JP2010179584A - 分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法 - Google Patents

分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010179584A
JP2010179584A JP2009025696A JP2009025696A JP2010179584A JP 2010179584 A JP2010179584 A JP 2010179584A JP 2009025696 A JP2009025696 A JP 2009025696A JP 2009025696 A JP2009025696 A JP 2009025696A JP 2010179584 A JP2010179584 A JP 2010179584A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alignment
molecular orientation
energy density
orientation
high energy
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009025696A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5207248B2 (ja
Inventor
Tomohiro Tsuji
知宏 辻
Shigeomi Chono
成臣 蝶野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kochi University of Technology
Original Assignee
Kochi University of Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kochi University of Technology filed Critical Kochi University of Technology
Priority to JP2009025696A priority Critical patent/JP5207248B2/ja
Publication of JP2010179584A publication Critical patent/JP2010179584A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5207248B2 publication Critical patent/JP5207248B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)

Abstract

【課題】複雑な形状の造形物であっても短時間で製造できる分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】液晶または等方状態に保たれた光配向性を有する光配向性材料2に対してレーザ光Lを照射し、光配向性材料2中にレーザ光強度の高い高エネルギ密度領域を形成する配向調整処理と、配向調整処理された光配向性材料2を冷却する冷却処理と、配向調整処理において、高エネルギ密度領域が形成された部分が固化した後、高エネルギ密度領域が形成された部分以外の部分が固化する前に、光配向性材料2における液晶または等方状態の部分を除去する除去処理とを行う。分子mの配向が揃った、分子mの配向の方向への引張り強度等が高い材料を形成することができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法に関する。
感光性樹脂の表面に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成する工程を繰り返すことにより、硬化樹脂層が複数積層された立体的な造形物を形成する光造形法が知られている。
かかる光造形法では、造形しようとする立体形状をコンピュータなどを用いて複数のスライス形状データとし、この複数のスライス形状データに従って、紫外線レーザなどの放射線を感光性樹脂の表面に選択的に照射して当該樹脂を重合硬化させることによって硬化樹脂層を形成し、このようにして形成された硬化樹脂層を順次積層することにより立体的な造形物を成形する。
上記のごとき光造形法を採用した技術として、特許文献1〜3の技術が開発されている。
特許文献1には、液状の感光性樹脂を容器内に収容し、当該容器の上部に設けられた露光手段を走査させることにより、前記感光性樹脂の表面に選択的に光照射して硬化樹脂層を形成し、この硬化樹脂層上に、一層分の感光性樹脂を供給して液状の樹脂層を形成し、その表面に選択的に光照射することにより、先行して形成された硬化樹脂層上に、これと連続するよう新しい硬化樹脂層を一体的に積層し、さらに、光照射パターンを変化させ、あるいは変化させることなく、感光性樹脂の供給および光照射を所定回数繰り返すことにより、立体的な造形物を形成する方法が開示されている。
また、特許文献2には、感光性樹脂の表面に選択的に光照射する方法として、選択的に光透過するマスク像を介して面露光する方法が開示されている。
さらに、特許文献3には、感光性樹脂の表面に選択的に光を照射して硬化樹脂層を形成することを繰り返すことにより、当該硬化樹脂層が複数積層されてなる立体的な造形物を形成する光造形法であって、感光性樹脂を冷却して凝固させ、この状態で当該感光性樹脂に対して光を照射する工程を含む技術が開発されている。
ところで、上記の光造形技術では、正確なスライス形状データを形成すれば、複雑な形状を有する造形物であっても製造できるという利点はあり、各層の厚さ薄くすればするほど造形物を正確に形成することができる。
しかし、上述した特許文献1〜3の技術では、既に形成されている層の上面に順次層を形成していくため、各層の厚さが薄くなれば造形物を構成する層の数も増加する。しかも、層を移動可能なテーブル上に形成し、このテーブルを順次移動させながら各層を形成して造形物を形成するので、各層の形成に光を照射する位置の移動とテーブルの移動という2つの工程が必要となる。
したがって、造形物の形状が複雑になればなるほど、層の数を増加させなければならなず、作業工程も層の数に比例して増加するので、その加工時間は膨大になる。
特開昭56−144478号 特開平9−70897号 特開2001−49129号
本発明は上記事情に鑑み、複雑な形状の造形物であっても短時間で製造できる分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法を提供することを目的とする。
第1発明の分子配向の揃った分子配向部材の製造方法は、液晶または等方状態に保たれた光配向性を有する光配向性材料に対してレーザ光を照射し、該光配向性材料中にレーザ光強度の高い高エネルギ密度領域を形成する配向調整処理と、該配向調整処理された前記光配向性材料を冷却する冷却処理と、前記配向調整処理において、前記高エネルギ密度領域が形成された部分が固化した後、該高エネルギ密度領域が形成された部分以外の部分が固化する前に、前記光配向性材料における液晶または等方状態の部分を除去する除去処理とを行うことを特徴とする。
第2発明の分子配向の揃った分子配向部材の製造方法は、第1発明において、前記高エネルギ密度領域は、複数のレーザ光を光配向性材料に対して照射し、該複数のレーザ光に交差させて形成することを特徴とする。
第3発明の分子配向の揃った分子配向部材の製造方法は、第1発明において、前記高エネルギ密度領域は、一本のレーザ光を集光して形成することを特徴とする。
第4発明の分子配向の揃った分子配向部材は、請求項1記載の方法によって形成されたことを特徴とする。
第1発明によれば、液晶または等方状態に保たれた光配向性材料に対してレーザ光を照射し、レーザ光強度の高い高エネルギ密度領域を形成すれば、高エネルギ密度領域の部分では材料の分子の配向が揃った状態となる。すると、光配向性材料内には、分子の配向が揃った部分と分子の配向がランダムになっている部分とが混在した状態となる。かかる状態の光配向性材料を冷却すれば、配向が揃っている部分は、ランダムになっている部分よりも迅速に固化が進む。よって、配向が揃っている部分の固化後、配向がランダムな部分が固化する前に、液晶または等方状態の光配向性材料を除去すれば、高エネルギ密度領域の軌跡の形状を有しかつ分子配向の揃った材料を形成することができる。しかも、高エネルギ密度領域を移動させるだけで分子配向部材の形状を形成できるので、複雑な形状の造形物であっても短時間で製造することができる。
第2発明によれば、光配向性材料に複数のレーザ光を照射して交差させれば、交差した部分ではレーザ光強度を高くできるので、高エネルギ密度領域を形成することができる。しかも、複数のレーザ光を使用することによって、高エネルギ密度領域を同時に複数形成することもできるので、加工速度を向上することができる。
第3発明によれば、光配向性材料中において一本のレーザ光を集光させれば、集光している部分ではレーザ光強度を高くできるので、高エネルギ密度領域を形成することができる。しかも、一本のレーザ光を集光させるだけで高エネルギ密度領域を形成することができるから装置構成を簡略化できるし、正確な位置に高エネルギ密度領域を形成することができる。
第4発明によれば、材料中の分子配向が揃っているので、配向の方向への引張り強度等が高くなる。
本実施形態の分子配向の揃った配向性材料1製造方法の概略説明図である。 本実施形態の分子配向の揃った配向性材料1製造方法の概略説明図である。 本実施形態の分子配向の揃った配向性材料1を製造する工程のフローチャートである。 3本以上のレーザ光Lによって交点IPを形成する実施形態の概略説明図である。 一本のレーザ光Lの焦点IFによって高エネルギ密度領域を形成する実施形態の概略説明図である。 一本のレーザ光Lの焦点IFによって高エネルギ密度領域を形成する場合において、分子配向の揃った配向性材料1を製造する工程のフローチャートである。
つぎに、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。
本発明の分子配向の揃った分子配向部材1(以下、単に分子配向部材1という)は、液晶または等方状態の光配向性材料に対して光を照射して所定の形状を形成する方法によって形成されており、材料中の分子の配向が揃っているものである。
かかる分子配向部材1は、分子mの配向が揃っている場合、その材料は配向方向に沿った方向の力に対しては強い強度を有するものとなる。
つぎに、本発明の分子配向部材1を製造する方法について説明する。
図1および図2は本実施形態の分子配向の揃った配向性材料1製造方法の概略説明図である。図3は本実施形態の分子配向の揃った配向性材料1を製造する工程のフローチャートである。
まず、分子配向部材1を構成する光配向性材料2を液晶状態とする(図1(A)、S1)。具体的には、光配向性材料2を加熱して、光配向性材料2の分子が特別な配向性を有しておらず流動性を有している状態、つまり、分子mの配向がランダムな液晶または等方状態(以下、両状態をあわせて液晶状態という)となるように調整する。
なお、分子配向部材1を製造する工程において、光配向性材料2は容器に収容される。この容器は、流動性を有している液晶状態の光配向性材料2を保持しておくことができ、しかも、光配向性材料2を冷却したり加熱したりできるものである、また、この容器は、液晶状態の光配向性材料2を排出できる機能を有している必要があるが、その理由は後述する。
分子mの配向がランダムな状態となると、光源より一対のレーザ光L1,L2を光配向性材料2に照射し、一対のレーザ光L1,L2を交差させて交点IPを形成する(S2)。すると、交点IPが形成された部分は、レーザ光L1,L2から光配向性材料2に供給されるエネルギ密度が高い高エネルギ密度領域となるので、分子mが所定の方向を向くように配向し、交点IP内では分子mの配向が揃った状態となる(図1(B))。
なお、高エネルギ密度領域において分子mが配向する方向は、一対のレーザ光の波長と液晶の特性に依存する。
交点IPの部分における分子mの配向が揃うと、交点IPを形成したまま、一対のレーザ光L1,L2を移動させると(S3)、新たに交点IPが形成された部分でも分子mの配向が揃うこととなる(図2(C))。
そして、交点IPの位置を、この交点IPの軌跡が所定の形状となるように移動させていけば、この交点IPが通過した部分では、分子mが所定の方向に配向した状態となる。つまり、光配向性材料2中において、所定の形状を形成する部分(以下、配向部分Bという)に位置する分子mの配向だけが揃った状況が形成される。
上記交点の移動を繰り返して配向部分Bが形成されると、一対のレーザ光L1,L2の照射を停止して、光配向性材料2を冷却する(S4)。すると、光配向性材料2は、液晶状態から固体状態へと変化を開始する。
このとき、光配向性材料2において、配向部分Bは分子mの配向が揃っているので、分子mの配向がランダムになっている部分よりも固体状態に移行しやすくなっている。
このため、光配向性材料2を冷却すると、配向部分Bが他の部分よりも先に固化するから、配向部分B全体が固化後、配向部分B以外の部分が固化する前に、光配向性材料2の冷却を停止する。
すると、冷却を停止した時点では、配向部分B以外の光配向性材料2は液晶状態のままであり流動可能な状態であるから、容器から固化していない光配向性材料2を排出することができる。つまり、配向部分Bの周囲から固化していない光配向性材料2を除去することができるから(S5)、容器内には、固化した配向部分Bだけが残される。
固化した配向部分Bは、交点IPの軌跡の形状、つまり、所定の形状に形成されているので、所定の形状に形成された分子配向部材1を得ることができる。
例えば、交点IPを直線的に移動させた場合には、図2(D)に示すように、軸状の分子配向部材1を形成することができる。なお、この軸状の分子配向部材1の断面形状は、交点IPの断面形状、つまり、図2(C)における紙面と垂直な方向における交点IPの断面形状となる。
以上のごとく、本発明の分子配向部材1は、液晶状態に保たれた光配向性材料2に対して、互いに交差する一対のレーザ光L1,L2を照射して配向部分Bを形成しその交点IPを移動させているだけであるから、複雑な形状の造形物であっても、一対のレーザ光L1,L2の交点IPを移動させるだけで形成することができる。
よって、複雑な形状の造形物であっても、順次層を形成していく場合に比べて、短時間で製造することができる。
しかも、分子配向部材1中の分子mの配向を揃えることができるので、形成された分子配向部材1を、分子mの配向方向に沿った方向の力に対しては強い強度を有するものとすることができる。
なお、光配向性材料2は、分子鎖中にアゾベンゼンを含む液晶等であるか、とくに限定されない。
また、光配向性材料2中に一対のレーザ光L1,L2の交点IPが形成されて分子mの配向が揃っても、一対のレーザ光L1,L2の照射が停止されれば、交点IPが形成されていた部分の分子mの配向は、やがて周囲の分子mの影響を受けて元の状態に戻る。つまり、分子mの配向がランダムな状態になるので、配向部分Bにおける分子mの配向が揃っている間に冷却を開始完了させなければならない。
よって、光配向性材料2を迅速に冷却させることが必要となるが、上記のように一対のレーザ光L1,L2の照射を停止してから冷却を開始するのではなく、光配向性材料2に対する一対のレーザ光L1,L2の照射を行いながら光配向性材料2を冷却すれば、冷却完了までの時間を短くできるので、より好ましい。
また、本発明の分子配向の揃った分子配向部材の製造方法において、光配向性材料2中に高エネルギ密度領域を形成させる方法は、上記のごとく一対のレーザ光L1,L2によって交点IPを形成する方法に限られず、複数本のレーザ光Lによって一つの交点IPを形成してもよいし、複数本のレーザ光Lによって複数の交点IPを同時に形成してもよい(図4)。前者の場合には、交点IPのエネルギ密度を更に高くできるので、分子配向度を高めることができる点で好ましく、また、後者の場合には、複数箇所の配向を同時に揃えることができるので加工速度を向上することができるという点で好ましい。
また、本発明の分子配向の揃った分子配向部材の製造方法mにおいて使用するレーザ光は一本でもよい(図5、図6)。この場合には、レンズ等の集光手段によってレーザ光Lを集光させれば光配向性材料2中に焦点IF(高エネルギ密度領域、図5の点線で囲まれた領域)を形成させることができる。この場合、レンズ等によって一本のレーザ光Lを集光させて焦点IFを形成しているだけであるから、装置構成を簡略化できるし、高エネルギ密度領域を正確な位置に形成することができるという点で好ましい。
本発明の分子配向の揃った分子配向部材の製造方法は、特定の方向に対する強度の高い分子配向の揃った材料の製造方法に適している。
1 分子配向部材
2 光配向性材料
m 分子
L レーザ光
IP 交点
IF 焦点

Claims (4)

  1. 液晶または等方状態に保たれた光配向性を有する光配向性材料に対してレーザ光を照射し、該光配向性材料中にレーザ光強度の高い高エネルギ密度領域を形成する配向調整処理と、
    該配向調整処理された前記光配向性材料を冷却する冷却処理と、
    前記配向調整処理において、前記高エネルギ密度領域が形成された部分が固化した後、該高エネルギ密度領域が形成された部分以外の部分が固化する前に、前記光配向性材料における液晶または等方状態の部分を除去する除去処理とを行う
    ことを特徴とする分子配向の揃った分子配向部材の製造方法。
  2. 前記高エネルギ密度領域は、複数のレーザ光を光配向性材料に対して照射し、該複数のレーザ光に交差させて形成する
    ことを特徴とする請求項1記載の分子配向の揃った分子配向部材の製造方法。
  3. 前記高エネルギ密度領域は、一本のレーザ光を集光して形成する
    ことを特徴とする請求項1記載の分子配向の揃った分子配向部材の製造方法。
  4. 請求項1、2または3記載の方法によって形成された
    ことを特徴とする分子配向の揃った分子配向部材。
JP2009025696A 2009-02-06 2009-02-06 分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法 Expired - Fee Related JP5207248B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009025696A JP5207248B2 (ja) 2009-02-06 2009-02-06 分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009025696A JP5207248B2 (ja) 2009-02-06 2009-02-06 分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010179584A true JP2010179584A (ja) 2010-08-19
JP5207248B2 JP5207248B2 (ja) 2013-06-12

Family

ID=42761494

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009025696A Expired - Fee Related JP5207248B2 (ja) 2009-02-06 2009-02-06 分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5207248B2 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11160708A (ja) * 1997-09-24 1999-06-18 Agency Of Ind Science & Technol 配向樹脂膜及びその製造方法並びにその配向樹脂膜を用いた光学素子
JP2003014924A (ja) * 2001-06-28 2003-01-15 Hayashi Telempu Co Ltd 光学異方素子の製造方法、および光学異方素子
JP2005062765A (ja) * 2003-08-20 2005-03-10 Nitto Denko Corp 配向状態の液晶ポリマーを含む光学フィルムの製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11160708A (ja) * 1997-09-24 1999-06-18 Agency Of Ind Science & Technol 配向樹脂膜及びその製造方法並びにその配向樹脂膜を用いた光学素子
JP2003014924A (ja) * 2001-06-28 2003-01-15 Hayashi Telempu Co Ltd 光学異方素子の製造方法、および光学異方素子
JP2005062765A (ja) * 2003-08-20 2005-03-10 Nitto Denko Corp 配向状態の液晶ポリマーを含む光学フィルムの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5207248B2 (ja) 2013-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20120098164A1 (en) Two-photon stereolithography using photocurable compositions
JP5018076B2 (ja) 光造形装置及び光造形方法
JP2010510089A (ja) ポリマーオブジェクトオプティカル製造工程
JP2008162188A (ja) 光造形装置
JP6560953B2 (ja) 3次元の構造を製作する方法
US20190255773A1 (en) Method for lithography-based generative production of three-dimensional components
WO2006109355A1 (ja) 異波長レーザー光を用いた多光束微小構造物光造形方法及び装置
JP2009113293A (ja) 光造形装置及び光造形方法
JP2006119427A (ja) レーザ加工方法及びレーザ加工装置及びにこれよって作製された構造体
JP2009083240A (ja) 光造形装置
Gandhi et al. 3D microfabrication using bulk lithography
JP2008162189A (ja) 光造形装置
JP5207248B2 (ja) 分子配向の揃った分子配向部材およびその製造方法
US20220001601A1 (en) Systems, devices, and methods for kaleidoscopic 3d printing
Steenhusen et al. Two-photon polymerization of hybrid polymers for applications in micro-optics
Ali et al. 3D‐Printed Holographic Fresnel Lenses
Gandhi et al. Fabrication of Textured 3D Microstructures Using ‘Bulk Lithography’
JP2004314406A (ja) 層厚可変のマイクロ光造形方法と層厚可変型マイクロ光造形装置
JP2004223789A (ja) 観察機能付きマイクロ光造形装置
TW201346340A (zh) 光控制面板之製造方法
KR101427160B1 (ko) 다중 미세 패턴 성형 장치 및 방법
Schmidt Laser-based micro-and nano-fabrication of photonic structures
JP2004223774A (ja) 薄膜硬化型光造形方法および装置
JP4376649B2 (ja) 異波長レーザー光を用いた多光束微小構造物光造形方法及び装置
JP2004223791A (ja) 層厚可変型マイクロ光造形装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20090528

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20090722

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20090722

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100210

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120328

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120424

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120621

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120724

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120921

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130205

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130212

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160301

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5207248

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees