JP2010191128A - 表示装置の製造方法および表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を複数の小領域に分割して小領域毎に順次露光する際に、それぞれの小領域に照射する光の焦点のずれを低減する。
【解決手段】 透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を露光する際に、当該感光性材料膜の露光対象領域全体を複数の小領域に分割し、それぞれの前記小領域に照射する光の焦点を決定する表示装置の製造方法であって、前記光の焦点は、前記感光性材料膜の前記露光対象領域全体を複数の測長単位領域に分割し、前記測長単位領域毎に測定した前記露光装置の光学系から前記感光性材料膜までの距離に基づいて決定し、前記透光性の膜を形成する前に、前記測長単位領域のそれぞれに不透明な導電層を形成しておく表示装置の製造方法。
【選択図】 図４

Description

本発明は、表示装置の製造方法および表示装置に関し、特に、透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を露光、現像する工程を有する製造方法に適用して有効な技術に関するものである。

従来、液晶表示パネルの製造方法には、一対の基板（マザーガラス）を用い、複数枚の液晶表示パネルを一括して製造する多面取りと呼ばれる製造方法がある。

多面取りで液晶表示パネルを製造するときには、まず、一対の基板のうちの一方の基板における複数の回路形成領域に、複数の走査信号線および複数の映像信号線を含む複数の配線、複数のＴＦＴ素子、複数の透明電極、配向膜などを形成する。また、一対の基板のうちの他方の基板には、前記回路形成領域と対応する領域に、ブラックマトリクス、カラーフィルタ、配向膜などを形成する。

そして、２枚の基板を貼り合わせ、液晶材料の封入を行った後、それぞれの回路形成領域を切り出して、複数枚の液晶表示パネルに分離する。

基板の上に走査信号線、映像信号線、ＴＦＴ素子、透明電極を形成するときには、走査信号線、映像信号線、ＴＦＴ素子を形成した後、ＴＦＴ素子のソースまたはドレインに接続される透明電極（以下、画素電極という）を形成するのが一般的である。このとき、走査信号線や映像信号線などは、たとえば、アルミニウム膜（Ａｌ膜）などの導電膜をエッチングして形成する。また、ＴＦＴ素子の半導体層は、たとえば、アモルファスシリコンまたは多結晶シリコンなどの半導体膜をエッチングして形成する。また、画素電極は、たとえば、ＩＴＯ膜などの透光性の導電膜をエッチングして形成する。

導電膜または半導体膜をエッチングするときには、エッチングする導電膜または半導体膜の上に感光性材料膜を形成し、当該感光性材料膜を露光、現像してエッチング用のマスクを形成する。

感光性材料膜の露光は、従来、フォトマスク（レチクル）を用いる露光装置で行うのが一般的である。フォトマスクを用いる露光装置で感光性材料膜を露光するときには、たとえば、露光対象領域全体を一度で露光する場合もあるし、露光対象領域を複数の小領域に分割し、それぞれの小領域を順次露光する場合もある。

しかしながら、フォトマスクは、部分的な修正が実質的に不可能である。したがって、感光性材料膜を露光、現像して得られるパターンや、当該パターンをマスクにしたエッチングで形成される導電膜などに形状不良が生じた場合は、たとえば、新たなフォトマスクを作成しなければならないという問題がある。

そのため、近年の液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、直描露光機と呼ばれる露光装置のように、フォトマスクが不要な露光装置で感光性材料膜を露光する方法が提案されている。

直描露光機は、たとえば、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ）やＧＬＶ（Ｇｒａｔｉｎｇ Ｌｉｇｈｔ Ｖａｌｖｅ）と称するＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を有し、ＣＡＤなどで作成されたレイアウトデータに基づく数値制御により、照射する光のパターンを制御する露光装置である（たとえば、特許文献１乃至特許文献３を参照。）。そのため、感光性材料膜を露光、現像して得られるパターンや、当該パターンをマスクにしたエッチングで形成された導電膜などに形状不良が生じた場合は、形状不良が生じた部分と対応する数値を修正するだけでよい。したがって、直描露光機で感光性材料膜を露光する方法は、たとえば、高精細な液晶表示パネルの表示特性のばらつきや製造コストを低減させる方法の１つとして、注目されている。

特開昭６２−０２１２２０号公報 特開２００３−３３２２２１号公報 特開２００２−１３９８４５号公報

液晶表示パネルを多面取りで製造するときに使用する基板は、大面積であり、たとえば、走査信号線などを形成する面に凹凸がある。そのため、感光性材料膜を露光するときに、露光対象領域を複数の小領域に分割し、小領域毎に順次露光すると、それぞれの小領域における露光装置の光学系と感光性材料膜との距離に違いが生じる。

従来のフォトマスクを使用する露光装置の場合、光学系の焦点深度は、通常、それぞれの小領域における光学系と感光性材料膜との距離の変動量よりも深い。そのため、基板に凹凸による露光不良、たとえば、感光させる領域への光の照射が不十分で未感光な部分が残ったり、逆に意図するより広い領域が感光してしまうようなことが起こりにくい。

しかしながら、直描露光機で感光性材料膜を露光する場合、光学系の焦点深度は、たとえば、±４μｍ程度と非常に浅い。そのため、基板の表面に凹凸があると、その影響を受けて、たとえば、感光させる露光単位領域への光の照射が不十分になり未感光な部分が残ったり、逆に意図するより広い領域が感光してしまうようなことが起こる。

したがって、直描露光機で感光性材料膜を露光するときには、通常、露光する前に、小領域毎に測長（測距）を行って照射する光の焦点を決定し、それぞれの前記小領域に照射する光の焦点を、決定した焦点に合わせながら露光するのが好ましい。

このとき、小領域毎の測長は、たとえば、感光性材料膜が感光しない波長の光を照射して行い、反射光の位置や強度などから光学系から感光性材料膜までの距離を算出する。

ところで、液晶表示パネルを多面取りで製造する場合、走査信号線などを形成する基板には、たとえば、隣接する２つの回路形成領域を分離する分離領域のような、走査信号線などの配線が形成されない領域がある。そのため、走査信号線、映像信号線、ＴＦＴ素子などを形成した後、ＴＦＴ素子のソースに接続される画素電極を形成するときに、たとえば、下記のような問題が生じることがある。

画素電極を形成するときには、たとえば、ＩＴＯ膜などの透光性の導電膜をエッチングして形成する。このとき、導電膜の上に形成した感光性材料膜の露光を直描露光機で行うとすると、露光する前に、たとえば、当該直描露光機の光学系が一度に露光可能な小領域毎に測長をし、照射する光の焦点を決定する。

このとき、回路形成領域には、走査信号線や映像信号線などの不透明な金属でなる配線が形成されており、かつ、これらの配線の寸法や配置間隔は、小領域の寸法よりも小さい。そのため、回路形成領域内にある小領域の測長を行うときには、照射した光が走査信号線や映像信号線などで反射し、光学系から感光性材料膜までの距離を算出することができる。

しかしながら、従来の多面取りの製造方法の場合、通常、隣接する２つの回路形成領域を分離する分離領域には、上記のように、配線などが形成されていない。また、分離領域は、基板と透光性の導電膜との間に複数の絶縁層が介在しているが、これらの絶縁層は透光性である。そのため、たとえば、測長のための光を当てる領域が分離領域内にある小領域の測長を行うときには、反射光の強度が弱く、光学系から感光性材料膜までの正確な距離を算出できない。したがって、このような小領域に対しては、照射する光の焦点がずれたり、焦点を決定することができずに装置が停止したりすることがある。

小領域に照射した光の焦点がずれている場合は、たとえば、感光させる露光単位領域の感光性材料膜に未感光な部分が残ったり、感光させる露光単位領域と隣接する感光させない露光単位領域の感光性材料膜まで感光してしまったりする。そのため、現像後に得られる感光性材料膜（マスク）の形状不良により、たとえば、当該感光性材料膜をマスクとしたエッチングで得られる透光性の導電膜に形状不良が生じる。その結果、たとえば、液晶表示装置の表示品質の低下や動作不良、液晶表示装置毎の表示品質にばらつきが生じやすいという問題があった。

また、焦点を決定することができずに装置が停止した場合は、たとえば、焦点を決定することができなかった小領域の周辺にある別の小領域における測長の結果に基づいて、測長できなかった小領域に照射する光の焦点を決定しなければならないという問題があった。

また、上記のような問題は、直描露光機で感光性材料膜を露光する場合に限らず、たとえば、フォトマスクを使用する露光装置で露光する場合でも、一度に露光する領域が狭く、かつ、焦点深度が小さいと生じる。

本発明の目的は、たとえば、液晶表示装置の製造方法において、透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を複数の小領域に分割して小領域毎に順次露光する際に、それぞれの小領域に照射する光の焦点のずれを低減することが可能な技術を提供することにある。

本発明の他の目的は、たとえば、液晶表示装置の製造方法において、透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を複数の小領域に分割して小領域毎に順次露光する際の効率をよくすることが可能な技術を提供することにある。

本発明の他の目的は、たとえば、液晶表示装置の表示品質の低下や、液晶表示装置毎の表示品質のばらつきを抑えることが可能な技術を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかになるであろう。

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概略を説明すれば、以下の通りである。

（１）基板の上に透光性の膜を形成する工程と、前記透光性の膜の上に感光性材料膜を形成する工程と、露光装置を用いて当該感光性材料膜を露光する工程と、露光した前記感光性材料膜を現像する工程とを有し、前記感光性材料膜を露光する工程は、当該感光性材料膜の露光対象領域全体を、複数の小領域に分割し、それぞれの前記小領域に照射する光の焦点を決定する第１の工程と、それぞれの前記小領域に照射する光の焦点を、前記第１の工程で決定した焦点に合わせながら、それぞれの前記小領域を順次露光する第２の工程とを有する表示装置の製造方法であって、前記第１の工程は、前記感光性材料膜の前記露光対象領域全体を、長手方向が同じ方向である複数の帯状領域に分割し、かつ、それぞれの前記帯状領域を前記長手方向に並んだ複数の測長単位領域に分割して、前記測長単位領域毎に、前記露光装置の光学系から前記感光性材料膜までの距離を算出し、当該算出した距離に基づいてそれぞれの前記小領域に照射する光の焦点を決定し、前記透光性の膜を形成する工程の前に、前記測長単位領域のそれぞれに、不透明な導電層を形成する工程を有する表示装置の製造方法。

（２）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記測長単位領域は、前記小領域と同じ寸法である表示装置の製造方法。

（３）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記小領域は、前記帯状領域の長手方向に延びる辺および短手方向に延びる辺で囲まれた四角形であり、前記測長単位領域は、前記帯状領域の短手方向の寸法が前記小領域の寸法と同じであり、前記帯状領域の長手方向の寸法が前記小領域の寸法の２倍以上である表示装置の製造方法。

（４）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記小領域は、前記帯状領域の長手方向に延びる辺および短手方向に延びる辺で囲まれており、かつ、前記短手方向の寸法が前記帯状領域の短手方向と同じ寸法の四角形であり、複数の前記帯状領域には、前記帯状領域の長手方向の寸法が前記小領域の寸法と同じ前記測長単位領域に分割された帯状領域と、前記帯状領域の長手方向の寸法が前記小領域の寸法の２倍以上である前記測長単位領域に分割された帯状領域とがある表示装置の製造方法。

（５）前記（１）の表示装置の製造方法において、前記第１の工程と前記第２の工程とは、並行して行われ、前記第２の工程は、前記帯状領域の長手方向に並んだ前記小領域毎に順次露光する表示装置の製造方法。

（６）１枚の基板に設定される複数の回路形成領域のそれぞれに、複数の走査信号線、複数の映像信号線、複数のＴＦＴ素子、および複数の透明電極を有する回路を形成する表示装置の製造方法であって、２つの隣接する前記回路形成領域の間には、当該２つの回路領域を分離する分離領域があり、それぞれの前記回路形成領域に前記走査信号線を形成するときに、当該走査信号線とともに、前記走査信号線とは電気的に接続されない導電層を前記分離領域に形成する表示装置の製造方法。

（７）１枚の基板に設定される複数の回路形成領域のそれぞれに、複数の走査信号線、複数の映像信号線、複数のＴＦＴ素子、および複数の透明電極を有する回路を形成する表示装置の製造方法であって、隣接する２つの前記回路形成領域の間には、当該２つの前記回路形成領域を分離する分離領域があり、それぞれの前記回路形成領域に前記映像信号線を形成するときに、当該映像信号線とともに、前記映像信号線とは電気的に接続されない導電層を前記分離領域に形成する表示装置の製造方法。

（８）前記（６）または（７）の表示装置の製造方法において、前記導電層は、平面形状が格子状である表示装置の製造方法。

（９）前記（６）または（７）の表示装置の製造方法において、前記導電層は、前記分離領域毎に独立させる表示装置の製造方法。

（１０）前記（６）または（７）の表示装置の製造方法において、複数の前記回路形成領域は、第１の方向および第２の方向にマトリクス状に配置されており、前記導電層は、前記分離領域のうちの、前記第１の方向で隣接する２つの前記回路領域を分離する分離領域のみに形成する表示装置の製造方法。

（１１）前記（６）または（７）の表示装置の製造方法において、前記透明電極は、前記ＴＦＴ素子のソースまたはドレインに接続させる電極であり、前記走査信号線および前記映像信号線は、前記透明電極よりも前に形成する表示装置の製造方法。

（１２）前記（６）または（７）の表示装置の製造方法において、前記透明電極には、前記ＴＦＴ素子のソースまたはドレインに接続させる第１の透明電極と、前記基板と前記第１の電極との間に配置される第２の透明電極とがあり、前記走査信号線および前記映像信号線は、前記第１の透明電極よりも前に形成する表示装置の製造方法。

（１３）前記（１２）の表示装置の製造方法において、前記走査信号線および前記映像信号線は、前記第２の透明電極よりも前に形成する表示装置の製造方法。

（１４）絶縁基板の上に複数の配線と、複数のＴＦＴ素子と、複数の透明電極とが配置された表示パネルを有する表示装置であって、前記絶縁基板の外周部に、前記配線、前記ＴＦＴ素子、前記透明電極のいずれとも電気的に接続されていない不透明な導電層が配置されている表示装置。

（１５）前記（１４）の表示装置において、前記表示パネルは、液晶表示パネルである表示装置。

本発明の表示装置の製造方法によれば、透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を複数の小領域に分割して小領域毎に順次露光する際に、それぞれの小領域に照射する光の焦点のずれを低減することができる。

また、本発明の表示装置の製造方法によれば、透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を複数の小領域に分割して小領域毎に順次露光する際の効率をよくすることができる。

また、本発明の表示装置の製造方法を適用して製造された表示装置は、たとえば、透光性の導電膜をエッチングして得られる導電層の形状不良を低減できる。そのため、たとえば、液晶表示装置の表示品質の低下や、液晶表示装置毎の表示品質のばらつき抑えることができる。

液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式平面図である。 液晶表示パネルにおける１つの画素の回路構成の一例を示す模式回路図である。 多面取りの液晶表示パネルの製造方法の一例を示す模式図である。 感光性材料膜の露光方法の一例を示す模式図である。 マザーガラスの回路形成領域と感光性材料膜を露光するときの小領域との関係の一例を示す模式平面図である。 図３（ａ）の小領域ＥＡ１の測長の様子の一例を示す模式断面図である。 図３（ａ）の小領域ＥＡ２の測長の様子の一例を示す模式断面図である。 本発明による実施例１の液晶表示パネルの製造方法の概要を説明するための模式図である。 本発明による実施例２の液晶表示パネルの製造方法の概要を説明するための模式図である。 本発明による実施例３の液晶表示パネルの製造方法における１つの帯状領域に対する光反射層の配置方法の一例を示す模式図である。 １つの帯状領域に対する光反射層の配置方法の別の一例を示す模式図である。 マザーガラスに対する光反射方法の配置方法の一例を示す模式図である。 実施例３の液晶表示パネルの製造方法の第１の変形例を示す模式図である。 実施例３の液晶表示パネルの製造方法の第２の変形例を示す模式図である。 実施例３の液晶表示パネルの製造方法の第３の変形例を示す模式図である。 本発明の表示装置の製造方法の応用例を説明するための模式図である。

以下、本発明について、図面を参照して実施の形態（実施例）とともに詳細に説明する。
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。

図１（ａ）および図１（ｂ）は、本発明の表示装置の製造方法で製造することが望まれる表示装置の概略構成の一例を示す模式図である。
図１（ａ）は、液晶表示パネルの概略構成の一例を示す模式平面図である。図１（ｂ）は、液晶表示パネルにおける１つの画素の回路構成の一例を示す模式回路図である。

本発明は、表示装置の製造方法のうちの、透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を露光する工程に関する。そのような工程を有する表示装置の製造方法には、たとえば、液晶表示装置の製造方法のうちの、液晶表示パネルの製造方法がある。

液晶表示パネルは、たとえば、図１（ａ）に示すように、第１の基板１と第２の基板２とを有し、これらの基板１，２の間には、図示しない液晶材料が封入されている。このとき、第１の基板１の上には、たとえば、複数の走査信号線３、複数の映像信号線４、コモン配線５、信号入力配線６などが配置されている。また、第１の基板１の上には、たとえば、当該液晶表示パネルを駆動させる駆動回路７が実装されている。

液晶表示パネルの表示領域ＤＡは、複数の画素に分割されており、１つの画素は、たとえば、図１（ｂ）に示すように、ＴＦＴ素子Ｔｒと、画素電極８、共通電極９、および液晶層１０により形成される液晶容量Ｃ_ＬＣ（画素容量ということもある。）とを有する。

ＴＦＴ素子Ｔｒは、ゲートが１本の走査信号線３に接続しており、ドレインが１本の映像信号線４に接続している。また、ＴＦＴ素子Ｔｒのソースは、画素電極８に接続している。なお、ＴＦＴ素子Ｔｒのソースとドレインは、バイアスの方向、すなわちゲートがオンになっている期間における映像信号線４の電位と画素電極８の電位との関係によって変わる。

また、共通電極９は、コモン配線５に接続しており、あらかじめ定められた電位（コモン電位）の電圧が加わっている。液晶表示パネルがＩＰＳ方式などの横電界駆動方式の場合、共通電極９は、第１の基板１の上に形成される。また、液晶表示パネルがＶＡ方式やＴＮ方式などの縦電界駆動方式の場合、共通電極９は、第２の基板２の上に形成される。

また、液晶層１０は、第１の基板１と第２の基板２との間に封入されている液晶材料でなる。

また、液晶表示パネルにおける１つの画素は、図１（ｂ）に示した構成に限らず、たとえば、画素電極８、映像信号線４や共通電極９とは異なる導電層、および絶縁層により形成される保持容量を有することもある。

従来の液晶表示パネルの製造方法では、画素の構成によらず、透明導電膜をエッチングして画素電極８を形成するのが一般的である。すなわち、従来の液晶表示パネルの製造方法は、画素の構成によらず、透光性の導電膜の上に形成した感光性材料膜を露光する工程を有するのが一般的である。そして、本発明は、たとえば、画素電極８を形成する際の、ＩＴＯ膜などの透明導電膜の上に形成した感光性材料膜を露光する工程に適用すると効果を発揮する。そのため、本明細書では、第１の基板１の上に形成された回路の具体的な構成についての説明は省略する。
なお、本発明は、透明導電膜の加工のみでなく、ＳｉＮやＳｉＯなどの無機絶縁膜の加工時や感光性有機絶縁膜の加工時にも同様の効果があることはもちろんである。

図２（ａ）および図２（ｂ）は、液晶表示パネルの製造方法の一例を説明するための模式図である。
図２（ａ）は、多面取りの液晶表示パネルの製造方法の一例を示す模式図である。図２（ｂ）は、感光性材料膜の露光方法の一例を示す模式図である。

図１（ａ）に示したような構成の液晶表示パネルは、たとえば、携帯電話端末などの携帯型電子機器の液晶ディスプレイに用いられるものであり、表示領域ＤＡの対角の寸法が数インチ程度である。このような液晶表示パネルを製造するときには、通常、多面取りと呼ばれる方法で製造する。なお、多面取りというのは、一対の基板（マザーガラス）を用い、複数枚の液晶表示パネルを一括して製造する方法の総称であり、Ｎ（２以上の整数）枚の液晶表示パネルを一括して製造する場合はＮ面取りと呼ぶこともある。

表示領域ＤＡの対角の寸法が３インチ程度の液晶表示パネルを多面取りで製造するときには、たとえば、１枚のマザーガラスの寸法が７３０ｍｍ×９２０ｍｍである一対のマザーガラスを用いて形成する。このとき、それぞれの液晶表示パネルの第１の基板１になるマザーガラス１１は、たとえば、図２（ａ）に示すように、１９２箇所の、第１の基板１になる領域ＢＡ（以下、回路形成領域という。）が設定される。そして、１９２箇所の回路形成領域ＢＡのそれぞれに、走査信号線３、映像信号線４、ＴＦＴ素子Ｔｒ、および画素電極８などからなる回路を形成する。

マザーガラス１１の回路形成領域ＢＡのそれぞれに画素電極８を形成するときには、通常、マザーガラス１１の全面に形成（成膜）した透明導電膜をエッチングして形成する。また、透明導電膜をエッチングするときには、当該透明導電膜の上に感光性材料膜を形成し、当該感光性材料膜を露光、現像してマスク（エッチングレジスト）を形成する。

感光性材料膜の露光は、従来、フォトマスクを用いた露光装置で行うのが一般的である。しかしながら、フォトマスクは、部分的な修正が実質的に不可能である。したがって、感光性材料膜を露光、現像して得られるパターンや、当該パターンをマスクにしたエッチングで形成された導電膜などに形状不良が生じた場合は、たとえば、新たなフォトマスクを作成しなければならないという問題がある。

そのため、近年の液晶表示パネルの製造方法では、このような問題を解決する方法として、たとえば、直描露光機と呼ばれる露光装置で感光性材料膜を露光する方法が提案されている。

直描露光機は、たとえば、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｍｉｒｒｏｒ Ｄｅｖｉｃｅ）やＧＬＶ（Ｇｒａｔｉｎｇ Ｌｉｇｈｔ Ｖａｌｖｅ）と称するＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）を有し、ＣＡＤなどで作成されたレイアウトデータに基づく数値制御により、露光対象領域に照射する光のパターンを制御する露光装置である。

しかしながら、直描露光機で感光性材料膜を露光する場合、光の照射／非照射は、たとえば、０．５μｍ×０．５μｍあるいは０．２５μｍ×０．２５μｍの微小領域（描画解像単位領域）毎に制御する。そのため、直描露光機で感光性材料膜を露光するときには、たとえば、図２（ｂ）に示すように、露光対象領域１２を、横方向（ｙ方向）の寸法がＬｙ、縦方向（ｘ方向）の寸法がＬｘの小領域ＥＡに分割し、小領域ＥＡ毎に順次露光する(実際には横方向の寸法Ｌｙに対し、縦方向は基板を走査させることで連続的に光を照射し露光を行う。)。この小領域ＥＡの横方向の寸法Ｌｙおよび縦方向の寸法Ｌｘは、たとえば、それぞれ４ｍｍ程度である。

このとき、感光性材料膜の露光は、たとえば、露光対象領域１２を、ｘ方向が長手方向である複数の帯状領域ＣＡに分割し、帯状領域ＣＡ毎に順次露光する。それぞれの帯状領域ＣＡは、たとえば、短手方向（ｙ方向）の寸法が小領域ＥＡの寸法Ｌｙであり、長手方向に並んだ複数の小領域ＥＡで構成されている。

またこのとき、１つの帯状領域ＣＡに含まれる複数の小領域ＥＡの露光は、たとえば、当該複数の小領域ＥＡのうちの一方の端に位置する小領域ＥＡの露光から開始し、直描露光機の光学系とマザーガラス１１（露光対象領域１２）とのｘ方向の位置関係をずらしながら、他方の端に位置する小領域ＥＡまで順次露光する。

図３（ａ）乃至図３（ｃ）は、直描露光機を用いた従来の感光性材料膜の露光方法における問題点の一例を説明するための模式図である。
図３（ａ）は、マザーガラスの回路形成領域と感光性材料膜を露光するときの小領域との関係の一例を示す模式平面図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）の小領域ＥＡ１の測長の様子の一例を示す模式断面図である。図３（ｃ）は、図３（ａ）の小領域ＥＡ２の測長の様子の一例を示す模式断面図である。

液晶表示パネルを多面取りで製造するときに使用するマザーガラス１１は、大面積であり、たとえば、走査信号線３などを形成する面に凹凸がある。このとき、マザーガラス１１の上に形成された感光性材料膜は、当該マザーガラス１１の凹凸の影響を受けて、膜厚にむらが生じたり、表面に凹凸が生じたりする。

また、直描露光機で感光性材料膜を露光する場合、光の照射／非照射は、前述のように、たとえば、０．５μｍ×０．５μｍあるいは０．２５μｍ×０．２５μｍの微小領域毎に制御する。このような高解像度の描画を実現し、しかも１回の露光領域ＥＡが４ｍｍ角程度と小さく光学系のレンズ径が小さい直描露光機では、焦点深度が浅くなり、たとえば、±４μｍ程度となる。

したがって、高解像度に対応する直描露光機で感光性材料膜を露光するときには、露光不良を防ぐために、たとえば、小領域ＥＡ毎に照射する光の焦点を合わせながら行うのが好ましい。

このとき、それぞれの小領域ＥＡに照射する光の焦点は、小領域ＥＡ毎に測長、言い換えると感光性材料膜を感光させるための光を照射する光学系から感光性材料膜までの距離の測定を行って決定する。光学系から感光性材料膜までの距離は、たとえば、感光性材料膜が感光しない波長の光を照射したときの反射光の位置や強度を測定し、その測定結果から算出する。以下の説明では、感光性材料膜を感光させるための光を感光用の光といい、光学系から感光性材料膜までの距離を測定するための光を測長用の光という。

ところで、液晶表示パネルを多面取りで製造する場合、マザーガラス１１の回路形成領域ＢＡと、直描露光機で感光性材料膜を露光するときの小領域ＥＡとの関係は、たとえば、図３（ａ）に示すような関係になっている。

そして、マザーガラス１１の上に画素電極８を形成するときには、ＩＴＯ膜などの透明導電膜を形成する工程、透明導電膜の上に感光性材料膜を形成する工程、小領域ＥＡ毎に感光用の光の焦点を決定する工程、小領域ＥＡ毎に感光性材料膜を露光する工程、および感光性材料膜を現像する工程が行われる。

また、マザーガラス１１の上に画素電極８を形成する工程は、通常、走査信号線３を形成する工程や、映像信号線４を形成する工程の後で行われる。

そのため、たとえば、図３（ａ）に示した小領域ＥＡ１のように、全体が回路形成領域ＢＡ内にある小領域は、画素電極８の形成に用いる透明導電膜とマザーガラス１１との間に、走査信号線３や映像信号線４などがある。このとき、走査信号線３や映像信号線４は、たとえば、アルミニウムなどの金属で形成されており、光反射率が高い。また、マザーガラス１１の上には、走査信号線３や映像信号線４などの他に、複数の透明な絶縁層が形成されている。

したがって、小領域ＥＡ１に対して測長用の光を照射したときには、たとえば、図３（ｂ）に示すように、光源１３から出射した測長用の光１４ａが走査信号線３で反射し、その反射光１４ｂが光センサ１５で検出される。

なお、マザーガラス１１の上には、走査信号線３や映像信号線などのほかに、たとえば、第１の絶縁層１６や第２の絶縁層１７などが形成されており、第２の絶縁層１７の上に、透明導電膜１８および感光性材料膜１９が形成されている。そのため、光源１３から出射した測長用の光１４ａは、その一部が、たとえば、感光性材料膜１９と透明導電膜１８との界面などで反射し、その反射光１４ｃが光センサ１５で検出されることもある。しかしながら、反射光１４ｃの強度は、反射光１４ｂの強度に比べて非常に低い。そのため、小領域ＥＡ１については、反射光１４ｂの強度や検出位置などに基づいて、感光用の光を照射するための光学系２０から感光性材料膜１９までの距離Ｈを算出することができ、感光用の光の焦点を決定することができる。

一方、たとえば、図３（ａ）に示した小領域ＥＡ２のように、ほぼ全体が、隣接する２つの回路形成領域ＢＡを分離する分離領域にある小領域は、通常、画素電極８の形成に用いる透明導電膜とマザーガラス１１との間に、走査信号線３や映像信号線４などの配線がない。

そのため、小領域ＥＡ２に対して測長用の光を照射したときには、たとえば、図３（ｃ）に示すように、光源１３から出射した測長用の光１４ａは屈折を続け、マザーガラス１１の裏面から出射する。

なお、小領域ＥＡ２も、マザーガラス１１の上には、たとえば、第１の絶縁層１６や第２の絶縁層１７などが形成されており、第２の絶縁層１７の上に、透明導電膜１８および感光性材料膜１９が形成されている。そのため、光源１３から出射した測長用の光１４ａは、その一部が、たとえば、感光性材料膜１９と透明導電膜１８との界面や、第１の絶縁層１６とマザーガラス１１との界面などで反射し、その反射光１４ｃ，１４ｄが光センサ１５で検出されることもある。しかしながら、反射光１４ｃ，１４ｄの強度は、走査信号線３などの金属膜で反射した反射光１４ｂの強度に比べて非常に低い。そのため、小領域ＥＡ２については、光学系２０から感光性材料膜１９間での正確な距離を算出することが困難であり、感光用の光の正確な焦点を決定することができない。

したがって、従来の感光性材料膜の露光方法では、当該小領域に対して感光用の光を照射するときに、たとえば、焦点をあわせることができないという異常（エラー）が発生して露光装置が停止することがある。そのため、従来の液晶表示パネルの製造方法では、製造効率が低下するという問題があった。

また、従来の感光性材料膜の露光方法では、当該小領域に対して感光用の光を照射するときに、たとえば、焦点が合っていない状態で露光してしまい、露光不良が発生することがある。そのため、従来の製造方法で製造された液晶表示パネルを有する液晶表示装置では、たとえば、露光不良による表示品質の低下や動作不良、液晶表示装置毎の表示品質のばらつきが生じやすいといった問題があった。

図４は、本発明による実施例１の液晶表示パネルの製造方法の概要を説明するための模式図である。

実施例１では、本発明を適用した表示装置の製造方法の一例として、液晶表示パネルの製造方法を挙げる。

液晶表示パネルを製造するときには、たとえば、まず、マザーガラス１１の複数の回路形成領域ＢＡのそれぞれに、走査信号線３、映像信号線４、ＴＦＴ素子Ｔｒ、画素電極８などを形成する。このとき、画素電極８は、通常、走査信号線３、映像信号線４、ＴＦＴ素子Ｔｒを形成した後で形成する。また、画素電極８は、ＩＴＯ膜などの透明導電膜をエッチングして形成する。そのため、画素電極８を形成する工程は、透明導電膜を形成する工程、透明導電膜の上に感光性材料膜を形成する工程、感光性材料膜を露光、現像する工程、および透明導電膜をエッチングする工程を有する。

このとき、感光性材料膜の露光を直描露光機で行うとすると、露光する前に、前述のように、露光対象領域１２を複数の小領域ＥＡ（一度に露光可能な領域）に分割し、小領域ＥＡ毎に感光用の光の焦点を決定する。

そのため、実施例１の液晶表示パネルの製造方法では、画素電極８を形成する前、すなわち透明導電膜１８および感光性材料膜１９を形成する前に、たとえば、図４に示すように、マザーガラス１１の表面のうちの回路形成領域ＢＡの外側に、光反射率が高い材料でなる格子状の光反射層２１を形成しておく。

このとき、小領域ＥＡ１は、感光性材料膜１９とマザーガラス１１の間に、光反射層として機能する走査信号線３などの不透明な金属配線がある。そのため、小領域ＥＡ１における光学系２０と感光性材料膜１９との距離は、たとえば、図３（ａ）に示したように、走査信号線３で反射した反射光１４ｂの強度や検出位置に基づいて算出することができる。

また、小領域ＥＡ２は、感光性材料膜１９とマザーガラス１１の間に光反射層２１がある。そのため、小領域ＥＡ２における光学系２０と当該感光性材料膜１９との距離は、光反射層２１で反射した反射光の強度や検出位置に基づいて算出することができる。

すなわち、実施例１の液晶表示パネルの製造方法では、透明導電膜１８を形成する前に光反射層２１を形成し、走査信号線３や映像信号線４などが無い小領域における光学系２０と当該感光性材料膜１９との距離を算出することができるようにする。

そのため、実施例１の液晶表示パネルの製造方法では、感光性材料膜１９を露光するときに、たとえば、感光用の光の焦点を決定できないために露光装置が停止することを防げる。また、光反射層２１は、回路形成領域ＢＡの外側に形成するので、たとえば、走査信号線３を形成する工程で形成することができる。したがって、実施例１の液晶表示パネルの製造方法は、たとえば、製造効率の低下を防ぐことができる。

また、実施例１の液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、焦点が合っていない状態で露光したために露光不良が発生することを防げる。そのため、実施例１の製造方法で製造した液晶表示パネルを有する液晶表示装置は、たとえば、露光不良による表示品質の低下や動作不良、液晶表示装置毎の表示品質のばらつきを防ぐこともできる。

また、実施例１で説明した光反射層２１を形成する方法は、画素電極８を形成する工程における感光性材料膜の露光を直描露光機で行う場合に限らず、たとえば、透明な絶縁層の表面に形成した感光性材料膜の露光を直描露光機で行い、かつ、走査信号線３などの配線が形成されていない小領域ＥＡに感光用の光を照射する場合にも有効である。

なお、光反射層２１は、透明導電膜１８などの透光性の膜および感光性材料膜１９よりも前に形成しておけばよい。そのため、光反射層２１は、走査信号線３を形成する工程に限らず、たとえば、映像信号線４を形成する工程で形成してもよい。また、光反射層２１は、たとえば、走査信号線３を形成する工程および映像信号線４を形成する工程とは異なる独立した工程で形成してもよい。その場合、光反射層２１は、不透明な金属膜に限らず、たとえば、白色樹脂などの光反射率が高い樹脂で形成してもよい。

ところで、実施例１の液晶表示パネルの製造方法では、透明導電膜１８などの透光性の膜の上に形成した感光性材料膜１９を露光するときに、露光対象領域を複数の小領域に分割し、小領域毎に順次露光する。また、感光性材料膜１９を露光する前に、小領域ＥＡ毎に、感光用の光の焦点を決定する。

このとき、感光用の光の焦点を決定する工程と、感光性材料膜１９を露光する工程は、個別に行ってもよい。しかしながら、感光性材料膜１９を露光するときに、小領域ＥＡ毎に順次露光することを考慮すると、上記の２つの工程は、並行して行うことが望ましい。

感光用の光の焦点を決定する工程と、感光性材料膜１９を露光する工程とを並行して行う場合は、たとえば、直描露光機に第１の光源１３、光センサ１５や、焦点を決定するための手段（プログラムなど）を内蔵させればよい。

上記のような構成の直描露光機を用いて感光性材料膜１９を露光するときには、たとえば、ある小領域に対して感光用の光を照射している間に、それ以降で感光用の光を照射する小領域の測長をして感光用の光の焦点を決定すればよい。このとき、測長をする小領域は、まだ露光していない小領域であればよい。そのため、感光用の光を照射する小領域と測長をする小領域との位置関係は、適宜変更可能である。

また、実施例１の液晶表示パネルの製造方法は、感光性材料膜の露光方法が、露光対象領域を複数の小領域に分割して小領域毎に順次露光する方法であり、かつ、露光する前に、小領域毎に感光用の光の焦点を決定する方法であれば適用できる。そのため、感光性材料膜１９の露光は、直描露光機に限らず、たとえば、小面積のフォトマスクを用いて小領域ＥＡ毎に順次露光する露光装置で行ってもよい。

図５は、本発明による実施例２の液晶表示パネルの製造方法の概要を説明するための模式図である。

実施例１では、たとえば、図４に示したような格子状の光反射層２１を形成し、すべての小領域ＥＡにおいて、走査信号線３などの金属配線、または光反射層２１のいずれかで反射した反射光１４ｂの強度や検出位置に基づいて光学系２０から感光性材料膜１９までの正確な距離を測定（算出）できるようにしている。

しかしながら、ある１つの小領域ＥＡにおける光学系２０から感光性材料膜１９までの距離は、たとえば、当該小領域ＥＡの周囲にある別の小領域で測定（算出）した光学系２０から感光性材料膜１９までの距離に基づいて見積もることもできる。

そのため、光反射層２１は、たとえば、図５に示すように、回路形成領域ＢＡの辺に沿って延在する複数の短冊状のパターンにしてもよい。

また、実施例２の液晶表示パネルの製造方法において、感光用の光の焦点を決定するために行う測長は、たとえば、走査信号線３などの金属配線、または光反射層２１がある小領域ＥＡのみで行うようにする。そして、金属配線または光反射層２１がない小領域ＥＡについては、測長を行う代わりに、周囲にある小領域における測長の結果を用いた補間処理を行って光学系２０から感光性材料膜１９までの距離を見積もり、感光用の光の焦点を決定する。

このとき、金属配線または光反射層２１がある小領域とない小領域との識別は、たとえば、直描露光機のデータベースで保持しているレイアウトデータを用いて行えばよい。

図６（ａ）乃至図６（ｃ）は、本発明による実施例３の液晶表示パネルの製造方法の概要を説明するための模式図である。
図６（ａ）は、本発明による実施例３の液晶表示パネルの製造方法における１つの帯状領域に対する光反射層の配置方法の一例を示す模式図である。図６（ｂ）は、１つの帯状領域に対する光反射層の配置方法の別の一例を示す模式図である。図６（ｃ）は、マザーガラスに対する光反射方法の配置方法の一例を示す模式図である。

実施例１では、たとえば、図４に示したような格子状の光反射層２１を形成し、すべての小領域ＥＡにおいて、走査信号線３などの金属配線、または光反射層２１のいずれかで反射した反射光１４ｂの強度や検出位置に基づいて光学系２０から感光性材料膜１９までの正確な距離を算出できるようにしている。

光学系２０から感光性材料膜１９までの距離は、通常、前述のように、小領域ＥＡに照射した測長用の光１４ａの反射光の位置や強度に基づいて算出する。このとき、測長用の光１４ａは、通常、小領域ＥＡの全体ではなく、たとえば、図６（ａ）に示すように、小領域ＥＡのうちの一部の領域（代表領域ＧＡ）のみに照射される。代表領域ＧＡは、たとえば、３０μｍ×３００μｍ程度である。そして、小領域ＥＡ全体における光学系２０から感光性材料膜１９までの距離は、代表領域ＧＡにおける光学系２０から感光性材料膜１９までの距離と等しいと見なして、小領域ＥＡに照射する感光用の光の焦点を決定する。

したがって、隣接する２つの回路形成領域ＢＡを分離する分離領域にある小領域ＥＡ２のように、感光性材料膜１９とマザーガラス１１との間に光反射層２１を設ける場合は、たとえば、図６（ａ）に示したように、代表領域ＧＡおよびその周辺のみに点在させてもよい。

また、図６（ａ）に示した例は、それぞれの小領域ＥＡに代表領域ＧＡがある。すなわち、図６（ａ）に示した例では、光学系２０から感光性材料膜１９までの距離を測定するための単位領域（測長単位領域）が、小領域ＥＡと同じ寸法である。しかしながら、小領域ＥＡに照射する感光用の光の焦点は、たとえば、実施例２で説明したように、周囲にある別の小領域で測定（算出）した光学系２０から感光性材料膜１９までの距離を用いた補間処理を行って決定することもできる。

したがって、光反射層２１を点在させるときには、たとえば、図６（ｂ）に示すように、帯状領域ＣＡの長手方向（ｘ方向）で隣接する２つの小領域ＥＡを１つの測長単位領域ＨＡと見なし、当該隣接する２つの小領域ＥＡに対して１つの割合で代表領域ＧＡおよび光反射層２１を設けてもよい。

このとき、代表領域ＧＡおよび光反射層２１がない小領域ＥＡに照射する感光用の光の焦点は、たとえば、当該小領域ＥＡが属する測長単位領域ＨＡの代表領域ＧＡにおける光学系２０から感光性材料膜１９までの距離のみで決定してもよいし、周囲にある複数の代表領域ＧＡにおける光学系２０から感光性材料膜１９までの距離から決定してもよい。

また、図６（ｂ）に示した例では、ｘ方向で隣接する２つの小領域ＥＡを１つの測長単位領域としているが、これに限らず、ｘ方向で連続する３つ以上の小領域ＥＡを１つの測長単位領域ＨＡとしてもよい。

また、ｘ方向で隣接する２つ以上の小領域ＥＡを１つの測長単位領域ＨＡとする場合、代表領域ＧＡおよび光反射層２１は、図６（ｂ）に示した位置に限らず、たとえば、当該１つの測長単位領域ＨＡの中央付近などに設けてもよいことはもちろんである。

上記の点をふまえ、実施例３の液晶表示パネルの製造方法では、マザーガラス１１の上に透明導電膜１８および感光性材料膜１９を形成する前に、たとえば、図６（ｃ）に示すように、隣接する２つの回路形成領域ＢＡを分離する分離領域に、小面積の光反射層２１を点在させる。

したがって、実施例３の液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、小領域ＥＡに照射する感光性の光の焦点の決定と、小領域毎の露光とを並行して行うときに、感光性の光の焦点を決定するための測長の回数を減らすことができる。そのため、実施例３の液晶表示パネルの製造方法は、たとえば、直描露光機の電力消費量を抑えることができる。

また、実施例３の液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、すべての帯状領域ＣＡにおける測長単位領域を、ｘ方向で連続する２つ以上の小領域ＥＡからなる領域にする必要はない。すなわち、実施例３の液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、回路形成領域ＢＡ内のように走査信号線３などの配線が密に形成されている箇所の測長単位領域は１つの小領域ＥＡと同じ寸法にし、分離領域のように配線が形成されていない箇所の測長単位領域のみを、ｘ方向で連続する２つ以上の小領域ＥＡからなる領域にしてもよい。

図７（ａ）乃至図７（ｃ）は、実施例３の液晶表示パネルの製造方法の変形例を説明するための模式図である。
図７（ａ）は、実施例３の液晶表示パネルの製造方法の第１の変形例を示す模式図である。図７（ｂ）は、実施例３の液晶表示パネルの製造方法の第２の変形例を示す模式図である。図７（ｃ）は、実施例３の液晶表示パネルの製造方法の第３の変形例を示す模式図である。

液晶表示パネルの製造方法において、マザーガラス１１の、隣接する２つの回路形成領域ＢＡを分離する分離領域の幅は、たとえば、マザーガラス１１の寸法や回路形成領域ＢＡの寸法などによって異なる。

そのため、多面取りの液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、図７（ａ）に示すように、分離領域の幅（ｙ方向の寸法）Ｌｇが、帯状領域ＣＡ（小領域ＥＡ）のｙ方向の寸法Ｌｙよりも大きくなることがある。

このとき、帯状領域ＣＡに属する小領域には、走査信号線３や映像信号線などが形成されていない。そのため、透明導電膜１８の上に形成した感光性材料膜１９を露光する際に当該小領域ＥＡに照射する感光用の光の焦点を決定するためには、透明導電膜１８を形成する前に、それぞれの小領域ＥＡに光反射層２１を形成しておくことが望まれる。

しかしながら、実施例３の液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、図６（ｂ）に示したように、ｘ方向で隣接する２つの小領域ＥＡを１つの測長単位領域ＨＡとする。そのため、実施例３の液晶表示パネルの製造方法を適用して光反射層２１を形成するときには、図７（ａ）に示したように、帯状領域ＣＡの長手方向（ｘ方向）で隣接する２つの小領域ＥＡを１つの測長単位領域ＨＡと見なし、当該１つの測長単位領域ＨＡに１つの割合で点在させる。

また、図７（ａ）に示した例では、ｘ方向で隣接する２つの小領域ＥＡのうちの一方の小領域に光反射層２１が配置されており、かつ、ｙ方向で隣接する２つの小領域ＥＡのうちの一方の小領域に光反射層２１が配置されている。このようにすると、光反射層２１が無い小領域ＥＡに照射する感光用の光の焦点は、たとえば、当該小領域ＥＡの上にある小領域、下にある小領域、および右または左にある小領域のそれぞれにおける光学系２０から感光性材料膜１９までの距離の測定結果に基づいて決定することができる。

なお、分離領域の幅Ｌｇが帯状領域ＣＡ（小領域ＥＡ）のｙ方向の寸法Ｌｙよりも大きい場合の光反射層２１の配置方法は、これに限らず、たとえば、ｙ方向で隣接する２つの小領域ＥＡの両方に光反射層２１が配置される組と配置されていない組とが、ｘ方向に交互に並ぶようにしてもよいことはもちろんである。

またさらに、図７（ａ）に示した例では、ｘ方向で隣接する２つの小領域ＥＡを１つの測長単位領域ＨＡにしているが、これに限らず、ｘ方向で連続する３つ以上の小領域ＥＡを１つの測長単位領域ＨＡにしてもよいことはもちろんである。

また、多面取りの液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、図７（ｂ）に示すように、分離領域の幅Ｌｇが、帯状領域ＣＡ（小領域ＥＡ）のｙ方向の寸法Ｌｙに比べて非常に小さいこともある。その場合、光反射層２１は、たとえば、図７（ｂ）に示すように、その一部分が回路形成領域ＢＡにはみ出していてもよい。

なお、光反射層２１の一部分が回路形成領域ＢＡにはみ出している場合は、当該光反射層２１が走査信号線３などと接触（干渉）しないようにすることが望ましい。

また、多面取りの液晶表示パネルの製造方法では、一対のマザーガラスを用いて製造した複数枚分の液晶表示パネルを、個々の液晶表示パネルに切り分ける。このとき、たとえば、マザーガラス１１の回路形成領域ＢＡの外周全体に不透明な金属膜でなる光反射層２１があると、マザーガラス１１を切断するときに、光反射層２１も切断しなければならない。そのため、得られる液晶表示パネルは、たとえば、切断面が荒れたり、第１の基板１の上に形成された絶縁層が剥がれたりすることがある。

これに対し、図７（ｂ）に示したように、回路形成領域ＢＡの外周に、光反射層２１を点在させている場合は、切断しなければならない光反射層２１が少ない。そのため、図７（ｂ）に示したような光反射層の配置方法は、たとえば、液晶表示パネルの切断面が荒れたり、第１の基板１の上に形成された絶縁層が剥がれたりするのを防ぐ効果がある。

またさらに、多面取りの液晶表示パネルの製造方法では、たとえば、図７（ｃ）に示すように、分離領域の幅Ｌｇがほぼ０であり、当該分離領域（分離線）が通る小領域ＥＡに走査信号線３などの不透明な金属層が形成されていることもある。

しかしながら、このような場合、走査信号線３などの液晶表示パネルの動作に必要な配線は、分離領域（分離線）から所定の距離だけ離れるように形成されている。そのため、代表領域ＧＡの周囲には、通常、不透明な金属層が存在しない。したがって、代表領域ＧＡに不透明な金属膜でなる配線がない場合には、図７（ｃ）に示したように、光反射層２１を形成して、光学系２０から感光性材料膜１９までの正確な距離を測定（算出）することができるようにする。

以上、本発明を、前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能であることはもちろんである。

図８は、本発明の表示装置の製造方法の応用例を説明するための模式図である。

前記実施例では、多面取りで液晶表示パネルを製造する場合を例に挙げ、隣接する２つの回路形成領域ＢＡを分割する分離領域のように、回路形成領域ＢＡの外側あるいは外周付近に光反射層２１を形成している。

しかしながら、回路形成領域ＢＡ（第１の基板１）に走査信号線３などの配線を形成するときには、たとえば、図８に示すように、配線が形成されていない領域ＪＡ１，ＪＡ２が存在することもある。このとき、当該領域ＪＡ１，ＪＡ２の面積が、たとえば、小領域ＥＡの面積の数倍から数十倍であると、分離領域にある小領域と同様に、当該領域ＪＡ１，ＪＡ２の小領域ＥＡに照射する感光用の光の焦点を決定することができない。

そのため、回路形成領域ＢＡ内にある、配線が形成されていない領域ＪＡ１，ＪＡ２の面積が大きい場合は、当該領域ＪＡ１，ＪＡ２に光反射層２１を形成してもよい。

また、本明細書では、多面取りで製造する液晶表示パネルの一例として、たとえば、図１（ａ）に示したように、携帯電話端末などの携帯型電子機器の液晶ディスプレイに用いる液晶表示パネルを挙げている。しかしながら、本発明の表示装置の製造方法は、そのような、表示領域ＤＡの対角の寸法が数インチ程度の小型の液晶表示パネルだけに限らず、たとえば、表示領域ＤＡの対角の寸法が十数インチから数十インチ程度の液晶表示パネルを多面取りで製造する場合にも適用できることはもちろんである。

また、本明細書では、多面取りの液晶表示パネルの製造方法の一例として、たとえば、図２に示したように、一対のマザーガラスを用いて１９２枚の液晶表示パネルを一括して製造する場合を挙げている。しかしながら、本発明の表示装置の製造方法は、これに限らず、たとえば、一対のマザーガラスを用いて数枚から十数枚程度の液晶表示パネルを一括して製造する場合や、一対のマザーガラスを用いてさらに多数の液晶表示パネルを一括して製造する場合にも適用できることはもちろんである。

またさらに、本発明の表示装置の製造方法は、多面取りに限らず、一対のマザーガラスを用いて１枚の液晶表示パネルを製造する場合にも適用できることはもちろんである。

また、本明細書では、本発明の表示装置の製造方法の一例として、液晶表示パネルの製造方法を挙げている。しかしながら、本発明の表示装置の製造方法は、これに限らず、透光性の膜の上に形成した感光性材料膜を露光する工程を有する他の表示パネルの製造方法、たとえば、有機ＥＬ材料を用いた自発光型の表示パネルの製造方法などにも適用できることはもちろんである。

１…第１の基板
２…第２の基板
３…走査信号線
４…映像信号線
５…コモン配線
６…信号入力配線
７…駆動回路
８…画素電極
９…共通電極
１０…液晶層
１１…マザーガラス
１２…露光対象領域
１３…光源（第１の光源）
１４ａ…測長用の光
１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ…反射光
１５…光センサ
１６…第１の絶縁層
１７…第２の絶縁層
１８…透明導電膜
１９…感光性材料膜
２０…光学系
２１…光反射層
ＢＡ…回路形成領域
ＣＡ，ＣＡ１，ＣＡ２，ＣＡ３…帯状領域
ＤＡ…表示領域
ＥＡ…小領域
ＧＡ…代表領域
ＨＡ…測長単位領域

Claims (15)

1. 基板の上に透光性の膜を形成する工程と、
   前記透光性の膜の上に感光性材料膜を形成する工程と、
   露光装置を用いて当該感光性材料膜を露光する工程と、
   露光した前記感光性材料膜を現像する工程とを有し、
   前記感光性材料膜を露光する工程は、当該感光性材料膜の露光対象領域全体を、複数の小領域に分割し、それぞれの前記小領域に照射する光の焦点を決定する第１の工程と、
   それぞれの前記小領域に照射する光の焦点を、前記第１の工程で決定した焦点に合わせながら、それぞれの前記小領域を順次露光する第２の工程とを有する表示装置の製造方法であって、
   前記第１の工程は、前記感光性材料膜の前記露光対象領域全体を、長手方向が同じ方向である複数の帯状領域に分割し、かつ、それぞれの前記帯状領域を前記長手方向に並んだ複数の測長単位領域に分割して、前記測長単位領域毎に、前記露光装置の光学系から前記感光性材料膜までの距離を算出し、当該算出した距離に基づいてそれぞれの前記小領域に照射する光の焦点を決定し、
   前記透光性の膜を形成する工程の前に、前記測長単位領域のそれぞれに、不透明な導電層を形成する工程を有することを特徴とする表示装置の製造方法。
2. 前記測長単位領域は、前記小領域と同じ寸法であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
3. 前記小領域は、前記帯状領域の長手方向に延びる辺および短手方向に延びる辺で囲まれた四角形であり、
   前記測長単位領域は、前記帯状領域の短手方向の寸法が前記小領域の寸法と同じであり、前記帯状領域の長手方向の寸法が前記小領域の寸法の２倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
4. 前記小領域は、前記帯状領域の長手方向に延びる辺および短手方向に延びる辺で囲まれており、かつ、前記短手方向の寸法が前記帯状領域の短手方向と同じ寸法の四角形であり、
   複数の前記帯状領域には、前記帯状領域の長手方向の寸法が前記小領域の寸法と同じ前記測長単位領域に分割された帯状領域と、前記帯状領域の長手方向の寸法が前記小領域の寸法の２倍以上である前記測長単位領域に分割された帯状領域とがあることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
5. 前記第１の工程と前記第２の工程とは、並行して行われ、
   前記第２の工程は、前記帯状領域の長手方向に並んだ前記小領域毎に順次露光することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
6. １枚の基板に設定される複数の回路形成領域のそれぞれに、複数の走査信号線、複数の映像信号線、複数のＴＦＴ素子、および複数の透明電極を有する回路を形成する表示装置の製造方法であって、
   ２つの隣接する前記回路形成領域の間には、当該２つの回路形成領域を分離する分離領域があり、
   それぞれの前記回路形成領域に前記走査信号線を形成するときに、当該走査信号線とともに、前記走査信号線とは電気的に接続されない導電層を前記分離領域に形成することを特徴とする表示装置の製造方法。
7. １枚の基板に設定される複数の回路形成領域のそれぞれに、複数の走査信号線、複数の映像信号線、複数のＴＦＴ素子、および複数の透明電極を有する回路を形成する表示装置の製造方法であって、
   隣接する２つの前記回路形成領域の間には、当該２つの前記回路形成領域を分離する分離領域があり、
   それぞれの前記回路形成領域に前記映像信号線を形成するときに、当該映像信号線とともに、前記映像信号線とは電気的に接続されない導電層を前記分離領域に形成することを特徴とする表示装置の製造方法。
8. 前記導電層は、平面形状が格子状であることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の表示装置の製造方法。
9. 前記導電層は、前記分離領域毎に独立させることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の表示装置の製造方法。
10. 複数の前記回路形成領域は、第１の方向および第２の方向にマトリクス状に配置されており、
    前記導電層は、前記分離領域のうちの、前記第１の方向で隣接する２つの前記回路形成領域を分離する分離領域のみに形成することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の表示装置の製造方法。
11. 前記透明電極は、前記ＴＦＴ素子のソースまたはドレインに接続させる電極であり、
    前記走査信号線および前記映像信号線は、前記透明電極よりも前に形成することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の表示装置の製造方法。
12. 前記透明電極には、前記ＴＦＴ素子のソースまたはドレインに接続させる第１の透明電極と、前記基板と前記第１の電極との間に配置される第２の透明電極とがあり、
    前記走査信号線および前記映像信号線は、前記第１の透明電極よりも前に形成することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の表示装置の製造方法。
13. 前記走査信号線および前記映像信号線は、前記第２の透明電極よりも前に形成することを特徴とする請求項１２に記載の表示装置の製造方法。
14. 絶縁基板の上に複数の配線と、複数のＴＦＴ素子と、複数の透明電極とが配置された表示パネルを有する表示装置であって、
    前記絶縁基板の外周部に、前記配線、前記ＴＦＴ素子、前記透明電極のいずれとも電気的に接続されていない不透明な導電層が配置されていることを特徴とする表示装置。
15. 前記表示パネルは、液晶表示パネルであることを特徴とする請求項１４に記載の表示装置。

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