられている。これら液晶表示装置には画像着色を解消するため、あるいは視野角を拡大するために、位相差フィルムが用いられている。また、投射型プロジェクタやレーザー光線のビームスプリッターにおいては直線偏光と円偏光の相互変換素子として位相差フィルムが用いられている。更には、タッチパネル用途において、外光反射を低減し視認性を向上させるために位相差フィルムの導入が求められている。 In recent years, liquid crystal display devices have been widely used in place of CRTs of cathode ray tubes. In these liquid crystal display devices, a retardation film is used for eliminating image coloring or expanding a viewing angle. Further, in a projection type projector and a laser beam beam splitter, a retardation film is used as a mutual conversion element between linearly polarized light and circularly polarized light. Furthermore, in touch panel applications, the introduction of a retardation film is required to reduce external light reflection and improve visibility.
これらの位相差フィルムは、偏光された光の成分の相対位相を変えるのに用いられる複屈折性の材料で作られたフィルムであり、一般に、合成樹脂製の配向フィルムが複屈折性層として用いられている。位相差フィルムの構造としては、1つの複屈折性層からなる単層構造、複屈折性が同一または異なる2層以上の複屈折層を積層した多層構造、更には保護層を有するものなどがある(例えば特許文献1参照)。 These retardation films are films made of birefringent materials used to change the relative phase of polarized light components, and generally synthetic resin oriented films are used as birefringent layers. It has been. Examples of the structure of the retardation film include a single-layer structure composed of one birefringent layer, a multilayer structure in which two or more birefringent layers having the same or different birefringence are laminated, and a protective layer. (For example, refer to Patent Document 1).
例えば、液晶ディスプレイ用位相差フィルムは、鮮明な色彩と精細な画像を得るために、複屈折性層の全面が光学的に均一であると共に、温度や湿度の変化によっても光学的特性が変化しないことが必要である。特に、自動車搭載用の液晶ディスプレイ・パネルに用いる場合には、過酷な条件での使用が予測されるため、少なくとも60℃以上、好ましくは80℃以上、より好ましくは100℃以上の耐熱温度が要求される。しかしながら、これまでの位相差フィルムとしては、主に熱可塑性樹脂であるポリカーボネート樹脂(例えば特許文献2参照)やノルボルネン系樹脂(例えば特許文献3参照)が利用されており、十分な耐熱性および耐候性が得られていない。 For example, the retardation film for liquid crystal displays is optically uniform on the entire surface of the birefringent layer in order to obtain clear colors and fine images, and the optical characteristics do not change with changes in temperature and humidity. It is necessary. In particular, when it is used for a liquid crystal display panel mounted on an automobile, use under severe conditions is predicted, and therefore, a heat-resistant temperature of at least 60 ° C. or higher, preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher is required. Is done. However, as a conventional retardation film, a polycarbonate resin (for example, see Patent Document 2) or a norbornene-based resin (for example, see Patent Document 3), which is a thermoplastic resin, is mainly used, and sufficient heat resistance and weather resistance are used. Sex is not obtained.
また、高いTg(ガラス転移温度)を有する熱可塑性樹脂の場合には、一般に、溶液流延法によってシートを製造しているが、延伸配向したフィルムは表面の平滑性に優れるものの生産性が悪く、また、溶媒が残留するため使用環境によっては用いることができないといった問題がある。 Further, in the case of a thermoplastic resin having a high Tg (glass transition temperature), a sheet is generally produced by a solution casting method, but a stretch-oriented film is excellent in surface smoothness but poor in productivity. In addition, since the solvent remains, there is a problem that it cannot be used depending on the use environment.
そこで本発明は、高い透明性を有し、かつ、加熱後であっても位相差の変化量の少ない、優れた性能を有した位相差フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a retardation film having high transparency and having excellent performance with little change in retardation even after heating, and a method for producing the same.
本発明者等は、既に上記特許文献4に係る位相差フィルムを提案しているが、上記の目的を達成するために鋭意検討した結果、特定のシリコーン樹脂を含んだ樹脂組成物を用いることで、高い透明性を有し、かつ、加熱後であっても経時変化による位相差の低下を更に改良した位相差フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have already proposed the retardation film according to Patent Document 4, but as a result of intensive studies to achieve the above object, by using a resin composition containing a specific silicone resin, The inventors have found that a retardation film having high transparency and further improving the decrease in retardation due to aging even after heating can be obtained, and the present invention has been completed.
すなわち、本発明は、(1)下記一般式(1)で表される数平均分子量1000〜80000の範囲にあるシリコーン樹脂と、(2)光重合開始剤及び/又は(3)熱重合開始剤とを含む樹脂組成物を硬化させてなる位相差フィルムであり、100℃で10時間の加熱処理をした後の位相差フィルムの位相差値変化量が0〜20nmの範囲であることを特徴とする位相差フィルムである。
また、本発明は、(1)下記一般式(1)で表される数平均分子量1000〜80000の範囲にあるシリコーン樹脂と、(2)光重合開始剤及び/又は(3)熱重合開始剤とを含む樹脂組成物を用いて位相差フィルムを製造する方法であり、
樹脂組成物を少なくとも1枚の支持体で支持し、上記(1)成分の不飽和基を0.1%〜50%減少させる一次硬化により樹脂成形体を得た後、この樹脂成形体を所定の形状に切り出して延伸治具に固定し、任意方向に延伸倍率5〜700%の範囲で延伸させて延伸樹脂成形体を得た後、この延伸樹脂成形体を延伸治具に固定した状態で更に加熱及び/又はエネルギー線を照射して二次硬化させ、その後、室温まで冷却することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
The present invention also includes (1) a silicone resin having a number average molecular weight of 1000 to 80000 represented by the following general formula (1), and (2) a photopolymerization initiator and / or (3) a thermal polymerization initiator. A phase difference film using a resin composition comprising:
The resin composition is supported by at least one support, and after obtaining a resin molding by primary curing that reduces the unsaturated group of the component (1) by 0.1% to 50%, the resin molding is predetermined. In a state where the stretched resin molded body is fixed to the stretching jig after being cut in the shape of, fixed to the stretching jig, and stretched in a range of 5 to 700% in any direction to obtain a stretched resin molded body. Further, it is a method for producing a retardation film, wherein the film is secondarily cured by irradiation with heat and / or energy rays, and then cooled to room temperature.
本発明において、位相差フィルムを構成する樹脂組成物は、(1)成分として下記一般式(1)で表される数平均分子量1000〜80000の範囲にあるシリコーン樹脂を含む。
(1)成分として用いられるシリコーン樹脂は、一般的に用いられる方法により製造することができる。すなわち、ポリオールとジクロロシラン化合物と末端に重合性不飽和基及び水酸基を有する化合物とから合成する方法等である。その際に、原料物質の分子量、あるいは反応時のモル比を適宜調節することにより本発明の樹脂組成物に用いられるシリコーン樹脂を得ることができる。 (1) The silicone resin used as the component can be produced by a generally used method. That is, a method of synthesizing from a polyol, a dichlorosilane compound, and a compound having a polymerizable unsaturated group and a hydroxyl group at the terminal. In that case, the silicone resin used for the resin composition of this invention can be obtained by adjusting suitably the molecular weight of a raw material substance, or the molar ratio at the time of reaction.
上記のポリオールとしては、1分子中に水酸基を2個有し、少なくとも一つの芳香族基を有するケイ素化合物がよく、例えば、2個のシラノール基を有し、置換基を有してもよい芳香族環を1個または複数有する化合物であり、具体的には、1,4‐ビス(ヒドロキシジメチルシリル)ベンゼン等であり、また、例えば、置換基を有してもよい芳香族基を少なくとも一つ有するジヒドロキシシランであり、具体的には、ジフェニルシランジオール等を例示することができる。 The polyol is preferably a silicon compound having two hydroxyl groups in one molecule and having at least one aromatic group, for example, an aromatic compound having two silanol groups and optionally having a substituent. A compound having one or more aromatic rings, specifically 1,4-bis (hydroxydimethylsilyl) benzene or the like, and, for example, at least one aromatic group which may have a substituent. Specific examples thereof include diphenylsilane diol and the like.
また、ジクロロシラン化合物としては、ジメチルジクロロシラン、アセトキシプロピルメチルジクロロシラン、(3−アクリロキシプロピル)メチルジクロロジラン、アリルメチルジクロロシラン、アリルフェニルジクロロシラン、ビス[2−(クロロジメチルシリルエチル)ベンゼン、1,3−ビス(クロロメチルジメチルシロキシ)ベンゼン、ブテニルメチルジクロロシラン、t−ブチルメチルジクロロシラン、t−ブチルフェニルジクロロシラン、2−(カルボメトキシ)エチルメチルジクロロシラン、[(クロロメチル)フェニルエチル]ジメチルクロロシラン、[2−(3−シクロヘキセニル)エチル]メチルジクロロシラン、クロロヘキシルメチルジクロロシラン、シクロテトラメチレンジクロロシラン、ジベンジロキシジクロロシラン、1,3−ジクロロー1,3−ジフェニルー1,3−ジメチルジクロロシラン、1,5−ジクロロヘキサメチルトリシロキサン、1,7−ジクロロオクタメチルテトラシロキサン、1,3−ジクロロテトラメチルジシロキサン、1,3−ジクロロテトラフェニルジシロキサン、ジシクロヘキシルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジ(p−トリル)ジクロロシラン、ジビニルジクロロシラン、エチルメチルジクロロシラン、メタクリロキシプロピルジクロロシラン、3−(p−メトキシフェニル)プロピルメチルジクロロシラン、フェニルメチルジクロロシラン、フェニルメチルジクロロシラン、1,1,3,3−テトラシクロペンチルジクロロジシロキサン、p−トリルメチルジクロロシラン、(3,3,3−チルフルオロプロピル)メチルジクロロシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニルフェニルジクロロシラン、ジビニルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、1,4−ビス(ジメチルクロロシリル)ベンゼン、1,1,3,3,5,5−ヘキサメチルー1,5−ジクロロトリシロキサン、1,7−ジクロロー1,1,3,3,5,5,7,7−オクタメチルテトラシロキサン等が挙げられる。 Examples of the dichlorosilane compound include dimethyldichlorosilane, acetoxypropylmethyldichlorosilane, (3-acryloxypropyl) methyldichlorodilane, allylmethyldichlorosilane, allylphenyldichlorosilane, and bis [2- (chlorodimethylsilylethyl) benzene. 1,3-bis (chloromethyldimethylsiloxy) benzene, butenylmethyldichlorosilane, t-butylmethyldichlorosilane, t-butylphenyldichlorosilane, 2- (carbomethoxy) ethylmethyldichlorosilane, [(chloromethyl) Phenylethyl] dimethylchlorosilane, [2- (3-cyclohexenyl) ethyl] methyldichlorosilane, chloromethylmethyldichlorosilane, cyclotetramethylenedichlorosilane, dibenzyloxydichlorosila 1,3-dichloro-1,3-diphenyl-1,3-dimethyldichlorosilane, 1,5-dichlorohexamethyltrisiloxane, 1,7-dichlorooctamethyltetrasiloxane, 1,3-dichlorotetramethyldisiloxane, , 3-dichlorotetraphenyldisiloxane, dicyclohexyldichlorosilane, diphenyldichlorosilane, di (p-tolyl) dichlorosilane, divinyldichlorosilane, ethylmethyldichlorosilane, methacryloxypropyldichlorosilane, 3- (p-methoxyphenyl) propyl Methyldichlorosilane, phenylmethyldichlorosilane, phenylmethyldichlorosilane, 1,1,3,3-tetracyclopentyldichlorodisiloxane, p-tolylmethyldichlorosilane, (3,3,3-tylfluoropro Pyr) methyldichlorosilane, vinylmethyldichlorosilane, vinylphenyldichlorosilane, divinyldichlorosilane, methylphenyldichlorosilane, 1,4-bis (dimethylchlorosilyl) benzene, 1,1,3,3,5,5-hexamethyl- Examples include 1,5-dichlorotrisiloxane and 1,7-dichloro-1,1,3,3,5,5,7,7-octamethyltetrasiloxane.
末端に重合性不飽和基及び水酸基を有する化合物としては、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシエチルフタル酸、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、3−アクリロイルオキシグリセリンモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−1−(メタ)アクリロキシ−3−(メタ)アクリロキシプロパン、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリε−カプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ε−カプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、各種エポキシアクリレート等が挙げられる。 Examples of the compound having a polymerizable unsaturated group and a hydroxyl group at the terminal include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2- ( (Meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxyethylphthalic acid, pentaerythritol tri (meth) acrylate, 3-acryloyloxyglycerin mono (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-1- (meth) Acryloxy-3- (meth) acryloxypropane, glycerin di (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, poly ε-caprolactone mono (meth) acrylate Rate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, .epsilon.-caprolactone mono (meth) acrylate, various types of epoxy acrylate.
本発明におけるシリコーン樹脂を得る条件は、室温条件下、反応中に発生する塩化水素と同モル以上の塩基性化合物を反応系中に添加し、ポリオールとジクロロシラン化合物のモル比により分子量を調整し、末端に重合性不飽和基及び水酸基を有する化合物を加える方法が好ましい。ポリオールとジクロロシラン化合物のモル比は1:1に近いほど高分子量体を得る事ができる。ポリオールとジクロロシラン化合物および末端に重合性不飽和基及び水酸基を有する化合物の反応時のモル比は10:15:4、より好ましくは20:21:4である。 The conditions for obtaining the silicone resin in the present invention are as follows: at room temperature, a basic compound equal to or more than hydrogen chloride generated during the reaction is added to the reaction system, and the molecular weight is adjusted by the molar ratio of the polyol and the dichlorosilane compound. A method of adding a compound having a polymerizable unsaturated group and a hydroxyl group at the terminal is preferred. As the molar ratio of the polyol and the dichlorosilane compound is closer to 1: 1, a higher molecular weight can be obtained. The molar ratio of the polyol to the dichlorosilane compound and the compound having a polymerizable unsaturated group and a hydroxyl group at the terminal is 10: 15: 4, more preferably 20: 21: 4.
また、本発明における樹脂組成物には、ラジカル重合開始剤として(2)光重合開始剤及び/又は(3)熱重合開始剤を配合する。(2)光重合開始剤のみを配合する場合には、その添加量は樹脂組成物の合計100重量部に対して(2)光重合開始剤は0.1〜3重量部の範囲であるのが好ましい。(3)熱重合開始剤のみを配合する場合は、樹脂組成物合計100重量部に対し、その添加量は0.1〜10重量部の範囲であるのが好ましい。(2)光重合開始剤および(3)熱重合開始剤を配合する場合には、樹脂組成物合計100重量部に対し、(2)光重合開始剤が0.01〜1重量部であり、(3)熱重合開始剤は0.01〜10重量部の範囲であるのが好ましい。各配合において、上記範囲未満では架橋が不十分であるため延伸配向の固定が困難であり、範囲を超えて含有しても反応率の向上は望めない。 Moreover, (2) photoinitiator and / or (3) thermal polymerization initiator are mix | blended with the resin composition in this invention as a radical polymerization initiator. (2) When only the photopolymerization initiator is blended, the amount added is in the range of 0.1 to 3 parts by weight with respect to the total 100 parts by weight of the resin composition. Is preferred. (3) When only the thermal polymerization initiator is blended, the amount added is preferably in the range of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total resin composition. When (2) a photopolymerization initiator and (3) a thermal polymerization initiator are blended, (2) the photopolymerization initiator is 0.01 to 1 part by weight relative to 100 parts by weight of the total resin composition, (3) The thermal polymerization initiator is preferably in the range of 0.01 to 10 parts by weight. In each formulation, if the amount is less than the above range, crosslinking is insufficient, and thus it is difficult to fix the stretch orientation. Even if the content exceeds the range, no improvement in the reaction rate can be expected.
上記(2)光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾイル系、ベンゾフェノン系、チオキサンソン系、アシルホスフィンオキサイド系等の化合物を好適に使用することができる。具体的には、トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン、ベンゾインメチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン、チオキサンソン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、カンファーキノン、ベンジル、アンスラキノン、ミヒラーケトン等を例示することができる。また、光重合開始剤と組み合わせて効果を発揮する光開始助剤や鋭感剤を併用することもできる。 As said (2) photoinitiator, compounds, such as an acetophenone series, a benzoyl series, a benzophenone series, a thioxanthone series, and an acyl phosphine oxide series, can be used conveniently. Specifically, trichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 1-phenyl-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2 -Morpholinopropan-1-one, benzoin methyl ether, benzyldimethyl ketal, benzophenone, thioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, methylphenylglyoxylate, camphorquinone, benzyl, anthraquinone, Michler's ketone, etc. can do. Moreover, the photoinitiator adjuvant and the sharpening agent which show an effect in combination with a photoinitiator can also be used together.
上記(3)熱重合開始剤としては、ケトンパーオキサイド、パーオキシケタール、ハイドロパーオキサイド、ジアリルパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシエステル、パーオキシジカーボネートに分類される公知の有機過酸化物や、アゾ化合物等を挙げることができる。具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、3−イソプロピルヒドロパーオキサイド、t−ブチルヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジクミルヒドロパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、イソブチルパーオキサイド、3,3,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスカルボンアミド等が挙げられる。 As the above (3) thermal polymerization initiator, known organic peroxides classified into ketone peroxide, peroxyketal, hydroperoxide, diallyl peroxide, diacyl peroxide, peroxyester, peroxydicarbonate, And azo compounds. Specific examples include benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, diisopropyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3, 5-trimethylcyclohexane, 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3, 3-isopropyl hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, dicumyl peroxide, dicumyl hydroper Oxide, acetyl peroxide, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, isobutyl peroxide, 3,3,5-trimethylhexanoyl peroxide, lauryl peroxide, azobisiso Chironitoriru include azobis carboxamido like.
本発明における樹脂組成物は、上記の(1)〜(3)成分以外に、位相差フィルムとしての機能を低下させない範囲で、前記(1)成分とラジカル重合可能な不飽和基を少なくとも1つ有する樹脂を含むことができる。この成分については、不飽和基を有した脂環式モノマー、不飽和基を有した脂肪族モノマー、又は不飽和基を含む置換基を有した篭型シルセスキオキサンであるのがよく、これらの1種又は2種以上を混合したものを使用することができる。その例として、篭型シルセスキオキサン、ジシクロペンタニルジアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ビスフェノールAジグリシジルエーテルジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることができる。 The resin composition in the present invention has at least one unsaturated group capable of radical polymerization with the component (1) within the range not deteriorating the function as the retardation film, in addition to the components (1) to (3). It can contain the resin which has. This component is preferably an alicyclic monomer having an unsaturated group, an aliphatic monomer having an unsaturated group, or a cage silsesquioxane having a substituent containing an unsaturated group. One or a mixture of two or more of these can be used. Examples include cage silsesquioxane, dicyclopentanyl diacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, tripropylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, bisphenol A diglycidyl ether diacrylate, tetraethylene glycol Examples include diacrylate, neopentyl glycol diacrylate of hydroxypivalate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and the like.
更に、上記の(1)〜(3)成分以外に、位相差フィルムとしての機能を低下させない範囲で、各種添加剤を添加することができる。各種添加剤として、有機/無機フィラー、可塑剤、難燃剤、熱安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、離型剤、発泡剤、核剤、着色剤、架橋剤、分散助剤、樹脂成分等を例示することができる。 Furthermore, in addition to the above components (1) to (3), various additives can be added as long as the function as a retardation film is not lowered. Various additives include organic / inorganic fillers, plasticizers, flame retardants, heat stabilizers, antioxidants, light stabilizers, UV absorbers, lubricants, antistatic agents, mold release agents, foaming agents, nucleating agents, and coloring agents. Examples thereof include a crosslinking agent, a dispersion aid, and a resin component.
本発明において、位相差フィルムの製造過程は以下のとおりである。すなわち、樹脂組成物を一次硬化させて樹脂成形体を得て、この樹脂成形体を延伸により配向させる。そして、得られた延伸樹脂成形体を二次硬化させて位相差フィルムを得るようにする。このうち、樹脂組成物を一次硬化させて一部ラジカル重合した樹脂成形体を得る際には、その方法として、加熱手段又はエネルギー線照射手段が挙げられ、このうち、加熱手段については25〜200℃、好ましくは25〜180℃の範囲で加熱するのがよく、一方、エネルギー線手段については、300〜6000mjの電子線、紫外線、可視光等のエネルギー線を照射するのが好ましい。 In the present invention, the production process of the retardation film is as follows. That is, the resin composition is primarily cured to obtain a resin molded body, and the resin molded body is oriented by stretching. And the obtained stretched resin molding is secondarily cured to obtain a retardation film. Among these, when the resin composition is primarily cured to obtain a partially molded resin-molded product, the method includes heating means or energy beam irradiation means, and among these heating means, the heating means is 25 to 200. It is preferable to heat in the range of ° C., preferably 25 to 180 ° C. On the other hand, the energy beam means is preferably irradiated with energy beams such as an electron beam of 300 to 6000 mj, ultraviolet rays and visible light.
紫外線や可視光等のエネルギー線を照射して一次硬化させる際には、例えば複数の支持体を組み立ててなる金型であって、少なくとも1枚の支持体が石英ガラスなどの紫外線を透過できる透明素材で形成した金型内に樹脂組成物を注入し、紫外線ランプで紫外線を照射して少なくとも透明素材を通過した紫外線により収容された樹脂組成物の重合硬化を行い、金型から脱型させることで所望の形状の樹脂成形体を得る方法を採用することができる。また、金型を用いない場合には、例えばスチールベルトを支持体として用いて、移動するスチールベルト上にドクターブレードやロール状のコーターで樹脂組成物を塗布し、上記の紫外線ランプで重合硬化させることで、シート状の樹脂成形体を得る方法等を例示することができる。なお、加熱手段の場合については、金型内に注入した樹脂組成物やスチールベルト上に塗布した樹脂組成物を所定の温度範囲で加熱するようにすればよい。 When primary curing is performed by irradiating energy rays such as ultraviolet rays or visible light, for example, a mold in which a plurality of supports are assembled, and at least one support is transparent to transmit ultraviolet rays such as quartz glass. Injecting the resin composition into a mold made of the material, irradiating the ultraviolet light with an ultraviolet lamp, polymerizing and curing the resin composition accommodated by at least the ultraviolet light that has passed through the transparent material, and removing the mold from the mold Thus, a method of obtaining a resin molded body having a desired shape can be employed. When a mold is not used, for example, a steel belt is used as a support, a resin composition is applied onto a moving steel belt with a doctor blade or a roll coater, and polymerized and cured with the ultraviolet lamp described above. By this, the method etc. which obtain a sheet-like resin molding can be illustrated. In the case of the heating means, the resin composition injected into the mold or the resin composition applied onto the steel belt may be heated in a predetermined temperature range.
エネルギー線照射によって樹脂組成物の一次硬化を行う場合、好適には波長10〜400nmの紫外線や波長400〜700nmの可視光線を照射することで、樹脂成形体を得ることができる。用いる光の波長は特に制限されるものではないが、特に波長200〜400nmの近紫外線が好ましい。紫外線発生源として用いられるランプとしては、低圧水銀ランプ(出力:0.4〜4W/cm)、高圧水銀ランプ(40〜160W/cm)、超高圧水銀ランプ(173〜435W/cm)、メタルハライドランプ(80〜160W/cm)、パルスキセノンランプ(80〜120W/cm)、無電極放電ランプ(80〜120W/cm)等を例示することができる。 When primary curing of the resin composition is performed by energy ray irradiation, a resin molded body can be obtained by preferably irradiating ultraviolet rays having a wavelength of 10 to 400 nm or visible rays having a wavelength of 400 to 700 nm. The wavelength of light to be used is not particularly limited, but near ultraviolet light having a wavelength of 200 to 400 nm is particularly preferable. As a lamp used as an ultraviolet ray generation source, a low-pressure mercury lamp (output: 0.4 to 4 W / cm), a high-pressure mercury lamp (40 to 160 W / cm), an ultra-high pressure mercury lamp (173 to 435 W / cm), a metal halide lamp (80-160 W / cm), a pulse xenon lamp (80-120 W / cm), an electrodeless discharge lamp (80-120 W / cm), etc. can be illustrated.
また、一次硬化により樹脂成形体を得る際には、上記(1)成分の不飽和基が合計で0.1%〜50%減少するまで一次硬化させるようにする。不飽和基の減少率(以下、「反応率」という)を制御するためには、加熱条件を調整したり、ランプの照射量を調整することが好ましい。エネルギー線照射の場合には、使用するランプの種類および樹脂組成物により照射量範囲を決定することができる。例えば、超高圧水銀ランプ(333W/cm)の場合は400〜6000mjの範囲で任意に照射量を調節することにより所望の反応率とすることができる。また、照射量の調節は照射時間により調整できるが、照射時間が短すぎると反応率の再現性が得られず、照射時間が長いと生産性が悪くなるため、使用するランプあるいは装置によって適宜調整することが好ましい。一方、加熱手段の場合には、室温付近から除々に昇温するのがよく、加熱時間は熱重合開始剤の種類および樹脂組成物によっても異なるが、20分〜4時間程度であるのがよい。 Moreover, when obtaining a resin molding by primary curing, it is made to primary cure until the unsaturated group of said (1) component reduces 0.1 to 50% in total. In order to control the reduction rate of unsaturated groups (hereinafter referred to as “reaction rate”), it is preferable to adjust the heating conditions or the irradiation amount of the lamp. In the case of energy ray irradiation, the irradiation range can be determined by the type of lamp used and the resin composition. For example, in the case of an ultra-high pressure mercury lamp (333 W / cm), a desired reaction rate can be obtained by arbitrarily adjusting the dose within a range of 400 to 6000 mj. The dose can be adjusted according to the irradiation time. However, if the irradiation time is too short, the reproducibility of the reaction rate cannot be obtained, and if the irradiation time is long, the productivity deteriorates. It is preferable to do. On the other hand, in the case of a heating means, the temperature should be gradually raised from around room temperature, and the heating time varies depending on the type of thermal polymerization initiator and the resin composition, but is preferably about 20 minutes to 4 hours. .
一次硬化させた樹脂成形体の反応率は、低すぎるとシート形状を保持することが困難であり容易に破断するおそれがあり、反対に高すぎると延伸倍率が低く、所望の高い位相差値が得られない。したがって、反応率は0.1%〜50%、より好ましくは0.1%〜30%の範囲が好ましい。 If the reaction rate of the primary-cured resin molded product is too low, it is difficult to maintain the sheet shape and may be easily broken. On the other hand, if it is too high, the draw ratio is low, and the desired high retardation value is obtained. I can't get it. Therefore, the reaction rate is preferably 0.1% to 50%, more preferably 0.1% to 30%.
このようにして得られた樹脂成形体の厚みは、特に限定されるものではなく、得られる延伸フィルム(位相差フィルム)の使用目的などに応じて適宜に決定することができる。一般には、安定した延伸処理による均質な延伸フィルムを得る点などから、好ましくは5〜500μmの厚さのフィルム状であるのがよい。 Thus, the thickness of the resin molding obtained is not specifically limited, It can determine suitably according to the intended purpose etc. of the stretched film (retardation film) obtained. In general, the film is preferably in the form of a film having a thickness of 5 to 500 μm from the viewpoint of obtaining a uniform stretched film by a stable stretching process.
本発明では、上記の方法で得られた樹脂成形体を延伸により配向させることで、複屈折性を発現させる位相差フィルムを得ることができる。すなわち、上記で得られた樹脂成形体を所定の形状に切り出し、延伸治具に固定して、延伸することで延伸樹脂成形体を得るようにする。上記で得られた樹脂成形体を延伸することにより、樹脂成形体を延伸配向させて複屈折性を発現させる。延伸配向させる手段としては、例えば自由幅一軸延伸、定幅一軸延伸等の一軸延伸、遂次二軸延伸、同時二軸延伸等の二軸延伸等を用いることが可能であり、好ましくは幅方向に一軸延伸を行うのがよい。また、所定の形状に切り出された樹脂成形体を固定する延伸治具については特に制限はなく、例えば鉄、アルミ、銅、真鍮等の金属や耐熱性を有するプラスチックを加工して使用することができる。これらは延伸により生じる樹脂成形体の応力に対して充分な剛性を有していることは言うまでもない。 In this invention, the phase difference film which expresses birefringence can be obtained by orienting the resin molding obtained by said method by extending | stretching. That is, the resin molded body obtained above is cut into a predetermined shape, fixed to a stretching jig, and stretched to obtain a stretched resin molded body. By stretching the resin molded body obtained above, the resin molded body is stretched and oriented to develop birefringence. As a means for stretching and orientation, for example, uniaxial stretching such as free width uniaxial stretching, constant width uniaxial stretching, biaxial stretching such as sequential biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching, and the like can be used, preferably in the width direction. It is preferable to perform uniaxial stretching. Moreover, there is no restriction | limiting in particular about the extending | stretching jig | tool which fixes the resin molding cut out to the defined shape, For example, it can process and use metals, such as iron, aluminum, copper, and brass, and a plastic which has heat resistance. it can. Needless to say, these have sufficient rigidity against the stress of the resin molded body caused by stretching.
樹脂成形体を延伸配向する際の温度については、樹脂成形体の動的粘弾性測定から得られる弾性率によって異なるが、延伸後の残留応力を低減する目的で、好ましくは1000〜0.01Mpa、より好ましくは100〜0.1Mpaの範囲を示す温度範囲であるのがよい。 The temperature at which the resin molded body is stretched and oriented varies depending on the elastic modulus obtained from the dynamic viscoelasticity measurement of the resin molded body, but is preferably 1000 to 0.01 MPa for the purpose of reducing the residual stress after stretching. A temperature range showing a range of 100 to 0.1 MPa is more preferable.
樹脂成形体を延伸配向する際の延伸速度は、小さくなると熱緩和により位相差値が低下したり、後の二次硬化工程で破断しやすくなる。したがって、延伸速度は1mm/分以上が好ましい。但し、あまり速くするとフィルムが切断したり、延伸装置内の治具から外れたりするので、より好ましくは1mm/分〜10mm/分の範囲内である。 When the stretching speed at which the resin molded body is stretched and oriented becomes small, the retardation value decreases due to thermal relaxation, or breaks easily in the subsequent secondary curing step. Therefore, the stretching speed is preferably 1 mm / min or more. However, if the speed is too high, the film will be cut or detached from the jig in the stretching apparatus, and therefore, it is more preferably in the range of 1 mm / min to 10 mm / min.
また、樹脂成形体を延伸させる際に延伸倍率を調整することで所望の位相差値が得られる。本発明の位相差フィルムの製造方法では、5〜700%の範囲、好ましくは5〜500%の範囲で延伸させるようにする。延伸率が5%より低いと位相差の発現が困難であり、反対に500%より高い場合にはフィルムが切断するおそれがある。 Moreover, a desired retardation value can be obtained by adjusting the stretching ratio when the resin molded body is stretched. In the method for producing a retardation film of the present invention, the film is stretched in a range of 5 to 700%, preferably in a range of 5 to 500%. If the stretch rate is lower than 5%, it is difficult to develop a phase difference. Conversely, if it is higher than 500%, the film may be cut.
こうして一軸延伸されたフィルムは、フィルムの配向を固定する目的で下記のいずれかの方法で二次硬化させる。すなわち、この延伸樹脂成形体を延伸治具に固定した状態で更に加熱及び/又はエネルギー線を照射して二次硬化させ、反応率をほぼ100%とし硬化反応を終結させるようにする。 The film thus uniaxially stretched is secondarily cured by any of the following methods for the purpose of fixing the orientation of the film. That is, in a state where the stretched resin molded body is fixed to a stretching jig, the resin is further cured by heating and / or irradiation with energy rays, so that the reaction rate is almost 100% and the curing reaction is terminated.
第一の方法としては、延伸後の延伸幅を保持した状態になるように延伸樹脂成形体を延伸治具に固定したまま、所定時間、所定温度に保持するようにするのがよい。この際の温度は、延伸温度以上でありかつ熱重合開始剤の選択により室温から200℃前後までの広い範囲から選択することができる。また、保持する時間は20分〜4時間であるのがよい。この際、延伸樹脂成形体を固定する延伸治具は、延伸幅を保つために固定する治具の張力を調整する機構を持つことが好ましい。張力が低すぎると熱による配向緩和からの延伸方向への収縮が大きく延伸後の配向が十分に保持されない。逆に高すぎると硬化収縮による切断が生じフィルムの作製が困難である。このように熱処理したフィルムは、延伸幅を保持した状態で室温まで冷却させる。 As a first method, it is preferable to hold the stretched resin molded body at a predetermined temperature for a predetermined time while being fixed to the stretching jig so as to maintain the stretched width after stretching. The temperature at this time is not less than the stretching temperature and can be selected from a wide range from room temperature to around 200 ° C. depending on the selection of the thermal polymerization initiator. The holding time is preferably 20 minutes to 4 hours. At this time, the stretching jig for fixing the stretched resin molded body preferably has a mechanism for adjusting the tension of the jig for fixing in order to maintain the stretching width. When the tension is too low, the shrinkage in the stretching direction from the relaxation of orientation due to heat is large, and the orientation after stretching is not sufficiently maintained. On the other hand, if it is too high, cutting due to curing shrinkage occurs, making it difficult to produce a film. The film thus heat-treated is cooled to room temperature while maintaining the stretched width.
第二の方法としては、延伸後の延伸幅を保持した状態になるように延伸樹脂成形体を延伸治具に固定したまま、3000mj〜20000mjの範囲でエネルギー線を照射するのがよい。 As a second method, it is preferable to irradiate energy rays in the range of 3000 mj to 20000 mj while the stretched resin molded body is fixed to the stretching jig so as to maintain the stretched width after stretching.
第三の方法としては、延伸後の延伸幅を保持した状態になるように延伸樹脂成形体を延伸治具に固定したまま、3000mj〜20000mjの範囲でエネルギー線を照射した後、所定時間、所定温度に保持するようにするのがよい。この際の温度や保持時間は、第一の場合と同様である。エネルギー線を照射することで破断強度を増加させ、二次硬化での破断を抑制することが可能となる。このように熱処理したフィルムは、延伸幅を保持した状態で室温まで冷却させる。 As a third method, after irradiating energy rays in the range of 3000 mj to 20000 mj with the stretched resin molded body being fixed to the stretching jig so as to maintain the stretched width after stretching, it is predetermined for a predetermined time. It is better to keep the temperature. The temperature and holding time at this time are the same as in the first case. By irradiating energy rays, it is possible to increase the breaking strength and suppress the breakage in secondary curing. The film thus heat-treated is cooled to room temperature while maintaining the stretched width.
第四の方法として、必要に応じて、二次硬化前の延伸樹脂成形体、又は二次硬化後の延伸樹脂成形体の少なくとも一方の面に光重合開始剤を含んだ状態の硬化性樹脂を塗工し、1000〜20000mjのエネルギー線を照射して光硬化性樹脂層を形成するようにしてもよい。すなわち、延伸樹脂成形体を延伸治具から取外すか又は延伸治具に固定した状態で、光重合開始剤を含む硬化性樹脂を少なくとも一方の面に塗工し、上記エネルギー線を照射して少なくとももう1層の光硬化性樹脂層を形成することにより延伸樹脂成形体を固定することが可能となる。この方法は延伸冶具を用いる方法の補助的手段として用いてもよい。 As a fourth method, if necessary, a curable resin containing a photopolymerization initiator on at least one surface of a stretched resin molded body before secondary curing or a stretched resin molded body after secondary curing. It may be coated and irradiated with energy rays of 1000 to 20000 mj to form a photocurable resin layer. That is, with the stretched resin molded body removed from the stretching jig or fixed to the stretching jig, a curable resin containing a photopolymerization initiator is applied to at least one surface and irradiated with the energy beam at least. By forming another layer of the photocurable resin layer, the stretched resin molded body can be fixed. This method may be used as an auxiliary means to the method using a stretching jig.
第五の方法として、必要に応じて、二次硬化前の延伸樹脂成形体、又は二次硬化後の延伸樹脂成形体の少なくとも一方の面に熱重合開始剤を含んだ状態の硬化性樹脂を塗工し、25〜200℃の温度で20分〜4時間の加熱処理を行うことにより、熱硬化性樹脂層を形成するようにしてもよい。すなわち、延伸樹脂成形体を延伸治具から取外すか又は延伸治具に固定した状態で、熱重合開始剤を含む硬化性樹脂を少なくとも一方の面に塗工し、上記温度及び時間で熱硬化性樹脂層を形成することにより延伸樹脂成形体を固定することが可能となる。更に、第三の方法として明示した手段と併用してもよい。この方法は延伸冶具を用いる方法の補助的手段として用いてもよい。 As a fifth method, if necessary, a curable resin containing a thermal polymerization initiator on at least one surface of the stretched resin molded body before secondary curing or the stretched resin molded body after secondary curing. You may make it form a thermosetting resin layer by applying and heat-processing for 20 minutes-4 hours at the temperature of 25-200 degreeC. That is, with the stretched resin molded body removed from the stretching jig or fixed to the stretching jig, a curable resin containing a thermal polymerization initiator is applied to at least one surface, and thermosetting at the above temperature and time. By forming the resin layer, the stretched resin molded body can be fixed. Furthermore, you may use together with the means specified as a 3rd method. This method may be used as an auxiliary means to the method using a stretching jig.
その他方法として、必要に応じて、二次硬化前の延伸樹脂成形体、又は二次硬化後の延伸樹脂成形体の少なくとも一方の面に光重合開始剤及び熱重合開始剤を含んだ状態の硬化性樹脂を塗工し、400〜10000mjのエネルギー線を照射して硬化性樹脂層を形成し、かつ、25〜200℃の温度で20分〜4時間の加熱処理を行うことにより、樹脂組成物中のアクリロイル基の減少率をほぼ100%にするようにしてもよい。すなわち、延伸樹脂成形体を延伸治具から取外すか又は延伸治具に固定した状態で、光重合開始剤及び熱重合開始剤を含んだ硬化性樹脂を少なくとも一方の面に塗工し、上記エネルギー線を照射して少なくとももう1層の硬化性樹脂層を形成し、かつ加熱することにより延伸樹脂成形体を固定することが可能となる。この方法は延伸冶具を用いる方法の補助的手段として用いてもよい。 As another method, if necessary, curing in a state where a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator are included on at least one surface of the stretched resin molded body before secondary curing or the stretched resin molded body after secondary curing. The resin composition is formed by applying a heat-resistant resin, irradiating energy rays of 400 to 10000 mj to form a curable resin layer, and performing a heat treatment at a temperature of 25 to 200 ° C. for 20 minutes to 4 hours. The reduction rate of the acryloyl group in the inside may be almost 100%. That is, with the stretched resin molded body removed from the stretching jig or fixed to the stretching jig, a curable resin containing a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator is applied to at least one surface, and the energy It is possible to fix the stretched resin molded body by irradiating a line to form at least another curable resin layer and heating. This method may be used as an auxiliary means to the method using a stretching jig.
二次硬化前の延伸樹脂成形体、又は二次硬化後の延伸樹脂成形体の一方の面に塗布する硬化性樹脂については、位相差フィルムを得た際において透明性および耐候性を備え、さらにはTgが200℃以上を有する樹脂層を形成することができるものであれば特に制限されないが、好ましくは特開2006-89685号公報に記載されるようなシリコーン樹脂組成物を用いるのがよい。すなわち、一般式[RSiO3/2]n(但し、Rは(メタ)アクリロイル基を有する有機官能基であり、nは8、10又は12である)で表されて構造単位中に篭型構造を有するポリオルガノシルセスキオキサンを主たる成分とするシリコーン樹脂と、分子中に−R3−CR4=CH2又は−CR4=CH2(但し、R3はアルキレン基、アルキリデン基又は−OCO−基を示し、R4は水素又はアルキル基を示す)で表される不飽和基を少なくとも1個含み、かつ、前記シリコーン樹脂とラジカル共重合が可能な数平均分子量が2500以上のウレタン結合を有するオリゴマーと、それ以外の前記シリコーン樹脂とラジカル共重合が可能な不飽和化合物とが、5〜40:50〜90:0〜30の重合割合で配合したシリコーン樹脂組成物を用いるのが好適である。 For the curable resin to be applied to one surface of the stretched resin molded body before secondary curing or the stretched resin molded body after secondary curing, it has transparency and weather resistance when a retardation film is obtained, and Is not particularly limited as long as it can form a resin layer having a Tg of 200 ° C. or higher, but a silicone resin composition as described in JP-A-2006-89685 is preferably used. That is, it is represented by the general formula [RSiO 3/2 ] n (where R is an organic functional group having a (meth) acryloyl group, and n is 8, 10 or 12), and has a cage structure in the structural unit. poly silicone resin to organosilsesquioxane a main component, -R 3 -CR 4 = CH 2 or -CR 4 = CH 2 in the molecule (wherein, R 3 is an alkylene group having, an alkylidene group or a -OCO A urethane bond having a number average molecular weight of 2500 or more and comprising at least one unsaturated group represented by the formula:-R 4 represents hydrogen or an alkyl group, and capable of radical copolymerization with the silicone resin. It is preferable to use a silicone resin composition in which an oligomer having an unsaturated compound capable of radical copolymerization with the other silicone resin is blended in a polymerization ratio of 5 to 40:50 to 90: 0 to 30. Is preferred.
そして、本発明により得られた位相差フィルムは、100℃で10時間の加熱処理をした後の位相差フィルムの位相差値変化量が0〜20nmの範囲である。ここで、加熱処理後の位相差フィルムの位相差値変化量とは、二次硬化もしくは、光重合開始剤及び/又は熱重合開始剤を含んだ硬化性樹脂を塗布して光及び/又は熱硬化性樹脂層を形成した直後に測定した位相差値と、100℃で10時間保持した後の位相差値との変化量をいう。また、本発明の位相差フィルムは、好ましくは、d=250μmでの波長550nmにおける面内位相差値Reが5〜150nmを有するのがよい。尚、位相差値Reは下記式から求められる。また、ここでいう好ましい位相差値Reとは、100℃で10時間保持した時点で測定して得られる値である。
Re=(nx−ny)d
〔nx:x軸方向の屈折率、ny:y軸方向の屈折率、d:フィルム厚み〕
And the retardation film obtained by this invention is the range whose phase difference value change amount of the retardation film after heat-processing for 10 hours at 100 degreeC is 0-20 nm. Here, the amount of change in the retardation value of the retardation film after the heat treatment refers to the secondary curing or the application of a curable resin containing a photopolymerization initiator and / or a thermal polymerization initiator, and light and / or heat. The amount of change between the retardation value measured immediately after forming the curable resin layer and the retardation value after being held at 100 ° C. for 10 hours. The retardation film of the present invention preferably has an in-plane retardation value Re of 5 to 150 nm at a wavelength of 550 nm at d = 250 μm. The phase difference value Re is obtained from the following equation. Moreover, the preferable retardation value Re here is a value obtained by measurement at a time point of holding at 100 ° C. for 10 hours.
Re = (n x -n y) d
[N x: x-axis direction of the refractive index, n y: y-axis direction of the refractive index, d: film thickness]
本発明によれば、高い透明性を有し、加熱後であっても位相差の変化量の少ない優れた位相差フィルムを得ることができ、たとえば、高温環境下で使用する車載用タッチパネル用途、液晶表示装置用途などに好適に用いることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain an excellent retardation film having a high transparency and having a small amount of change in retardation even after heating, for example, an in-vehicle touch panel for use in a high temperature environment, It can be suitably used for liquid crystal display devices.
以下に実施例等を述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記の実施例に使用したシリコーン樹脂および篭型シリコーン樹脂は、次の合成例に示した方法で得たものである。 Examples and the like are described below, but the present invention is not limited thereto. The silicone resin and saddle type silicone resin used in the following examples were obtained by the methods shown in the following synthesis examples.
[合成例1](直鎖型シリコーン樹脂1の調製)
反応容器に1,4−ビス(ヒドロキシジメチルシリル)ベンゼン20gを装入し、真空乾燥した。撹拌機及び滴下ロートを装着し、反応容器に溶媒としてテトラヒドロフラン(THF)88mlを装入し、塩基触媒としてピリジン4mlを装入した。滴下ロートにビニルメチルジクロロシラン12mlを入れ、反応容器を撹拌しながら、氷浴で15分かけて滴下した。滴下終了後、室温で2時間撹拌した。2時間撹拌後ジメチルジクロロシラン0.5mlを滴下し、30分撹拌した。更にアクリル酸2−ヒドロキシエチルを1.85ml滴下し、1時間撹拌した。撹拌後、トルエン400mlで溶解した。反応溶液を飽和食塩水で中性になるまで水洗した後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、濃縮することでシリコーン樹脂31gを得た。得られた樹脂をトルエン5mlに溶解した後、メタノールで再沈殿を行い、上澄みを除去した。濃縮することでシリコーン樹脂30gを得た。このシリコーン樹脂は種々の有機溶剤に可溶な微白色の粘性液体であった。
[Synthesis Example 1] (Preparation of linear silicone resin 1)
A reaction vessel was charged with 20 g of 1,4-bis (hydroxydimethylsilyl) benzene and dried in vacuo. A stirrer and a dropping funnel were attached, and 88 ml of tetrahydrofuran (THF) was charged as a solvent to the reaction vessel, and 4 ml of pyridine was charged as a base catalyst. To the dropping funnel, 12 ml of vinylmethyldichlorosilane was added and dropped in an ice bath over 15 minutes while stirring the reaction vessel. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After stirring for 2 hours, 0.5 ml of dimethyldichlorosilane was added dropwise and stirred for 30 minutes. Further, 1.85 ml of 2-hydroxyethyl acrylate was added dropwise and stirred for 1 hour. After stirring, it was dissolved in 400 ml of toluene. The reaction solution was washed with saturated brine until neutral, and then dehydrated with anhydrous magnesium sulfate. Anhydrous magnesium sulfate was filtered off and concentrated to obtain 31 g of a silicone resin. The obtained resin was dissolved in 5 ml of toluene and then reprecipitated with methanol to remove the supernatant. By concentrating, 30 g of a silicone resin was obtained. This silicone resin was a pale white viscous liquid soluble in various organic solvents.
[合成例2](直鎖型シリコーン樹脂2の調製)
反応容器に1,4−ビス(ヒドロキシジメチルシリル)ベンゼン20gを装入し、真空乾燥した。撹拌機及び滴下ロートを装着し、反応容器に溶媒としてテトラヒドロフラン(THF)88mlを装入し、塩基触媒としてピリジン4mlを装入した。滴下ロートにメタクリルメチルジクロロシラン12mlを入れ、反応容器を撹拌しながら、氷浴で15分かけて滴下した。滴下終了後、室温で2時間撹拌した。2時間撹拌後ジメチルジクロロシラン0.5mlを滴下し、30分撹拌した。更にアクリル酸2−ヒドロキシエチルを1.85ml滴下し、1時間撹拌した。撹拌後、トルエン400mlで溶解した。反応溶液を飽和食塩水で中性になるまで水洗した後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、濃縮することでシリコーン樹脂31gを得た。得られた樹脂をトルエン5mlに溶解した後、メタノールで再沈殿を行い、上澄みを除去した。濃縮することでシリコーン樹脂30gを得た。このシリコーン樹脂は種々の有機溶剤に可溶な微白色の粘性液体であった。
[Synthesis Example 2] (Preparation of linear silicone resin 2)
A reaction vessel was charged with 20 g of 1,4-bis (hydroxydimethylsilyl) benzene and dried in vacuo. A stirrer and a dropping funnel were attached, and 88 ml of tetrahydrofuran (THF) was charged as a solvent to the reaction vessel, and 4 ml of pyridine was charged as a base catalyst. To the dropping funnel, 12 ml of methacrylmethyldichlorosilane was added, and the mixture was added dropwise in an ice bath over 15 minutes while stirring the reaction vessel. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. After stirring for 2 hours, 0.5 ml of dimethyldichlorosilane was added dropwise and stirred for 30 minutes. Further, 1.85 ml of 2-hydroxyethyl acrylate was added dropwise and stirred for 1 hour. After stirring, it was dissolved in 400 ml of toluene. The reaction solution was washed with saturated brine until neutral, and then dehydrated with anhydrous magnesium sulfate. Anhydrous magnesium sulfate was filtered off and concentrated to obtain 31 g of a silicone resin. The obtained resin was dissolved in 5 ml of toluene and then reprecipitated with methanol to remove the supernatant. By concentrating, 30 g of a silicone resin was obtained. This silicone resin was a pale white viscous liquid soluble in various organic solvents.
[合成例3](篭型シリコーン樹脂の調製)
メタクリロイル基を全てのケイ素原子上に有した篭型シリコーン樹脂を得る方法は、公知である合成方法(特開2006−089685号公報)を参考にして、以下のように行った。
[Synthesis Example 3] (Preparation of bowl-shaped silicone resin)
A method for obtaining a cage-type silicone resin having methacryloyl groups on all silicon atoms was carried out as follows with reference to a known synthesis method (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-089685).
撹拌機、滴下ロート、及び温度計を備えた反応容器に、溶媒として2−プロパノール(IPA)40mlを装入し、塩基性触媒として5%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液(TMAH水溶液)を装入した。滴下ロートにIPA 15mlと3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(MTMS:東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製SZ6300)12.69gを入れ、反応容器を撹拌しながら、室温でMTMSのIPA溶液を30分かけて滴下した。MTMS滴下終了後、加熱することなく2時間撹拌した。2時間撹拌後、溶媒を減圧下で溶媒を除去し、トルエン50mlで溶解した。反応溶液を飽和食塩水で中性になるまで水洗した後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、濃縮することで加水分解生成物(シルセスキオキサン)を8.6g得た。このシルセスキオキサンは種々の有機溶剤に可溶な無色の粘性液体であった。 A reaction vessel equipped with a stirrer, a dropping funnel, and a thermometer was charged with 40 ml of 2-propanol (IPA) as a solvent and 5% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution (TMAH aqueous solution) as a basic catalyst. . Into the dropping funnel, 15 ml of IPA and 12.69 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (MTMS: SZ6300 manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) were added, and the IPMS solution of MTMS was stirred for 30 minutes at room temperature while stirring the reaction vessel. It was dripped over. After completion of the MTMS addition, the mixture was stirred for 2 hours without heating. After stirring for 2 hours, the solvent was removed under reduced pressure and dissolved in 50 ml of toluene. The reaction solution was washed with saturated brine until neutral, and then dehydrated with anhydrous magnesium sulfate. 8.6 g of hydrolysis product (silsesquioxane) was obtained by filtering off anhydrous magnesium sulfate and concentrating. This silsesquioxane was a colorless viscous liquid soluble in various organic solvents.
次に、撹拌機、ディンスターク、及び冷却管を備えた反応容器に上記で得られたシルセスキオキサン20.65gとトルエン82mlと10%TMAH水溶液3.0gとを入れ、徐々に加熱し水を留去した。更に130℃まで加熱し、トルエンを還流温度で再縮合反応を行った。このときの反応溶液の温度は108℃であった。トルエン還流後2時間撹拌した後、反応を終了とした。反応溶液を飽和食塩水で中性になるまで水洗した後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。無水硫酸マグネシウムをろ別し、濃縮することで目的物である篭型シリコーン樹脂(混合物)を18.77g得た。得られた篭型シリコーン樹脂は種々の有機溶剤に可溶な無色の粘性液体であった。 Next, 20.65 g of the silsesquioxane obtained above, 82 ml of toluene, and 3.0 g of 10% TMAH aqueous solution are put into a reaction vessel equipped with a stirrer, a Din Stark, and a cooling tube, and heated gradually to obtain water. Was distilled off. Furthermore, it heated to 130 degreeC and recondensation reaction was performed for toluene at the reflux temperature. The temperature of the reaction solution at this time was 108 ° C. After stirring for 2 hours after refluxing toluene, the reaction was terminated. The reaction solution was washed with saturated brine until neutral, and then dehydrated with anhydrous magnesium sulfate. Anhydrous magnesium sulfate was filtered off and concentrated to obtain 18.77 g of a target silicone resin (mixture). The obtained silicone resin was a colorless viscous liquid soluble in various organic solvents.
前記再縮合反応により得られた篭型シリコーン樹脂の液体クロマトグラフィー分離後の質量分析を行ったところ、アンモニウムイオンが付いた分子イオンが確認され、構成比率はT8:T10:T12:「その他」が、約2:4:1:3であり、篭型構造を主たる成分とするシリコーン樹脂であることが確認できた。なお、T8、T10及びT12とは、[RSiO3/2]nにおいて順にn=8、n=10及びn=12のもの(Rはメタクリロイル基)を示す。 Mass spectrometry after liquid chromatography separation of the cage silicone resin obtained by the recondensation reaction confirmed molecular ions with ammonium ions, and the composition ratio was T8: T10: T12: “Others”. It was about 2: 4: 1: 3, and it was confirmed that it was a silicone resin having a saddle type structure as a main component. T8, T10, and T12 are those in [RSiO 3/2 ] n where n = 8, n = 10, and n = 12 (R is a methacryloyl group).
[合成例4](ウレタンオリゴマーの調製)
有機イソシアネートとポリオールを反応させてポリウレタンを得る方法は公知である合成方法(特開平6−166737号公報)を参考にして、以下のように行った。
[Synthesis Example 4] (Preparation of urethane oligomer)
A method of obtaining polyurethane by reacting an organic isocyanate and a polyol was carried out as follows with reference to a known synthesis method (Japanese Patent Laid-Open No. 6-166737).
有機イソシアネートとしてイソホロンジイソシアネートと、2,2−ジメチル1,3−プロパンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、及びεーカプロラクトンのモル比が1:1:1から成るポリオールとを組成比4:3の割合で反応させ、2−ヒドロキシエチルアクリレートを反応させることにより目的物である両末端にアクリル基を有するウレタンアクリレートオリゴマー1(数平均分子量3800)を得た。 The composition ratio of isophorone diisocyanate as an organic isocyanate and 2,2-dimethyl 1,3-propanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and a polyol having a molar ratio of ε-caprolactone of 1: 1: 1 are 4: 3. The urethane acrylate oligomer 1 (number average molecular weight 3800) having an acrylic group at both ends, which is the target product, was obtained by reacting 2-hydroxyethyl acrylate.
[実施例1]
上記合成例1で得た直鎖型シリコーン樹脂1(100重量部)と、光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(1重量部)と、熱重合開始剤としてジクミルパーオキサイド(5重量部)とを混合し、シリコーン樹脂組成物を得た。
[Example 1]
Linear silicone resin 1 (100 parts by weight) obtained in Synthesis Example 1, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (1 part by weight) as a photopolymerization initiator, and dicumyl peroxide (5 parts by weight) as a thermal polymerization initiator Part) to obtain a silicone resin composition.
次に、上記で得たシリコーン樹脂組成物を、厚さ1mmの石英ガラス上にバーコーターを用いて厚さ0.1mmになるようにキャスト(流延)し、333W/cmの超高圧水銀ランプを用いて2000mJ/cm2の積算露光量(365nm換算)で硬化させ、所定の厚みを有したシート状の樹脂成形体を得た。このときの反応率は<2%であった。表1に、この実施例1に係る樹脂組成物の組成と共に、照射量及び反応率を示す。 Next, the silicone resin composition obtained above was cast (cast) on quartz glass having a thickness of 1 mm to a thickness of 0.1 mm using a bar coater, and an ultra-high pressure mercury lamp having 333 W / cm was obtained. Was cured at an integrated exposure amount of 2000 mJ / cm 2 (in terms of 365 nm) to obtain a sheet-like resin molded body having a predetermined thickness. The reaction rate at this time was <2%. Table 1 shows the dose and the reaction rate together with the composition of the resin composition according to Example 1.
上記で得たシート状の樹脂成形体から25mm×70mmの小片を切り出し、二軸延伸装置(井元製作所製)を用いて、温度25℃、延伸速度5mm/min.の条件にて長手方向に一軸延伸を実施し、+18%延伸フィルム(延伸樹脂成形体)を得た。次いで、固定した治具ごと小型真空電気炉(美和製作所製)を用いて200℃、1時間の加熱処理を行い、その後室温まで冷却させて、+14%延伸フィルム(位相差フィルム)を得た。延伸フィルムの厚さは133μmであり、フィルム面内の位相差値Re=(nx−ny)dは+9nmであった。なお、nx:x軸方向の屈折率、ny:y軸方向の屈折率、d:フィルム厚み、である。また、得られた位相差フィルムを100℃で10時間加熱する耐熱試験(加熱処理)後のRe値(位相差値)及び透過率を測定した。結果を表2に示す。 A small piece of 25 mm × 70 mm was cut out from the sheet-like resin molded body obtained above, and the temperature was 25 ° C. and the stretching speed was 5 mm / min. Using a biaxial stretching apparatus (manufactured by Imoto Seisakusho). The film was uniaxially stretched in the longitudinal direction under the above conditions to obtain a + 18% stretched film (stretched resin molded body). Next, the fixed jig was subjected to heat treatment at 200 ° C. for 1 hour using a small vacuum electric furnace (manufactured by Miwa Seisakusho), and then cooled to room temperature to obtain a + 14% stretched film (retardation film). The thickness of the stretched film is 133Myuemu, retardation values in a film plane Re = (n x -n y) d was + 9 nm. Incidentally, n x: x-axis direction of the refractive index, n y: refractive index in the y-axis direction, d: film thickness, it is. Moreover, Re value (phase difference value) and the transmittance | permeability after the heat test (heat processing) which heat the obtained retardation film for 10 hours at 100 degreeC were measured. The results are shown in Table 2.
[実施例2]
表1に示す配合組成の重量部及び積算露光量とした以外は、実施例1と同様にして樹脂成形体を得た。
[Example 2]
A resin molded body was obtained in the same manner as in Example 1 except that the parts by weight and the integrated exposure amount of the composition shown in Table 1 were used.
上記で得たシート状の樹脂成形体から50mm×70mmの小片を切り出し、二軸延伸装置(井元製作所製)を用いて、温度25℃、延伸速度5mm/min.の条件にて長手方向に一軸延伸を実施し、+15%延伸フィルム(延伸樹脂成形体)を得た。 A small piece of 50 mm × 70 mm was cut out from the sheet-like resin molded body obtained above, and the temperature was 25 ° C. and the stretching speed was 5 mm / min. Using a biaxial stretching apparatus (manufactured by Imoto Seisakusho). The film was uniaxially stretched in the longitudinal direction under the above conditions to obtain a + 15% stretched film (stretched resin molded body).
次いで、上記合成例3で得た篭型シリコーン樹脂(30重量部)、ジシクロペンタニルジアクリレート(65重量部)、ウレタンアクリレートオリゴマー(5重量部)、及び光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(2.5重量部)を混合して樹脂層形成用の樹脂組成物を得た後、石英ガラス上に上記で得られた+15%延伸フィルムをおき、一方の面にバーコーターを用いてこの樹脂層形成用樹脂組成物を厚さ50μmになるようにキャスト(流延)し、333W/cmの超高圧水銀ランプを用いて、2000mJ/cm2の積算露光量(365nm換算)で硬化させた。さらに残りの面にも、厚さ50μmになるようにこの樹脂層形成用樹脂組成物をキャスト(流延)し、333W/cmの超高圧水銀ランプを用い、3000mJ/cm2の積算露光量(365nm換算)で硬化させ、樹脂層を備えた実施例2に係る位相差フィルムを得た。この位相差フィルムの厚さは200μmであり、フィルム面内の位相差値Re=(nx−ny)dは+34nmであった。また、得られた位相差フィルムを100℃で10時間加熱する耐熱試験(加熱処理)後のRe値(位相差値)及び透過率を測定した。結果を表2に示す。 Next, the cage silicone resin (30 parts by weight), dicyclopentanyl diacrylate (65 parts by weight), urethane acrylate oligomer (5 parts by weight) obtained in Synthesis Example 3 above, and 1-hydroxycyclohexyl as a photopolymerization initiator After a phenyl ketone (2.5 parts by weight) was mixed to obtain a resin composition for forming a resin layer, the + 15% stretched film obtained above was placed on quartz glass, and a bar coater was used on one side The resin composition for forming a resin layer was cast (cast) to a thickness of 50 μm, and cured using an ultrahigh pressure mercury lamp of 333 W / cm at an integrated exposure amount of 2000 mJ / cm 2 (in terms of 365 nm). I let you. Further, the resin composition for forming a resin layer was cast on the remaining surface so as to have a thickness of 50 μm, and an integrated exposure dose of 3000 mJ / cm 2 (using a 333 W / cm ultra-high pressure mercury lamp) The retardation film according to Example 2 having a resin layer was obtained by curing at 365 nm. The thickness of the retardation film is 200 [mu] m, the phase difference value in a film plane Re = (n x -n y) d was + 34 nm. Moreover, Re value (phase difference value) and the transmittance | permeability after the heat test (heat processing) which heat the obtained retardation film for 10 hours at 100 degreeC were measured. The results are shown in Table 2.
[比較例1]
樹脂組成物を表1に示す配合組成の重量部及び積算露光量とした以外は、実施例1と同様にして樹脂成形体を得た。
[Comparative Example 1]
A resin molded body was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin composition was changed to parts by weight of the blending composition shown in Table 1 and the integrated exposure amount.
得られた樹脂成形体から25mm×70mmの小片を切り出し、二軸延伸装置(井元製作所製)を用いて、温度60℃、延伸速度5mm/min.の条件にて長手方向に一軸延伸を実施し、+10%延伸フィルムを得た。固定した治具ごと熱風循環オーブン(富山産業製)を用いて180℃、30分間の加熱処理を行い、+5%延伸フィルムを得た。延伸フィルムの厚さは224μmであり、フィルム面内の位相差値Re=(nx−ny)dは+13nmであった。しかし、耐熱試験を行ったところRe値(位相差値)が0nmとなり位相差フィルムの性能が消失した。 A small piece of 25 mm × 70 mm was cut out from the obtained resin molded body, and the temperature was 60 ° C., the stretching speed was 5 mm / min. The film was uniaxially stretched in the longitudinal direction under the conditions described above to obtain a + 10% stretched film. The fixed jig was subjected to heat treatment at 180 ° C. for 30 minutes using a hot air circulating oven (manufactured by Toyama Sangyo) to obtain a + 5% stretched film. The thickness of the stretched film is 224Myuemu, retardation values in a film plane Re = (n x -n y) d was + 13 nm. However, when the heat resistance test was performed, the Re value (retardation value) became 0 nm, and the performance of the retardation film disappeared.
上記実施例及び比較例における各種試験や測定には以下のようにして行った。 Various tests and measurements in the above Examples and Comparative Examples were performed as follows.
(耐熱試験)
TMA測定装置EXSTAR6000(SII製)を用いて100℃で10時間保持した。
(Heat resistance test)
It was kept at 100 ° C. for 10 hours using a TMA measuring apparatus EXSTAR6000 (manufactured by SII).
(位相差フィルムのレタデーション値Reの測定)
位相差測定装置NPDM−1000(ニコン製)を用いて測定した。λ550nmの位相差値を表2に示す。
(Measurement of retardation value Re of retardation film)
It measured using phase difference measuring device NPDM-1000 (made by Nikon). Table 2 shows the phase difference value at λ550 nm.
(レタデーション値Re変化量の測定)
耐熱試験前のRe値から前記耐熱試験を行った後のRe値の差を算出した。
(Measurement of retardation value Re change amount)
The difference in Re value after the heat resistance test was calculated from the Re value before the heat resistance test.
また、下記表1中の略号は次のとおりである。
A:直鎖型シリコーン樹脂1
B:直鎖型シリコーン樹脂2
C:篭型シリコーン樹脂
D:ジシクロペンタニルジアクリレート(共栄社化学(株)製ライトアクリレートDCP−A)
E:ウレタンアクリレートオリゴマー
F:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
G:ジクミルパーオキサイド(日本油脂(株)製パークミルD)
The abbreviations in Table 1 below are as follows.
A: Linear silicone resin 1
B: Linear silicone resin 2
C: vertical silicone resin D: dicyclopentanyl diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light acrylate DCP-A)
E: Urethane acrylate oligomer F: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone G: Dicumyl peroxide (Park Mill D, manufactured by NOF Corporation)
Claims (13)
樹脂組成物を少なくとも1枚の支持体で支持し、上記(1)成分の不飽和基を0.1%〜50%減少させる一次硬化により樹脂成形体を得た後、この樹脂成形体を所定の形状に切り出して延伸治具に固定し、任意方向に延伸倍率5〜700%の範囲で延伸させて延伸樹脂成形体を得て、この延伸樹脂成形体を延伸治具に固定した状態で更に加熱及び/又はエネルギー線を照射して二次硬化させ、その後、室温まで冷却することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。 (1) A resin composition comprising a silicone resin having a number average molecular weight of 1000 to 80000 represented by the following general formula (1), and (2) a photopolymerization initiator and / or (3) a thermal polymerization initiator. Is a method for producing a retardation film using
The resin composition is supported by at least one support, and after obtaining a resin molding by primary curing that reduces the unsaturated group of the component (1) by 0.1% to 50%, the resin molding is predetermined. In a state where the stretched resin molded body is fixed to the stretching jig, the stretched resin molded body is stretched in a range of 5 to 700% in a stretch ratio to obtain a stretched resin molded body. A method for producing a retardation film, wherein the film is secondarily cured by irradiation with heat and / or energy rays, and then cooled to room temperature.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009052699A JP5457051B2 (en) | 2009-03-05 | 2009-03-05 | Retardation film and method for producing the same |
KR1020100009472A KR20100100600A (en) | 2009-03-05 | 2010-02-02 | Retardation film and process of producing the same |
TW099103907A TWI454533B (en) | 2009-03-05 | 2010-02-09 | Phase-difference film and method for forming same |
CN201010127064.XA CN101825734B (en) | 2009-03-05 | 2010-03-04 | Phase difference film and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009052699A JP5457051B2 (en) | 2009-03-05 | 2009-03-05 | Retardation film and method for producing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010204586A true JP2010204586A (en) | 2010-09-16 |
JP5457051B2 JP5457051B2 (en) | 2014-04-02 |
Family
ID=42689752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009052699A Expired - Fee Related JP5457051B2 (en) | 2009-03-05 | 2009-03-05 | Retardation film and method for producing the same |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5457051B2 (en) |
KR (1) | KR20100100600A (en) |
CN (1) | CN101825734B (en) |
TW (1) | TWI454533B (en) |
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JP2006089685A (en) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Nippon Steel Chem Co Ltd | Silicone resin composition and molding |
WO2008123347A1 (en) * | 2007-03-28 | 2008-10-16 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Retardation film, retardation film laminate, and their production methods |
WO2009119253A1 (en) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | 新日鐵化学株式会社 | Silanol-group-containing curable cage-type silsesquioxane compound, cage-structure-containing curable silicone copolymer, processes for producing these, and curable resin composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100100600A (en) | 2010-09-15 |
JP5457051B2 (en) | 2014-04-02 |
CN101825734A (en) | 2010-09-08 |
CN101825734B (en) | 2014-08-20 |
TW201037039A (en) | 2010-10-16 |
TWI454533B (en) | 2014-10-01 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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