JP2010187764A - ミスト発生装置及び美容装置 - Google Patents

Abstract

【課題】スチーム生成のための加熱と、ミスト生成のための液体の加熱殺菌とを効率よく行い、装置の小型化を図ることができるミスト発生装置を備えた美容装置を提供する。
【解決手段】ミスト発生機構としてのミスト生成部３２は、ミストを生成する液体を殺菌する殺菌機構としての機能を備えられ、スチームを生成する加熱装置としてのＰＴＣヒータ３６の余熱を利用して殺菌機構が構成される。また、ミストを生成するための液体が流れる当接管路５１ａとＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａとが当接するように構成される。
【選択図】図２

Description

本発明は、ミスト及びスチームを生成して放出するミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置に関するものである。

従来、ミスト発生装置は、液体をヒータにて沸騰させて気化させたスチーム（温ミスト）や、超音波にて霧化させたミスト（冷ミスト）を顔などの人体に向けて放出することで、肌に潤いを与えるなどの美容効果やスキンケアを目的とした装置として用いられている（例えば、特許文献１参照）。

特許文献１のミスト発生装置（美容装置）は、スチーム用ヒータにて気化させてスチームを放出させるスチーム発生機構と、ミストを生成して放出させるミスト発生機構とを備え、スチーム及びミストを組み合わせて放出させている。このミスト発生装置では、スチーム用ヒータを用いて液体から気化させることで殺菌されたスチームが放出され、ミストを生成する段階において前記スチーム用ヒータとは異なるヒータ（ミスト用ヒータ）を用いて液体を殺菌した後にミストが放出されるようになっている。

特開２００８−２９５４７３号公報

ところで、上記のようなミスト発生装置では、スチームを生成するスチーム用ヒータと、ミストを生成する段階で液体を加熱殺菌するミストヒータとを用いている。つまり、用途の異なる２種のヒータを設けているため、装置自身の大型化を招いてしまっており、その改善が望まれている。

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、スチーム生成のための加熱と、ミスト生成のための液体の加熱殺菌とを効率よく行い、装置の小型化を図ることができるミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置を提供することにある。

上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、加熱装置を用いて液体からスチームを生成して外部に放出させるスチーム発生機構と、液体からミストを生成して外部に放出させるミスト発生機構とを備えたミスト発生装置であって、前記ミスト発生機構は、前記ミストを生成するための液体を殺菌する殺菌機構を備えるものであり、前記殺菌機構は、前記スチームを生成する前記加熱装置の余熱を利用して構成されたことをその要旨とする。

この発明では、ミスト発生機構は、ミストを生成する液体を殺菌するための殺菌機構が備えられ、この殺菌機構は、スチームを生成する加熱装置の余熱を利用して構成される。つまり、スチームを生成する加熱装置を利用して殺菌機構を構成することで、殺菌のための加熱装置（ヒータ）を別途設ける必要なくミスト（ミストを生成するための液体）を殺菌でき、部品点数が抑えられて装置全体としての小型化を図ることができる。

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のミスト発生装置において、前記殺菌機構は、前記加熱装置と前記ミストを生成するための液体が流れる管路部材とが当接する、若しくは前記加熱装置と前記管路部材との間を介在物なく対向離間するように構成されたことをその要旨とする。

この発明では、殺菌機構は、加熱装置とミストを生成するための液体が流れる管路部材とが当接される、若しくは加熱装置と管路部材との間を介在物なく対向離間されるように構成される。これにより、スチームを生成する加熱装置からの熱（余熱）が管路部材側に伝わりやすくなるため、より好適にミスト（ミストを生成するための液体）を殺菌することができる。特に、加熱装置と管路部材とを当接する場合は、特に加熱装置からの熱が伝わりやすくなり、より好適にミストを生成するための液体を殺菌することができる。

請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のミスト発生装置において、前記殺菌機構は、前記加熱装置の放熱面の面方向において、前記管路部材が１以上屈曲するように構成されたことをその要旨とする。

この発明では、殺菌機構は、加熱装置の放熱面の面方向において、管路部材が１以上屈曲するように構成される。これにより、加熱装置の放熱面の面方向において、管路部材を比較的長く配置することができるため、放熱面の面方向において管路部材の表面積及び体積が大きくなり、加熱装置からの熱を管路部材が効率良く受けることができる。そのため、殺菌処理されたミストを生成するための液体を多く蓄えることができる。

請求項４に記載の発明は、請求項２又は３に記載のミスト発生装置において、前記殺菌機構は、前記加熱装置の放熱面の面方向に前記管路部材の断面長手方向が沿うように設置されて構成されたことをその要旨とする。

この発明では、殺菌機構は、加熱装置の放熱面の面方向に管路部材の断面長手方向が沿うように設置されて構成される。つまり、放熱面の面方向に管路部材の断面長手方向を沿わせることで、加熱装置の放熱面から伝わる熱を管路部材の断面の長手方向において受けることができるため、管路部材及びミストを生成するための液体に対して効率よく熱を伝えることが可能となる。

請求項５に記載の発明は、請求項２〜４のいずれか一項に記載のミスト発生装置において、前記殺菌機構は、前記管路部材が前記加熱装置からの離間を防止するための離間防止部材が設けられて構成されたことをその要旨とする。

この発明では、殺菌機構は、管路部材が加熱装置からの離間を防止するための離間防止部材が設けられて構成される。これにより、管路部材が加熱装置から所定距離以上離間されなくなる、若しくは、加熱装置と管路部材とが当接している場合では当接状態が維持されるため、ミストをより安定して加熱殺菌することができる。

請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか一項に記載のミスト発生装置において、前記ミストを生成するための液体が流れる管路部材には、濾過機構が設けられたことをその要旨とする。

この発明では、ミストを生成するための液体が流れる管路部材には濾過機構が設けられるため、管路部材中に発生する水垢やゴミ、カスなどがミストノズルに流れ込むことを抑制できる。これにより、ミストノズルのつまりを抑えることができるため、ミストを安定して放出することが可能となる。また、埃等がミストノズルから管路部材中に流入することも抑制できる。

請求項７に記載の発明は、請求項６に記載のミスト発生装置において、前記濾過機構は、前記ミストを外部に放出させるためのミストノズルの直前に配置されたことをその要旨とする。

この発明では、濾過機構は、ミストを外部に放出させるためのミストノズルの直前に配置されるため、管路部材中に発生する水垢やゴミ、カスなどがミストノズルに流れ込むことをより好適に抑えることができるため、ミストをより安定して放出することが可能となる。

請求項８に記載の発明は、請求項１〜７のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えた美容装置である。
この発明では、請求項１〜７のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えたことで、請求項１〜７のいずれか一項に記載の効果と同様の効果を奏することができる美容装置を提供できる。

本発明によれば、スチーム生成のための加熱と、ミスト生成のための液体の加熱殺菌とを効率よく行い、装置の小型化を図ることができるミスト発生装置、及びそのミスト発生装置を備えた美容装置を提供することができる。

本実施形態における美顔器を示す斜視図である。 同美顔器を前後方向で切断し右側から見た断面図である。 同美顔器を左右方向で切断し背面側から見た断面図である。 同美顔器のマイナスイオン生成部部分の拡大断面図である。 同美顔器の管路及び整流部部分の拡大断面図である。 同美顔器の機能の概略構成を示すブロック図である。

以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１は、本実施形態のミスト発生装置を備える美容装置としての美顔器１０を示す。有底略円筒状の本体ケース１１には美顔器本体１２が収容されて固定され、その本体ケース１１の開口部と面一をなす美顔器本体１２の上面にはノズル部１３及びスイッチ部１４が設置されている。ノズル部１３及びスイッチ部１４を有する美顔器本体１２の上面は、本体ケース１１に対し開閉可能（傾動可能）に取り付けられたメインカバー１５にて露出・隠蔽が可能とされている。

ノズル部１３は、美顔器本体１２の上面中央に設けられており、スチーム（温ミスト）を放出する一対のスチームノズル（温ミストノズル）２１ａ，２１ｂ、冷ミストを放出するミストノズル（冷ミストノズル）２２、及びマイナスイオンを放出するイオンノズル２３を有し、ミストノズル２２が左右方向中央位置に、スチームノズル２１ａがその右側に、スチームノズル２１ｂが左側に、そしてイオンノズル２３がミストノズル２２の上側にそれぞれ配置されている。尚、スチームノズル２１ａ及び２１ｂは、互いの間隔が例えば７０ｍｍに設定されている。

またスチームノズル２１ａ，２１ｂ、ミストノズル２２、及びイオンノズル２３の各放出方向は前側斜め上方の同一方向に向くように設定され、美顔器１０の前側と使用者と対向するように使用した時のその使用者の顔表面に向けて放出方向が向くように設定されている。また、このノズル部１３にもノズルカバー１６が開閉可能（傾動可能）に取り付けられ、その開閉にて各ノズル２１ａ，２１ｂ，２２，２３の露出・隠蔽が可能とされている。

また、ノズル部１３の手前右側には、スイッチ部１４として、それぞれ押しボタンスイッチにて構成される電源スイッチ２５、運転制御スイッチ２６、及びコース選択スイッチ２７が設けられている。電源スイッチ２５は、美顔器１０のオンオフ操作を行うものであり、運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７は、その操作にて、スチームと冷ミストとを組み合わせて対象体に向けて放出するコースやスチームのみを放出するコースといった各種のコースの選択、及びその決定（動作開始）を行うものである。

また、ノズル部１３の左側には、美顔器本体１２の上面から凹設されてなるタンク収容部１７が設けられており、該タンク収容部１７内には、開口部と面一となるように給水タンク１８が着脱可能に収容されている。給水タンク１８は、使用者が美顔器１０から取り外しての給水が可能となっており、貯留した水からスチームや冷ミストのそれぞれの生成が行われる。

美顔器本体１２には、図２に示すように、スチーム発生機構を構成するスチーム生成部３１と、ミスト発生機構を構成するミスト生成部３２と、マイナスイオンを生成するマイナスイオン生成部３３が備えられている。

ミスト発生機構を構成するスチーム生成部３１は、美顔器本体１２の前側に備えられており、スチーム（温ミスト）を生成する。スチーム生成部３１は、駆動電流の供給に基づいて発熱しその発熱の自己制御機能を有する殺菌機構及び加熱装置としてのＰＴＣ（Positive Temperature Coefficient）ヒータ３５，３６を前側と後側にそれぞれ備え、給水タンク１８から給水管路１９を介してＰＴＣヒータ３５，３６内側のボイラ室３７内に供給された水を沸騰させてスチームの生成を行っている。因みに、前側のＰＴＣヒータ３５の外側面には、給水タンク１８から延びる給水管路１９の一部が当接させて配置されており、ボイラ室３７への流入の前に温められ該ボイラ室３７内で効率良くスチームが生成されるようになっている。尚、給水管路１９は、排水管路３８（図６参照）を介して美顔器１０の排水口３８ａに接続されており、排水スイッチの操作によって制御される排水管路３８上の止水弁３９にて美顔器１０内の排水を行うことが可能となっている。

ボイラ室３７の上部には、図２及び図３に示すように、生成したスチームを一対のスチームノズル２１ａ，２１ｂまで案内させるためのスチーム案内管路４１が接続されている。スチーム案内管路４１は、その途中に分岐部４２を有している。スチーム案内管路４１は、図５に示すように、分岐部４２から二股に分かれるように分岐部４２からスチームノズル２１ａまでを接続する第１案内管路４１ａと，分岐部４２からスチームノズル２１ｂまでを接続する第２案内管路４１ｂとを有し、第１案内管路４１ａの長さ（距離）Ｌ１及び第２案内管路４１ｂの長さ（距離）Ｌ２が等しくなるように構成されている。そのため、ボイラ室３７にて生成したスチームが分岐部４２から分かれて第１案内管路４１ａ及び第２案内管路４１ｂを通って各スチームノズル２１ａ，２１ｂまでそれぞれ案内される。そして、ボイラ室３７やスチーム案内管路４１内は高圧となるため、各スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔からはある程度の勢いを以てスチームが放出されるようになっている。尚、スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔の内径は例えば３．６ｍｍに設定されている。

また、スチーム案内管路４１の分岐部４２の若干手前位置には、放電電極４３ａを有するスチーム用放電部４３が備えられている。スチーム用放電部４３は、自身の放電により、該放電部４３を通過するスチームをより微細化するものである。また、このスチーム用放電部４３では、抗酸化作用があり肌に良いとされる金属（例えば白金）を用い、放電を利用してその金属微粒子を発生させることも行っており、スチームの微細化と金属微粒子の含有とが行われている。スチーム用放電部４３の下流側で分岐部４２の直前位置には、整流機構としての整流部４４が備えられている。この整流部４４は、図５に示すように、スチーム案内管路４１内に中空形状の中空部としての円筒部４４ａと、該円筒部４４ａから延出形成されて円筒部４４ａを管路４１の径方向中心で支持する３本のリブ４４ｂとが設けられて構成されている。そして、放電部４３にて微細化したスチームが、その円筒部４４ａの内部及び３本のリブ４４ｂ間を通過する際に整流され、分岐部４２から先の各スチームノズル２１ａ，２１ｂに同量のスチームが分岐されるようなっている。尚、円筒部４４ａの内径は、スチームノズル２１ａ，２１ｂの放出孔の内径より大きく、且つ該放出孔の内径の１．５倍以下の大きさである例えば４．５ｍｍに設定されている。

ミスト生成部３２は、前記スチーム生成部３１よりも後側に備えられており、ベンチュリー効果を用いて冷ミストを生成する。給水タンク１８から延びる給水管路１９内の水は前記スチーム生成として利用される他に冷ミストとしても利用され、その給水管路１９からの水の一部をミストノズル２２まで送水する管路部材としての送水管路５１が備えられている。送水管路５１は、後側のＰＴＣヒータ３６の放熱面（垂直面）３６ａの平面（放熱面）方向に大きく３度蛇行（屈曲）して該放熱面３６ａに当接させて配置される管路部材としての当接管路５１ａを有している。尚、当接管路５１ａを蛇行させることで当接管路５１ａ内で液体の層流が抑制されるようになっている。

図２に示すように、送水管路５１の当接管路５１ａは、その全体が前記放熱面３６ａから離間されないように離間防止部材ＲＢにて放熱面３６ａ側に押し付け固定されている。更に、送水管路５１の当接管路５１ａは、図２に示すように、その径方向断面が楕円形状とされ、ＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａの平面（放熱面）方向に送水管路５１の断面の長手方向（図２において紙面上下方向）が沿うように配置されている。このように構成された当接管路５１ａの内部には、所定の水量（例えば所定コース中において放出するミスト量よりも多い水量）が保持されており、前記スチーム生成時の後側のＰＴＣヒータ３６の熱（余熱）により、冷ミスト用の水が例えば８０度、３０秒以上で殺菌処理されるようになっている。そのため、前記ミストノズル２２から放出される冷ミストは、美容に適した衛生状態が保たれている。

また、送水管路５１のミストノズル２２の直前位置にはその管内に濾過機構としてのフィルタ５２が装着されている。このフィルタ５２は、管路部材としての送水管路５１や当接管路５１ａ等で発生した水垢やゴミ、カスと、ミストを生成するための液体（水）自身に含まれるゴミやカスなどがミストノズル２２に流れ込むことを抑制させるものであり、このためミストノズル２２のつまりを抑えることができるため、ミストノズル２２からミストが安定して放出されるようになっている。そのため、本装置１０を使用するにあたって使用者の肌（顔面）に対して快適にミストをあて、美容効果（スキンケア効果）を高めることができる。

また、ミスト生成部３２として、美顔器本体１２内には空気圧送路５３が設けられており、該空気圧送路５３内には電動モータを駆動源としたポンプ５４の動作により空気の圧送が行われる。この圧送空気はミストノズル２２の放出孔に向けて供給され、放出孔手前で送水管路５１内の水と合流させることでベンチュリー効果が生じ、圧送空気とともに送水管路５１内の水が吸い出されて冷ミストが生成されて放出されるようになっている。

マイナスイオン生成部３３は、図２及び図４に示すようにノズル部１３内に備えられており、コロナ放電を発生させてマイナスイオンを生成する。イオン生成部３３は、ノズル部１３のイオンノズル２３に形成される収容凹部２３ａに、ユニット化されたマイナスイオン放電部６１が収容保持されてなる。イオン放電部６１は、その収容凹部２３ａに収容保持されるべく所定形状をなす電極ホルダ６２に対して針電極６３が支持されるとともに、針電極６３の先端側においてその針電極６３の軸線上に円環状の中心が位置するように円環状の対向電極６４が支持されて構成されている。針電極６３と対向電極６４とはそれぞれリード線６５が接続されて電極ホルダ６２から導出され、美顔器本体１２の上面近傍の制御回路基板７１に接続されている。

因みに、このイオン生成部３３（イオン放電部６１）では、針電極６３周りの空間Ｘ２は外部への開放のみで、その針電極６３周りの空間Ｘ２と美顔器本体１２内の空間Ｘ１とが仕切られている。これは、美顔器本体１２内の空間Ｘ１に設けられるシリコン素材を使用した部材（例えば送水管路５１の一部等）がＰＴＣヒータ３５，３６といった熱源にて加熱されるとその空間Ｘ１内にシリコンが浮遊し、この浮遊シリコンが針電極６３に付着するとコロナ放電の妨げとなりマイナスイオンの発生量が減少してしまうためであって、浮遊シリコンの針電極６３への付着が未然に防止されている。

制御回路基板７１は、電源コード７０（図１参照）にて外部から電源供給を受け、基板７１上に搭載される各種の回路部品よりなる制御回路７２の制御に基づいて、スチーム生成部３１、ミスト生成部３２、及びイオン生成部３３のそれぞれに動作電源を供給する。図５に示すように、制御回路７２は、電源スイッチ２５のオンオフ操作に基づいて美顔器１０の動作可能状態と及び停止状態との切り替えを行い、動作可能状態において運転制御スイッチ２６及びコース選択スイッチ２７の組み合わせ操作による各種使用コースの設定に基づいて、スチーム生成部３１（ＰＴＣヒータ３５，３６、スチーム用放電部４３等）と、ミスト生成部３２（ポンプ５４等）との動作を制御し、またイオン生成部３３（イオン放電部６１）を先の各生成部３１，３２の動作と合わせて動作させている。そのため、マイナスイオン及びスチーム（温ミスト）による美容効果やマイナスイオン及びミスト（冷ミスト）による美容効果を得ることができる。

そして、マイナスイオン生成時において、針電極６３に高電圧が印加されると、対向電極６４との電位差によって針電極６３の先端周囲にコロナ放電が発生し、マイナスイオンが発生する。発生したマイナスイオンは、針電極６３よりも低電位の対向電極６４に引き寄せられ、イオンノズル２３から外部に放出される。

次に、本実施形態の特徴的な作用効果を記載する。
（１）ミスト発生機構としてのミスト生成部３２は、ミストを生成する液体を殺菌する殺菌機構としての機能を備えられ、スチームを生成する加熱装置としてのＰＴＣヒータ３６の余熱を利用して殺菌機構が構成される。つまり、スチームを生成するＰＴＣヒータ３６を利用して殺菌機構を構成することで、殺菌のための加熱装置（ヒータ）を別途設ける必要なくミスト（ミストを生成する液体）を殺菌でき、部品点数が抑えられて装置１０全体としての小型化を図ることができる。

（２）ミストを生成するための液体が流れる管路部材としての当接管路５１ａと加熱装置としてのＰＴＣヒータ３６（放熱面３６ａ）とが当接するように殺菌機構が構成される。これにより、スチームを生成するＰＴＣヒータ３６からの熱（余熱）が当接管路５１ａ側に伝わりやすくなるため、より好適にミスト（ミストを生成する液体）を殺菌することができる。

（３）ＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａの面方向において、当接管路５１ａが１以上蛇行（屈曲）して殺菌機構が構成される。これにより、ＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａの面方向において、当接管路５１ａを比較的長く配置することができるため、放熱面３６ａの面方向において当接管路５１ａの表面積及び体積が大きくなり、ＰＴＣヒータ３６からの熱を当接管路５１ａにて効率良く受けることができる。そのため、殺菌処理されたミストを生成するための液体を多く蓄えることができる。

（４）ＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａの平面（面）方向（図２において紙面上下方向）に当接管路５１ａの断面長手方向が沿うようにして殺菌機構が構成される。つまり、放熱面３６ａの平面方向に当接管路５１ａの断面長手方向を沿わせることで、ＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａから伝わる熱を当接管路５１ａの断面の長手方向において受けることができるため、当接管路５１ａ及びミストを生成するための液体に対して効率よく熱を伝えることが可能となる。

（５）当接管路５１ａがＰＴＣヒータ３６から離間されないように離間防止部材ＲＢが設けられて殺菌機構が構成される。これにより、ＰＴＣヒータ３６と当接管路５１ａとが当接する当接状態が安定維持されるため、ミストをより安定して加熱殺菌することができる。

（６）管路部材としての送水管路５１には濾過機構としてのフィルタ５２が設けられるため、送水管路５１中に発生する水垢やゴミ、カスなどがミストノズル２２に流れ込むことを抑制できる。これにより、ミストノズル２２のつまりを抑えることができるため、ミストを安定して放出することが可能となる。また、埃等がミストノズル２２から送水管路５１中に流入することも抑制できる。更にミストノズル２２の直前に濾過機構としてのフィルタ５２が配置されるため、送水管路５１中に発生する水垢やゴミ、カスなどがミストノズル２２に流れ込むことをより好適に抑えることができるため、ミストをより安定して放出することが可能となる。

尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、管路部材としての当接管路５１ａをスチーム用のＰＴＣヒータ３６と当接するように構成したが、これに限らない。例えば、ＰＴＣヒータ３６と当接管路５１ａとの間を介在物なしで、ＰＴＣヒータ３６から熱（余熱）が十分伝わるような範囲で対向離間させてもよい。

・上記実施形態では、管路部材としての当接管路５１ａの断面形状を楕円形状として、その断面長手方向（図２において上下方向）が加熱装置としてのＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａの平面（放熱面）方向に沿うように構成したが、沿わせなくてもよい。また、当接管路５１ａの断面形状を楕円以外（例えば真円など）としてもよい。

・上記実施形態では、管路部材としての当接管路５１ａを大きく３度蛇行（屈曲）させる構成としたが、蛇行数は任意に変更してよく、また蛇行させなくてもよい。
・上記実施形態では、管路部材としての当接管路５１ａがＰＴＣヒータ３６の放熱面３６ａから離間しないように離間防止部材ＲＢを設けたが、設けなくてもよい。

・上記実施形態では、濾過機構としてのフィルタ５２をミストノズル２２の直前に配置する構成としたが、直前でなくてもよい。要は、ミストノズル２２に管路部材としての管路５１内の水垢やゴミ、カスなどを取り除ける構成であればよい。

・上記実施形態では、濾過機構としてのフィルタ５２を設けたが、省略した構成を採用してもよい。
・上記実施形態では、美顔器１０にて美容装置を構成したが、美顔器１０以外の美容装置に本発明を適用してもよい。

１０…美容装置としての美顔器、２１ａ，２１ｂ…スチームノズル、２２…ミストノズル、３１…スチーム発生機構を構成するスチーム生成部、３２…ミスト発生機構を構成するミスト生成部、３６…殺菌機構及び加熱装置を構成するＰＴＣヒータ、３６ａ…放熱面、５１…管路部材としての送水管路、５１ａ…管路部材としての当接管路、５２…濾過機構としてのフィルタ、ＲＢ…離間防止部材。

Claims (8)

1. 加熱装置を用いて液体からスチームを生成して外部に放出させるスチーム発生機構と、
   液体からミストを生成して外部に放出させるミスト発生機構と
   を備えたミスト発生装置であって、
   前記ミスト発生機構は、前記ミストを生成するための液体を殺菌する殺菌機構を備えるものであり、
   前記殺菌機構は、前記スチームを生成する前記加熱装置の余熱を利用して構成されたことを特徴とするミスト発生装置。
2. 請求項１に記載のミスト発生装置において、
   前記殺菌機構は、前記加熱装置と前記ミストを生成するための液体が流れる管路部材とが当接する、若しくは前記加熱装置と前記管路部材との間を介在物なく対向離間するように構成されたことを特徴とするミスト発生装置。
3. 請求項２に記載のミスト発生装置において、
   前記殺菌機構は、前記加熱装置の放熱面の面方向において、前記管路部材が１以上屈曲するように構成されたことを特徴とするミスト発生装置。
4. 請求項２又は３に記載のミスト発生装置において、
   前記殺菌機構は、前記加熱装置の放熱面の面方向に前記管路部材の断面長手方向が沿うように設置されて構成されたことを特徴とするミスト発生装置。
5. 請求項２〜４のいずれか一項に記載のミスト発生装置において、
   前記殺菌機構は、前記管路部材が前記加熱装置からの離間を防止するための離間防止部材が設けられて構成されたことを特徴とするミスト発生装置。
6. 請求項１〜５のいずれか一項に記載のミスト発生装置において、
   前記ミストを生成するための液体が流れる管路部材には、濾過機構が設けられたことを特徴とするミスト発生装置。
7. 請求項６に記載のミスト発生装置において、
   前記濾過機構は、前記ミストを外部に放出させるためのミストノズルの直前に配置されたことを特徴とするミスト発生装置。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載のミスト発生装置を備えた美容装置。

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